JP6342543B2 - 連続メッキ装置 - Google Patents
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Description
メッキ液を収容して、搬送治具に保持されて連続搬送されると共に陰極に設定される複数のワークにメッキするメッキ槽と、
前記メッキ槽内にて前記複数のワークと対向する位置に配置され、前記メッキ液を前記複数のワークに向けて噴出する複数のノズルと、
前記メッキ槽内にて連続搬送される前記複数のワークと対向する位置に配置される複数の陽極電極と、
を有し、
前記複数のワークが連続搬送される搬送方向に沿って、前記複数のノズルの一つと前記複数の陽極電極の少なくとも一つとが交互に繰り返し配置される連続メッキ装置に関する。
図1は本実施形態に係る連続メッキ装置の断面図であり、図2は平面図である。図1において、メッキ槽10は、搬送治具20に垂下して支持されるワーク1をメッキ液2中に収容してワーク1をメッキする槽である。メッキ槽10は、周壁10Aと底壁10Bとを有し、メッキ液2を液面Lで収容している。
本実施形態では、図2に示すように複数のワーク1が連続搬送される搬送方向Aにて、複数のノズル30と複数の陽極電極40とが交互に配置されている。これにより、ワーク1の被処理面に対して、ノズル30と陽極電極4の配置密度を確保することができる。このために、平面視にて適度な間隔で配置される隣り合う2つのノズル30の間に、少なくとも一つの陽極電極40が配置される。なお、ノズル30の配列ピッチは、例えば60mm〜90mmとすることができる。このように、本実施形態では、従来は複数のノズル30の背面側(ワーク1とは反対側)にあった所定長さの陽極電極を分割して、2つのノズル間に少なくとも一つの陽極電極40(図2では一つの陽極電極40)を配置している。
本実施形態では、ノズル30及び陽極電極40の横断面の輪郭形状については特に制約はないが、ワーク1の被処理面からノズル30及び陽極電極40までの距離を縮める結果として、ノズル30からワーク1に噴射されたメッキ液の逃げ場を確保することが好ましい。
ここで、陽極電極40の種類としては、可溶性電極と不溶性電極とが知られている。可溶性電極では、電極材料が溶解してメッキ成分となる。可溶性電極は消耗品であり、交換を要する。なお、可溶性電極はメッキ成分のみから形成されず不純物(例えばリンP)を含む欠点がある。一方、不溶性電極とは、電極材料は溶解せず、メッキ槽10内のメッキ液中の金属イオン(例えば酸化第二銅)がメッキ成分となり、不溶性電極は電極のみとして用いられる。本実施形態の陽極電極40では、いずれのタイプも用いることができるが、不溶性電極を用いることが好ましい。特に、本実施形態のように例えば10〜10数A/dm2レベルの高電流密度を達成すると、可溶性電極は消耗が大きいので、不溶性電極を好適に用いることができる。
一方ノズル30の横断面の輪郭形状に関して言えば、ノズル30の横断面積は一般に陽極電極40よりも小さいので、陽極電極40よりも制約は少ない。よって、ノズル30の横断面の輪郭は矩形であっても良い。ただし、ノズル30との干渉を避けて陽極電極40をワーク1の被処理面に近づける要請から言えば、ノズル30は面取りされた輪郭形状が好ましい。そのために、本実施形態では、複数のノズル30の各々は、横断面の輪郭が、複数の陽極電極40の各々の横断面の直径D2よりも小さい直径D1の円としている。
本実施形態では、複数のノズルの各々の横断面の中心P1は、図2及び図4に示すように、複数の陽極電極40の各々の横断面の中心P2よりも、複数のワーク1の各々の被処理面からの距離が短い位置に配置することができる。
Claims (4)
- メッキ液を収容して、搬送治具に垂下して保持されて連続搬送されると共に陰極に設定される複数のワークにメッキするメッキ槽と、
前記メッキ槽内にて前記複数のワークと対向する位置に配置され、前記メッキ液を前記複数のワークに向けて噴出する複数のノズルと、
前記メッキ槽内にて連続搬送される前記複数のワークと対向する位置に配置される複数の陽極電極と、
を有し、
前記複数のノズル及び前記複数の陽極電極の各々は、長手軸が垂直方向に沿って配置され、前記複数のノズルの各々は前記垂直方向にて間隔をあけて配置された複数のノズル孔を含み、
前記複数のノズル及び前記複数の陽極電極の各々の横断面の輪郭は円であり、前記複数のノズルの各々の外径D1は、前記複数の陽極電極の各々の外径D2よりも小さく、
前記複数のワークが連続搬送される搬送方向に沿って、前記複数のノズルの1つと前記複数の陽極電極の一つとが交互に繰り返し配置され、
前記複数のノズルの各々の横断面の中心は、前記複数の陽極電極の各々の横断面の中心よりも、前記複数のワークの各々の被処理面からの距離が短い位置に配置され、
前記複数のノズルの各々から前記被処理面に至る第1最短距離δ1と、前記複数の陽極電極の各々から前記被処理面に至る第2最短距離δ2と、前記複数の陽極電極の各々と前記複数のノズルの各々との第3最短距離δ3とは、δ1≦δ3<δ2、かつ、δ2>D1の関係を満たし、
前記メッキ槽は、平面視において前記複数のノズル及び前記複数の陽極電極よりも前記複数のワークの前記被処理面に近い処理領域と、前記複数のノズル及び前記複数の陽極電極により前記処理領域と区画される非処理領域とを含み、前記処理領域には、前記複数のノズルの各々の前記複数のノズル孔より前記メッキ液が噴出されて前記複数のワークの各々に到達するジェットノズル流により形成される複数の加圧領域が、前記垂直方向にて間隔をあけて形成され、前記処理領域の前記メッキ液を、前記第3最短距離δ3の隙間を介して前記非処理領域側に逃がして流動させることで、前記垂直方向にて隣り合う2つの加圧領域の間に負圧領域が形成されることを抑制して、前記複数のワークが前記複数のノズル側に吸引されることを防止することを特徴とする連続メッキ装置。 - 請求項1において、
前記搬送方向から見た側面視で、前記複数のノズルと前記複数の陽極電極とが重なる位置関係にて配置されることを特徴とする連続メッキ装置。 - 請求項1または2において、
10mm≦δ1≦20mmを満たすことを特徴とする連続メッキ装置。 - 請求項3において、
15mm≦δ2≦35mmを満たすことを特徴とする連続メッキ装置。
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