JP6356936B2 - フィルムコンデンサ、連結型コンデンサ、インバータおよび電動車輌 - Google Patents

フィルムコンデンサ、連結型コンデンサ、インバータおよび電動車輌 Download PDF

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Description

本開示は、フィルムコンデンサ、連結型コンデンサ、インバータおよび電動車輌に関する。
フィルムコンデンサは、例えば、ポリプロピレン樹脂をフィルム化した誘電体フィルムの表面に蒸着によって形成された金属膜を電極として有している。このような構成により、フィルムコンデンサの絶縁破壊を防止できる(自己回復性)という利点を有している。
このため、フィルムコンデンサは電気回路が短絡した際の発火や感電を防止することができるという点が注目され、近年、LED(Light Emitting Diode)照明等の電源回路への適用を始め、ハイブリッド自動車のモータ駆動や太陽光発電のインバータシステム等に用途が拡大しつつある。
フィルムコンデンサでは、絶縁欠陥部で短絡が生じ、短絡のエネルギーで欠陥部周辺の金属膜が蒸発、飛散することで、上述のような自己回復性が発現する。金属膜が蒸発、飛散した際にガスが発生するため、自己回復性を機能させる上でガスの抜け性が重要となる。特に、隣接する誘電体フィルム同士が密着するいわゆる絶縁マージン部近傍ではガスが抜けにくいため、例えば特許文献1には、マージン部の誘電体フィルムの表面粗さを粗くしてガスの抜け性を確保する方法が開示されている。また、特許文献2には、誘電体フィルムの表面に凹凸を形成して表面粗さを粗くすることにより、フィルムの滑り性が向上し、誘電体フィルムを金属膜とともに捲回してフィルムコンデンサを形成する際の表面摩擦抵抗を低減する効果が得られることが開示されている。
特開2015−201527号公報 特開2013−207158号公報
本開示のフィルムコンデンサは、捲回された誘電体フィルムと、該誘電体フィルムの一方の面上に配置された金属膜を有する本体部と、該本体部の軸長方向に位置する一対の端部にそれぞれ設けられた外部電極と、を具備し、前記誘電体フィルムの幅方向における前記金属膜の表面粗さをS1とし、前記誘電体フィルムの長さ方向における前記金属膜の表面粗さをS2としたとき、前記S1および前記S2が、S1>S2の関係を有するとともに、前記金属膜のしわによる凹凸境界線のフラクタル次元の平均値が1.08以上である。
本開示の連結型コンデンサは、複数のフィルムコンデンサと、該複数のフィルムコンデンサを接続するバスバーと、を備え、前記フィルムコンデンサが、上述のフィルムコンデンサである。
本開示のインバータは、スイッチング素子により構成されるブリッジ回路と、該ブリッジ回路に接続された容量部とを備え、前記容量部が上述のフィルムコンデンサまたは連結型コンデンサである。
本開示の電動車輌は、電源と、該電源に接続された上述のインバータと、該インバータに接続されたモータと、該モータにより駆動する車輪と、を備えている。
フィルムコンデンサの構成を模式的に示した展開斜視図である。 金属膜の原子間力顕微鏡(AFM)分析結果を二値化処理した一例を示し、上はフラクタル次元が1.08となる場合の図であり、下はフラクタル次元が1.23となる場合の図である。 第1実施形態における本体部の軸長方向に垂直な断面図である。 図3Aの破線で囲まれた部分を拡大した断面図である。 第2実施形態のフィルムコンデンサを模式的に示した斜視図である。 第2実施形態の本体部の軸長方向に垂直な断面図である。 図5Aの破線で囲まれた部分の一例を拡大した断面図である。 図5Aの破線で囲まれた部分の別の例を拡大した断面図である。 第2実施形態の別の例において、図5Bに対応する巻芯の軸長方向に垂直な断面図である。 第2実施形態の別の例において、図5Cに対応する巻芯の軸長方向に垂直な断面図である。 第2実施形態の別の例における巻芯の斜視図である。 第3実施形態の一対の金属膜付きフィルムの長さ方向に垂直な断面図である。 第3実施形態の金属膜付きフィルムの長さ方向に垂直な断面図である。 図8Aの破線部を拡大した金属膜の平面図である。 図8Aの破線部を拡大したもので、本体部の外周近傍に配置された金属膜の平面図である。 図8Aの破線部を拡大したもので、本体部の中心近傍に配置された金属膜の平面図である。 第3実施形態のフィルムコンデンサの軸長方向に垂直な断面図である。 連結型コンデンサの構成を模式的に示した斜視図である。 インバータの一実施形態の構成を説明するための概略構成図である。 電動車輌の一実施形態を示す概略構成図である。
図1に示すフィルムコンデンサAは、誘電体フィルム1a、金属膜2a、誘電体フィルム1bおよび金属膜2bがこの順に重ねられ、捲回された本体部3の軸長方向における対向する端面に、一対の外部電極4a、4bとしてメタリコン電極が設けられている。なお、図1においては、理解を容易にするために、引き出した誘電体フィルム1a、1bおよび金属膜2a、2bの厚みを紙面の手前にくる程厚くなるように描いている。なお、誘電体フィルムや金属膜の符号のa、bは省略する場合がある。
図1においては、誘電体フィルム1a、1bおよび金属膜2a、2bの幅方向をx方向、長さ方向をy方向、厚さ方向をz方向として示している。なお、捲回体である本体部3については、軸長方向をx方向、捲回の周方向をy方向、径方向をz方向と称する場合もある。
金属化フィルム5aは、誘電体フィルム1aの一方の面上に金属膜2aを形成したものであり、一方の面上の一部には誘電体フィルム1aが露出したいわゆる絶縁マージン部6aを有している。絶縁マージン部6aは、金属化フィルム5aの幅方向(x方向)の一端部側に、長手方向(y方向)に連続するように設けられている。金属化フィルム5bは、誘電体フィルム1bの一方の面上に金属膜2bを形成したものであり、一方の面上の一部には誘電体フィルム1bが露出したいわゆる絶縁マージン部6bを有している。これらの金属化フィルム5a、5bは、図1に示すように、少し幅方向(x方向)にずれた状態で積層捲回されている。絶縁マージン部6bは、金属化フィルム5bの幅方向(x方向)の一端側に、長手方向(y方向)に連続するように設けられている。
このように、フィルムコンデンサAは、誘電体フィルム1aおよび金属膜2aにより構成される金属化フィルム5aと、誘電体フィルム1bおよび金属膜2bにより構成される金属化フィルム5bとが、図1に示すように重ねられ捲回されている。
金属膜2a、2bは、本体部3の軸長方向(x方向)に位置する互いに異なる端部に露出した接続部において、それぞれ外部電極4a、4bに接続している。
<第1実施形態>
フィルムコンデンサAの第1実施形態における金属膜2は、その表面に凹凸を有している。誘電体フィルム1の幅方向(x方向)における金属膜2の表面粗さをS1とし、誘電体フィルム1の長さ方向(y方向)における金属膜の表面粗さをS2とする。このとき、本実施形態の金属膜2は、S1がS2より大きい(S1>S2)ものである。換言すれば、金属膜2はその表面に、長さ方向(y方向)にのびるしわ(ひだ)を有している。なお、誘電体フィルム1の厚さはおおむね一定であり、そのバラツキは金属膜2の表面粗さS1、S2に対して充分小さい。
このように、金属膜2の長さ方向(y方向)の表面粗さS2に対して幅方向(x方向)の表面粗さS1を大きくすることにより、金属化フィルム5の滑り性を向上させることができる。金属化フィルム5の滑り性を向上させることで、たとえば捲回後に本体部3を偏平加工する熱プレス工程において、誘電体フィルム1における歪の発生を抑制することができる。その結果、フィルムコンデンサAの絶縁破壊電界(耐電圧)を維持することができる。
なお、図1のように金属膜2が誘電体フィルム1の一方の面上だけに設けられている場合、誘電体フィルム1の金属膜2が設けられていない他方の面の表面粗さをS3とする。このとき、S1およびS2はいずれも、S3よりも大きくてもよい。
表面粗さS1、S2、およびS3は、いずれも算術平均高さSa(ISO25178に準拠)であり、たとえば原子間力顕微鏡(AFM)などを用いて測定できる。
さらに、本実施形態では、金属膜2の凹凸境界線のフラクタル次元の平均値が、1.08以上である。フラクタル次元とは、図形の複雑さを示すパラメータである。直線の場合、フラクタル次元は1である。曲線の場合、曲線が蛇行し平面を埋め尽くすに従い、その曲線のフラクタル次元は2に近づく。フラクタル次元を用いることで、線(ここでは、図2に示すような金属膜2の凹凸境界線)の複雑さを数値化することがきる。たとえば、凹凸が一方向に配列して凹凸境界線が直線となるような場合、そのフラクタル次元は1である。
たとえば、金属膜2の凹凸が一方向(特に幅方向(x方向))に配列し、フラクタル次元が1となる場合、凹部または凸部は長さ方向(y方向)に延び、金属化フィルム5a、5b上の凹部同士、凸部同士が複数の捲回面L(図3Aを参照)にわたって重なりあった状態となる可能性が高い。なお、捲回面Lとは、捲回された金属化フィルム5の金属膜2の面を指す。7は巻芯である。さらに、捲回時に金属化フィルム5の位置ずれなどが生じた場合、金属化フィルム5a、5bの一方の凸部と他方の凹部とが重なりあった状態となる懸念がある。たとえば、金属膜2a(捲回面La)の凸部8aと金属膜2b(捲回面Lb)の凹部8bとが、誘電体フィルム1bを介して対向する部分(P、図3Bを参照)、または金属膜2aの凹部と金属膜2bの凸部とが誘電体フィルム1aを介して対向する部分(P、図示せず)が生じ、Pにおいては、誘電体フィルム1の厚さが薄くなる。Pでは誘電体フィルム1の厚さが薄いために、誘電体フィルム1の絶縁破壊電界(BDV、耐電圧)が低下する。さらにこのようなPが長さ方向(y方向)に延び、複数の捲回面Lにわたって重なりあった状態では、Pのいずれか1か所で発生した絶縁破壊が複数の捲回面Lにわたって拡がる懸念がある。
本実施形態では、金属膜2の凹凸境界線のフラクタル次元の平均値(以下、単にフラクタル次元という場合もある)を、1.08以上とし、特には1.23以上とするのがよい。フラクタル次元を1.08以上とすることで、金属化フィルム5a、5bを捲回しても、金属膜2aの凸部8aと金属膜2bの凹部8bとが誘電体フィルム1bを介して対向する部分(P)、または金属膜2aの凹部8bと金属膜2bの凸部8aとが誘電体フィルム1aを介して対向する部分(P)が生じる可能性を低減できる。また、Pが生じて、そのPが長さ方向に延びたとしても、そのPが複数の捲回面Lにわたって重なりあう可能性を低減でき、フィルムコンデンサの耐電圧を高く維持できる。
フラクタル次元は、ボックスカウンティング法(例えば、特開平10−144944号公報を参照)により求めることができる。具体的には、まず、原子間力顕微鏡(AFM)などを用いて金属膜2の表面の凹凸像を得る。得られた凹凸像を、画像処理ソフトを用いてバイナリ(二値化)処理を行い、凹凸境界線を得る。得られた各凹凸境界線に対し、ボックスカウンティング法を適用し、フラクタル次元を計算すればよい。
金属膜2(2a、2b)は、外部電極4(4a、4b)との接続部の近傍にヘビーエッジ構造を有していてもよい(以下、金属膜2の外部電極4との接続部の近傍を、ヘビーエッジ部という場合もある)。ヘビーエッジ構造とは、金属膜2a、2bが重なり合う有効領域に対して、外部電極4との接続部の近傍における金属膜2の厚さを厚くした構造である。ヘビーエッジ部における金属膜2の厚さは、有効領域の2〜4倍とすればよい。
金属膜2の厚さは、有効領域において、例えば20nm以下、特には5〜15nmの範囲とするのがよい。金属膜2をこのような厚さとすることで、面積抵抗(シート抵抗)が18〜50Ω/□となり、自己回復性を発揮できる。
金属膜2(2a、2b)は、外部電極4(4a、4b)との接続部の近傍にヘビーエッジ構造を有していてもよい。ヘビーエッジ構造とは、金属膜2a、2b同士が重なり合う有効領域に対して、外部電極4との接続部の近傍における金属膜2の抵抗を低くした構造(通常は外部電極4との接続部近傍において金属膜2の厚さを厚くした構造)である。外部電極4との接続部近傍における金属膜2の厚さは、有効領域の2〜4倍、すなわち10〜80nmの範囲とすることができる。
金属膜2の平均厚さは、金属化フィルム5の断面をイオンミリング加工し、走査型電子顕微鏡(SEM)等を用いて評価すればよい。
また、金属膜2の幅方向の表面粗さS1は、20nm以上、100nm以下とすればよい。表面粗さS1を20nm以上とすることで、滑り性を確保することができ、捲回後の熱プレス工程において誘電体フィルム1の歪の発生を抑制し、絶縁破壊電圧の低下を抑制できる。表面粗さS1を100nm以下とすることで、誘電体フィルム1の厚さに対する凹部8bの深さが所定の範囲に限定され、凹部8bによる誘電体フィルム1の厚さへの影響が低減され、絶縁破壊電圧の低下を抑制できる。
金属膜2の幅方向の凹凸のピッチ(凹部と凹部との間隔、または凸部と凸部との間隔)は、0.01μm以上、10μm以下の範囲であればよい。以下、金属膜2の幅方向の凹凸のピッチを、単に凹凸のピッチという場合もある。凹凸のピッチを0.01μm以上、10μm以下の範囲とすることで、金属化フィルム5の滑り性を確保することができる。
金属膜2の凹凸のピッチは、たとえば原子間力顕微鏡(AFM)などを用いて確認できる。たとえば金属膜2の幅方向に、長さ100μmの任意の線を引いて、その線上において、周期的に配列された凸部8aと凸部8aとの間隔、または凹部8bと凹部8bとの間隔を確認すればよい。また、金属膜2の幅方向に引いた長さ100μmの任意の線上における、上述の凹凸境界線の間隔d(図2を参照)から確認してもよい。
誘電体フィルム1に用いる絶縁性の樹脂の材料としては、例えばポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアリレート(PAR)、ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリエーテルイミド(PEI)、およびシクロオレフィンポリマー(COP)などが挙げられる。特にポリアリレート(PAR)は、絶縁破壊電圧が高いことから好ましい。
本実施形態の金属化フィルム、およびフィルムコンデンサは、以下のように作製すればよい。
まず、誘電体フィルム1を準備する。誘電体フィルム1は、例えば絶縁性の樹脂を溶媒に溶解した樹脂溶液を、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)製の基体の表面にシート状に成形し、乾燥して溶剤を揮発させること(溶液キャスト法)により得られる。成形方法としては、ドクターブレード法、ダイコータ法およびナイフコータ法等、周知の成膜方法から適宜選択すればよい。成形に使用する溶剤としては、例えば、メタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサン、又は、これらから選択された2種以上の混合物を含んだ有機溶剤を用いるのがよい。また、溶融押し出し法で作製した樹脂のフィルムを延伸加工してもよい。
誘電体フィルム1の厚さは、例えば5μm以下とすればよい。特に0.5〜4μmの厚さの誘電体フィルム1を用いるのがよい。
誘電体フィルム1は、上述の絶縁性の樹脂のみにより構成されていてもよいが、他の材料を含んでいてもよい。誘電体フィルム1に含まれる樹脂以外の構成要素としては、例えば上述の有機溶剤や無機フィラーが挙げられる。無機フィラーには、例えば、アルミナ、酸化チタン、二酸化珪素などの無機酸化物、窒化珪素など無機窒化物、ガラスなどを用いることができる。特に、ペロブスカイト型構造を有する複合酸化物など比誘電率の高い材料を無機フィラーとして用いた場合には、誘電体フィルム1全体の比誘電率が向上し、フィルムコンデンサAを小型化することができる。また、無機フィラーと樹脂との相溶性を高める上で、無機フィラーにシランカップリング処理やチタネートカップリング処理等の表面処理を行ってもよい。
誘電体フィルム1にこのような無機フィラーを用いる場合、無機フィラーを50質量%未満、樹脂を50質量%以上含有する複合フィルムとするのがよい。無機フィラーを50質量%未満、樹脂を50質量%以上含有することで、樹脂の可撓性を維持したまま、無機フィラーによる比誘電率向上などの効果を得ることができる。また、無機フィラーのサイズ(平均粒径)は、4〜1000nmとすることができる。
作製した誘電体フィルム1の一方の面に、アルミニウム(Al)などの金属成分を蒸着して金属膜2を形成し、金属化フィルム5とする。
ヘビーエッジ構造を形成する場合は、上述の金属化フィルム5のヘビーエッジを形成する部分以外をマスクし、上述の蒸着した金属成分のうちマスクの無い部分の上にさらに、たとえば亜鉛(Zn)を蒸着して形成する。このとき、ヘビーエッジとして蒸着する膜の厚さは、上述の蒸着した金属成分の1〜3倍の厚さとする。
次に、基体が収縮する温度にて、基体とともに金属化フィルム5の熱処理を行う。このとき、金属化フィルム5の長さ方向(y方向)に張力をかけながら熱処理を行うことで、誘電体フィルム1を基体と共に幅方向(x方向)に収縮させる。このとき、金属膜2は、誘電体フィルム1および基体とは異なり、幅方向(x方向)に収縮しないため、金属膜2には長さ方向(y方向)にのびる凹凸が形成される。その結果、金属膜2は、幅方向(x方向)の表面粗さS1が長さ方向(y方向)の表面粗さS2に対して大きくなる。また、熱処理温度を高くすることで、金属膜2にはフラクタル次元の大きい複雑な凹凸形状が形成される。
金属化フィルム5の熱処理温度は、150〜180℃とすればよい。金属化フィルム5の熱処理温度を150〜180℃とすることで、基体が収縮して金属膜2に凹凸を形成することができる。なお、熱処理温度が180℃以上の場合は、基体が変形して誘電体フィルム1の厚さのばらつきが大きくなり、絶縁破壊電圧が低下する懸念がある。
金属膜2には、必要に応じてパターンを形成してもよい。金属膜2のパターン形成には、金属蒸着膜を飛ばして絶縁スリットの形成が可能な、レーザーマーカー機またはレーザートリマー機を用いる。レーザーとしては、グリーンレーザー、YAGレーザーおよびCOレーザーのうちいずれかを用いればよい。絶縁スリットの幅は0.01〜0.20mmとすればよい。絶縁スリットの幅を0.01〜0.20mmとすることで、ガスの抜け性を確保できる。
次いで、熱処理により凹凸が形成された金属化フィルム5を基体とともに、所望の幅にスリット加工する。その後、金属化フィルム5から基体を剥離する。一方の面に金属膜2(2a、2b)を有する金属化フィルム5(5a、5b)は、2枚を一組として、図1に示すように、少し幅方向(x方向)にずれた状態で重ねて巻芯7に捲回し、本体部3を得る。必要に応じ、本体部3から巻芯7を抜き取り、熱プレスにより偏平加工する。
得られた本体部3の両端面に外部電極4としてメタリコン電極を形成することで、フィルムコンデンサAが得られる。外部電極4の形成には、例えば、金属の溶射、スパッタ法、メッキ法などの方法を用いればよい。
次いで、必要に応じ、外部電極4を形成した本体部3の表面を外装部材(図示せず)で覆うこともできる。
金属膜2の材料としては、例えばアルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)などの金属や合金などが挙げられる。
また、メタリコン電極の材料としては、亜鉛、アルミニウム、銅およびハンダから選ばれる少なくとも1種の金属材料などが挙げられる。
<第2実施形態>
図4は、フィルムコンデンサAの第2実施形態の外観を模式的に示した斜視図であり、図5A〜図5Cは、本体部3の軸長方向(x方向)に垂直な断面図である。
本実施形態では、図4および図5A〜図5Cに示すように、本体部3の少なくとも内部の捲回面L1に凸部または凹部を備えている。ここで、捲回面L1とは、捲回された金属化フィルム5の面であり、図5Aに示すように、本体部3の径方向(z方向)の外側の面を指すものとする。
凸部または凹部は、内部の捲回面L1だけではなく本体部3の外周面L0に備えられていてもよい。以下、本体部3の内部の捲回面L1または外周面L0の凸部を第1凸部8aといい、本体部3の内部の捲回面L1または外周面L0の凹部を第1凹部8bという。なお、図4では、外周面L0の第1凸部8aおよび第1凹部8bを総じて8として示している。
第1凸部8aまたは第1凹部8bは、本体部3の軸長方向(x方向)に延びている。第1凸部8aまたは第1凹部8bは、x方向にひだ状をなしているともいえる。ひだ状とは、シートが屈曲した状態で細長く延びた形状、たとえば布地などにつけた細長い折り目のような形状を指し、ドレープ状、細長く延びたしわ状などということもできる。
捲回された誘電体フィルムには、捲回により圧力がかかっている。本体部3の少なくとも内部の捲回面L1に、上述のような第1凸部8aまたは第1凹部8bを備えることで、第1凸部8a、第1凹部8b、または第1凸部8a、第1凹部8bの近傍では、他の部分と比べて圧力の低い部分が存在する。
誘電体フィルム1の絶縁欠陥部で短絡が生じ、短絡のエネルギーで欠陥部周辺の金属膜2が蒸発、飛散した際には、ガスが発生する。本実施形態では、第1凸部8a、第1凹部8b、またはその近傍に圧力が低い部分が存在しており、絶縁欠陥部に生じたガスは、この圧力が低い部分を通じて拡散して本体部3の外部に抜けやすくなる。本実施形態では、このように、ガスの抜け性が向上することで、フィルムコンデンサAの自己回復性を高めることができる。
第1凸部8aまたは第1凹部8bは、その少なくとも1つが、本体部3の軸長方向(x方向)の中央部から、少なくともいずれか一方の端部まで延びていてもよい。本体部3の第1凸部8aまたは第1凹部8bが、本体部3の軸長方向(x方向)の中央部から端部まで延びていることにより、軸長方向(x方向)の中央部で絶縁欠陥が生じてガスが発生しても、そのガスを第1凸部8aまたは第1凹部8bを通じて、速やかに本体部3の外部に抜けさせることができる。
図5Bおよび図5Cは、図5Aの破線で囲まれた部分を拡大した断面図である。なお、図5B、図5Cでは、便宜上、外周面L0および内部の捲回面L1を平坦なものとしている。また、図5B、図5Cにおける第1凸部8a、第1凹部8bの寸法、および金属化フィルム5a、5bの厚さは、実際の寸法を反映したものではない。
図5B、図5Cに示すように、第1凸部8aの幅または第1凹部8bの幅をwとする。第1凸部8aまたは第1凹部8bの幅wは、0.05mm以上、2mm以下の範囲であるのがよい。第1凸部8aまたは第1凹部8bの幅wをこのような範囲とすることで、ガスの抜け性を確保でき、自己回復性に優れたフィルムコンデンサAとすることができる。また、第1凸部8aまたは第1凹部8bを有することにより、本体部3の直径が大きくなるが、第1凸部8aまたは第1凹部8bの幅wを2mm以下とすることで、本体部3の直径を実用上支障のない大きさとすることができる。
また、第1凸部8aの高さまたは第1凹部8bの深さをhとする。第1凸部8aの高さ、または第1凹部8bの深さhは、0.01mm以上、1mm以下の範囲であるのがよい。第1凸部8aの高さまたは第1凹部8bの深さhをこのような範囲とすることで、ガスの抜け性を確保でき、自己回復性に優れたフィルムコンデンサAとすることができる。
また、第1凸部8aまたは第1凹部8bを有することにより、本体部3の直径が大きくなる。このとき、第1凸部8aの高さまたは第1凹部8bの深さhを1mm以下とすることで、本体部3の直径を実用上支障のない大きさとすることができる。
本体部3は、少なくとも1つの第1凸部8aまたは第1凹部8bを備えていればよい。本体部3が、第1凸部8aまたは第1凹部8bを1つだけ備える場合は、第1凸部8aまたは第1凹部8bが、本体部3の軸長方向(x方向)の一方の端からもう一方の端にかけて延びていればよい。
本体部3は、第1凸部8aまたは第1凹部8bを複数備えていてもよい。また、本体部3は、第1凸部8aと第1凹部8bとを同時に備えていてもよい。本体部3が、複数の第1凸部8aまたは第1凹部8bを備える場合は、その一部が軸長方向(x方向)の少なくとも一方の端部まで延びていればよい。
本体部3が、複数の第1凸部8aまたは第1凹部8bを備えている場合、隣接する一方の第1凸部8aまたは第1凹部8bと、もう一方の第1凸部8aまたは第1凹部8bとの、本体部3の周方向(y方向)の間隔をpとする(図5B、図5Cを参照)。pは、0.1mm以上、10mm以下とすればよい。
複数の第1凸部8a同士、複数の第1凹部8b同士、または第1凸部8aと第1凹部8bとの間隔pを10mm以下とすることで、本体部3全体として、ガスの抜け性を確保でき、自己回復性に優れたフィルムコンデンサAとすることができる。
また、本体部3の外周面上に多数の第1凸部8aまたは第1凹部8bが存在すると、本体部3の直径がより大きくなる。このとき、間隔pを0.1mm以上とすることで、本体部3の直径を実用上支障のない大きさとすることができる。
このような第1凸部8aまたは第1凹部8bは、金属化フィルム5a、5b(誘電体フィルム1a、1bおよび金属膜2a、2b)の屈曲により構成されているのがよい。第1凸部8aまたは第1凹部8bが金属化フィルム5a、5bの屈曲により構成されていることで、第1凸部8a、第1凹部8b、またはその近傍において、金属化フィルム5a、5b間にわずかな隙間が生じて圧力が低い部分が形成される。そのわずかな隙間(圧力が低い部分)を通じて、金属膜2の蒸発により生じたガスが拡散し、フィルムコンデンサAの自己回復性を高めることができる。
特に、誘電体フィルム1の材料としてポリアリレート(PAR)を用いた場合、フィルム同士の密着性が高く、マージン部6からガスが蒸散しにくい傾向がある。このような誘電体フィルム1を用いたフィルムコンデンサAにおいて、上述のような第1凸部8a、第1凹部8bを設けることにより、さらに大きな自己回復性の向上効果が得られる。
なお、第1凸部8aまたは第1凹部8bが、金属化フィルム5a、5b(誘電体フィルム1a、1bおよび金属膜2a、2b)の厚さの変動により形成されている場合は、上述のようなわずかな隙間(圧力が低い部分)が形成されにくい。そのため、フィルムコンデンサAの自己回復性に対する寄与が小さくなる。
第1凸部8aまたは第1凹部8bは、捲回の1層ごとに同じ位置に形成されていてもよいし、捲回の1層ごとに異なる位置に形成されていてもよい。
上述のような第1凸部8a、または第1凹部8bの形状を確認するには、フィルムコンデンサAを軸長方向(x方向)に垂直、または平行に切断し、その断面を観察すればよい。また、本体部3の捲回された金属化フィルム5を展開して、内部の捲回面L1を露出させることで確認してもよい。さらに、展開した金属化フィルム5の表面に残った凹凸の状態を確認してもよい。
本体部3は、図5Aに示すように、金属化フィルム5a、5bが、巻芯7に捲回されたものであってもよい。巻芯7は、その外周面L2に、第2凸部9a(図6Aを参照)または第2凹部9b(図6Bを参照)を有していてもよい。第2凸部9aまたは第2凹部9bは、巻芯7(または本体部3)の軸長方向(x方向)に伸びる線状であってもよい。
巻芯7が、その外周面L2に第2凸部9aまたは第2凹部9bを有し、その上に金属化フィルム5a、5bが捲回されていることにより、捲回された金属化フィルム5a、5bの捲回面L1の第2凸部9aまたは第2凹部9bに対応する位置に、第1凸部8aまたは第1凹部8bが形成される。そして、第1凸部8aの近傍、または第1凹部8bは、他の部分と比べて圧力の低い部分となる。
巻芯7の外周面L2に第2凸部9aまたは第2凹部9bを形成することで、外周面L2に凹凸のない巻芯7を用いた場合よりも、本体部3の内部の捲回面L1に所望の第1凸部8aまたは第1凹部8bを容易に形成できる。
第2凸部9a、第2凹部9bは、弦巻線状であってもよい。弦巻線(helix)とは、円柱の側面を回転しながら、円柱の一方の底面から他方の底面へ向かう(軸長方向x)曲線を指し、螺旋とも呼ばれる(図6Cを参照)。なお、本体部3の外周面L0上の第1凸部8a、第1凹部8bも、弦巻線状であってもよい。
第2凸部9a、第2凹部9b(第1凸部8a、第1凹部8b)が弦巻線状であることにより、本体部3全体のガス抜け性を向上することができ、誘電体フィルム1の絶縁欠陥部の位置によらず、良好なガス抜け性を確保することができる。このようなフィルムコンデンサAは、さらに自己回復性が良好なものとなる。
このとき、外周面L2に第2凸部9aまたは第2凹部9bを有する巻芯7を用いて、金属化フィルム5を捲回することで、捲回面L1(さらには外周面L0)に第1凸部8aまたは第1凹部8bを備える本体部3を得ることができる。本体部3の第1凸部8aまたは第1凹部8bの形状には、巻芯7の第2凸部9aまたは第2凹部9bの形状が、ほぼ反映される。したがって、本体部3の第1凸部8aまたは第1凹部8bの幅w、高さ(深さ)h、および間隔pは、巻芯7の第2凸部9aまたは第2凹部9bの形状を調整することにより調整が可能である。
また、巻芯7として、外周面L2に第2凸部9aまたは第2凹部9bを有していない、すなわち外周面L2に凹凸のない巻芯7を用いて、金属化フィルム5を捲回する場合は、以下のようにすればよい。巻芯7に金属化フィルム5を捲回する際、通常、本体部3の捲回面L1および外周面L0を平坦化するため、タッチロールを捲回体の捲回面L1に接触させる。タッチロールは、通常、金属化フィルム5a、5b間の空隙を少なくするために用いられる。このタッチロールとして、その外周面に凹凸のパターンを有するタッチロールを用いることにより、本体部3の捲回面L1(さらには外周面L0)に第1凸部8aまたは第1凹部8bを形成することができる。
また、捲回時の捲回速度や金属化フィルム5のテンションを調整することでも、第1凸部8aまたは第1凹部8bを形成することができ、その形状を調整することもできる。
<第3実施形態>
第3実施形態では、金属膜2aは、図7に示すように、x方向の左の端部側に位置する外部電極4a(図示せず)に接続された第1部位2acと、右の端部側、すなわち絶縁マージン部6aの側に位置する第2部位2adと、により構成されていてもよい。同様に、金属膜2bは、図7に示すように、x方向の右の端部側に位置する外部電極4b(図示せず)に接続された第1部位2bcと、左の端部側、すなわち絶縁マージン部6bの側に位置する第2部位2bdと、により構成されていてもよい。第1部位2ac、2bcと第2部位2ad、2bdとの境界は、おおむね誘電体フィルム1の幅方向の中央部に位置している。
図7に示すように、第1部位2ac、2bcは連続した1枚の金属膜であり、第2部位2ad、2bdは、絶縁スリット10により分割された、複数の小金属膜により構成されている。
第3実施形態では、図7に示すように、金属化フィルム5a、5bは、絶縁マージン部6a、6bが、金属化フィルム5a、5bの幅方向(x方向)の互いに異なる側に位置するように重ねあわされている。また、金属化フィルム5a、5bは、幅方向(x方向)の第1部位2ac、2bcが配置された端部が、それぞれ幅方向(x方向)に突出するようにずれた状態で重ねあわされている。このような状態で金属化フィルム5a、5bが図7に示すように、すなわち、金属化フィルム5aの第1部位2acと金属化フィルム5bの第2部位2bdとが重なり、金属化フィルム5aの第2部位2adと金属化フィルム5bの第1部位2bcとが重なるように積層され、図1のように捲回されて、本体部3を構成している。
金属化フィルム5a、5bに共通する本実施形態の特徴について説明するため、以下では、図8A、図8Bに示すように、a、bの符号を省略する場合がある。たとえば、図8Aの符号2cは、図7の符号2acのみならず、符号2bcも含むものとして用いている。また、断面図においては、説明を容易にするためにフィルムの厚さ方向(z方向)を拡大して示している。
図8Aは、金属化フィルム5の長さ方向(y方向)に垂直な断面図、図8Bは図8Aの破線で囲んだ部分を拡大した平面図である。金属膜2の第2部位2dは、図8Bに示すように、断続的に設けられた網目状の絶縁スリット10により分割された、複数の小金属膜2diにより構成されている。隣接する小金属膜2diは、ヒューズ部11によりつながれている。さらに、第1部位2cと第2部位2dとの間には絶縁スリット10が配置され、第1部位2cと、当該第1部位2cに隣接する小金属膜2diとは、ヒューズ部11によりつながれている。絶縁スリット10は、レーザー加工により形成できる。
小金属膜2diは、たとえば図8Bに示すように1辺の長さがmの正方形状を有しており、その面積SAは、図8Bの場合、m×mである。なお、小金属膜2diの形状は正方形状のほか、たとえば長方形状、ひし形状、三角形状などであってもよい。また、小金属膜2diはすべて同じ形状であってもよいが、異なる形状のものを同時に配置してもよい。
本実施形態では、小金属膜2diの面積SAが、本体部3の中心近傍と外周近傍とで異なる。本体部3の外周近傍に位置する小金属膜2diを第1小金属膜2di(1)、中心近傍に位置する小金属膜2diを第2小金属膜2di(2)とする(図9A、図9Bを参照)。ひとつの第1小金属膜2di(1)の面積の平均をSA1とし、ひとつの第2小金属膜2di(2)の面積の平均をSA2とする。第3実施形態では、SA2がSA1よりも小さい(SA2<SA1)のがよい。
ここで、本体部3の中心とは、本体部3の捲回軸を指す。本体部3の中心近傍とは、金属化フィルム5aと5bとが重ねあわされて捲回された捲回層のうち、金属膜2aと2bとの間に電圧が印加されて静電容量を発現する有効層であって、かつ、もっとも捲回の内側に位置する捲回層(の内側の層)およびその近傍を指す。
たとえば、金属化フィルム5(5a、5b)が巻芯7に捲回されている図10では、巻芯7と金属化フィルム5との間には金属膜2が設けられていない誘電体フィルム1の捲回層(非有効層12)が設けられており、金属化フィルム5は、巻芯7に直接接触していない。本体部3の捲回軸Oから非有効層12の最外層までの距離をR0とし、本体部3の最外層までの距離をR1とする。第2小金属膜2di(2)は、捲回軸Oからの距離がR0からR2までの捲回層に配置され、第1小金属膜2di(1)は、捲回軸Oからの距離がR2からR1までの捲回層に配置されている。
金属化フィルム5が捲回された本体部3において、金属化フィルム5に加わる圧力は、捲回軸Oに近いほど大きいことが知られている。金属化フィルム5に大きい圧力が加わると、金属化フィルム5同士(金属化フィルム5aと5b)が強く密着し、絶縁破壊時に金属膜2が蒸発しにくくなり、ショートしやすくなる懸念があった。
自己回復エネルギーは、静電容量(小金属膜2diの面積)に比例するため、小金属膜2diの面積SAを小さくすることで自己回復エネルギーが小さくなる。したがって、本体部3の中心近傍に位置する第2小金属膜2di(2)の面積SA2を小さくすることで、中心近傍に位置する金属化フィルム5の自己回復エネルギーが小さくなる。すなわち、本体部3の中心近傍で金属化フィルム5に大きな圧力が加わっていても、絶縁欠陥部の金属膜2が蒸発しやすくなる。その結果、ショートが発生しにくくなり、自己回復性が向上する。
また、金属化フィルム5に加わる圧力が大きく、金属化フィルム5同士(金属化フィルム5aと5b)が強く密着していた場合、金属膜2が蒸発しても、発生したガスが素子の外に抜けにくく、絶縁不良(IR低下)を起こしやすくなる傾向にある。小金属膜2diの面積SAを小さくすると、第2部位2dにおける絶縁スリット10の比率が大きくなり、金属膜2が蒸発して発生したガスの抜け道が増加する。したがって、本体部3の中心近傍に位置する第2小金属膜2di(2)の面積SA2を小さくすることで、金属化フィルム5に大きな圧力が加わっていても、発生したガスが素子の外に抜けやすくなる。その結果、絶縁不良(IR低下)が起きにくくなり、自己回復性が向上する。
さらに、絶縁破壊が発生した部位(絶縁欠陥部)に大きい圧力が加わっていた場合、絶縁欠陥部を有する捲回層のみならず、他の複数の捲回層まで絶縁破壊が拡がる傾向にある。小金属膜2diの面積SAを小さくして自己回復エネルギーが小さくなることで、絶縁欠陥部に大きい圧力が加わっていても、絶縁破壊が他の捲回層に拡がることを抑制でき、自己回復性が向上する。
SA1に対するSA2の比(SA2/SA1)は、0.15〜0.50の範囲とするのがよい。特に、0.2〜0.3とするのがよい。(SA2/SA1)を0.50以下とすることで、自己回復性の向上効果が得られる。(SA2/SA1)を0.15以上とすることで、十分な初期容量を確保できる。
たとえば、第2小金属膜2di(2)が、捲回軸Oからの距離がR0からR2までの部位(捲回層)に配置され、第1小金属膜2di(1)が、捲回軸Oからの距離がR2からR1までの部位(捲回層)に配置されているとする。非有効層12の最外層から外周までの距離(有効層の厚さ)をt1(=R1−R0)とし、第2小金属膜2di(2)が配置された部位の厚さをt2(=R2−R0)としたとき、t1に対するt2の比(t2/t1)は、0.3〜0.7の範囲とするのがよい。t2/t1は、特に0.35〜0.50の範囲とするのがよい。
なお、図10では、巻芯7を有する本体部3を示したが、本体部3は巻芯を有していなくてもよい。たとえば、金属化フィルム5を巻芯7に捲回した後、巻芯7を抜き取って本体部3としてもよい。またさらに、巻芯7を抜き取った本体部3を偏平加工してもよい。本体部3は非有効層12を有していなくてもよく、その場合、t1=R1、t2=R2とすればよい。
なお、本体部3を構成する金属化フィルム5(5a、5b)は、いずれも図9A、図9Bに示す構造を有するのがよい。また、金属化フィルム5(5a、5b)は、いずれも第2小金属膜2di(2)が本体部3の中心近傍に配置され、第1小金属膜2di(1)が本体部3の外周近傍に配置されるように捲回されているのがよい。
図11は、連結型コンデンサの一実施形態の構成を模式的に示した斜視図である。図11では、構成を分かりやすくするために、ケースおよびコンデンサ表面を覆う樹脂を省略して記載している。本実施形態の連結型コンデンサCは、複数個のフィルムコンデンサAが、一対のバスバー21、23により並列接続された構成となっている。バスバー21、23は、外部接続用の端子部21a、23aと、引出端子部21b、23bと、により構成されている。引出端子部21b、23bは、フィルムコンデンサAの外部電極4a、4bにそれぞれ接続される。
連結型コンデンサCに、上記したフィルムコンデンサAを適用すると、自己回復性に優れた連結型コンデンサCを得ることができる。
連結型コンデンサCは、フィルムコンデンサAを複数個(本実施形態においては4個)並べた状態で、フィルムコンデンサAの外部電極4a、4bに、バスバー21、23を、接合材を介して取り付けることによって得ることができる。
なお、フィルムコンデンサAや連結型コンデンサCは、ケースに収納したのちケース内の空隙に樹脂を充填し、樹脂モールド型(ケースモールド型)のコンデンサとすることもできる。
図11に示した連結型コンデンサCは、フィルムコンデンサAの断面の長径の方向に配置したものである。フィルムコンデンサAは、断面の短径の方向に積み上げた構造であってもよい。また、図11に示した連結型コンデンサCは、軸長方向(x方向)を水平に配置したものであるが、軸長方向(x方向)を鉛直に配置してもよい。
図12は、インバータの一実施形態の構成を説明するための概略構成図である。図12には、直流から交流を作り出すインバータDの例を示している。本実施形態のインバータDは、図12に示すように、ブリッジ回路31と、容量部33とを備えている。ブリッジ回路31は、スイッチング素子(例えば、IGBT(Insulated gate Bipolar Transistor))とダイオードにより構成される。容量部33は、電圧安定化のためにブリッジ回路31の入力端子間に配置される。ここで、容量部33として上記のフィルムコンデンサAまたは連結型コンデンサCが適用される。
インバータDは、直流電源の電圧を昇圧する昇圧回路35に接続されることになる。ブリッジ回路31は駆動源となるモータジェネレータ(モータM)に接続されることになる。
図13は、電動車輌の一実施形態を示す概略構成図である。図13には、電動車輌Eとしてハイブリッド自動車(HEV)の例を示している。
図13にの符号41は駆動用のモータ、43はエンジン、45はトランスミッション、47はインバータ、49は電源(電池)、51a、51bは前輪および後輪である。
電動車輌Eは、駆動源として、モータ41またはエンジン43、もしくは両方を備えている。駆動減の出力は、トランスミッション45を介して左右一対の前輪51aに伝達される。電源49は、インバータ47を介してモータ41に接続されている。
また、図13に示した電動車輌Eには、電動車輌E全体の統括的な制御を行う車輌ECU53が設けられている。
車輌ECU53には、電動車輌Eからの駆動信号が入力される。電動車輌Eからの駆動信号とは、運転者等が、イグニッションキー55、図示しないアクセルペダル、またはブレーキ等を操作することにより発生する駆動信号である。車輌ECU53は、この駆動信号に基づいて、指示信号をエンジンECU57、電源49、および負荷としてのインバータ47に出力する。エンジンECU57は、指示信号に応答してエンジン43の回転数を制御し、電動車輌Eを駆動する。
本実施形態のフィルムコンデンサAまたは連結型コンデンサCを容量部33として適用したインバータDを、例えば、図13に示すような電動車輌Eに搭載すると、静電容量が長期間に渡り維持できる。その結果、インバータ47等で発生するスイッチング・ノイズを長期間にわたり低減することができる。これは、フィルムコンデンサAまたは連結型コンデンサCが、自己回復性に優れたものであることによる。
なお、本実施形態のインバータDは、上記のハイブリッド自動車(HEV)のみならず、電気自動車(EV)や燃料電池車、あるいは電動自転車、発電機、太陽電池など種々の電力変換応用製品に適用できる。
有機樹脂として、シクロオレフィンポリマー(COP、分子量:Mw=20000、比誘電率2.2)とポリアリレート(PAR、U−100、ユニチカ製、比誘電率3.1)を準備した。溶媒として、シクロヘキサンおよびトルエンを準備した。シクロオレフィンポリマーをシクロヘキサンに溶解させて、樹脂溶液を調整した。また、ポリアリレートをトルエンに溶解し、樹脂溶液を調整した。これらの樹脂溶液を、それぞれコータを用いてポリエチレンテレフタレート(PET)製の基体フィルム上に塗布してシート状に成形した。
<実施例I>
作製したシクロオレフィンポリマーの誘電体フィルム(試料No.I−1〜I−9)のうち180℃で熱処理(第1の熱処理)し、シクロヘキサンを除去したものを試料No.I−1、I−5、I−6、I−8とした。また、ポリアリレートの誘電体フィルム(試料No.I−10〜I−13)のうち130℃で熱処理(第1の熱処理)し、トルエンを除去したものを試料No.I−10、I−12とした。
次に、試料No.5、6の誘電体フィルムを、180℃に加熱した表面に凹凸がある金属ロールに押し当て、その金属ロールを回転させることで、フィルム表面に凹凸を形成した。試料No.I−5とI−6に用いた金属ロールは、それぞれピッチが異なるものとした。
次に、真空蒸着法により誘電体フィルムの片面に、アルミニウムを主成分とする金属膜(Al金属膜)を形成し、金属化フィルムを得た。金属膜の形状は、メタルマスクを用いて300mm×10mmとした。試料No.I−1〜I−6は、金属膜の厚さが70nm、シート抵抗が3.0Ω/□であった。試料No.I−7〜I−13は、金属膜の厚さが14nm、シート抵抗が21Ω/□であった。これらの金属膜の厚さは、イオンミリング加工した金属化フィルムの断面を、走査電子顕微鏡(SEM)で観察することにより得た。金属膜のシート抵抗(Rs)は、金属膜の幅(W)10mm、長さ(L)300mmの領域の両端間の抵抗値(R)を二端子法で測定し、式Rs=R×W/Lを用いて算出した。
金属化フィルムのうち、試料No.I−2〜I−4、I−7、I−9、I−11およびI−13を、張力をかけながらそれぞれ表1に示す温度で熱処理(第2の熱処理)し、溶媒を除去した。この第2の熱処理により、これらの試料には、金属膜に長さ方向に延びるしわが形成された。
得られた金属化フィルムを、300mm×11.5mmの大きさに切りだし、300mm×1.5mmのマージン部を有する金属化フィルムを得た。
熱処理後の誘電体フィルムの平均厚さを表1に示す。誘電体フィルムの平均厚さは、その一部を切り取り、10等分した領域を測定した平均値より求めた。
金属化フィルムの金属膜の表面粗さSaを、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定した。幅方向(x方向)の表面粗さS1と長さ方向(y方向)の表面粗さS2のうち、大きい方の符号とその値を表1に記載した。なお、S1とS2とに有意差がない試料については、符号を「−」として、S1とS2の平均値を記載した。
また、凹凸を有する金属膜(試料No.I−2〜I−7、I−9、I−11およびI−13)については、AFMによる凹凸像を用いて、幅方向(x方向)における凹凸のピッチを測定した。また、AFMによる凹凸像の画像処理により、凹凸境界線の画像を得た。得られた各凹凸境界線に対し、ボックスカウンティング法を適用して、フラクタル次元を計算した。このときのボックスサイズは2,3,4,6,8,12,16,32,64とした。なお、表面粗さSaが10nm以下の場合は、明確な凹凸境界線が得られなかったため、凹凸の平均ピッチを「測定不可」とし、フラクタル次元を「算出不可」とした。
金属化フィルムの滑り性は、以下のようにして評価した。まず、10mm×20mmの大きさの金属化フィルムおよび金属板をそれぞれ2枚ずつ用意した。一方の金属化フィルムは、誘電体フィルム側を一方の金属板に両面テープを用いて貼り付け、もう一方の金属化フィルムは、金属膜側のもう一方の金属板に両面テープを用いて貼り付けた。2枚の金属板にそれぞれ貼り付けた2枚の金属化フィルムを、金属膜と誘電体フィルムとが向かい合うように重ねあわせたのち、オートグラフを用いて互いに異なる方向に一定速度で移動させた。この時、荷重を10gfから500gfまで5段階で調整した。その結果、いずれの荷重においても、移動幅が2mm未満のものを(I)、移動幅が2〜4mmのものを(II)、移動幅が4mm超を(III)とした。試料数は各10個とした。表1には、10個中6個以上が(I)であったものを滑り性なし(×)とし、10個中6個以上が(III)であったものを滑り性良(○)とし、他を(△)として示した。
次に、金属化フィルム2枚を一組として、金属膜が誘電体フィルムを介して対向するように重ね合わせて捲回し、捲回体を作製した。なお、一対の金属化フィルムは、幅方向(x方向)に互いにずれた状態とし、絶縁マージン部を幅方向(x方向)の異なる側にそれぞれ配した状態で捲回して、捲回体(本体部)を得た。本体部の金属膜が露出した対向する端面に亜鉛と錫との合金を溶射することによりメタリコン電極を形成し、フィルムコンデンサを作製した。
(評価)
直流での絶縁破壊電界値(DC−BDE)は、絶縁破壊電圧値(DC−BDV)を誘電体フィルムの厚さで除した値を求めることで評価した。実施例Iにおける絶縁破壊電圧は、絶縁抵抗計を用いて、フィルムコンデンサに0Vから毎秒10Vの昇圧速度で直流電圧を印加する昇圧試験を行い、対向電極間の静電容量が、0Vの値から5%以上低下する直前の電圧値とした。このとき静電容量は、電圧の昇圧試験において、ショートによるリーク電流が認められた場合に電圧を0Vに戻したのち、LCRメータを用いて測定した。静電容量の測条件は、AC10V、1kHzとした。また、DC−BDE評価後のフィルムコンデンサを解体し、破壊源を観察した。
Figure 0006356936
表1の結果より、試料No.I−2〜I−4、I−7、I−9、I−11およびI−13は、滑り性が良好で、フィルムコンデンサのDC−BDEが比較的高いものであった、特に、フラクタル次元が最も高い試料No.I−4は、DC−BDEが最も高かった。
一方、凹凸が小さい(測定できない)試料No. I−1、I−8、I−10およびI−12、凹凸のピッチが大きい試料No.I−6は滑り性に劣り、フィルムコンデンサのDC−BDEも低かった。また、フラクタル次元の小さい試料No.I−5もフィルムコンデンサのDC−BDEが低かった。
破壊源を観察すると、試料No. I−1、I−6、I−8は熱プレスによる歪の大きい部分に破壊が集中しており、試料No.5では流れ方向のライン状に偏在していた。試料No.I−2も試料No.I−5と同様に流れ方向のライン状に破壊が偏在していたが、その数は僅かであった。一方、試料No.I−3、I−4、I−7、I−9、I−11、I−13は、破壊源が点在しており、DC−BDEは捲回前の誘電体フィルムと同等の結果であった。
<実施例II>
実施例Iで作製した試料No.I−10の誘電体フィルムを基体から剥離し、130mm幅にスリット加工した。その後、誘電体フィルムの一方または両方の主面に金属膜としてAl金属膜を真空蒸着法により形成した。Al金属膜の幅は、メタルマスクを用いて97mm幅とした。
次いで、グリーン・レーザーマーカーを用いて金属膜にパターンを形成した。レーザー照射条件は、出力4W、周波数140kHz、スキャン速度4m/秒とした。
130mm幅の金属化フィルムをさらにスリット加工し、1.5mmの絶縁マージン部を有する50mm幅の金属化フィルムとした。
(実施例II−1)
巻芯として、外径5mm、長さ50mmのポリプロピレン(PP)製の円柱を用いた。50mm幅の一対の金属化フィルムを、金属膜が誘電体フィルムを介して対向するように重ね合わせて巻芯に捲回し、捲回体を作製した。捲回速度は200rpm、捲回時のテンションは2.0Nとした。
(実施例II−2)
巻芯として、外径5mm、長さ50mm、のポリプロピレン(PP)製の円柱を用い、円柱の外表面に、弦巻線状の第2凸部(幅1.0mm、高さ0.1mm)を形成したものを用いた。第2凸部のピッチは、軸長方向(x方向)に10mmとした。
50mm幅の一対の金属化フィルムを、金属膜が誘電体フィルムを介して対向するように重ね合わせて巻芯に捲回し、捲回体を作製した。捲回速度は100rpm、捲回時のテンションは0.5Nとした。
(比較例)
巻芯として、外径5mm、長さ50mmのポリプロピレン(PP)製の円柱を用いた。50mm幅の一対の金属化フィルムを、金属膜が誘電体フィルムを介して対向するように重ね合わせて巻芯に捲回し、捲回体を作製した。捲回速度は100rpm、捲回時のテンションは0.5Nとした。
なお、一対の金属化フィルムは、いずれも幅方向(x方向)に互いに0.5mmずれた状態とし、絶縁マージン部を幅方向(x方向)の異なる側にそれぞれ配した状態で捲回し、円柱状の捲回体(本体部)を得た。捲回数は100回とした。
捲回体(本体部)の金属膜が露出した対向する端面に亜鉛と錫との合金を溶射し、外部電極であるメタリコン電極を形成してフィルムコンデンサとした。
(評価)
作製したフィルムコンデンサについて、第1凸部の有無と、その形状を評価した。第1凸部の形状は、作製した捲回体の外形をシリコン系のゴムを用いて型取りし、得られた型の断面を用いて測定した。本体部内部の捲回面の状態は、他の評価が終了ししたのち、フィルムコンデンサを切断し、その断面の観察により確認した。
フィルムコンデンサの直径は、ノギスを用いて測定した。フィルムコンデンサの軸長方向(x方向)の中央部を、ノギスを用いて5回測定して平均値Dmを求め、設計値Ddに対する比率Dm/Dd(%)として表した。
フィルムコンデンサの自己回復性の指標として、最大自己回復電界強度を求めた。まず、作製したフィルムコンデンサに、0Vから毎秒10Vの昇圧速度で直流電圧を印加する昇圧試験を行い、10mA以上の電流が流れた時の電圧を、実施例IIにおける破壊電圧とした。破壊電圧を測定したフィルムコンデンサに対し、デジタル超絶縁/微少電流計(日置電機社製、DSM−8104)を用いて絶縁抵抗を測定し、100MΩ以上の抵抗値を有する状態を自己回復状態にあるものとした。自己回復状態となった破壊電圧の最大値を、誘電体フィルムの厚さで除した値を、最大自己回復電界強度とした。
実施例II−1および実施例II−2は、本体部内部の捲回面および外周面に第1凸部を有していた。実施例II−1では、第1凸部の寸法は、外周部に対して1/2の半径の捲回面で、w:0.5mm、h:0.05mm(外周面ではw:0.6mm、h:0.04mm、)、p:10mm、Dm/Dd:102%であった。実施例2では、第1凸部の寸法は、外周部に対して1/2の半径の捲回面で、w:1.1mm、h:0.08mm(外周面ではw:1.2mm、h:0.06mm)、軸長方向(x方向)のピッチ:10mm、Dm/Dd:104%であった。比較例では、第1凸部は形成されず、本体部内部の捲回面および外周面は平滑で、Dm/Dd:100%であった。
最大自己回復電界強度は、実施例II−1では230V/μm、実施例II−2では350V/μmと、比較例の50V/μmに対し、大幅に向上していた。
<実施例III>
実施例Iで作製した試料No.I−12の誘電体フィルムを基体から剥離し、130mm幅にスリット加工した後、誘電体フィルムの一方の主面に金属膜として、Al金属膜を真空蒸着法により形成した。Al金属膜の幅は、メタルマスクを用いて97mm幅とした。
得られた金属膜に、グリーン・レーザーマーカーを用いて図8A、図8B、図9A、図9Bに示すような絶縁スリットを形成した。レーザー照射条件は、出力4W、周波数140kHz、スキャン速度4m/秒とした。なお、第1小金属膜はいずれも大きさ2mm×2mm、ヒューズ部の幅を0.2mmとし、第2小金属膜は、表2に示す大きさとし、ヒューズ部の幅を0.1mmとした。
130mm幅の金属膜付きフィルムをさらにスリット加工し、第1小金属膜および第2小金属膜を有する50mm幅の金属膜付きフィルムとした。第1小金属膜および第2小金属膜の構成(SA2/SA1、t2/t1)を表2に示す。なお、試料No.III−1は第1小金属膜のみで構成されるものとし、試料No.III−4、III−8、III−11は、第2小金属膜のみで構成されるものとした。
巻芯として、外径5mm、長さ50mmのポリフェニレンサルファイド(PPS)製の円柱を用いた。50mm幅の一対の金属膜付きフィルムを、金属膜が誘電体フィルムを介して対向するように重ね合わせ、試料No.III−2〜III−11は第2小金属膜を有する部分から巻芯に捲回し、捲回体を作製した。なお、一対の金属膜付きフィルムは、幅方向(x方向)に互いに0.5mmずれた状態とし、絶縁マージン部を幅方向(x方向)の異なる側にそれぞれ配した状態で捲回し、捲回体(本体部)を得た。捲回数は700回とした。
捲回体(本体部)の金属膜が露出した対向する端面に亜鉛と錫との合金を溶射し、外部電極であるメタリコン電極を形成してフィルムコンデンサとした。
作製したフィルムコンデンサの初期静電容量、耐電圧、耐電圧試験後の容量維持率、および絶縁抵抗を測定した。静電容量は、LCRメータを用いてAC1V、1kHzの条件で測定した。絶縁抵抗および耐電圧は、絶縁抵抗計を用いて測定した。耐電圧は、絶縁抵抗計を用いて、フィルムコンデンサに0Vから毎秒10Vの昇圧速度で直流電圧を印加する昇圧試験を行い、10mA以上の電流が流れた時の電圧とした。
Figure 0006356936
試料No.III−2〜III−3、III−5〜III−7、III−9〜III−10は、十分な初期静電容量を有し、耐電圧試験後の容量維持率が高く、絶縁抵抗の低下が小さく、自己回復性に優れたものであった。一方、試料No.III−1は、耐電圧試験後に絶縁抵抗が大きく低下し、自己回復性が充分に機能しなかった。試料No.III−4、III−8、III−11は、初期容量が小さいものであった。
A:フィルムコンデンサ
C:連結型コンデンサ
D:インバータ
E:電動車輌
1、1a、1b:誘電体フィルム
2、2a、2b:金属膜
2c:金属膜の第1部位
2d:金属膜の第2部位
2di:小金属膜
2di(1):第1小金属膜
2di(2):第2小金属膜
3:本体部
4、4a、4b:外部電極
5、5a、5b:金属化フィルム
6、6a、6b:絶縁マージン部
7:巻芯
8a:凸部、第1凸部
8b:凹部、第1凹部
9a:第2凸部
9b:第2凹部
10:絶縁スリット
11:ヒューズ部
21、23:バスバー
31:ブリッジ回路
33:容量部
35:昇圧回路
41:モータ
43:エンジン
45:トランスミッション
47:インバータ
49:電源
51a:前輪
51b:後輪
53:車輌ECU
55:イグニッションキー
57:エンジンECU
S1:金属膜2の表面粗さ(幅方向)
S2:金属膜2の表面粗さ(長さ方向)
SA1:第1小金属膜の平均面積
SA2:第2小金属膜の平均面積

Claims (15)

  1. 捲回された誘電体フィルムと、該誘電体フィルムの一方の面上に配置された金属膜を有する本体部と、該本体部の軸長方向に位置する一対の端部にそれぞれ設けられた外部電極と、を具備し、
    前記誘電体フィルムの幅方向における前記金属膜の表面粗さをS1とし、前記誘電体フィルムの長さ方向における前記金属膜の表面粗さをS2としたとき、前記S1および前記S2が、S1>S2の関係を有するとともに、
    前記金属膜のしわによる凹凸境界線のフラクタル次元の平均値が1.08以上である、フィルムコンデンサ。
  2. 前記S1が、20nm以上、100nm以下である、請求項1に記載のフィルムコンデンサ。
  3. 前記金属膜の前記しわによる凹凸の前記幅方向の平均ピッチが、0.01μm以上、10μm以下である、請求項1または2に記載のフィルムコンデンサ。
  4. 前記本体部が、少なくとも内部の捲回面に、前記軸長方向に延びる、1つ以上の第1凸部または1つ以上の第1凹部を備えている、請求項1〜3のうちいずれかにフィルムコンデンサ。
  5. 前記第1凸部および前記第1凹部のうち少なくとも1つが、前記軸長方向に位置する前記一対の端部間の中央部から、少なくともいずれか一方の前記端部まで延びている、請求項4に記載のフィルムコンデンサ。
  6. 前記第1凸部、または前記第1凹部を複数備える、請求項4または5に記載のフィルムコンデンサ。
  7. 前記本体部が、外周面に1つ以上の第2凸部または1つ以上の第2凹部を有する巻芯を具備し、
    前記第2凸部または前記第2凹部は、前記軸長方向に延びている、請求項4〜のうちいずれかに記載のフィルムコンデンサ。
  8. 前記第2凸部または前記第2凹部が、弦巻線状である、請求項に記載のフィルムコン
    デンサ。
  9. 前記金属膜が、いずれか一方の前記端部において前記外部電極に接続する第1部位と、他方の前記端部側に位置する第2部位と、を有し、
    該第2部位は、断続的に設けられた網目状の絶縁スリットにより分割された複数の小金属膜と、該小金属膜間をつなぐヒューズ部とにより構成され、
    複数の前記小金属膜は、前記本体部の外周近傍に位置する第1小金属膜と、前記本体部の中心近傍に位置する第2小金属膜と、により構成され、
    ひとつの前記第1小金属膜の面積の平均をSA1とし、ひとつの前記第2小金属膜の面積の平均をSA2としたとき、SA2がSA1よりも小さい、請求項1〜のうちいずれかに記載のフィルムコンデンサ。
  10. 前記SA1に対する前記SA2の比(SA2/SA1)が、0.15以上、0.50以下の範囲である、請求項に記載のフィルムコンデンサ。
  11. 前記本体部において、前記金属膜を有する部位の、捲回の径方向の厚さをt1とし、前記第2小金属膜を有する部位の、捲回の径方向の厚さをt2としたとき、
    前記t1に対する前記t2の比(t2/t1)が、0.3以上、0.7以下の範囲である、請求項9または10に記載のフィルムコンデンサ。
  12. 複数のフィルムコンデンサと、該複数のフィルムコンデンサを接続するバスバーと、を備え、前記フィルムコンデンサが、請求項1〜11のうちいずれかに記載のフィルムコンデンサである、連結型コンデンサ。
  13. スイッチング素子により構成されるブリッジ回路と、該ブリッジ回路に接続された容量部とを備え、前記容量部が請求項1〜11のうちいずれかに記載のフィルムコンデンサである、インバータ。
  14. スイッチング素子により構成されるブリッジ回路と、該ブリッジ回路に接続された容量部とを備え、前記容量部が請求項12に記載の連結型コンデンサである、インバータ。
  15. 電源と、該電源に接続された請求項13または請求項14に記載のインバータと、該インバータに接続されたモータと、該モータにより駆動する車輪と、を備えている、電動車輌。
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