JP6379786B2 - 貫通電極基板、配線基板および半導体装置 - Google Patents
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[貫通電極基板10の構成]
図1は、本発明の第1実施形態に係る貫通電極基板の構造を説明する図である。図1(a)は基板100の第1面101側から見た図であり、図1(c)は基板100の第1面101に対向する第2面102側から見た図である。図1(b)は、貫通電極基板10の断面構造を説明する図であり、図1(a)、(c)における断面線A−A’の断面に対応する図である。
貫通電極基板10を積層することにより、複雑な配線経路を形成することができる。貫通電極基板10を積層したものを、配線基板20という。以下、配線基板20の構造を説明する。
図6は、本発明の第2実施形態に係る配線基板の配線が交差する部分の構造を説明する図である。図6では、図3に対応する斜視図である。また、図7は、図6における断面線D−D’の断面を説明する図である。図8は、図6における断面線E−E’の断面を説明する図である。
図9は、本発明の第3実施形態に係る配線基板の配線が交差する部分の構造を説明する図である。図9では、図3、6に対応する斜視図である。また、図10は、図6における断面線F−F’の断面を説明する図である。図8は、図6における断面線G−G’の断面を説明する図である。
図12は、本発明の第4実施形態に係る配線基板の配線が交差する部分の構造を説明する図である。図12では、図3、6、9に対応する斜視図である。図12に示すように、配線211は、第2実施形態のような配線211において、さらに、第1窪み部191(空間1910)が延在する方向に沿って、配線211が延在している構成である。このように、配線211は、一方向に延在する場合に限らず、複数方向に枝分かれして延在してもよい。また、枝分かれする場所は貫通電極が存在する部分に限られない。
図13は、本発明の第5実施形態に係る配線基板の配線が交差する部分の構造を説明する図である。図13では、図3、6、9、12に対応する斜視図である。図13に示すように、第5実施形態においては、第2実施形態のように第1貫通電極151から第1表面101に延在する配線211のうち、第1窪み部191(空間1910)の内部のみで延在し、第1面101においては延在していない場合の例である。
続いて、第1実施形態の貫通電極基板10を製造する方法について、図14、図15を用いて説明する。
上述した配線基板20において配置された空間1910の利用例として、上記実施形態では、交差する配線の絶縁に用いられる例、流体の経路とする例について説明した。第6実施形態では、空間1910を他の用途で用いる例について説明する。他の用途として、第6実施形態では、半導体素子を配置する例を説明する。
上述した実施形態における貫通電極基板の製造工程においては、有底孔150の内部をめっき層1531で充填していたが、有底孔150の内部が金属材料で充填されないようにしてもよい。この場合の例を第7実施形態として説明する。
第8実施形態においては、上述した各実施形態における貫通電極基板または配線基板を用いて製造される半導体装置について説明する。
半導体装置1000が搭載された電気機器の例として、図25(a)にはスマートフォン5000を示し、図25(b)にはノート型パーソナルコンピュータ6000を示した。これらの電気機器は、アプリケーションプログラムを実行して各種機能を実現するCPU等で構成される制御部1100を有する。各種機能には、半導体装置1000からの出力信号を用いる機能が含まれる。
Claims (13)
- 互いに対向する第1面および第2面と、前記第1面から窪んだ第1窪み部と、および前記第2面から窪んだ第2窪み部とを有する基板と、
前記第2面側から前記第1窪み部に前記基板を貫通する第1貫通電極と、
前記第1面側から前記第2窪み部に前記基板を貫通する第2貫通電極と、
を有し、
1つの前記第1窪み部には、複数の第1貫通電極が配置されていることを特徴とする貫通電極基板。 - 互いに対向する第1面および第2面と、前記第1面から窪んだ第1窪み部と、および前記第2面から窪んだ第2窪み部とを有する基板と、
前記第2面側から前記第1窪み部に前記基板を貫通する第1貫通電極と、
前記第1面側から前記第2窪み部に前記基板を貫通する第2貫通電極と、
を有し、
前記第1窪み部は直線または曲線に沿って配置されていることを特徴とする貫通電極基板。 - 互いに対向する第1面および第2面と、前記第1面から窪んだ第1窪み部と、および前記第2面から窪んだ第2窪み部とを有する基板と、
前記第2面側から前記第1窪み部に前記基板を貫通する第1貫通電極と、
前記第1面側から前記第2窪み部に前記基板を貫通する第2貫通電極と、
を有し、
前記第1窪み部において前記第1貫通電極と電気的に接続された配線が配置され、当該配線が前記第1面まで延在していることを特徴とする貫通電極基板。 - 前記第1窪み部において前記第1貫通電極と電気的に接続された配線が配置され、当該配線が前記第1面まで延在していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の貫通電極基板。
- 互いに対向する第1面および第2面と、前記第1面から窪んだ第1窪み部と、および前記第2面から窪んだ第2窪み部とを有する基板と、
前記第2面側から前記第1窪み部に前記基板を貫通する第1貫通電極と、
前記第1面側から前記第2窪み部に前記基板を貫通する第2貫通電極と、
を有する貫通電極基板と、
前記第1窪み部を覆う第2基板と、
を有し、
前記第1窪み部と前記第2基板との間に空間が配置され、
前記第2基板には、前記空間に面した配線が配置され、
前記第1窪み部に配置された第1貫通電極と前記第2基板に配置された配線とは、前記空間を介して絶縁されていることを特徴とする配線基板。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の貫通電極基板と、
前記第1窪み部を覆う第2基板と、
を有し、
前記第1窪み部と前記第2基板との間に空間が配置され、
前記第2基板には、前記空間に面した配線が配置され、
前記第1窪み部に配置された第1貫通電極と前記第2基板に配置された配線とは、前記空間を介して絶縁されていることを特徴とする配線基板。 - 前記第1窪み部には、前記第1貫通電極と接続された配線が配置され、
前記第1窪み部に配置された配線と前記第2基板に配置された配線とは、前記空間を介して絶縁されていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の配線基板。 - 互いに対向する第1面および第2面と、前記第1面から窪んだ第1窪み部と、および前記第2面から窪んだ第2窪み部とを有する基板と、
前記第2面側から前記第1窪み部に前記基板を貫通する第1貫通電極と、
前記第1面側から前記第2窪み部に前記基板を貫通する第2貫通電極と、
を有する貫通電極基板と、
前記第1窪み部を覆う第2基板と、
を有し、
前記第1窪み部と前記第2基板との間に液体または固体の絶縁材料が配置され、
前記第2基板には、前記絶縁材料に面した配線が配置され、
前記第1窪み部に配置された第1貫通電極と前記第2基板に配置された配線とは、前記絶縁材料を介して絶縁されていることを特徴とする配線基板。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の貫通電極基板と、
前記第1窪み部を覆う第2基板と、
を有し、
前記第1窪み部と前記第2基板との間に液体または固体の絶縁材料が配置され、
前記第2基板には、前記絶縁材料に面した配線が配置され、
前記第1窪み部に配置された第1貫通電極と前記第2基板に配置された配線とは、前記絶縁材料を介して絶縁されていることを特徴とする配線基板。 - 前記第1窪み部には、前記第1貫通電極と接続された配線が配置され、
前記第1窪み部に配置された配線と前記第2基板に配置された配線とは、前記絶縁材料を介して絶縁されていることを特徴とする請求項8または請求項9に記載の配線基板。 - 前記第2基板に配置された配線は、前記第2貫通電極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項5乃至請求項10のいずれかに記載の配線基板。
- 請求項5乃至請求項11のいずれかに記載の配線基板と、
前記配線基板に配置されたいずれかの配線と電気的に接続され、前記第1窪み部と前記第2基板との間に配置された半導体素子と、
を有する半導体装置。 - 請求項5乃至請求項11のいずれかに記載の配線基板と、
前記配線基板に積層され、前記配線基板と電気的に接続された半導体チップとを有することを特徴とする半導体装置。
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