JP6333650B2 - 切断装置及び切断方法 - Google Patents

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Description

本発明は、被切断物を切断して個片化された複数の製品を製造する切断装置及び切断方法に関するものである。
プリント基板やリードフレームなどからなる基板を格子状の複数の領域に仮想的に区画して、それぞれの領域にチップ状の素子を装着した後、基板全体を樹脂封止したものを封止済基板という。回転刃などを使用した切断機構によって封止済基板を切断し、それぞれの領域単位に個片化したものが製品となる。
従来から、切断装置を用いて封止済基板の所定領域を回転刃などの切断機構によって切断している。例えば、BGA(Ball Grid Array Package)製品は、次のようにして切断される。まず、封止済基板の基板側の面を上にした状態で切断用テーブルの上に載置して吸着する。次に、封止済基板をアライメント(位置合わせ)する。アライメントすることによって、複数の領域を区切る仮想的な切断線の位置を設定する。次に、封止済基板を吸着した切断用テーブルと切断機構とを相対的に移動させる。切削水を封止済基板の切断箇所に噴射するとともに、切断機構によって封止済基板に設定された切断線に沿って封止済基板を切断する。封止済基板を切断することによって個片化された製品が製造される。
近年は、半導体の微細化の進展に伴い、製造される製品がますます小さくなる傾向にある。例えば、アナログ製品やディスクリート製品などでは、一辺が2mm以下のサイズを有する製品が多くなっている。小さくなった製品を個片化する際には、切削水を噴射することによって、個片化された製品が切断用テーブルの所定位置から位置ずれする現象、又は、製品が切断用テーブルから飛んでしまうという現象が発生している。これらの現象は、個片化された製品を切断用テーブルの所定位置に吸着する吸着力よりも切削水によって製品に加えられる水圧のほうが高いため、発生すると考えられる。このような現象が発生すると、製品に欠けや割れなどが発生し、製品の品質を著しく低下させる。また、製品の歩留まりを大きく悪化させる。したがって、封止済基板を個片化する際には、製品が切断テーブルの所定位置から動かないように確実に固定することが重要となる。
切断加工中の被加工材を効率良く洗浄するダイシング装置として、「(略)切断加工中の被加工材に向けて洗浄水を噴射する第1の洗浄水噴射手段と、(略)切断加工中の被加工材に向けて洗浄水を噴射する第2の洗浄水噴射手段と、(略)前記切断刃の端面に向けて切削水を供給する切削水噴射手段と、前記切断刃の両側面に設けられ、前記切断刃による被加工材の切断部に向けて冷却水を供給する冷却水噴射手段とが設けられる」ダイシング装置が提案されている(例えば、特許文献1の段落〔0008〕、〔0011〕、図3、図4参照)。
特開2007−188974号公報
しかしながら、特許文献1に開示されたダイシング装置では、次のような課題が発生する。特許文献1の図3に示されるように、ダイシング装置1の切断装置10は、回転刃14、カッティングテーブル60、固定ウォーターカーテンノズル(第1の洗浄水噴射手段に相当)62、スポンジブロック(スクラブ洗浄手段に相当)64、及び移動ウォーターカーテンノズル(第2の洗浄水噴射手段に相当)66等から構成されている。
更に、フランジカバー(装置本体の一部)72には、切削水供給ノズル(切削水供給手段に相当)76、及び冷却水供給ノズル(冷却水供給手段に相当)78が設けられている。切削水供給ノズル76は、回転刃14に対向して配置され、この切削水供給ノズル76から噴射された切削水が、切断直前の回転刃14に供給される。また、冷却水供給ノズル78は、回転刃14を挟んで一対設けられており、この冷却水供給ノズル78から噴射された冷却水が、切断中の回転刃14及びウェーハWの切断部に供給され、回転刃14及び切断部が冷却される。
このような装置の構成によれば、ウェーハWに形成されるチップのサイズが小さくなった場合においては、切削水供給手段と冷却水供給手段とから噴射される加工水によって、個片化されたチップが飛びやすくなるおそれがある。
本発明は上記の課題を解決するもので、切断装置において、製品が小さくなった場合でも、製品が切断用テーブルの所定位置からずれたり飛んだりすることがなく、安定して個片化することができる切断装置及び切断方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明に係る切断装置は、複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、被切断物を切断する切断手段と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、切断手段と被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構とを備え、被切断物を個片化して領域のそれぞれに対応する製品を製造する際に使用される切断装置であって、被切断物を切断するための切断条件を制御する制御部を備え、制御部は、複数の切断線の一部に沿って被切断物を切断することによって複数の領域を含む中間体を生成するための第1の切断条件と、中間体を切断することによって製品に個片化するための第2の切断条件とを少なくとも有し、第2の切断条件における切削水の流量が第1の切断条件における切削水の流量よりも少ないことを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、第2の切断条件におけるテーブルと切断手段との間における相対的な移動速度が第1の切断条件における相対的な移動速度よりも小さいことを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、少なくとも切削水の流量が流量調整手段によって制御されることを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、少なくとも切削水の流量が切替手段によって制御されることを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、少なくとも切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する測定部を備え、測定部によって測定された測定値に基づき第1の切断条件及び第2の切断条件における加工水の流量を制御することを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、切断手段の両側から切断手段の下方に向かって冷却水を供給する冷却水供給機構を備え、第2の切断条件における冷却水の流量が第1の切断条件における冷却水の流量よりも少ないことを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、被切断物は封止済基板であることを特徴とする。
また、本発明に係る切断装置は、上述の切断装置において、被切断物は、複数の領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする。
上記の課題を解決するために、本発明に係る切断方法は、複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物をテーブルに載置する工程と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させる工程と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させることによって切断手段を使用して被切断物を切断する工程と、切断手段と被切断物とが接する被加工点に切削水供給機構を使用して切削水を供給する工程とを備えた切断方法であって、被切断物を切断するための切断条件を制御する工程を備え、切断する工程は、複数の切断線の一部に沿って被切断物を切断することによって複数の領域を含む中間体を生成する第1の工程と、中間体を切断することによって製品に個片化するための第2の工程とを少なくとも有し、制御する工程においては、第2の工程における切削水の流量を第1の工程における切削水の流量よりも少なくするように切削水供給機構を制御することを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、相対的に移動させる工程においては、第2の工程におけるテーブルと切断手段との間における相対的な移動速度を第1の工程における相対的な移動速度よりも小さくすることを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、制御する工程においては、流量調整手段を使用して少なくとも切削水の流量を制御することを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、制御する工程においては、切替手段を使用して少なくとも切削水の流量を制御することを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、少なくとも切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する工程を備え、制御する工程においては、測定する工程において測定した測定値に基づき第1の工程及び第2の工程における加工水の流量を制御することを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、切断手段の下方に向かって冷却水供給機構を使用して冷却水を供給する工程を備え、制御する工程においては、第2の工程における冷却水の流量を第1の工程における冷却水の流量よりも少なくするように冷却水供給機構を制御することを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、被切断物は封止済基板であることを特徴とする。
また、本発明に係る切断方法は、上述の切断方法において、被切断物は、複数の領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする。
本発明によれば、切断装置において、複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、被切断物を切断する切断手段と、テーブルと切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、切断手段と被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構と、切断条件を制御する制御部とを備える。第1の切断条件によって、複数の切断線の一部に沿って被切断物を切断して中間体を生成する。第2の切断条件によって、中間体を切断することによって被切断物を個片化して製品を製造する。第2の切断条件における切削水の流量を第1の切断条件における切削水の流量よりも少なくする。このことによって、製品が小さくなった場合でも、切削水の水圧によって製品がテーブルの所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。
本発明に係る切断装置が有する各ノズルを示し、図1(a)は回転刃周辺の平面図、図1(b)はスピンドルとは反対の側から回転刃を見た概略断面図である。 本発明に係る切断装置の実施例1において、図1に示された各ノズルに加工水を供給する加工水供給機構を示す概略図である。 (a)〜(c)は、本発明に係る切断装置が封止済基板を切断する過程を示す平面図である。図3(a)は、封止済基板に設定された切断線を示す平面図、図3(b)は、第1の切断線に沿って封止済基板が切断された後の状態を示す平面図、図3(c)は、封止済基板が個片化された後の状態を示す平面図である。 本発明に係る切断装置の実施例2において、図1に示された各ノズルに加工水を供給する加工水供給機構を示す概略図である。 本発明に係る切断装置の実施例3において、切断装置の概要を示す平面図である。
図3に示されるように、まず、第1の切断条件を使用して、第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断して中間体36を形成する。次に、第2の切断条件を使用して、中間体36を切断して個片化する。このことによって、中間体36を、第1の切断線32と第2の切断線33とによって囲まれた領域34に相当する製品Pにそれぞれ個片化する。中間体36を形成する際の第1の切断条件における切削水の流量に対して、製品Pに個片化する際の第2の切断条件における切削水の流量を少なくする。第2の切断条件における切削水の流量を少なくすることによって、製品Pが小さくなった場合でも、切削水の水圧によって製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。
本発明に係る切断装置の加工水供給機構の実施例1について、図1〜図3を参照して説明する。本出願書類におけるいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
図1(a)に示されるように、切断装置はスピンドル1を備え、スピンドル1は回転軸2を有する。回転軸2には回転刃3が取り付けられる。回転刃用カバー4(図中において二点鎖線で示す)がスピンドル1に取り付けられる。回転刃3は回転刃用カバー4によって覆われる。被切断物及び回転刃3に加工水を供給するノズルが、回転刃用カバー4に取り付けられる。例えば、1個の切削水供給用ノズル5と2個の冷却水供給用ノズル6と2個の洗浄水供給用ノズル7とが、回転刃用カバー4に取り付けられる。切削水供給用ノズル5は切削水供給用配管8に、2個の冷却水供給用ノズル6は冷却水供給用配管9に、2個の洗浄水供給用ノズル7は洗浄水供給用配管10に、それぞれ接続される。
図1(b)に示されるように、切断用テーブル11の上には被切断物である封止済基板12が吸着又は粘着シートによって固定される。封止済基板12は、最終的に切断されて個片化される被切断物である。封止済基板12は、プリント基板やリードフレームなどからなる基板13と、基板13が有する複数の領域に装着された複数のチップ状部品(図示なし)と、複数の領域が一括して覆われるようにして形成された封止樹脂14とを有する。封止済基板12は、基板13側の面を上にして切断用テーブル11に固定される。
図1(a)、(b)に示されるように、切削水供給用ノズル5から、封止済基板12と回転刃3とが接触する被加工点に向かって切削水15が噴射される。切削水15は、回転刃3の側面における目詰りを防止することによって回転刃3と封止済基板12との間における摩擦を低減する機能を有する。2個の冷却水供給用ノズル6は回転刃3を挟むようにして配置される。各冷却水供給用ノズル6は、回転刃3の側面と封止済基板12の上面とに対して平行になるように、それぞれ配置される。冷却水供給用ノズル6から、回転刃3の側面を含む所定の部分に向かって冷却水16が噴射される。冷却水16は、回転刃3と封止済基板12とを冷却する機能を有する。更に、2個の洗浄水供給用ノズル7から、封止済基板12の上面であって回転刃3の側面に近い所定の部分に向かって洗浄水17が噴射される。洗浄水17は、回転刃3によって発生した切り屑などを除去する機能を有する。切り屑には、粉状や粒状の物質の他に、封止済基板12における最も端の切断線に沿って封止済基板12を切断した場合に発生する細長い端材が含まれる。
図1(b)に示されるように、切断用テーブル11は、移動機構(図示なし)によって、送り速度VでY方向に往復移動する。回転刃3は、スピンドル1に組み込まれたモータ(図示なし)によって、図の反時計回りに回転数Rで高速回転する。
図2に示されるように、工場の給水機構18は、工場内の多数の装置に加工水として、例えば、純水を供給する給水機構である。給水機構18は、工場内の多数の装置に加工水を供給しているため、装置の稼働状況によっては供給する加工水の圧力が変動しやすい。工場から供給する加工水の圧力が低下すると、各装置に供給される加工水に所定の圧力が得られなくなり、加工水の流量も少なくなる。したがって、工場の給水機構18が供給する加工水は、圧力の低下なども考慮して0.3〜0.5MPa程度に設定することが好ましい。
工場の給水機構18から切断装置に加工水が供給される。切断装置が有する各分岐配管、具体的には切削水供給用配管8と冷却水供給用配管9と洗浄水供給用配管10とは、切断装置の共通配管19を介して、給水機構18に接続される。共通配管19には、加工水の圧力を調整する圧力調整器(レギュレータ)20が設けられる。給水機構18から共通配管19に供給される加工水は、圧力調整器20によって所定の圧力に降圧される。所定の圧力に降圧された加工水が所定の流量で各分岐配管に供給される。図2においては、例えば、切断装置の共通配管19に最大で12L/分の加工水が供給され、共通配管19から各分岐配管に所定量の加工水が供給される。また、共通配管19には、給水機構18から供給される加工水の流量を測定する流量センサ21が設けられる。
切断装置において、封止済基板12(図1参照)を切断するための切断条件などを制御する制御部22が設けられる。例えば、封止済基板12に噴射される切削水15、冷却水16、洗浄水17のそれぞれの流量や切断用テーブル11の移動速度Vや回転刃3の回転数Rなどが、制御部22によって制御される。制御部22は、信号線23を介して共通配管19に設けられた流量センサ21に接続される。
切削水供給用配管8と冷却水供給用配管9と洗浄水供給用配管10とには、供給される加工水の流量を調整するための流量コントローラ24、25、26がそれぞれ設けられる。各流量コントローラ24、25、26は、信号線27、28、29を介して、それぞれ制御部22に接続される。切削水供給用ノズル5から噴射される切削水15、冷却水供給用ノズル6から噴射される冷却水16、及び、洗浄水供給用ノズル7から噴射される洗浄水17の流量が、流量コントローラ24、25、26によってそれぞれ制御される。切断用テーブル11は、信号線30を介して、制御部22に接続される。切断用テーブル11の移動速度Vは、制御部22によって制御される。スピンドル1は、信号線31を介して、制御部22に接続される。スピンドル1に設けられた回転刃3の回転数Rは、制御部22によって制御される。
切削水15は、共通配管19から切削水供給用配管8、流量コントローラ24、切削水供給用ノズル5(図1参照)を順次経由して封止済基板12に噴射される。冷却水16は、共通配管19から冷却水供給用配管9、流量コントローラ25、冷却水供給用ノズル6(図1参照)を順次経由して封止済基板12に噴射される。洗浄水17は、共通配管19から洗浄水供給用配管10、流量コントローラ26、洗浄水供給用ノズル7(図1参照)を順次経由して封止済基板12に噴射される。工場の給水機構18から切断装置の共通配管19に供給された加工水は、各分岐配管に設けられた流量コントローラ24、25、26によって所定の流量に制御され、各ノズルから所定流量の加工水が封止済基板12に噴射される。
切断装置の共通配管19に設けられた流量センサ21によって、共通配管19に供給される加工水の流量が測定される。測定された加工水の流量に基づき、制御部22は各流量コントローラ24、25、26に供給する加工水の流量を制御する。このことによって、例えば、給水機構18から供給する加工水の圧力が低下して加工水の流量が少なくなったとしても、所定の流量の加工水を供給するように制御部22が各流量コントローラ24、25、26を制御する。
制御部22は、流量センサ21、各流量コントローラ24、25、26、切断用テーブル11、スピンドル1などに、各信号線を介してそれぞれ接続される。したがって、切断装置における切断条件の設定や変更などは、すべて制御部22によって制御することができる。切削水供給用ノズル5、冷却水供給用ノズル6、洗浄水供給用ノズル7から噴射する加工水の流量を、制御部22によってそれぞれ最適に制御することができる。
実施例1においては、流量センサ21を切断装置の共通配管19に設けた場合を示した。これに限らず、変形例として、切削水供給用配管8、冷却水供給用配管9、洗浄水供給用配管10に、それぞれ流量センサ21a、21b、21c(図中において二点鎖線で示す)を設けることができる。その場合には、各流量センサ21a、21b、21cが、それぞれ信号線(図示なし)を介して制御部22に接続される。各流量センサ21a、21b、21cによって測定された加工水の流量に基づき、所定流量の加工水を供給するように制御部22が各流量コントローラ24、25、26を制御する。
図1〜図3を参照して、封止済基板12の構成、及び、実施例1において、封止済基板12を切断して個片化する工程を説明する。図3(a)に示されるように、封止済基板12は、基板13と硬化樹脂からなる封止樹脂14(図中において太い点線で示す)とを有する。封止済基板12には、短手方向に沿う複数の第1の切断線32と長手方向に沿う複数の第2の切断線33とがそれぞれ設定される。第1の切断線32と第2の切断線33とによって囲まれた領域34が、個片化されることによってそれぞれ製品Pになる(図3(c)参照)。図3(a)においては、例えば、短手方向に10本の第1の切断線32が、長手方向に4本の第2の切断線33が設定される。したがって、短手方向には3個及び長手方向には9個の領域34が形成され、合計で27個の領域34が格子状に形成される。
まず、封止済基板12を切断するために、基板13側の面を上にして、封止済基板12を吸着又は粘着シートによって切断用テーブル11に固定する(図1(b)参照)。吸着する場合には、封止済基板12に設けられた各領域34が、切断用テーブル11に設けられたそれぞれの吸着孔35によって吸着される。したがって、個片化された状態においても、各領域34に相当する製品Pがそれぞれの吸着孔35によって吸着される。
次に、切断用テーブル11とスピンドル1とを相対的に移動させる(図1参照)。「相対的に移動させる」という文言には次の3つの態様が含まれる。それらの態様は、切断用テーブル11を固定してスピンドル1を移動させる態様、スピンドル1を固定して切断用テーブル11を移動させる態様、及び、切断用テーブル11とスピンドル1との双方を移動させる態様である。
実施例1においては、図1に示されるように、スピンドル1を固定して、移動機構(図示なし)によって切断用テーブル11をY方向に送り速度V(mm/秒)で移動させる。まず、回転刃3の下端が、封止樹脂14の下面より深くなるように、スピンドル1を降下させる。次に、スピンドル1の先端に取り付けられた回転刃3を反時計回りに回転数Rでもって高速回転させる。次に、切断用テーブル11を+Y方向に送り速度Vで移動させ、封止済基板12に設定された第1の切断線32及び第2の切断線33(図3(a)参照)に沿って封止済基板12を切断する。切断する時には、切削水供給用ノズル5から切削水15を、冷却水供給用ノズル6から冷却水16を、洗浄水供給用ノズル7から洗浄水17を、封止済基板12及び回転刃3に向かってそれぞれ噴射する。
次に、図3を参照して、具体的に封止済基板12を切断する動作について説明する。まず、図3(a)に示されるように、短手方向に設定された第1の切断線32のうち図の最も右端の切断線に沿って封止済基板12を切断する。この場合には、第1の切断条件を使用して封止済基板12を切断する。第1の切断条件としては、例えば、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を4L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を4L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を40mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する(図1参照)。
次に、図3(b)に示されるように、第1の切断条件を使用して、短手方向に設定された10本の第1の切断線32のうち残りの9本に沿って封止済基板12を切断する。短手方向に設定された合計10本の第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断することによって、9個の中間体36(図において網掛けで示す部分が、中間体36の1個分に相当する)が形成される。各中間体36は、8本の第1の切断線32に対応する間隙を挟んで、長手方向に沿って互いに分離されている。各中間体36は、短手方向に沿って3個の領域34を有している。各中間体36は、中間体36が有する3個の領域34に対応する3個の吸着孔35によって、切断用テーブル11に吸着されている。図3(a)の左右方向における最も端の切断線の外側の部分、言い換えれば、最も右端の切断線の右側の部分と最も左端の切断線の左側の部分とは、細長い端材からなる不要な部分として、洗浄水などによって流されて除去される(図3(b)参照)
次に、図3(c)に示されるように、切断用テーブル11を90度回転させる。次に、長手方向に設定された4本の第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断する。この場合において、最初に、第1の切断条件を使用して、第2の切断線33のうち最も端の切断線(例えば、図3(c)における最も右端の部分に相当する切断線)に沿って封止済基板12を切断する。図3(c)における最も右端の部分に相当する切断線よりも右側の部分(図示なし)は、細長い端材からなる不要な部分として、洗浄水などによって流されて除去される。
続いて、第2の切断条件を使用して、長手方向に設定された4本の第2の切断線33のうち残りの3本に沿って封止済基板12を切断する。3本の第2の切断線のそれぞれを切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する。各製品Pは、それぞれの領域34に対応する吸着孔35によって切断用テーブル11に吸着される。
ある1本の切断線を切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する場合に、第2の切断条件を使用する。第2の切断条件としては、例えば、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を2L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を2L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を20mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する(図1参照)。この場合には、第1の切断条件に対して、切削水15の流量を1/2、冷却水16の流量を1/2、及び、切断用テーブル11の送り速度を1/2に変更して、第2の切断条件を設定した。
上述したように、ある1本の切断線を切断することによって製品Pが完成する場合以外の場合に、第1の切断条件を使用する。ある1本の切断線を切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する場合に、第2の切断条件を使用する。これら切断条件を使用して封止済基板12を切断することによって、封止済基板12は、第1の切断線32と第2の切断線33とによって囲まれた領域34にそれぞれ個片化される。個片化されたそれぞれの領域34が製品Pに相当する。各製品Pは、それぞれの領域34に対応する吸着孔35によって切断用テーブル11に吸着される。第1の切断線32及び第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断して個片化することによって複数の製品Pが完成する。
本実施例においては、第2の切断条件として、切削水15の流量と冷却水16の流量とを1/2に減らし、かつ、切断用テーブル11の送り速度を1/2に遅くして、封止済基板12を個片化した。これに限らず、第2の切断条件として、切削水15の流量を1/2に減らし、かつ、切断用テーブル11の送り速度を1/2に遅くして、封止済基板12を個片化することができる。更には、第2の切断条件として、切削水15の流量のみを1/2に減らして封止済基板12を個片化することができる。
例えば、第2の切断条件における切削水15の流量を第1の切断条件における切削水15の流量よりも少なくする。このことに起因して、次の効果が生じる。第1の効果は、これらの製品Pに切削水15が衝突することによって製品Pが位置ずれする現象が抑制されることである。第2の効果は、これらの製品Pに切削水15が衝突することによって製品Pが切断用テーブル11の所定位置から引き離されて流出する現象が抑制されることである。これらの効果は、製品Pの一辺(短辺)が3mm以下である場合に顕著である。これらの効果は、製品Pの一辺(短辺)が2mm以下である場合にいっそう顕著である。
本実施例によれば、製品Pに個片化する工程に相当しない工程(中間体36を形成する工程を含む)において使用される第1の切断条件に対して、製品Pに個片化する際の第2の切断条件を最適化する。例えば、第1の切断条件における切削水の流量に対して、第2の切断条件における切削水の流量を少なくする。このことによって、製品Pが小さくなった場合でも、切削水15の水圧によって製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。
個片化された製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることがないように、第2の切断条件を製品Pのサイズに対応して設定することができる。具体的には、上述した切削水15の流量に加えて、冷却水16の流量、洗浄水17の流量、切断用テーブル11の送り速度、回転刃3の回転数などを最適にして、第2の切断条件を設定することができる。第2の切断条件においては、切削水15の流量を少なくすることに加えて、冷却水16の流量を少なくすること、切断用テーブル11の送り速度を遅くすることなどが、製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを防ぐことに、効果がある。
また、本実施例によれば、第2の切断条件において、噴射する切削水15及び冷却水16の流量を、第1の切断条件に対して1/2に減らしている。このことによって、製品Pに個片化する際に使用する加工水の量を節約することができる。
また、本実施例によれば、第1の切断条件及び第2の切断条件として、切削水15の流量、冷却水16の流量、洗浄水17の流量、切断用テーブル11の送り速度、及び、回転刃3の回転数などを設定する。切断装置に設けられた制御部22を使用して、これらの切断条件を設定し、制御することができる。したがって、製品Pのサイズに応じて、制御部22を使用して、切断条件を容易に設定又は変更することができる。
また、本実施例によれば、流量センサ21によって、切断装置に供給される加工水の流量を測定する。工場の給水機構18から切断装置に供給される加工水の圧力が低下して流量が少なくなったとしても、測定された加工水の流量に基づき、制御部22によって所定の流量を供給するように各流量コントローラ24、25、26を制御する。したがって、それぞれのノズルから所定流量の加工水を封止済基板12に噴射することができる。
図4を参照して、本発明に係る切断装置の実施例2における加工水供給機構について説明する。実施例1で示した加工水供給機構と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
工場の給水機構18から切断装置に供給される加工水は、圧力調整器20によって所定の圧力に降圧され、各分岐配管に所定の流量の加工水が供給される。図4においては、例えば、最大で16L/分の加工水が共通配管19に供給され、共通配管19から各分岐配管に所定量の加工水が供給される。
切断装置が有する3つの分岐配管37、38、39には、共通配管19から供給される加工水の流量を調整するための流量調整絞り40、41、42がそれぞれ設けられる。例えば、流量調整絞り40によって、分岐配管37には8L/分の加工水が供給される。流量調整絞り41によって、分岐配管38には4L/分の加工水が供給される。流量調整絞り42によって、分岐配管39には2L/分の加工水が供給される。
分岐配管37は、更に切削水供給用ノズル5に接続される分岐配管37Aと冷却水供給用ノズル6に接続される分岐配管37Bとに分岐される。分岐配管38は、更に冷却水供給用ノズル6に接続される分岐配管38Aと切削水供給用ノズル5に接続される分岐配管38Bとに分岐される。分岐配管39は洗浄水供給用ノズル7に接続される。
分岐配管37には電磁弁43が、分岐配管38には電磁弁44が、分岐配管39には電磁弁45が、それぞれ設けられる。電磁弁43は信号線46を介して制御部22に接続される。電磁弁44は信号線47を介して制御部22に接続される。電磁弁45は信号線48を介して制御部22に接続される。電磁弁43、44、45は、制御部22によってそれぞれ開閉を制御される。電磁弁43、44、45を開くことによって、加工水が各ノズルに供給される。
切断用テーブル11は、信号線30を介して、制御部22に接続される。切断用テーブル11の移動速度Vは、制御部22によって制御される。スピンドル1は、信号線31を介して、制御部22に接続される。スピンドル1に設けられた回転刃3の回転数は、制御部22によって制御される。
図3、図4を参照して、実施例2において封止済基板12を切断して個片化する工程を説明する。例えば、分岐配管37に供給する加工水を、流量調整絞り40によって8L/分に調整する。分岐配管38に供給する加工水を、流量調整絞り41によって4L/分に調整する。分岐配管39に供給する加工水を、流量調整絞り42によって2L/分に調整する。
実施例1と同様に、第1の切断条件として、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を4L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を4L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を40mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する。
図3(b)に示された中間体36を個片化する際に使用される第2の切断条件として、切削水供給用ノズル5から噴射する切削水15の流量を2L/分、2個の冷却水供給用ノズル6から噴射する冷却水16の流量を2L/分、2個の洗浄水供給用ノズル7から噴射する洗浄水17の流量を2L/分、切断用テーブル11の送り速度を20mm/秒、及び、回転刃3の回転数を30,000rpm/分に設定する。
第1の切断条件を使用して封止済基板12を切断する場合には、図4に示されるように、制御部22によって、分岐配管37の電磁弁43と分岐配管39の電磁弁45とを開き、分岐配管38の電磁弁44を閉じる。このことによって、分岐配管37から分岐配管37Aを経由して切削水供給用ノズル5に4L/分の加工水を供給する。分岐配管37から分岐配管37Bを経由して冷却水供給用ノズル6に4L/分の加工水を供給する。分岐配管39から洗浄水供給用ノズル7に2L/分の加工水を供給する。実施例1と同様に、第1の切断条件を使用して封止済基板12を切断して中間体36を形成する。
第2の切断条件を使用して中間体36を切断する場合には、図4に示されるように、制御部22によって、分岐配管38の電磁弁44と分岐配管39の電磁弁45とを開き、分岐配管37の電磁弁43を閉じる。このことによって、分岐配管38から分岐配管38Aを経由して冷却水供給用ノズル6に2L/分の加工水を供給する。分岐配管38から分岐配管38Bを経由して切削水供給用ノズル5に2L/分の加工水を供給する。分岐配管39から洗浄水供給用ノズル7に2L/分の加工水を供給する。実施例1と同様に、第2の切断条件を使用して中間体36を切断して個片化する。第1の切断条件及び第2の切断条件を使用して封止済基板12を切断して個片化することによって複数の製品Pを製造する。
本実施例によれば、まず、分岐配管37の電磁弁43を開き、分岐配管38の電磁弁44を閉じることによって、第1の切断条件を設定する。第1の切断条件を使用して、封止済基板12を切断して中間体36を形成する。次に、分岐配管38の電磁弁44を開き、分岐配管37の電磁弁43を閉じることによって、第2の切断条件を設定する。第2の切断条件を使用して、中間体36を切断して製品Pに個片化する。第1の切断条件に対して第2の切断条件を最適化して、封止済基板12を製品Pに個片化する。このことによって、製品Pが小さくなった場合でも、加工水の水圧によって製品Pが切断用テーブル11の所定位置からずれたり飛んだりすることを、防ぐことができる。
また、本実施例によれば、第2の切断条件において、噴射する切削水15及び冷却水16の流量を、第1の切断条件に対して1/2に減らしている。このことによって、製品Pに個片化する際に使用する加工水の量を節約することができる。
図5を参照して、本発明に係る切断装置の実施例3を説明する。図5に示される切断装置49は、被切断物を複数の製品Pに個片化する。切断装置49は、受け入れユニットAと切断ユニットBと洗浄ユニットCと検査ユニットDと収容ユニットEとを、それぞれ構成要素(モジュール)として有する。
各構成要素(各ユニットA〜E)は、それぞれ他の構成要素に対して着脱可能かつ交換可能であり、それぞれが予想される要求仕様に応じた異なる複数の仕様を有するようにして予め用意される。各構成要素A〜Eを含んで切断装置49が構成される。
受け入れユニットAにはプレステージ50が設けられる。前工程の装置である樹脂封止装置から、被切断物に相当する封止済基板12がプレステージ50に受け入れられる。封止済基板12(例えば、BGA方式の封止済基板)は、基板13側の面を上にしてプレステージ50に配置される。
切断装置49は、ツインカットテーブル方式の切断装置である。したがって、切断ユニットBには、2個の切断用ステージ51A、51Bが設けられる。2個の切断用ステージ51A、51Bは、移動機構(図示なし)によって、それぞれ図のY方向に移動可能であり、かつ、θ方向に回動可能である。切断用ステージ51A、51Bの上には切断用テーブル11A、11Bが取り付けられる。切断ユニットBは、基板載置部52と基板切断部53と基板洗浄部54とから構成される。
基板載置部52には、アライメント用のカメラ55が設けられる。カメラ55は、基板載置部52において独立してX方向に移動可能である。封止済基板12は、基板載置部52において、カメラ55によってアライメントマークが検出され、仮想的な第1の切断線32と第2の切断線33とが設定される(図3(a)参照)。
基板切断部53には、2個のスピンドル1A、1Bが設けられる。切断装置49は、ツインスピンドル構成の切断装置である。2個のスピンドル1A、1Bは、独立してX方向及びZ方向に移動可能である。2個のスピンドル1A、1Bには、切断手段としてそれぞれ回転刃3A、3Bが設けられる。これらの回転刃3A、3Bは、それぞれY方向とZ方向とを含む面内において回転することによって封止済基板12を切断する。
各スピンドル1A、1Bには、高速回転する回転刃3A、3Bによって発生する摩擦熱を抑えるために切削水15を噴射する切削水供給用ノズル5A、5Bが設けられる。切削水15は回転刃3A、3Bが封止済基板12を切断する被加工点に向かって噴射される。スピンドル1A又は1Bには、回転刃3A又は3Bによって切断された切断溝(カーフ)の位置、幅、欠け(チッピング)の有無などを検査するためのカーフチェック用のカメラ(図示なし)が設けられる。カメラは、回転刃3A又は3Bが切断する切断線上を撮像するようにして設けられる。
基板洗浄部54においては、封止済基板12を切断して個片化された複数の製品Pからなる集合体56の基板13側の面(図1(b)参照)を洗浄する洗浄機構(図示なし)が設けられる。
洗浄ユニットCには、個片化された各製品Pの封止樹脂14側の面(図1(b)参照)を洗浄する洗浄機構57が設けられる。洗浄機構57には、Y方向を軸にして回転可能であるようにして洗浄ローラ58が設けられる。封止樹脂14側の面を洗浄する洗浄機構58の上方には、複数の製品Pからなる集合体56が配置される。集合体56は、基板13側の面を搬送機構(図示なし)によって吸着されて固定されている。すなわち、封止樹脂14側の面を下にして搬送機構に固定されている。搬送機構はX方向及びZ方向に移動可能である。この搬送機構が下降してX方向に往復移動することによって、集合体56の封止樹脂14側の面が洗浄ローラ58により洗浄される。
検査ユニットDには検査用ステージ59が設けられる。封止済基板12を切断して個片化された複数の製品Pからなる集合体56は、検査用ステージ59に一括して移載される。検査用ステージ59はX方向に移動可能であり、かつ、Y方向を軸にして回転できるように構成される。個片化された複数の製品P(例えば、BGA製品)からなる集合体56は、封止樹脂14側の面及び基板13側の面を検査用のカメラ60によって検査されて、良品と不良品とに選別される。検査済みの製品Pからなる集合体56は、インデックステーブル61に移載される。検査ユニットDには、インデックステーブル61に配置された製品Pをトレイに移送するため複数の移送機構62が設けられる。
収容ユニットEには良品を収容する良品用トレイ63と不良品を収容する不良品用トレイ(図示なし)とが設けられる。移送機構62によって良品と不良品とに選別された製品Pが各トレイに収容される。図においては、良品用トレイ63を1個のみ示しているが、良品用トレイ63は複数個収容ユニットE内に設けられる。
本実施例においては、切断装置49の動作や切断条件などを設定して制御する制御部22を受け入れユニットA内に設けた。これに限らず、制御部22を他のユニット内に設けてもよい。
また、本実施例においては、ツインカットテーブル方式、ツインスピンドル構成の切断装置49を説明した。これに限らず、シングルカットテーブル方式、ツインスピンドル構成の切断装置やツインカットテーブル方式、シングルスピンドル構成の切断装置などにおいても、本発明を適用できる。
なお、各実施例においては、まず、短手方向に形成された第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断し、次に、長手方向に形成された第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断した。これに限らず、変形例として、第2の切断線33に沿って封止済基板12を切断し、次に、第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断してもよい。
別の変形例として、短手方向に形成された10本の第1の切断線32のうち一部の第1の切断線32に沿って、封止済基板12を複数のブロックに切断してもよい。例えば、両端を含む4本の第1の切断線32に沿って封止済基板12を切断して、同じ大きさを有する3個の複数のブロックを生成する。引き続いて、各ブロックからなる中間体の全体を対象にして、第1の切断線32と第2の切断線33とに順次沿って(逆の順番でもよい)、中間体を切断する。最初に封止済基板12を複数のブロックに切断する方法は、封止済基板12における反りやうねり等の変形が大きい場合に有効である。いずれの変形例においても、ある切断線を切断することによって、個片化された領域34に相当する製品Pが完成する場合に、第2の切断条件を使用する。
また、各実施例においては、切断手段として回転刃3を使用する場合を示したこれに限らず、切断手段として、回転刃3以外に、ワイヤソー、バンドソー、ウォータージェット、細い柱状に噴射された噴射水の中を進行するレーザ光などを使用してもよい。言い換えれば、被切断物を切断する際に被加工点又はその周辺に加工用の液体(加工液)を供給する態様を有する切断加工において、本発明を適用できる。
また、各実施例においては、切削水15、冷却水16などを含む加工水として純水を使用する場合を示した。これに限らず、切削水15、冷却水16などを含む加工水としては、純水の他に、界面活性剤、防錆剤などの添加物を含む液体を使用できる。
また、各実施例においては、被切断物として封止済基板12を切断する場合を示した。これに限らず、封止済基板12以外の被切断物として、次の被切断物を切断して個片化する場合に本発明を適用できる。第1に、シリコン、化合物半導体からなる半導体ウェーハを個片化する場合である。第2に、抵抗体、コンデンサ、センサ等の回路素子が作り込まれたセラミックス基板等を個片化してチップ抵抗、チップコンデンサ、チップ型のセンサ等の製品を製造する場合である。これら2つの場合には、半導体ウェーハ、セラミックス基板等が、複数の領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板に該当する。第3に、樹脂成形品を個片化して、レンズ、光学モジュール、導光板等の光学部品を製造する場合である。第4に、樹脂成形品を個片化して、一般的な成形製品を製造する場合である。上述した4つの場合を含む様々な場合において、ここまで説明した内容を適用できる。
また、各実施例においては、被切断物として、長手方向と短手方向とを持つ矩形の形状を有する被切断物を切断する場合を示した。これに限らず、正方形の形状を有する被切断物を切断する場合や、半導体ウェーハのような実質的に円形の形状を有する被切断物を切断する場合においても、ここまで説明した内容を適用できる。
加えて、切断線に曲線や折れ線を含む被切断物を切断する場合においても、ここまで説明した内容を適用できる。この場合には、個片化された各領域34に相当する製品Pは、ある種のメモリーカードのように外周に曲線や折れ線を含む不規則な外形を有する。
本発明は、上述した各実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて、任意にかつ適宜に組み合わせ、変更し、又は選択して採用できるものである。
1、1A、1B スピンドル
2 回転軸
3、3A、3B 回転刃(切断手段)
4 回転刃用カバー
5、5A、5B 切削水供給用ノズル(切削水供給機構)
6 冷却水供給用ノズル(冷却水供給機構)
7 洗浄水供給用ノズル
8 切削水供給用配管
9 冷却水供給用配管
10 洗浄水供給用配管
11、11A、11B 切断用テーブル(テーブル)
12 封止済基板(被切断物)
13 基板
14 封止樹脂
15 切削水(切削水、加工水)
16 冷却水(加工水)
17 洗浄水(加工水)
18 工場の給水機構
19 共通配管
20 圧力調整器
21、21a、21b、21c 流量センサ(測定部)
22 制御部
23、27、28、29、30、31 信号線
24 流量コントローラ(流量調整手段)
25、26 流量コントローラ
32 第1の切断線(切断線)
33 第2の切断線(切断線)
34 領域(製品)
35 吸着孔
36 中間体
37、38、39 分岐配管
40、41、42 流量調整絞り
43 電磁弁(切替手段)
44、45 電磁弁
46、47、48 信号線
49 切断装置
50 プレステージ
51A、51B 切断用ステージ
52 基板載置部
53 基板切断部
54 基板洗浄部
55 アライメント用のカメラ
56 複数の製品Pからなる集合体
57 洗浄機構
58 洗浄ローラ
59 検査用ステージ
60 検査用のカメラ
61 インデックステーブル
62 移送機構
63 良品用トレイ
V 送り速度
R 回転数
A 受け入れユニット
B 切断ユニット
C 洗浄ユニット
D 検査ユニット
E 収容ユニット
P 製品

Claims (16)

  1. 複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、前記被切断物を切断する切断手段と、前記テーブルと前記切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、前記切断手段と前記被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構とを備え、前記被切断物を個片化して前記領域のそれぞれに対応する製品を製造する際に使用される切断装置であって、
    前記被切断物を切断するための切断条件を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、複数の前記切断線の一部に沿って前記被切断物を切断することによって複数の前記領域を含む中間体を生成するための第1の切断条件と、前記中間体を切断することによって前記製品に個片化するための第2の切断条件とを少なくとも有し、
    前記第2の切断条件は、ある1本の切断線を切断することによって、個片化された前記領域に相当する前記製品が完成する場合に使用され、
    前記第2の切断条件における前記切削水の流量が前記第1の切断条件における前記切削水の流量よりも少なく、
    前記第2の切断条件における前記テーブルと前記切断手段との間における相対的な移動速度が前記第1の切断条件における前記相対的な移動速度よりも小さいことを特徴とする切断装置。
  2. 複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物が載置されるテーブルと、前記被切断物を切断する切断手段と、前記テーブルと前記切断手段とを相対的に移動させる移動機構と、前記切断手段と前記被切断物とが接する被加工点に切削水を供給する切削水供給機構とを備え、前記被切断物を個片化して前記領域のそれぞれに対応する製品を製造する際に使用される切断装置であって、
    前記被切断物を切断するための切断条件を制御する制御部を備え、
    前記制御部は、複数の前記切断線の一部に沿って前記被切断物を切断することによって複数の前記領域を含む中間体を生成するための第1の切断条件と、前記中間体を切断することによって前記製品に個片化するための第2の切断条件とを少なくとも有し、
    前記第2の切断条件は、ある1本の切断線を切断することによって、個片化された前記領域に相当する前記製品が完成する場合に使用され、
    前記第2の切断条件における前記切削水の流量が前記第1の切断条件における前記切削水の流量よりも少なく、
    前記製品のサイズに対応して前記第2の切断条件が設定又は変更されることを特徴とする切断装置。
  3. 請求項1又は2に記載された切断装置において、
    少なくとも前記切削水の流量が流量調整手段によって制御されることを特徴とする切断装置。
  4. 請求項1又は2に記載された切断装置において、
    少なくとも前記切削水の流量が切替手段によって制御されることを特徴とする切断装置。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載された切断装置において、
    少なくとも前記切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する測定部を備え、
    前記測定部によって測定された測定値に基づき前記第1の切断条件及び前記第2の切断条件における前記加工水の流量を制御することを特徴とする切断装置。
  6. 請求項1〜5のいずれかに記載された切断装置において、
    前記切断手段の両側から前記切断手段の下方に向かって冷却水を供給する冷却水供給機構を備え、
    前記第2の切断条件における前記冷却水の流量が前記第1の切断条件における前記冷却水の流量よりも少ないことを特徴とする切断装置。
  7. 請求項1〜6のいずれかに記載された切断装置において、
    前記被切断物は封止済基板であることを特徴とする切断装置。
  8. 請求項1〜6のいずれかに記載された切断装置において、
    前記被切断物は、複数の前記領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする切断装置。
  9. 複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物をテーブルに載置する工程と、前記テーブルと切断手段とを相対的に移動させる工程と、前記テーブルと前記切断手段とを相対的に移動させることによって前記切断手段を使用して前記被切断物を切断する工程と、前記切断手段と前記被切断物とが接する被加工点に切削水供給機構を使用して切削水を供給する工程とを備えた切断方法であって、
    前記被切断物を切断するための切断条件を制御する工程を備え、
    前記切断する工程は、複数の前記切断線の一部に沿って前記被切断物を切断することによって複数の前記領域を含む中間体を生成する第1の工程と、前記中間体を切断することによって前記製品に個片化するための第2の工程とを少なくとも有し、
    前記切断する工程においては、前記第1の工程における第1の切断条件と前記第2の工程における第2の切断条件とを少なくとも使用し、
    ある1本の切断線を切断することによって、個片化された前記領域に相当する前記製品が完成する場合に前記第2の切断条件を使用し、
    前記制御する工程においては、前記第2の工程における前記切削水の流量を前記第1の工程における前記切削水の流量よりも少なくするように前記切削水供給機構を制御し、
    前記相対的に移動させる工程においては、前記第2の工程における前記テーブルと前記切断手段との間における相対的な移動速度を前記第1の工程における前記相対的な移動速度よりも小さくすることを特徴とする切断方法。
  10. 複数の切断線によって囲まれる複数の領域を有する被切断物をテーブルに載置する工程と、前記テーブルと切断手段とを相対的に移動させる工程と、前記テーブルと前記切断手段とを相対的に移動させることによって前記切断手段を使用して前記被切断物を切断する工程と、前記切断手段と前記被切断物とが接する被加工点に切削水供給機構を使用して切削水を供給する工程とを備えた切断方法であって、
    前記被切断物を切断するための切断条件を制御する工程を備え、
    前記切断する工程は、複数の前記切断線の一部に沿って前記被切断物を切断することによって複数の前記領域を含む中間体を生成する第1の工程と、前記中間体を切断することによって前記製品に個片化するための第2の工程とを少なくとも有し、
    前記切断する工程においては、前記第1の工程における第1の切断条件と前記第2の工程における第2の切断条件とを少なくとも使用し、
    ある1本の切断線を切断することによって、個片化された前記領域に相当する前記製品が完成する場合に前記第2の切断条件を使用し、
    前記制御する工程においては、前記第2の工程における前記切削水の流量を前記第1の工程における前記切削水の流量よりも少なくするように前記切削水供給機構を制御し、
    前記制御する工程においては、前記製品のサイズに対応して前記第2の切断条件を設定又は変更することを特徴とする切断方法。
  11. 請求項9又は10に記載された切断方法において、
    前記制御する工程においては、流量調整手段を使用して少なくとも前記切削水の流量を制御することを特徴とする切断方法。
  12. 請求項9又は10に記載された切断方法において、
    前記制御する工程においては、切替手段を使用して少なくとも前記切削水の流量を制御することを特徴とする切断方法。
  13. 請求項9〜12のいずれかに記載された切断方法において、
    少なくとも前記切削水を含んでおり切断に使用される加工水の流量を測定する工程を備え、
    前記制御する工程においては、前記測定する工程において測定した測定値に基づき前記第1の工程及び前記第2の工程における前記加工水の流量を制御することを特徴とする切断方法。
  14. 請求項9〜13のいずれかに記載された切断方法において、
    前記切断手段の下方に向かって冷却水供給機構を使用して冷却水を供給する工程を備え、
    前記制御する工程においては、前記第2の工程における前記冷却水の流量を前記第1の工程における前記冷却水の流量よりも少なくするように前記冷却水供給機構を制御することを特徴とする切断方法。
  15. 請求項9〜14のいずれかに記載された切断方法において、
    前記被切断物は封止済基板であることを特徴とする切断方法。
  16. 請求項9〜14のいずれかに記載された切断方法において、
    前記被切断物は、複数の前記領域にそれぞれ対応する回路素子が作りこまれた基板であることを特徴とする切断方法。
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