JP6370796B2 - 非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物 - Google Patents

非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物 Download PDF

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Description

本発明は、非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物若しくは非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物、該硫化物の製造方法、並びに該硫化物を用いたリチウム電池に関する。
近年の携帯電子機器・ハイブリッド車等の高性能化により、それに用いられる電池(特にリチウム一次電池、リチウム二次電池、リチウムイオン二次電池等)は益々高容量化が求められている。しかしながら、現行のリチウム二次電池を例に取ると、負極に比べて正極の高容量化が不十分であり、比較的高容量と言われるニッケル酸リチウム系材料でもその容量は190〜220mAh/g程度に過ぎない。
一方、硫黄は理論容量が約1670mAh/gと高く、正極材料としての利用が期待されるが、電子伝導性が低く、更に充放電時に多硫化リチウムとして有機電解液に溶出するという問題もあり、有機電解液への溶出を抑制する技術が不可欠である。
金属硫化物は電子伝導性があり、有機電解液への溶出も少ないが、硫黄に比べて理論容量が低く、更に、充放電時のLi挿入・脱離に伴う大きな構造変化が原因で可逆性が低いという問題がある。金属硫化物の高容量化の実現には、硫黄含量の増加が必要であるが、結晶性金属硫化物では、放電時にLiが挿入されるサイトが結晶の空間群により規定され、最大の容量がこれによって決定されるため、この最大容量値を超えることは困難である。
例えば、金属硫化物の内で硫化チタン化合物については、結晶性の硫化チタンとしては、二硫化チタン(TiS)や三流化チタン(TiS)等が検討されており、それぞれ240mAh/g及び350mAh/g程度の放電容量を示すことが報告されている(非特許文献1及び2)が、更なる高容量化が望まれている。
一方、非晶質の硫化チタン化合物としては、パルスレーザー堆積法(PLD法)を用いて、TiS(0.7≦a≦9)薄膜を作製し、全固体セルにおいて充放電を行った報告例がある(非特許文献3)。さらに、TiSやTiSの非晶質体を作製し、それを全固体セルにおいて電極として用いた際に、高容量(約400〜690mAh/g)が得られたという報告がなされている(非特許文献4、5)。
M. S. Whittingham, J. Electrochem. Soc., 123 (1976) 315-320. M. H. Lindic et al., Solid State Ionics, 176 (2005) 1529-1537. T. Matsuyama et al, J. Mater. Sci. 47 (2012) 6601-6606. A. Hayashi et al, Chem. Lett., 41 (9) (2012) 886-888. A. Sakuda et al, Electrochem. Commun., 31 (2013) 71-75.
この様に結晶性硫化チタン化合物のみならず、非晶質性の硫化チタン化合物についての報告もなされているが、電極材料として十分な充放電特性を示すためには、充放電容量に加えて、電極の導電性が重要である。
例えば、導電率は、室温における導電率が10−4S/cm程度以上を示すことが望まれるが、硫化チタン化合物の高容量化を目的として硫黄含有量を増加させると、導電性が著しく低下するという問題がある。この場合、高速充放電特性に欠けるため、微粒化若しくは薄膜化が望ましいが、上記した通り、薄膜電極では大型化は困難であり、用途が限定されるという問題点がある。さらに、容量も、実際に測定すると、既報ほどの値は得られず、十分とは言えなかった。
本発明は、上記した従来技術の現状に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、リチウム一次電池、リチウム二次電池、リチウムイオン二次電池等のリチウム電池用の正極活物質として有用な、高い充放電容量を有し、且つ導電性が高く、優れた充放電性能を有する材料を提供することである。
本発明者は、上記した目的を達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、非晶質性の硫化チタン化合物の原料となるチタン源の一部又は全部をニオブ源に置換し、つまり、ニオブ源(結晶性硫化ニオブ等)、硫黄源(硫黄等)、必要に応じてチタン源(硫化チタン等)、リチウム源(硫化リチウム等)、炭素源(炭素質材料等)等をメカニカルミリング処理に供することで、結果的に得られる硫化物が非晶質化されて、硫黄の含有比率が高い硫化物が得られることを見出した。この生成物には、結晶性の金属硫化物や炭素含有材料が、非晶質性の硫化物のマトリックス中に存在していることがある。そして、この方法で得られる生成物は、高い充放電容量及び導電率を有するとともに、リチウム電池の正極活物質として用いた場合に、優れた充放電性能(特に充放電サイクル特性)を発揮することを見出した。本発明は、この様な知見に基づいてさらに研究を重ねた結果、完成されたものである。
即ち、本発明は、以下の構成を包含する。
項1.一般式(1):
Lik1NbSn1
[式中、0≦k1≦5;3≦n1≦10;n1≧3.5の場合はk1≦1.5である。]
で示される平均組成を有する非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物、又は
一般式(2):
Lik2Ti1−m2Nbm2n2
[式中、0≦k2≦5;0<m2<1;2≦n2≦10;n2≧3.5の場合はk2≦1.5である。]
で示される平均組成を有する非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物
からなる硫化物。
項2.不純物濃度が2重量%以下である、項1に記載の硫化物。
項3.一般式(3):
Lik3Ti1−m3Nbm3n3
[式中、0≦k3≦5;0<m3≦1;2≦n3≦10;n3≧3.5の場合はk3≦1.5である。]
で示される平均組成を有する非晶質性の硫化物からなり、且つ、
不純物濃度が2重量%以下である、硫化物。
項4.項1〜3のいずれかに記載の硫化物を母材として、その内部に結晶性の金属硫化物が存在する、硫化物。
項5.CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置における半値幅が0.3°以上であるか、又は、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークが存在しない、項1〜4のいずれかに記載の硫化物。
項6.結晶子を有さないか、又は、平均の結晶子サイズが5nm以下である、項1〜5のいずれかに記載の硫化物。
項7.一般式(4):
Lik4Ti1−m4Nbm4n4
[式中、0≦k4≦5;0<m4≦1;2≦n4≦10:0≦x≦10;n4≧3.5の場合はk4≦1.5である。]
で示される平均組成を有し、且つ、
非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物を母材として、その内部に結晶性の金属硫化物又は炭素が存在する、硫化物。
項8.前記非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物は、CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置における半値幅が0.3°以上であるか、又は、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークが存在しない、項7に記載の硫化物。
項9.前記非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物は、結晶子を有さないか、又は、平均の結晶子サイズが5nm以下である、項7又は8に記載の硫化物。
項10.原料又は中間生成物として、ニオブ含有材料及び硫黄含有材料を用い、メカニカルミリング処理に供する工程
を備える、項1〜9のいずれかに記載の硫化物の製造方法。
項11.原料又は中間生成物として、結晶性の硫化ニオブ、非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物、及び非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物よりなる群から選ばれる少なくとも1種を用いる、項10に記載の製造方法。
項12.原料として、さらに、硫黄を用いる、項11に記載の製造方法。
項13.原料として、さらに、チタン含有材料、リチウム含有材料、及び炭素質材料よりなる群から選ばれる少なくとも1種を用いる、項10〜12のいずれかに記載の製造方法。
項14.前記チタン含有材料は、硫化チタンであり、前記リチウム含有材料は硫化リチウムである、項13に記載の製造方法。
項15.項1〜9のいずれかに記載の硫化物、又は項10〜14のいずれかに記載の製造方法により製造された硫化物の充放電生成物。
項16.項1〜9のいずれかに記載の硫化物、又は項10〜14のいずれかに記載の製造方法により製造された硫化物からなるリチウム電池用正極活物質。
項17.項16に記載のリチウム電池用正極活物質を含むリチウム電池用電極。
項18.リチウム電池用正極である、項17に記載のリチウム電池用電極。
項19.項17又は18に記載のリチウム電池用電極を含むリチウム電池。
項20.非水電解質電池又は全固体型電池である項19に記載のリチウム電池。
本発明の硫化物は、Ti及びNbの和に対するSの元素比が2以上である硫化物であり、硫黄の元素比の高い多硫化物である。このため、本発明の硫化物は、高い充放電容量を有する。本発明の硫化物は、特に、非晶質化させることにより、リチウムイオンが挿入・脱離可能なサイトが多く存在し、充放電容量をさらに向上させることができる。
本発明の硫化物には、リチウムを含有させることも可能である。このように、本発明の硫化物にリチウムを含有した場合であっても、非晶質構造をほぼ維持することができる。また、本発明の硫化物にリチウムを含有しつつ、その組成を調整することにより、平均放電電位及び導電率をさらに向上させつつ、充放電の損失を低減することが可能である。
また、本発明の硫化物は、硫化チタン化合物と比較しても、さらに優れた導電率及び充放電サイクル特性を有する。特に、本発明の硫化物の中でも、金属硫化物や炭素材料を内包しているものは、導電率をさらに向上させることができる。
さらに、非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物を母材として、その内部に金属硫化物又は炭素が存在する材料については、良好な電子伝導性とイオン伝導性を有する金属硫化物又は炭素の微結晶が、非晶質性の硫化物の一次粒子又は二次粒子中に取り込まれた状態で存在するために、硫化物粒子の内部まで電子やイオンをスムーズに供給することが可能になり、さらに高い充放電容量を有する。
また、単体硫黄や硫化リチウム等を含む材料を正極活物質として用いた場合には、カーボネート類を溶媒に用いると単体硫黄とカーボネート類とが反応を起こすため使用できず、エーテル類を溶媒に用いると硫黄成分が電解液中に大量に溶解して性能悪化を引起こすために、これらの溶媒を使用する際に大きな課題となっていたが、本発明の硫化物を正極活物質として使用すると、これらの問題を解決することができるため、いずれの溶媒でも適用可能であり、電解液用の溶媒の選択性を向上させることができる。
このため、本発明の非晶質性の硫化物は、リチウム一次電池、リチウム二次電池、リチウムイオン二次電池等のリチウム電池の正極活物質として有用であり、リチウム一次電池、リチウム二次電池(固体電解質を用いる全固体型リチウム二次電池等も含む)、リチウムイオン二次電池等のリチウム電池の正極活物質として有効に用いることができる。
実施例1〜3で得られたニオブ硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。原料であるNbS粉末及びS粉末のピークとともに示す。なお、大気暴露防止のために用いたカプトンのピークも検出されている。 実施例4〜5で得られた硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。原料であるNbS粉末及びS粉末のピークとともに示す。なお、大気暴露防止のために用いたカプトンのピークも検出されている。 実施例6〜7で得られた硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。原料であるNbS粉末、TiS粉末及びS粉末のピークとともに示す。なお、大気暴露防止のために用いたカプトンのピークも検出されている。 比較例3〜4の硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。なお、大気暴露防止のために用いたカプトンのピークも検出されている。 実施例10〜11及び比較例6〜7で得られた硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。シミュレートしたLiNbS、原料であるLiS粉末、NbS粉末及びS粉末のピークとともに示す。 実施例12及び比較例8で得られた硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。原料であるNbS粉末及びS粉末のピークとともに示す。なお、大気暴露防止のために用いたカプトンのピークも検出されている。 実施例3〜4、比較例1、5の試料にシリコンを混合した試料のX線回折パターンを示すグラフである。シリコンのピークとともに示す。なお、大気暴露防止のために用いたカプトンのピークも検出されている。 実施例3で得られたニオブ硫化物粉末の透過型電子顕微鏡(TEM)像である。なお、右図は左図のTEM像において□で示した部位の高速フーリエ変換(FFT)パターンであり、上図と下図とはいずれも実施例3の硫化物であるが、異なる粒子について測定したものである。 実施例5で得られた硫化物粉末の透過型電子顕微鏡(TEM)像である。 実施例2、3、7及び8の硫化物について、示差走査熱量分析(DSC)の結果を示すグラフである。比較のため、結晶性NbSとSとの混合物(組成はNbS)、結晶性TiS、結晶性NbS及びSの混合物(組成はTi0.5Nb0.5)の結果もあわせて示す。 実施例1で得られたニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例2で得られたニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例3で得られたニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例5で得られた硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例7で得られたチタンニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例8で得られたニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例9で得られたチタンニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例10で得られたリチウムニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例1で得られたニオブ硫化物粉末と実施例10で得られたリチウムニオブ硫化物粉末との充放電試験の結果を比較するグラフである。 実施例11で得られたリチウムニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 比較例1のニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 比較例2のチタン硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 比較例6で得られたリチウムニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 比較例7で得られたリチウムニオブ硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。 実施例1及び比較例3の硫化物の充放電試験の結果(サイクル特性)を示すグラフである。 実施例2及び比較例4の硫化物の充放電試験の結果(サイクル特性)を示すグラフである。 実施例2及び比較例3の硫化物の充放電試験の結果(サイクル特性)を示すグラフである。 比較例9〜10で得られた硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。原料であるLiS粉末、MnS粉末及びS粉末のピークとともに示す。 比較例11〜12で得られた硫化物粉末のX線回折パターンを示すグラフである。原料であるFeS粉末及びS粉末のピークとともに示す。 比較例12の鉄硫化物粉末の充放電試験の結果を示すグラフである。
本明細書において、(リチウム)ニオブ硫化物とは、ニオブ硫化物又はリチウムニオブ硫化物を意味する。つまり、(リチウム)ニオブ硫化物としては、ニオブ及び硫黄を含む硫化物と、リチウム、ニオブ及び硫黄を含む硫化物のいずれも採用できる。
本明細書において、(リチウム)チタンニオブ硫化物とは、チタンニオブ硫化物又はリチウムチタンニオブ硫化物を意味する。つまり、(リチウム)チタンニオブ硫化物としては、チタン、ニオブ及び硫黄を含む硫化物と、リチウム、チタン、ニオブ及び硫黄を含む硫化物のいずれも採用できる。
1.硫化物
[第1の態様]
本発明の第1の態様における硫化物は、
一般式(1):
Lik1NbSn1
[式中、0≦k1≦5;3≦n1≦10;n1≧3.5の場合はk1≦1.5である。]
で示される平均組成を有する非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物、又は
一般式(2):
Lik2Ti1−m2Nbm2n2
[式中、0≦k2≦5;0<m2<1;2≦n2≦10;n2≧3.5の場合はk2≦1.5である。]
で示される平均組成を有する非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物
からなる硫化物である。
本発明の非晶質性の硫化物は、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピークがほとんど確認されない非晶質状態であり、平均組成として、硫黄の比率が高い非晶質性の硫化物であるにもかかわらず、硫黄は単体硫黄としてはほとんど存在せず、ニオブ、チタン、必要に応じてリチウム等と結合して非晶質性の硫化物を形成している。このように、本発明の硫化物は非晶質性であるために、リチウムが挿入可能なサイトを多数有し、また、3次元的にリチウムの導電経路となりうる隙間を構造内に有する。さらにリチウム電池及びリチウムイオン電池の電極として用いた際に充放電時に3次元的な体積変化を行うことができるなど多数の利点を有している。このため、充放電容量をさらに向上させることができる。
具体的には、CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=10〜80°の範囲内において、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピーク強度が弱く、半値幅が広いもの、又はそれらの回折ピークがほとんど確認されないものである。
本発明の硫化物の性質である「非晶質性」について、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)、硫黄(S)等を原料に用いた場合を例にとって説明する。
R−3m構造を有する硫化ニオブ(NbS;JCPDS 38−1367)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=15.0±0.5°の位置に存在する。また、2θ=37.0±0.5°及び40.0°±0.5°の位置にも強い回折ピークを有する。また、2θ=15.0±0.5°のピークの回折ピークの半値幅は0.15°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=15.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3°以上であるか、又は、2θ=15.0±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化ニオブをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
また、硫化チタン(TiS)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=15.5±0.5°に存在する。また、2θ=15.5±0.5°の回折ピークの半値幅は0.2°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=15.5±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3°以上であるか、又は、2θ=15.5±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化チタンをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
また、硫化リチウム(LiS)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=27.0±0.5°に存在する。また、2θ=27.0±0.5°の回折ピークの半値幅は0.15°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=27.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.5°以上であるか、又は、2θ=27.0±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。なお、回折ピークが残存している場合には、原料として用いた硫化リチウムが最大強度を示す回折角(2θ)における回折強度が、原料とした硫化リチウムの回折強度の1/5以下となっていることが好ましく、1/10以下となっていることがより好ましい。なお、非晶質化の目安としては、これ以外にも、本発明の硫化物100重量部に対して、10重量部のシリコンを混合した際に、得られる最大強度を有する回折ピークの強度が、混合したシリコンの最大強度を有する回折ピークの強度に対して10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることがより好ましく、1倍以下であることがさらに好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化リチウムをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
さらに、硫黄(S)の最も強度の強い回折ピークは、2θ=23.0±0.5°に存在する。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=23.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3以上であるか、又は、2θ=23.0±0.5°において回折ピークが認められないことが好ましい。なお、回折ピークが残存している場合には、原料として用いた硫黄が最大強度を示す回折角(2θ)における回折強度が、原料とした硫黄の回折強度の1/5以下となっていることが好ましく、1/10以下となっていることがより好ましい。なお、非晶質化の目安としては、これ以外にも、本発明の硫化物100重量部に対して、10重量部のシリコンを混合した際に、得られる最大強度を有する回折ピークの強度が、混合したシリコンの最大強度を有する回折ピークの強度に対して10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることがより好ましく、1倍以下であることがさらに好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫黄をほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
本発明の硫化物は、他にも、2θ=37.0±0.5°及び40.0°±0.5°の位置についても、硫化ニオブの回折ピークの半値幅が0.3°以上(好ましくは1.0°以上)であるか、又は、回折ピークが存在しないことが好ましい。この程度とすることにより、結晶子サイズを十分低減することができる。
なお、本発明において、X線回折ピークの半値幅は、粉末X線回折測定法によって求められるものであり、測定条件の一例は、以下:
X線源:CuKα 5kV−300mA
測定条件:2θ=10〜80°、0.02°ステップ、走査速度10°/分
の通りである。
CuKα線によるX線回折図において、上記のような条件を満たす硫化物は、通常の結晶性のよい硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)と比較すると、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)の回折ピークの半値幅が非常に広いものであるか、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)の回折ピークが存在しないものである。つまり、このような条件を満たす硫化物は、原料として使用する硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)が非常に微細化された結晶性の低いものであるか、全体として非晶質性の硫化物を形成する。
このため、本発明の硫化物においては、結晶子を有さないか、平均の結晶子サイズが5nm以下(特に0〜2nm、さらに、0〜1.0nm)であることが好ましい。結晶子の有無及び結晶子を有する場合の結晶子サイズは、電子顕微鏡(TEM)観察により測定するものとする。
このように、本発明の硫化物は、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピークがほとんど確認されない非晶質状の硫化物である。具体的には、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)、硫黄(S)等を原料に用いた場合を例に取ると、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°、27.0±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークを有さないか、回折ピークがブロードとなっていることが好ましい。
上記した特徴を有する本発明の硫化物は、一般式(1):
Lik1NbSn1
[式中、0≦k1≦5;3≦n1≦10;n1≧3.5の場合はk1≦1.5である。]
で示される平均組成を有するか、又は
一般式(2):
Lik2Ti1−m2Nbm2n2
[式中、0≦k2≦5;0<m2<1;2≦n2≦10;n2≧3.5の場合はk2≦1.5である。]
で示される平均組成を有する。
一般式(1)で示される(リチウム)ニオブ硫化物は、一般式(1A):
NbSn1
[式中、3≦n1≦10である。]
で示される平均組成を有するニオブ硫化物であってもよいし、一般式(1B):
Lik1NbSn1
[式中、0<k1≦5;3≦n1≦10;n1≧3.5の場合はk1≦1.5である。]
で示される平均組成を有するリチウムニオブ硫化物であってもよい。
一般式(2)で示される(リチウム)チタンニオブ硫化物は、一般式(2A):
Ti1−m2Nbm2n2
[式中、0<m2<1;2≦n2≦10である。]
で示される平均組成を有するチタンニオブ硫化物であってもよいし、一般式(2B):
Lik2Ti1−m2Nbm2n2
[式中、0<k2≦5;0<m2<1;2≦n2≦10;n2≧3.5の場合はk2≦1.5である。]
で示される平均組成を有するリチウムチタンニオブ硫化物であってもよい。
一般式(1)及び(1B)において、k1、つまり、リチウム(Li)のニオブ(Nb)に対するモル比(Li/Nb)としては、0≦k1≦5、好ましくは0≦k1≦4、より好ましくは0≦k1≦3、さらに好ましくは0.5≦k1≦2である。k1が大きすぎると、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。一方、k1は、充放電容量を維持しつつ、平均放電電位をより向上させるために、小さすぎないことが好ましい。
一般式(1)、(1A)及び(1B)において、n1、つまり、硫黄(S)のニオブ(Nb)に対するモル比(S/Nb)としては、3≦n1≦10、好ましくは3≦n1≦8、より好ましくは3.5≦n1≦6、さらに好ましくは4≦n1≦5である。n1が小さすぎると、硫黄の酸化還元反応に由来する充放電が行われないため、十分な充放電容量が得られない。一方、n1が大きすぎると、チタンやニオブと硫黄との相互作用が弱くなり、遊離した単体硫黄が多量に存在することとなり、単体硫黄は絶縁性で、充放電生成物が可溶性であるため安定性に欠け、好ましくない。
一般式(1)及び(1B)において、硫黄の含量が多い場合(具体的には、n1≧3.5の場合、特に4≦n1≦10)は、リチウムの含量が少ない(具体的には、k1≦1.5、特に0.5≦k1≦1.2)ことが好ましい。硫黄含量が多く、且つ、硫黄含量に対するリチウム含量が多い場合には、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。
一般式(2)及び(2B)において、k2、つまり、リチウム(Li)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(Li/(Ti+Nb))としては、0≦k2≦5、好ましくは0≦k2≦4、より好ましくは0≦k2≦3、さらに好ましくは0.5≦k2≦2である。k2が大きすぎると、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。一方、k2は、充放電容量を維持しつつ、平均放電電位をより向上させるために、小さすぎないことが好ましい。
一般式(2)、(2A)及び(2B)において、m2、つまり、ニオブ(Nb)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(Nb/(Ti+Nb))としては、0<m2<1の範囲で任意に定めることができる。ニオブ(Nb)の含量を増加させると導電性をより向上させることができるとともに、さらに充放電容量を向上させるために硫黄含量を増加させた場合にもより遊離の単体硫黄が形成されにくくなり、安定性向上に寄与することができ、チタン(Ti)の含量を増加させると硫黄含量が一定の場合充放電容量をより向上させることができる。ニオブ(Nb)の含量が多い場合には、導電性が高いために、添加物としての導電性の金属硫化物や炭素質材料の量を少なくすることもできる。このm2に関しては、原料のコストや目的の性能にあわせて任意に調整をすることができるが、好ましくは0.7≦m2≦1である。
一般式(2)、(2A)及び(2B)において、n2、つまり、硫黄(S)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(S/(Ti+Nb))としては、2≦n2≦10、好ましくは2.5≦n2≦8、より好ましくは3≦n2≦6、さらに好ましくは3≦n2≦5である。n2が小さすぎると、十分な充放電容量が得られない。一方、n2が大きすぎると、チタンやニオブと硫黄との相互作用が弱くなり、遊離した単体硫黄が多量に存在することとなり、単体硫黄は絶縁性で、充放電生成物が可溶性であるため安定性に欠け、好ましくない。
一般式(2)及び(2B)において、硫黄の含量が多い場合(具体的には、n2≧3.5の場合、特に4≦n2≦10)は、リチウムの含量が少ない(具体的には、k2≦1.5、特に0.5≦k2≦1.2)ことが好ましい。硫黄含量が多く、且つ、硫黄含量に対するリチウム含量が多い場合には、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。
なお、本願明細書において、硫化物の平均組成とは、硫化物の全体を構成する各元素の元素比を示すものである。
以上のように、本発明の硫化物は、その平均組成として、硫黄の比率が高い多硫化物であるにもかかわらず、硫黄源は単独では殆ど存在せず、チタン、ニオブ、必要に応じてリチウム等と結合して非晶質状態の多硫化物を形成している。また、原料として使用するリチウム源、チタン源及びニオブ源も単独ではほとんど存在しない。
ただし、本発明では、所望の硫化物の性能を阻害しない範囲であれば、その他の不純物が含まれていてもよい。この様な不純物としては、原料に混入する可能性のある遷移金属、典型金属等の金属類や、原料及び製造時に混入する可能性のある酸素等を例示できる。特に、原料として混入する可能性のある金属硫化物(特にニオブ硫化物、チタン硫化物、必要に応じてリチウム硫化物)が少量含まれていることにより、非晶質性の硫化物の母材として、金属硫化物(特にニオブ硫化物、チタン硫化物、必要に応じてリチウム硫化物)の微結晶が存在する状態となり、これが電子伝導性、イオン伝導性等をより向上させ、導電率及び充放電容量をより向上させることができ、好ましい。
これらの不純物の量については、上記した硫化物の性能を阻害しない範囲であればよく、通常、2重量%以下(0〜2重量%)であることが好ましく、1.5重量%以下(0〜1.5重量%)であることがより好ましい。
なお、不純物の中でも、単体硫黄は極力含まないことが好ましい。このような観点から、示差走査熱量分析(DSC)を行った際に、オンセット温度が100℃付近の吸熱は2J/g以下が好ましく、1J/g以下がより好ましく、0.5J/g以下がさらに好ましく、0.2J/g以下が特に好ましい。なお、下限値は0J/gである。
[第2の態様]
本発明の第2の態様における硫化物は、
一般式(3):
Lik3Ti1−m3Nbm3n3
[式中、0≦k3≦5;0<m3≦1;2≦n3≦10;n3≧3.5の場合はk3≦1.5である。]
で示される平均組成を有する非晶質性の硫化物からなり、且つ、
不純物濃度が2重量%以下である。
本発明の非晶質性の硫化物は、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピークがほとんど確認されない非晶質状態であり、平均組成として、硫黄の比率が高い非晶質性の硫化物であるにもかかわらず、硫黄は単体硫黄としてはほとんど存在せず、ニオブ、チタン、必要に応じてリチウム等と結合して非晶質性の硫化物を形成している。このように、本発明の硫化物は非晶質性であるために、リチウムが挿入可能なサイトを多数有し、また、3次元的にリチウムの導電経路となりうる隙間を構造内に有する。さらにリチウム電池及びリチウムイオン電池の電極として用いた際に充放電時に3次元的な体積変化を行うことができるなど多数の利点を有している。このため、充放電容量をさらに向上させることができる。
具体的には、CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=10〜80°の範囲内において、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピーク強度が弱く、半値幅が広いもの、又はそれらの回折ピークがほとんど確認されないものである。
本発明の硫化物の性質である「非晶質性」について、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)、硫黄(S)等を原料に用いた場合を例にとって説明する。
R−3m構造を有する硫化ニオブ(NbS;JCPDS 38−1367)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=15.0±0.5°の位置に存在する。また、2θ=37.0±0.5°及び40.0°±0.5°の位置にも強い回折ピークを有する。また、2θ=15.0±0.5°のピークの回折ピークの半値幅は0.15°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=15.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3°以上であるか、又は、2θ=15.0±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化ニオブをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
また、硫化チタン(TiS)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=15.5±0.5°に存在する。また、2θ=15.5±0.5°の回折ピークの半値幅は0.2°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=15.5±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3°以上であるか、又は、2θ=15.5±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化チタンをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
また、硫化リチウム(LiS)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=27.0±0.5°に存在する。また、2θ=27.0±0.5°の回折ピークの半値幅は0.15°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=27.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.5°以上であるか、又は、2θ=27.0±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。なお、回折ピークが残存している場合には、原料として用いた硫化リチウムが最大強度を示す回折角(2θ)における回折強度が、原料とした硫化リチウムの回折強度の1/5以下となっていることが好ましく、1/10以下となっていることがより好ましい。なお、非晶質化の目安としては、これ以外にも、本発明の硫化物100重量部に対して、10重量部のシリコンを混合した際に、得られる最大強度を有する回折ピークの強度が、混合したシリコンの最大強度を有する回折ピークの強度に対して10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることがより好ましく、1倍以下であることがさらに好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化リチウムをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
さらに、硫黄(S)の最も強度の強い回折ピークは、2θ=23.0±0.5°に存在する。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=23.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3以上であるか、又は、2θ=23.0±0.5°において回折ピークが認められないことが好ましい。なお、回折ピークが残存している場合には、原料として用いた硫黄が最大強度を示す回折角(2θ)における回折強度が、原料とした硫黄の回折強度の1/5以下となっていることが好ましく、1/10以下となっていることがより好ましい。なお、非晶質化の目安としては、これ以外にも、本発明の硫化物100重量部に対して、10重量部のシリコンを混合した際に、得られる最大強度を有する回折ピークの強度が、混合したシリコンの最大強度を有する回折ピークの強度に対して10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることがより好ましく、1倍以下であることがさらに好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫黄をほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
本発明の硫化物は、他にも、2θ=37.0±0.5°及び40.0°±0.5°の位置についても、硫化ニオブの回折ピークの半値幅が0.3°以上(好ましくは1.0°以上)であるか、又は、回折ピークが存在しないことが好ましい。この程度とすることにより、結晶子サイズを十分低減することができる。
なお、本発明において、X線回折ピークの半値幅は、粉末X線回折測定法によって求められるものであり、測定条件の一例は、以下:
X線源:CuKα 5kV−300mA
測定条件:2θ=10〜80°、0.02°ステップ、走査速度10°/分
の通りである。
CuKα線によるX線回折図において、上記のような条件を満たす硫化物は、通常の結晶性のよい硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)と比較すると、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)の回折ピークの半値幅が非常に広いものであるか、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)の回折ピークが存在しないものである。つまり、このような条件を満たす硫化物は、原料として使用する硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)が非常に微細化された結晶性の低いものであるか、全体として非晶質性の硫化物を形成する。
このため、本発明の硫化物においては、結晶子を有さないか、結晶子サイズが5nm以下(特に0〜2nm、さらに0〜1.0nm)であることが好ましい。結晶子の有無及び結晶子を有する場合の結晶子サイズは、電子顕微鏡(TEM)観察により測定するものとする。
このように、本発明の硫化物は、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピークがほとんど確認されない非晶質状の硫化物である。具体的には、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)、硫黄(S)等を原料に用いた場合を例に取ると、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°、27.0±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークを有さないか、回折ピークがブロードとなっていることが好ましい。
上記した特徴を有する本発明の硫化物は、一般式(3):
Lik3Ti1−m3Nbm3n3
[式中、0≦k3≦5;0<m3≦1;2≦n3≦10;n3≧3.5の場合はk3≦1.5である。]
で示される平均組成を有する。
一般式(3)で示される(リチウム)チタンニオブ硫化物は、一般式(3A):
Ti1−m3Nbm3n3
[式中、0<m3≦1;2≦n3≦10である。]
で示される平均組成を有するチタンニオブ硫化物であってもよいし、一般式(3B):
Lik3Ti1−m3Nbm3n3
[式中、0<k3≦5;0<m3≦1;2≦n3≦10;n3≧3.5の場合はk3≦1.5である。]
で示される平均組成を有するリチウムチタンニオブ硫化物であってもよい。
一般式(3)及び(3B)において、k3、つまり、リチウム(Li)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(Li/(Ti+Nb))としては、0≦k3≦5、好ましくは0≦k3≦4、より好ましくは0≦k3≦3、さらに好ましくは0.5≦k3≦2である。k3が大きすぎると、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。一方、k3は、充放電容量を維持しつつ、平均放電電位をより向上させるために、小さすぎないことが好ましい。
一般式(3)、(3A)及び(3B)において、m3、つまり、ニオブ(Nb)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(Nb/(Ti+Nb))としては、0<m3≦1の範囲で任意に定めることができる。ニオブ(Nb)の含量を増加させると導電性をより向上させることができ、チタン(Ti)の含量を増加させると充放電容量をより向上させることができるとともに、さらに充放電容量を向上させるために硫黄含量を増加させた場合にもより遊離の単体硫黄が形成されにくくなり、より導電性向上及び安定性向上に寄与する。ニオブ(Nb)の含量が多い場合には、導電性が高いために、不純物として導電性の金属硫化物や炭素質材料の量を少なくすることもできる。このm3に関しては、原料のコストや目的の性能にあわせて任意に調整をすることができるが、好ましくは0.7≦m3≦1である。
一般式(3)、(3A)及び(3B)において、n3、つまり、硫黄(S)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(S/(Ti+Nb))としては、2≦n3≦10、好ましくは2.5≦n3≦8、より好ましくは3≦n3≦6、さらに好ましくは3≦n3≦5である。n4が小さすぎると、十分な充放電容量が得られない。一方、n3が大きすぎると、チタンやニオブと硫黄との相互作用が弱くなり、遊離した単体硫黄が多量に存在することとなり、単体硫黄は絶縁性で、充放電生成物が可溶性であるため安定性に欠け、好ましくない。
一般式(3)及び(3B)において、硫黄の含量が多い場合(具体的には、n3≧3.5の場合、特に4≦n3≦10)は、リチウムの含量が少ない(具体的には、k3≦1.5、特に0.5≦k3≦1.2)ことが好ましい。硫黄含量が多く、且つ、硫黄含量に対するリチウム含量が多い場合には、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。
なお、本願明細書において、硫化物の平均組成とは、硫化物の全体を構成する各元素の元素比を示すものである。
以上のように、本発明の硫化物は、その平均組成として、硫黄の比率が高い多硫化物であるにもかかわらず、硫黄源は単独では殆ど存在せず、チタン、ニオブ、必要に応じてリチウム等と結合して非晶質状態の多硫化物を形成している。また、原料として使用するリチウム源、チタン源及びニオブ源も単独ではほとんど存在しない。
ただし、本発明では、所望の硫化物の性能を阻害しない範囲であれば、その他の不純物が含まれていてもよい。この様な不純物としては、原料に混入する可能性のある遷移金属、典型金属等の金属類や、原料及び製造時に混入する可能性のある酸素等を例示できる。特に、原料として混入する可能性のある金属硫化物(特にニオブ硫化物、チタン硫化物、必要に応じてリチウム硫化物)が少量含まれていることにより、非晶質性の硫化物の母材として、金属硫化物(特にニオブ硫化物、チタン硫化物、必要に応じてリチウム硫化物)の微結晶が存在する状態となり、これが電子伝導性、イオン伝導性等をより向上させ、導電率及び充放電容量をより向上させることができ、好ましい。
これらの不純物の量については、上記した硫化物の性能を阻害しない範囲とすることが好ましく、2重量%以下(0〜2重量%)がより好ましく、1.5重量%以下(0〜1.5重量%)がさらに好ましい。
なお、不純物の中でも、単体硫黄は極力含まないことが好ましい。このような観点から、示差走査熱量分析(DSC)を行った際に、オンセット温度が100℃付近の吸熱は2J/g以下が好ましく、1J/g以下がより好ましく、0.5J/g以下がさらに好ましく、0.2J/g以下が特に好ましい。なお、下限値は0J/gである。
[第3の態様]
本発明の第3の態様における硫化物は、
一般式(4):
Lik4Ti1−m4Nbm4n4
[式中、0≦k4≦5;0<m4≦1;2≦n4≦10:0≦x≦10;n4≧3.5の場合はk4≦1.5である。]
で示される平均組成を有し、且つ、非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物を母材として、その内部に結晶性の金属硫化物又は炭素が存在する。
本発明の硫化物において、母材を構成する非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物は、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピークがほとんど確認されない非晶質状態である。本発明の硫化物において、母材である非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物と、内包されている金属硫化物又は炭素とを合わせた全体の平均組成として、硫黄の比率が高い材料である(母材そのものも、硫黄の比率が高い)にもかかわらず、硫黄は単体硫黄としてはほとんど存在せず、ニオブ、チタン、必要に応じてリチウム等と結合して非晶質性の硫化物を形成し、母材として存在している。このように、本発明の硫化物は、その母材が非晶質性であるために、リチウムが挿入可能なサイトを多数有し、また、3次元的にリチウムの導電経路となりうる隙間を構造内に有する。さらにリチウム電池及びリチウムイオン電池の電極として用いた際に充放電時に3次元的な体積変化を行うことができるなど多数の利点を有している。このため、充放電容量をさらに向上させることができる。
具体的には、母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物は、CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=10〜80°の範囲内において、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピーク強度が弱く、半値幅が広いもの、又はそれらの回折ピークがほとんど確認されないものである。
本発明において、母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物の性質である「非晶質性」について、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)、硫黄(S)、炭素質材料等を原料に用いた場合を例にとって説明する。
R−3m構造を有する硫化ニオブ(NbS;JCPDS 38−1367)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=15.0±0.5°の位置に存在する。また、2θ=37.0±0.5°及び40.0°±0.5°の位置にも強い回折ピークを有する。また、2θ=15.0±0.5°のピークの回折ピークの半値幅は0.15°程度である。このことから、母材である非晶質性のニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物においては、2θ=15.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3°以上であるか、又は、2θ=15.0±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。これにより、母材であるニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物は、より確実に、結晶性の硫化ニオブをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
また、硫化チタン(TiS)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=15.5±0.5°に存在する。また、2θ=15.5±0.5°の回折ピークの半値幅は0.2°程度である。このことから、母材である非晶質性のニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物においては、2θ=15.5±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3°以上であるか、又は、2θ=15.5±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。これにより、母材であるニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物は、より確実に、結晶性の硫化チタンをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
また、硫化リチウム(LiS)の結晶構造から計算される最も強度の強い回折ピークは、2θ=27.0±0.5°に存在する。また、2θ=27.0±0.5°の回折ピークの半値幅は0.15°程度である。このことから、本発明の非晶質性の硫化物においては、2θ=27.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.5°以上であるか、又は、2θ=27.0±0.5°において回折ピークが存在しないことが好ましい。なお、回折ピークが残存している場合には、原料として用いた硫化リチウムが最大強度を示す回折角(2θ)における回折強度が、原料とした硫化リチウムの回折強度の1/5以下となっていることが好ましく、1/10以下となっていることがより好ましい。なお、非晶質化の目安としては、これ以外にも、本発明の硫化物100重量部に対して、10重量部のシリコンを混合した際に、得られる最大強度を有する回折ピークの強度が、混合したシリコンの最大強度を有する回折ピークの強度に対して10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることがより好ましく、1倍以下であることがさらに好ましい。これにより、本発明の硫化物は、より確実に、結晶性の硫化リチウムをほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
さらに、硫黄(S)の最も強度の強い回折ピークは、2θ=23.0±0.5°に存在する。このことから、母材である非晶質性のニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物においては、2θ=23.0±0.5°における回折ピークの半値幅が0.3以上であるか、又は、2θ=23.0±0.5°において回折ピークが認められないことが好ましい。なお、回折ピークが残存している場合には、原料として用いた硫黄が最大強度を示す回折角(2θ)における回折強度が、原料とした硫黄の回折強度の1/5以下となっていることが好ましく、1/10以下となっていることがより好ましい。なお、非晶質化の目安としては、これ以外にも、母材である硫化物100重量部に対して、10重量部のシリコンを混合した際に、得られる最大強度を有する回折ピークの強度が、混合したシリコンの最大強度を有する回折ピークの強度に対して10倍以下であることが好ましく、5倍以下であることがより好ましく、1倍以下であることがさらに好ましい。これにより、母材であるニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物は、より確実に、結晶性の硫黄をほとんど含有しない非晶質性のものとすることができる。
母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物は、他にも、2θ=37.0±0.5°及び40.0°±0.5°の位置についても、硫化ニオブの回折ピークの半値幅が0.3°以上(好ましくは1.0°以上)であるか、又は、回折ピークが存在しないことが好ましい。この程度とすることにより、結晶子サイズを十分低減することができる。
なお、本発明において、X線回折ピークの半値幅は、粉末X線回折測定法によって求められるものであり、測定条件の一例は、以下の通りである。
X線源:CuKα 5kV−300mA
測定条件:2θ=10〜80°、0.02°ステップ、走査速度10°/分。
CuKα線によるX線回折図において、上記のような条件を満たす母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物は、通常の結晶性のよい硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)と比較すると、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)の回折ピークの半値幅が非常に広いものであるか、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)の回折ピークが存在しないものである。つまり、このような条件を満たすニオブ硫化物又はチタンニオブ硫化物は、原料として使用する硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)が非常に微細化された結晶性の低いものであるか、全体として非晶質性の硫化物を形成する。
このため、母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物においては、結晶子を有さないか、結晶子サイズが5nm以下(特に0〜2nm、さらに0〜1.0nm)であることが好ましい。結晶子の有無及び結晶子を有する場合の結晶子サイズは、電子顕微鏡(TEM)観察により測定するものとする。
このように、母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物は、原料として用いた材料及び硫化物自身の回折ピークがほとんど確認されない非晶質状の硫化物である。具体的には、硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)、硫化リチウム(LiS)、硫黄(S)等を原料に用いた場合を例に取ると、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°、27.0±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークを有さないか、回折ピークがブロードとなっていることが好ましい。
以上のように、母材である(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物は、その平均組成として、硫黄の比率が高い多硫化物であるにもかかわらず、硫黄源は単独では殆ど存在せず、チタン、ニオブ、必要に応じてリチウム等と結合して非晶質状態の多硫化物を形成している。また、原料として使用するリチウム源、チタン源及びニオブ源も単独ではほとんど存在しない。この点は本発明の硫化物においても同様である。
本発明では、このように、純粋な非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物(母材)中に、金属硫化物(特にニオブ硫化物、チタン硫化物、必要に応じてリチウム硫化物)又は炭素(特にアセチレンブラック、ケッチェンブラック等のカーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバー、グラファイト、グラフェン等)が存在する。これにより、非晶質性の硫化物を母材として、金属硫化物又は炭素の微結晶が存在する状態となり、これが電子伝導性、イオン伝導性等を向上させ、導電率及び充放電容量を向上させることができる。
本発明において、これら不純物(金属硫化物又は炭素)の量については、上記した(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物(母材)の性能を阻害しない範囲とすることが好ましく、具体的には、20重量%以下(0〜20重量%)が好ましく、10重量%以下(0〜10重量%)がより好ましい。
なお、不純物の中でも、単体硫黄は極力含まないことが好ましい。このような観点から、示差走査熱量分析(DSC)を行った際に、オンセット温度が100℃付近の吸熱は2J/g以下が好ましく、1J/g以下がより好ましく、0.5J/g以下がさらに好ましく、0.2J/g以下が特に好ましい。なお、下限値は0J/gである。
なお、不純物として金属硫化物、炭素等が存在する場合には、X線回折図から、リチウム源、ニオブ源、チタン源、炭素等の回折ピークが確認されるが、単体硫黄の回折ピークはほとんど確認されない。このため、本発明の硫化物は、非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物と、結晶性の金属硫化物、炭素等との複合体である。
具体的には、本発明の硫化物は、CuKα線によるX線回折図における回折角2θ=10〜80°の範囲内において、金属硫化物、炭素等の回折ピーク強度が弱く、半値幅が広いものである。
上記した特徴を有する本発明の硫化物は、母材である非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は(リチウム)チタンニオブ硫化物と不純物である金属硫化物又は炭素とを合わせて、一般式(4):
Lik4Ti1−m4Nbm4n4
[式中、0≦k4≦5;0<m4≦1;2≦n4≦10:0≦x≦10;n4≧3.5の場合はk4≦1.5である。]
で示される平均組成を有する。
一般式(4)で示される(リチウム)チタンニオブ硫化物は、一般式(4A):
Ti1−m4Nbm4n4
[式中、0<m4≦1;2≦n4≦10:0≦x≦10である。]
で示される平均組成を有するチタンニオブ硫化物であってもよいし、一般式(4B):
Lik4Ti1−m4Nbm4n4
[式中、0<k4≦5;0<m4≦1;2≦n4≦10:0≦x≦10;n4≧3.5の場合はk4≦1.5である。]
で示される平均組成を有するリチウムチタンニオブ硫化物であってもよい。
一般式(4)及び(4B)において、k4、つまり、リチウム(Li)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(Li/(Ti+Nb))としては、0≦k4≦5、好ましくは0≦k4≦4、より好ましくは0≦k4≦3、さらに好ましくは0.5≦k4≦2である。k4が大きすぎると、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。一方、k4は、充放電容量を維持しつつ、平均放電電位をより向上させるために、小さすぎないことが好ましい。
一般式(4)、(4A)及び(4B)において、m4、つまり、ニオブ(Nb)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(Nb/(Ti+Nb))としては、0<m4≦1の範囲で任意に定めることができる。ニオブ(Nb)の含量を増加させると導電性をより向上させることができ、チタン(Ti)の含量を増加させると充放電容量をより向上させることができるとともに、さらに充放電容量を向上させるために硫黄含量を増加させた場合にもより遊離の単体硫黄が形成されにくくなり、より導電性向上及び安定性向上に寄与する。ニオブ(Nb)の含量が多い場合には、導電性が高いために、不純物として導電性の金属硫化物や炭素質材料の量を少なくすることもできる。このm4に関しては、原料のコストや目的の性能にあわせて任意に調整をすることができるが、好ましくは0.7≦m4≦1である。
一般式(4)、(4A)及び(4B)において、n4、つまり、硫黄(S)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(S/(Ti+Nb))としては、2≦n4≦10、好ましくは2.5≦n4≦8、より好ましくは3≦n4≦6、さらに好ましくは3≦n4≦5である。n4が小さすぎると、十分な充放電容量が得られない。一方、n4が大きすぎると、チタンやニオブと硫黄との相互作用が弱くなり、遊離した単体硫黄が多量に存在することとなり好ましくない。
一般式(4)及び(4B)において、硫黄の含量が多い場合(具体的には、n4≧3.5の場合、特に4≦n4≦10)は、リチウムの含量が少ない(具体的には、k4≦1.5、特に0.5≦k4≦1.2)ことが好ましい。硫黄含量が多く、且つ、硫黄含量に対するリチウム含量が多い場合には、非晶質性の硫化物が得られず、充放電の損失が大きくなってしまう。
一般式(4)において、x、つまり、炭素(C)のチタン(Ti)及びニオブ(Nb)の和に対するモル比(C/(Ti+Nb))としては、多くすると導電性をより向上させることができる一方で、多すぎると充放電容量の低下につながる観点から、0≦x≦10、好ましくは0≦x≦5、より好ましくは0.5≦x≦4、さらに好ましくは0.7≦x≦3である。
なお、本願明細書において、硫化物の平均組成とは、硫化物の全体を構成する各元素の元素比を示すものである。
2.硫化物の製造方法
本発明の硫化物は、
原料又は中間生成物として、ニオブ含有材料及び硫黄含有材料を用い、これらの原料をメカニカルミリング法に供する工程
を備える製造方法によって得ることができる。
また、本発明の硫化物にチタンを含ませる場合には、原料又は中間生成物として、さらに、チタン含有材料を用いればよいし、本発明の硫化物にリチウムを含ませる場合には、原料又は中間生成物として、さらに、リチウム含有材料を用いればよいし、本発明の硫化物に炭素を含ませる場合には、原料又は中間生成物として、さらに、炭素質材料を用いればよい。
これらの原料又は中間生成物については、全てを同時に混合してメカニカルミリング処理に供してもよく、一部の材料又は中間生成物についてまずメカニカルミリング処理に供した後、残りの材料を加えてメカニカルミリング処理に供してもよい。具体的には、原料又は中間生成物として、ニオブ含有材料、チタン含有材料、リチウム含有材料、硫黄含有材料及び炭素質材料を用いる場合には、ニオブ含有材料、チタン含有材料、リチウム含有材料、硫黄含有材料及び炭素質材料を同時にメカニカルミリング処理に供してもよいし、まずニオブ含有材料、リチウム含有材料、チタン含有材料及び硫黄含有材料をメカニカルミリング処理に供した後に、これに炭素質材料を加えてメカニカルミリング処理に供してもよい。
なお、特に、硫黄含量が多い硫化物(一般式(1)〜(4)において、n1〜n4≧3.5)を製造する場合には、仕込み重量によっては、結晶性の硫化物が得られることがある。このため、まず、ニオブ含有材料、硫黄含有材料の一部、並びに必要に応じてチタン含有材料、リチウム含有材料及び炭素質材料をメカニカルミリング法に供することにより、中間生成物として、所望の非晶質性硫化物(非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物)を得た後に、この中間生成物と硫黄含有材料の残りをメカニカルミリング法に供することにより、本発明の硫化物を得ることが好ましい。これにより、より確実に本発明の硫化物を非晶質性のものとし、充放電の損失をより低減することができる。
具体的な原料としては、ニオブ含有材料兼硫黄含有材料として、結晶性の硫化ニオブ(NbS)を使用することが好ましい。NbSは、特に限定はなく、市販されている任意のNbSを用いることができる。特に、高純度のものを用いることが好ましい。また、NbSをメカニカルミリング処理によって混合粉砕するので、使用するNbSの粒径についても限定はなく、通常は、市販されている粉末状のNbSを用いることができる。また、ニオブ含有材料兼硫黄含有材料として、NbS以外にも、市販されている任意のNb、NbS等を用いることもできる。
また、チタン含有材料兼硫黄含有材料として、結晶性の硫化チタン(TiS)を使用することが好ましい。TiSは、特に限定はなく、市販されている任意のTiSを用いることができる。特に、高純度のものを用いることが好ましい。また、TiSをメカニカルミリング処理によって混合粉砕するので、使用するTiSの粒径についても限定はなく、通常は、市販されている粉末状のTiSを用いることができる。その他、チタン含有材料兼硫黄含有材料として、市販されている任意のTiS、TiS、非晶質硫化チタン等を用いることもできる。
さらに、リチウム含有材料兼硫黄含有材料として、結晶性の硫化リチウム(LiS)を使用することが好ましい。LiSは、特に限定はなく、市販されている任意のLiSを用いることができる。特に、高純度のものを用いることが好ましい。また、LiSをメカニカルミリング処理によって混合粉砕するので、使用するLiSの粒径についても限定はなく、通常は、市販されている粉末状のLiSを用いることができる。その他、リチウム含有材料兼硫黄含有材料として、市販されている任意の多硫化リチウム(LiS:2≦x≦8)等を用いることもできる。
また、上記に示した原料以外にも、ニオブ含有材料としてNb、チタン含有材料としてTi、リチウム含有材料としてLi、ニオブ含有材料兼チタン含有材料兼硫黄含有材料として結晶性のTi0.5Nb0.5、リチウム含有材料兼チタン含有材料兼硫黄含有材料としてLiTiS、リチウム含有材料兼ニオブ含有材料兼硫黄含有材料としてLiNbS等を用いることもできる。
また、硫黄含有材料として、必要に応じて、目的とする組成の硫化物を形成するたに必要な量の単体硫黄(S)を用いることもできる。例えば、ニオブ含有材料として結晶性のNbS、チタン含有材料として結晶性のTiS、リチウム含有材料としてLiSを用いる場合には、目的とする組成の硫化物を形成するために、単体硫黄(S)をさらに添加することもできる。
原料として用いる硫黄についても特に限定はなく、任意の硫黄を用いることができる。特に、高純度のものを用いることが好ましい。また、硫黄をメカニカルミリング処理によって混合粉砕するので、使用する硫黄の粒径についても限定はなく、通常は、市販されている粉末状の硫黄を用いることができる。
さらに、炭素源として、必要に応じて、目的とする組成の硫化物を形成するために必要な量の炭素質材料を用いることもできる。例えば、ニオブ含有材料として結晶性のNbS、チタン含有材料として結晶性のTiS、リチウム含有材料としてLiS、硫黄含有材料として単体硫黄(S)を用いる場合には、目的とする組成の硫化物を形成するために、炭素質材料をさらに添加することもできる。
炭素質材料としては、特に制限はないが、導電率を向上させる観点から、導電性炭素材料が好ましい。具体的には、市販のアセチレンブラック、ケッチェンブラック等のカーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンファイバー、グラファイト、グラフェン等、導電剤として通常使用される各種炭素材料を用いることができる。特に一次粒径が50nm以下のカーボンブラックや、直径が50nm以下の針状カーボンが好ましい。
さらに、上記したように、2段階のメカニカルミリングを採用する場合、中間生成物としては、ニオブ含有材料兼硫黄含有材料として、非晶質性の硫化ニオブ(a−NbS等)、非晶質性の硫化チタン(a−TiS等)、非晶質性のチタンニオブ硫化物(a−Ti0.5Nb0.5等)等を用いることもできる。
原料の混合割合については、目的とする硫化物におけるニオブ、チタン、リチウム、硫黄及び炭素の元素比と同一の比率となるようにすればよい。
メカニカルミリング処理は、機械的エネルギーを付与しながら原料を摩砕混合する方法であり、この方法によれば、原料に機械的な衝撃及び摩擦を与えて摩砕混合することによって、ニオブ含有材料及び硫黄含有材料、並びに必要に応じてチタン含有材料、リチウム含有材料及び炭素質材料が激しく接触して微細化され、原料の反応が生じる。つまり、この際、混合、粉砕及び反応が同時に生じる。このため、原料を高温に熱することなく、原料をより確実に反応させることが可能である。メカニカルミリング処理を用いることで通常の熱処理では得ることのできない、熱力学的非平衡相が得られることがある。
メカニカルミリング処理としては、具体的には、例えば、ボールミル、ロッドミル、振動ミル、ディスクミル、ハンマーミル、ジェットミル、VISミル等の機械的粉砕装置を用いて混合粉砕を行うことができる。
メカニカルミリング処理を行う際の温度については、温度が高すぎると硫黄の揮発が生じ易いことから、高容量の電極材料を得るために目的とする硫黄の含有比率が高い多硫化物をより形成しやすくするため、200℃以下程度、好ましくは−10〜170℃程度の温度でメカニカルミリング処理を行うことが好ましい。
メカニカルミリング処理の時間については、特に限定はなく、目的の硫化物が析出した状態となるまで任意の時間メカニカルミリング処理を行うことができる。
例えば、メカニカルミリング処理は、0.1〜100時間程度の処理時間の範囲内において、0.1〜100kWh/原料混合物1kg程度のエネルギー量で行うことができる。
このメカニカルミリング処理の際、原料及び中間生成物の仕込み量は、より確実に非晶質の硫化物として、充放電容量をより向上させ、サイクル特性をより向上させるとともに充放電の損失をより低減する観点から、反応容器の内部体積1mL当たり、0.01〜0.1gが好ましく、0.015〜0.05gがより好ましい。
なお、メカニカルミリング処理を複数回繰り返す場合は、各工程のメカニカルミリング処理において、上記条件とすればよい。
上記したメカニカルミリング処理により、目的とする硫化物を微粉末として得ることができる。その結果、平均粒径が1〜20μm程度、好ましくは2〜10μm程度の微粉末状の硫化物を得ることができる。なお、硫化物の平均粒径は、乾式レーザー回折・散乱法によって求めたメジアン径(d50)とする。
3.硫化物の用途
上記した硫化物は、ニオブ(Nb)及びチタン(Ti)の和に対する硫黄(S)の元素比が高い非晶質状態の多硫化物であることから、高い充放電容量を有する。また、良好な導電性を有する。この導電性が向上する傾向は、金属硫化物や炭素が非晶質性の硫化物からなる母材中に存在している場合に特に顕著である。さらに、本発明の硫化物中にリチウム(Li)が含まれている場合は、平均放電電位をより向上させつつ、充放電の損失をより低減することができる。
このような特徴を有する本発明の硫化物は、リチウム一次電池や、金属リチウム二次電池、リチウムイオン二次電池等のリチウム電池の正極活物質として特に有用である。本発明の硫化物を電極活物質(特に正極活物質)として有効に使用できるリチウム電池は、電解質として非水溶媒系電解液を用いる非水電解質リチウム電池(特に非水電解質リチウム二次電池)であってもよいし、リチウムイオン伝導性の固体電解質を用いる全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)であってもよい。
非水電解質リチウム電池(特に非水電解質リチウム二次電池)、及び全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)の構造は、本発明の硫化物を電極活物質(特に正極活物質)として用いること以外は、公知のリチウム電池と同様とすることができる。
例えば、非水電解質リチウム電池(特に非水電解質リチウム二次電池)としては、上記した硫化物を電極活物質(特に正極活物質)として使用する他は、基本的な構造は、公知の非水電解質リチウム電池(特に非水電解質リチウム二次電池)と同様でよい。
正極については、上記した硫化物を正極活物質として用いる他は、公知の正極と同様の構造とすることができる。例えば、本発明の硫化物の他に、導電剤を添加する場合には、添加した導電剤の存在により、高い電子伝導性及びイオン伝導性を付与することができる。これらの材料にバインダーを混合して調製した正極合剤をAl、Ni、ステンレス等の正極集電体に担持させることによって正極とすることができる。導電剤としては、例えば、黒鉛、コークス類、カーボンブラック、針状カーボン等の炭素質材料を用いることができる。
負極としては、例えば、金属リチウム一次電池及び金属リチウム二次電池ではリチウム金属、リチウム合金等を用いることができ、リチウムイオン二次電池では、リチウムイオンをドープ・脱ドープ可能であり、かつリチウムを予め含有する材料等を活物質として用いることができる。これらの負極活物質についても、必要に応じて、導電剤、バインダー等を用いて、Al、Cu、Ni、ステンレス等からなる負極集電体に担持させればよい。
セパレータとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ナイロン、芳香族アラミド、無機ガラス等の材質からなり、多孔質膜、不織布、織布等の形態の材料を用いることができる。
非水電解質の溶媒としては、カーボネート類、エーテル類、ニトリル類、含硫黄化合物等の非水溶媒系二次電池の溶媒として公知の溶媒を用いることができる。特に、単体硫黄を正極活物質として用いた場合には、カーボネート類を溶媒に用いると単体硫黄とカーボネート類とが反応を起こすため使用できず、エーテル類を溶媒に用いると硫黄成分が電解液中に大量に溶解して性能悪化を引起こすために、これらの溶媒を使用することはできなかったが、本発明の硫化物を正極活物質として使用すると、これらの問題を解決することができるため、いずれの溶媒でも適用可能であり、電解液中の溶媒の選択性を向上させることができる。
また、全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)についても、本発明の硫化物を電極活物質(特に正極活物質)として用いる以外は、公知の全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)と同様の構造とすればよい。
この場合、電解質としては、例えば、ポリエチレンオキサイド系の高分子化合物;ポリオルガノシロキサン鎖及びポリオキシアルキレン鎖の少なくとも一種以上を含む高分子化合物等のポリマー系固体電解質の他、硫化物系固体電解質、酸化物系固体電解質等も用いることができる。
全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)の正極については、本発明の硫化物を正極活物質として用いる他は、公知の全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)の正極と同様の構造とすることができる。例えば、本発明の硫化物に、導電剤、バインダー、固体電解質を加えて正極合剤を調製し、これをAl、Ni、ステンレス等の正極集電体に担持させればよい。導電剤については、非水溶媒系二次電池と同様に、例えば、黒鉛、コークス類、カーボンブラック、針状カーボン等の炭素質材料を用いることができる。
非水電解質リチウム電池(特に非水電解質リチウム二次電池)及び全固体型リチウム電池(特に全固体型リチウム二次電池)の形状についても特に限定はなく、円筒型、角型等のいずれであってもよい。
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は、以下の実施例のみに限定されないことは言うまでもない。
(リチウム)ニオブ硫化物、(リチウム)チタンニオブ硫化物系、又はチタンニオブ硫化物系
[実施例1:a−NbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:3、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、60時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のNbS粉末を得た。この非晶質性のNbS粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。
[実施例2:a−NbS粉末の合成(その1)]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で500rpm、90時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のNbS粉末を得た。この非晶質性のNbS粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。
[実施例3:a−NbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:3、仕込み重量が0.77gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、40時間のメカニカルミリング処理を行った後、さらに該ジルコニアポットにNbS:S=1:2となるように、硫黄(S)粉末を添加し、510rpm、36時間メカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のNbS粉末を得た。この非晶質性のNbS粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。
[実施例4:NbS(a−NbS/NbS複合体)粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:5、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLの容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で600rpm、60時間のメカニカルミリング処理を行うことで、NbS(非晶質性のNbSとNbSとの複合体)粉末を得た。このNbS(非晶質性のNbSとNbSとの複合体)粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。なお、NbSにおけるxは必ずしも明らかではないが、5<x<6程度と推測される。
[実施例5:NbS2.3(a−NbS/NbS/アセチレンブラック複合体)粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末と市販のアセチレンブラックとを、それぞれ元素比でNb:S:C=1:5:2.3、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、60時間のメカニカルミリング処理を行うことで、NbS2.3(非晶質性のNbSとNbSとCとの複合体)粉末を得た。このNbS2.3(非晶質性のNbSとNbSとCとの複合体)粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。なお、NbSにおけるxは必ずしも明らかではないが、5<x<6程度と推測される。
[実施例6:a−Ti0.5Nb0.5粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化チタン(TiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でTi:Nb:S=1:1:6、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で370rpm、60時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のTi0.5Nb0.5粉末を得た。この非晶質性のTi0.5Nb0.5粉末の不純物濃度は、NbSが2重量%以下であった。
[実施例7:Ti0.5Nb0.5(a−TiNb/NbS複合体)粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化チタン(TiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でTi:Nb:S=1:1:8、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で370rpm、60時間のメカニカルミリング処理を行うことで、Ti0.5Nb0.5(非晶質性のTiNbとNbSとの複合体)粉末を得た。このTi0.5Nb0.5(非晶質性のTiNbとNbSとの複合体)粉末の不純物濃度は、NbSが2重量%以下であった。なお、TiNbにおいて、a:b:cは明らかではないが、1:0.95〜1:7.9〜8程度と考えられる。
[実施例8:a−NbS2.5粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=2:5、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で370rpm、100時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のNbS2.5粉末を得た。この非晶質性のNbS2.5粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。
[実施例9:a−Ti0.5Nb0.54.5粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化チタン(TiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でTi:Nb:S=1:1:9、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で370rpm、100時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のTi0.5Nb0.54.5粉末を得た。この非晶質性のTi0.5Nb0.54.5粉末の不純物濃度は2重量%以下であった。
[実施例10:a−LiNbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化リチウム(LiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末とを、それぞれ元素比でLi:Nb:S=2:1:3、仕込み重量が1.5gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、30時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のLiNbS粉末を得た。
[実施例11:a−LiNbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化リチウム(LiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でLi:Nb:S=1:1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、45時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のLiNbS粉末を得た。
[実施例12:a−NbS粉末の合成(その2)]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:3、仕込み重量が1.3gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、20時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のNbS粉末を得た。
次に、同じアルゴン雰囲気のグローブボックス中において、得られた非晶質性のNbS粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:4、仕込み重量が1.5gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、10時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のNbS粉末を得た。
[比較例1:NbS粉末]
市販のNbS粉末をそのまま比較例1の試料とした。
[比較例2:TiS粉末]
市販のTiS粉末をそのまま比較例2の試料とした。
[比較例3:a−TiS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の二硫化チタン(TiS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でTi:S=1:3、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、40時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のTiS粉末を得た。
[比較例4:a−TiS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の二硫化チタン(TiS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でTi:S=1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLの容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、40時間のメカニカルミリング処理を行うことで、非晶質性のTiS粉末を得た。
[比較例5:S粉末]
市販のS粉末をそのまま比較例5の試料とした。
[比較例6:LiNbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化リチウム(LiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でLi:Nb:S=2:1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLの容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、40時間のメカニカルミリング処理を行うことで、LiNbS粉末を得た。
[比較例7:LiNbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化リチウム(LiS)粉末と市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でLi:Nb:S=3:1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLの容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、40時間のメカニカルミリング処理を行うことで、LiNbS粉末を得た。
[比較例8:NbS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化ニオブ(NbS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でNb:S=1:4、仕込み重量が1.5gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で500rpm、90時間のメカニカルミリング処理を行うことで、NbS粉末を得た。
[試験例1:X線構造回折(その1)]
実施例1で得た非晶質性のNbS粉末、実施例2で得た非晶質性のNbS粉末及び実施例3で得た非晶質性のNbS粉末について、CuKα線を用いた回折角2θ=10〜80°の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図1に示す。参考のため、図1には、原料として用いた硫化ニオブ(NbS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。
図1に示すX線回折図では、実施例1〜3のいずれも、回折角2θ=15.0°の位置にハロパターン又は極めてブロードなピークが確認できるが、ピークとして捉えた場合にも半値幅は2°より非常に大きい。また、回折角2θ=23.0°、37.0°及び40.0°に回折ピークは見られない。このため、実施例1〜3のいずれも、結晶性のNbS及びSは残存しておらず、非晶質性の硫化物が得られていることが示唆されている。
次に、実施例4で得たNbS(非晶質性のNbSとNbSとの複合体)粉末、及び実施例5で得たNbS2.3(非晶質性のNbSとNbSとCとの複合体)粉末について、CuKα線を用いた回折角2θ=10〜50°の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図2に示す。参考のため、図2には、原料として用いた硫化ニオブ(NbS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。
図2に示すX線回折図では、実施例4においては、回折角2θ=15.0°、37.0°及び40.0°の位置に、結晶性NbSの回折ピークが見られることから、原料として用いた結晶性NbSが残存していることが示されている。ただし、回折角2θ=23.0°の位置には回折ピークは見られないことから、Sは残存せず、硫化物を構成することが示されている。このことから、実施例4の試料は、非晶質性のNbSとNbSとの複合体であることが示唆されている。
一方、実施例5においても、実施例4と同様に、回折角2θ=15.0°、37.0°及び40.0°の位置に、結晶性NbSの回折ピークが見られ、回折角2θ=23.0°の位置には回折ピークは見られないことから、Sは残存せず、結晶性NbSが残存している。また、実施例5では、炭素質材料としてアセチレンブラックを使用しているため、実施例5の試料は、非晶質性のNbSとNbSとアセチレンブラックとの複合体であることが示唆される。
さらに、実施例6で得た非晶質性のTi0.5Nb0.5粉末、及び実施例7で得たTi0.5Nb0.5(非晶質性のTiNbとNbSとの複合体)粉末について、CuKα線を用いた回折角2θ=10〜80°の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図3に示す。参考のため、図3には、原料として用いた硫化ニオブ(NbS)、硫化チタン(TiS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。
図3に示すX線回折図では、実施例6においては、回折角2θ=15.0°の位置に、NbSの回折ピークが若干見られてはいるが、半値幅が0.3°より非常に大きいブロードで弱いものである。また、回折角2θ=23.0°、37.0°及び40.0°の位置には回折ピークが認められない。これらの点から、若干NbSが残存しているものの、ほぼ完全になくなっており、また、Sについてもほぼ完全になくなっている。このため、ほぼ非晶質化したTi0.5Nb0.5粉末が得られたことが示唆されている。
一方、実施例7においては、回折角2θ=15.0°、37.0°及び40.0°の位置に、NbSの回折ピークが認められる。その半値幅は0.3°より非常に大きいブロードで弱いものである。また、回折角2θ=23.0°の位置には回折ピークが認められない。これらの点から、NbSが少量残存しており、Sはほぼ完全になくなっていることから、実施例7の試料は、非晶質性のTiNbとNbSとが複合体を形成していることが示唆されている。
なお、比較例3及び4の試料では、いずれも回折ピークが確認されず、非晶質性の硫化物が得られていることが示唆されている。回折角2θ=10〜60°の範囲でCuKα線を用いて測定した比較例3及び4のX線回折図を図4に示す。
なお、本実施例においては、いずれの試料に対しても、大気暴露抑制のために試料をカプトンフィルムで覆って測定を行っている。そのため、2θ=10〜25°付近にカプトンに由来するブロードな回折パターンが確認されている。
さらに、実施例10で得た非晶質性のLiNbS粉末、実施例11で得た非晶質性のLiNbS粉末、比較例6で得たLiNbS粉末、及び比較例7で得たLiNbS粉末について、CuKα線を用いた回折角2θ=25〜80°の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図5に示す。参考のため、図5には、原料として用いた硫化リチウム(LiS)、硫化ニオブ(NbS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。
図5に示すX線回折図では、実施例10〜11のいずれも、明確なピークは確認できない。このため、実施例10〜11のいずれも、結晶性のLiS、NbS及びSは残存しておらず、非晶質性の硫化物が得られていることが示唆されている。
一方、比較例6〜7においては、それぞれ34.7°付近、34.8°付近に、半値幅がそれぞれ0.75°、0.95°の明確なピークが見られる。このピークは、結晶性のLiNbSであると考えられ、非晶質の硫化物は得られていない。
さらに、実施例12で得た非晶質性のNbS粉末、及び比較例8で得たNbS粉末について、CuKα線を用いた回折角2θ=10〜80°の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図6に示す。参考のため、図6には、原料として用いた硫化ニオブ(NbS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。
図6に示すX線回折図では、実施例12では、回折角2θ=15.0°の位置に、NbSの回折ピークが若干見られてはいるが、半値幅が2°より非常に大きいブロードなピークである。また、回折角2θ=23.0°、37.0°及び40.0°の位置には回折ピークが認められない。これらの点から、若干NbSが残存しているものの、ほぼ完全になくなっており、また、Sについてもほぼ完全になくなっている。
それに対して、比較例8では、回折角2θ=15.0°の位置に、明確なNbSの回折ピークが見られており、また、回折角2θ=37.0°及び40.0°の位置にもピークが見られる。このピークは、結晶性のNbSであると考えられ、非晶質の硫化物は得られていない。
[試験例2:X線構造回折(Si添加)]
本発明の硫化物が、非晶質化されていることは、シリコン(Si)と混合し、その最強ピーク強度と比較することで理解できる。
実施例3〜4、比較例1、5の試料100重量部に対して、市販のシリコン(Si)を10重量部添加し、乳鉢を用いて混合した。この混合物について、CuKα線を用いた回折角2θ=10〜80°の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図7に示す。
また、各試料について、使用したシリコンの最大強度の位置(2θ=28.5°)におけるピーク強度(ISi)、得られたシリコン混合物の最大強度の位置における強度(Imax)、これらの比(Imax/ISi)を表1に示す。
Figure 0006370796
この結果、大気暴露抑制のために用いたカプトンのピーク強度をあわせて考慮しても、原料として用いたNbSやSと比較して、実施例の材料は非常にピーク強度を低減していることが分かる。いずれの試料に対しても、大気暴露抑制のために試料をカプトンフィルムで覆って測定を行っている。そのため、2θ=10〜25°付近にカプトンに由来するブロードな回折パターンが確認されている。
[試験例3:透過型電子顕微鏡観察]
実施例3で得た非晶質性のNbS粉末、及び実施例5で得たNbS2.3(非晶質性のNbSとNbSとCとの複合体)粉末について粒子端部の透過型電子顕微鏡(TEM)観察を行った。結果を図8〜9に示す。試料の大気暴露を避けるために、アルゴン雰囲気のグローブボックスからTEM装置への導入する際には、雰囲気制御ホルダーを用いた。
図8に示すTEM像では、実施例3では、明らかに非晶質化が進んでおり、また、FFTパターンで明瞭な結晶のパターンが存在しないことから、長距離構造を有する結晶は存在せず、ほぼ完全に非晶質であることが示唆されている。
一方、図9に示すTEM像では、実施例5では、非晶質のマトリックス中に、平均の結晶子サイズが1〜20nm程度の結晶子が見られる。このことから、実施例5では、非晶質性の材料を母材として、結晶性のNbSがその中に存在していることが示唆されている。
[試験例4:熱分析]
実施例2、3、7及び8の硫化物について、示差走査熱量分析(DSC)を行った。結果を図10に示す。図10では、比較のため、結晶性NbSとSとの混合物(組成はNbS)、結晶性TiS、結晶性NbS及びSの混合物(組成はTi0.5Nb0.5)の結果もあわせて示す。
その結果、実施例の硫化物では、Sの相転移及び融解の吸熱ピークは確認されなかった。一方、Sとの混合物では、単体硫黄が残存しているため、オンセット温度が約100℃のα相(斜方硫黄)からβ相(単斜硫黄)への転移及びオンセット温度が115℃のβ相の融解の吸熱ピークが見られる。
なお、結晶性NbSとSとの混合物では、α相からβ相への転移による熱量は4.7J/g、β相の融解による熱量は20J/gである。また、結晶性TiS、結晶性NbS及びSの混合物では、α相からβ相への転移による熱量は3.9J/g、β相の融解による熱量は16.5J/gである。
[試験例5:導電率]
実施例1〜11及び比較例3〜4の試料について、直径10mmの錠剤成型器に対して試料粉末を80mg充填し、25℃、360MPaで一軸プレスすることによって、導電率測定用の試料を得た。試料に対してステンレススチール製の集電体を用いて、直流分極測定を行うことで、電子抵抗値を測定し、粉末成型体の導電率を算出した。
結果を表2に示す。
Figure 0006370796
この結果、本発明の硫化物においては、充放電容量をより向上させるために硫黄含量を増加させたとしても、十分な導電率が得られた。
[試験例6:充放電試験(その1)]
上記した実施例1〜3、5、7〜11及び比較例1〜2、6〜7の硫化物を用いて、下記の方法で2種類の電気化学セルを作製し、それぞれ電流密度10mA/gにおいて、カットオフ1.5〜3.0Vにおける定電流測定で充放電試験を行った(ただし、比較例6では、電流密度を20mA/gとした)。
電気化学セル(1)の作製方法としては、まず、作用極は、各実施例及び比較例の硫化物に対して、アセチレンブラックとバインダーであるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を、硫化物:アセチレンブラック:PTFE=84:8:8の重量比になるように加え、乳鉢で15分間混練した後、アルミニウムメッシュに張り付けることで作製した。セパレータとしてはポリプロピレンを用い、対極としてはリチウムを用いた。電解液としては、1Mのヘキサフルオロリン酸リチウム(LiPF)をエチレンカーボネート(EC)とジメチルカーボネート(DMC)との重量比1:1の混合溶媒に溶解させたもの(1M LiPF EC/DMC)を用いた。
電気化学セル(2)の作製方法としては、電解液を変更したこと以外は電気化学セル(2)と同様にした。具体的には、まず、作用極は、各実施例及び比較例の硫化物に対して、アセチレンブラックとバインダーであるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を、硫化物:アセチレンブラック:PTFE=84:8:8の重量比になるように加え、乳鉢で15分間混練した後、アルミニウムメッシュに張り付けることで作製した。セパレータとしてはポリプロピレンを用い、対極としてはリチウムを用いた。電解液としては、1Mのリチウムトリフルオロメタンスルホニルアミド(LiN(SOCF;LiTFSA)を1,3−ジオキソラン(DOL)と1,2−ジメトキシエタン(DME)との重量比1:1の混合溶媒に溶解させたもの(1M LiTFSA DOL/DME)を用いた。
結果を図11〜23に示す。図中の数値は、サイクル数を示す。
なお、各試料について、用いた電気化学セルは以下:
図11(実施例1):電気化学セル(1)及び(2)
図12(実施例2):電気化学セル(1)
図13(実施例3):電気化学セル(1)
図14(実施例5):電気化学セル(1)
図15(実施例7):電気化学セル(1)
図16(実施例8):電気化学セル(1)及び(2)
図17(実施例9):電気化学セル(1)
図18(実施例10):電気化学セル(1)
(図19:実施例1と実施例10との比較)
図20(実施例11):電気化学セル(1)
図21(比較例1):電気化学セル(1)
図22(比較例2):電気化学セル(1)
図23(比較例6):電気化学セル(1)
図24(比較例7):電気化学セル(1)
のとおりである。
図11より、カットオフ1.5〜3.0Vの範囲の充放電において、
充電容量(1サイクル目):268mAh/g
放電容量(1サイクル目):281mAh/g
であり、NbSの理論容量(1電子反応:142mAh/g、2電子反応:283mAh/g)と比較すると、狙ったかのように2電子反応を起こしていることが分かる。また、サイクル性は良好であった。
また、溶媒としてエーテル系溶媒を用いた場合であっても、
充電容量(1サイクル目):284mAh/g
充電容量(2サイクル目):278mAh/g
放電容量(1サイクル目):342mAh/g
放電容量(2サイクル目):301mAh/g
であり、充放電可能であった。また、エーテル系溶媒を用いたほうが、充放電ともに容量が向上した。
図12〜13及び16より、ニオブ硫化物として、a−NbS粉末、a−NbS粉末及びa−NbS2.5粉末を用いた場合にも、充放電可能であった。また、a−NbS粉末と比較すると、硫黄含量を増加させると、サイクル特性は若干劣るものの、充放電ともに容量を飛躍的に向上させることができた。特に、a−NbS粉末を用いた場合には、a−NbS粉末の約2倍の容量が得られた。
図14より、結晶性NbS及びアセチレンブラックを存在させた場合にも充放電可能であった。また、a−NbS粉末と比較すると、さらに容量を若干向上させることができた。
図15及び17より、Nbの一部をTiに置換することによっても充放電可能であった。また、a−NbS粉末と比較すると、充放電ともに容量を飛躍的に向上させることができた。
一方、図21及び22より、結晶性の硫化ニオブ及び硫化チタンを用いた場合には、極めて低容量且つ低電位(約1.7V)の結果となった。また、サイクル特性も良好とは言えなかった。
図18〜20より、硫化物中にLiを含ませることによっても充放電可能であった。また、a−NbS粉末と比較すると、充放電容量を維持したままで平均放電電位を向上させることができた。また、充放電の損失を低減することも可能であった。
一方、図23及び24より、結晶性のリチウムニオブ硫化物を用いた場合には、充放電容量が若干低下し、且つ充放電時のエネルギー損失が大きくなった。
実施例1〜2及び比較例3〜4で得られた硫化物を用いて、上記と同様に電気化学セル(1)を作製し、それぞれ電流密度10mA/gにおいて、カットオフ1.5〜3.0Vにおける定電流測定で充放電試験を20サイクル行った。結果を図25〜27に示す。
その結果、同様の組成比を有する材料同士を比較した場合、同様の初期容量を有する材料同士を比較した場合のいずれにおいても、本発明の硫化物は従前のチタン硫化物と比較してサイクル特性が優れていることが分かる。
なお、単体硫黄を正極に用いた場合、カーボネート系溶媒では使用が困難である。これは、単体硫黄又はその充放電生成物と溶媒とが反応してしまうためである。また、単体硫黄を正極に用いた場合、エーテル系溶媒では充放電自体は可能ではあるが、充放電中に硫黄成分が電解液中に大量に溶解してしまうため、性能悪化につながる。
本発明の硫化物においては、カーボネート系溶媒においても、エーテル系溶媒においても、充放電が可能であった。また、サイクル特性が良好であることとあわせて考慮すると、硫黄とカーボネート系溶媒との副反応を抑制することができていると考えられる。また、エーテル系溶媒を用いた場合にも、充放電試験後の電解液の着色が大きく低減できていることから、硫黄成分の溶出を抑制できていることが理解できる。
この効果は、溶媒と接触する部分に本発明の硫化物が存在するだけでも期待できるため、本発明の硫化物を含む活物質材料は、良好な特性を示す。
(リチウム)マンガン硫化物又は鉄硫化物系
[比較例9:MnS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化マンガン(MnS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でMn:S=1:3、仕込み重量が1.4gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、80時間のメカニカルミリング処理を行うことで、MnS粉末を得た。
[比較例10:LiMnS粉末の合成]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化リチウム(LiS)粉末と市販の硫化マンガン(MnS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でLi:Mn:S=2:1:3、仕込み重量が1.5gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で510rpm、80時間のメカニカルミリング処理を行うことで、LiMnS粉末を得た。
[比較例11:FeS粉末の合成(その1)]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化鉄(FeS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でFe:S=1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、FeS粉末を得た。
[比較例12:FeS粉末の合成(その2)]
アルゴン雰囲気のグローブボックス中において、市販の硫化鉄(FeS)粉末と市販の硫黄(S)粉末とを、それぞれ元素比でFe:S=1:4、仕込み重量が1.0gとなるように秤量・混合し、その後、直径4mmのジルコニアボール約500個を入れた45mLのジルコニア容器を用いて、ボールミル装置(フリッチェP7)で360rpm、40時間のメカニカルミリング処理を行うことで、FeS粉末を得た。
[試験例7:X線構造回折(その2)]
比較例9で得たMnS粉末、比較例10で得たLiMnS粉末、比較例11で得たFeS粉末、及び比較例12で得たFeS粉末について、CuKα線を用いた回折角2θ=10〜80°(比較例12及び13は10〜60°)の範囲内のX線構造回折(XRD)を測定した。結果を図28〜29に示す。参考のため、図28には、原料として用いた硫化マンガン(MnS)、硫化リチウム(LiS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。また、図29には、原料として用いた硫化鉄(FeS)及び硫黄(S)のピークもあわせて示す。
図28に示すX線回折図では、比較例10〜11のいずれも、回折角2θ=33.9°、49.3°及び61.1°の位置に、MnSを示す明確なピークが見られる。また、比較例10では、回折角2θ=23.0°の位置に、Sを示すピークも見られる。このため、(リチウム)マンガン硫化物系では、メカニカルミリング法によっても、非晶質性の硫化物は得られなかった。
一方、図29に示すX線回折図では、比較例12〜13のいずれも、回折角2θ=28.5°、32.9°、37.0°、40.6°及び23.0°の位置に、FeS及びSを示す明確なピークが見られる。このため、鉄硫化物系では、メカニカルミリング法によっても、非晶質性の硫化物は得られなかった。
[試験例8:充放電試験(その2)]
上記した比較例12の硫化物を用いて、下記のように電気化学セルを作製し、それぞれ電流密度5mA/gにおいて、カットオフ1.5〜3.0Vにおける定電流測定で充放電試験を行った。
電気化学セルの作製方法としては、まず、作用極は、各比較例の硫化物に対して、アセチレンブラックとバインダーであるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を、硫化物:アセチレンブラック:PTFE=84:8:8の重量比になるように加え、乳鉢で15分間混練した後、アルミニウムメッシュに張り付けることで作製した。セパレータとしてはポリプロピレンを用い、対極としてはリチウムを用いた。電解液としては、1Mのヘキサフルオロリン酸リチウム(LiPF)をエチレンカーボネート(EC)とジメチルカーボネート(DMC)との重量比1:1の混合溶媒に溶解させたもの(1M LiPF EC/DMC)を用いた。
結果を図30に示す。

Claims (19)

  1. 一般式(1):
    Lik1NbSn1
    [式中、0≦k1≦1.5;3.5≦n1≦10である。]
    で示される平均組成を有する非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物、又は
    一般式(2):
    Lik2Ti1−m2Nbm2n2
    [式中、0≦k2≦1.5;0<m2<1;3.5≦n2≦10である。]
    で示される平均組成を有する非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物
    からなる硫化物。
  2. 不純物濃度が2重量%以下である、請求項1に記載の硫化物。
  3. 一般式(3A):
    Ti1−m3Nbm3n3
    [式中、0<m3<1;3≦n3≦10]
    、又は一般式(3B):
    Lik3Ti1−m3Nbm3n3
    [式中、0<k3≦5;0<m3<1;2≦n3≦10;n3≧3.5の場合はk3≦1.5である。]
    で示される平均組成を有する非晶質性の硫化物からなり、且つ、
    不純物濃度が2重量%以下である、硫化物。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の硫化物を母材として、その内部に結晶性の金属硫化物が存在する、硫化物。
  5. CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置における半値幅が0.3°以上であるか、又は、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークが存在しない、請求項1〜4のいずれかに記載の硫化物。
  6. 結晶子を有さないか、又は、平均の結晶子サイズが5nm以下である、請求項1〜5のいずれかに記載の硫化物。
  7. 一般式(4A):
    Ti1−m4Nbm4n4
    [式中、0<m4≦1;3.5≦n4≦10;0≦x≦10である。]
    、又は一般式(4B):
    Lik4Ti1−m4Nbm4n4
    [式中、0<k4≦1.5;0<m4≦1;3.5≦n4≦10;0≦x≦10である。]
    で示される平均組成を有し、且つ、
    非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物を母材として、その内部に結晶性の金属硫化物又は炭素が存在する、硫化物。
  8. 前記非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物は、CuKα線によるX線回折図において、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置における半値幅が0.3°以上であるか、又は、回折角2θ=15.0±0.5°、15.5±0.5°及び23.0±0.5°の位置に回折ピークが存在しない、請求項7に記載の硫化物。
  9. 前記非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物又は非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物は、結晶子を有さないか、又は、平均の結晶子サイズが5nm以下である、請求項7又は8に記載の硫化物。
  10. 原料又は中間生成物として、ニオブ含有材料及び硫黄含有材料を用い、200℃以下の温度でメカニカルミリング処理に供する工程
    を備える、請求項1〜9のいずれかに記載の硫化物の製造方法。
  11. 原料又は中間生成物として、結晶性の硫化ニオブ、非晶質性の(リチウム)ニオブ硫化物、及び非晶質性の(リチウム)チタンニオブ硫化物よりなる群から選ばれる少なくとも1種を用いる、請求項10に記載の製造方法。
  12. 原料として、さらに、硫黄を用いる、請求項11に記載の製造方法。
  13. 原料として、さらに、チタン含有材料、リチウム含有材料、及び炭素質材料よりなる群から選ばれる少なくとも1種を用いる、請求項10〜12のいずれかに記載の製造方法。
  14. 前記チタン含有材料は、硫化チタンであり、前記リチウム含有材料は硫化リチウムである、請求項13に記載の製造方法。
  15. 請求項1〜9のいずれかに記載の硫化物からなるリチウム電池用正極活物質。
  16. 請求項15に記載のリチウム電池用正極活物質を含むリチウム電池用電極。
  17. リチウム電池用正極である、請求項16に記載のリチウム電池用電極。
  18. 請求項16又は17に記載のリチウム電池用電極を含むリチウム電池。
  19. 非水電解質電池又は全固体型電池である請求項18に記載のリチウム電池。
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