JP6329036B2 - インクジェットヘッド - Google Patents

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Description

一実施形態はインクジェットヘッドに関する。
従来、インクジェットヘッドはセラミックスからなる絶縁性のベース基板上に、複数の圧電セラミックス製の圧電部材を設けており、複数の隔壁を所定の間隔で形成し、各隔壁間をインクの流路としている(例えば特許文献1参照)、インクジェットヘッドは各隔壁の側面には駆動用電極を備え、隔璧端面をその頂部から底部にかけて外側に広がる傾斜面とするとともに上記隔壁の傾斜面およびベース基板に上記駆動用電極の引出線を形成している。
このような構成のインクジェットプリンタヘッドは形状が複雑であるため、電極は無電解めっき法で形成することが好適である。駆動電極および配線となる金属膜を形成し、配線パターンを形成している。ベース基板上に金属膜が形成され、レジスト膜が積層される。基板面に対して垂直方向の光源から露光処理がなされる。
しかし露光の際、インク孔の側壁では、上部から下部へ徐々に露光量が弱くなる。金属膜又はベース基板とレジスト膜との間の密着力が低いため、レジスト膜が剥がれやすくなる。
特開2011−37057号公報
本発明が解決しようとする課題は、金属膜又はベース基板とレジスト膜との間の密着力を高めたインクジェットヘッドを提供するものである。
このような課題を解決するため、一実施形態によれば、基板上面から基板下面へかけて縮小するテーパ形状のインク孔を有する絶縁性のベース基板と、このベース基板の前記基板上面から互いに傾斜する一対の傾斜端面およびこれらの傾斜端面間にそれぞれ一方向に沿って形成された複数の隔壁を持つ圧電体と、前記インク孔の周辺での前記ベース基板の欠けに充填された接着剤と、前記隔壁毎の電極から前記ベース基板に引出される導体パターンと、を備えたインクジェットヘッドが提供される。
実施の形態に係るインクジェットヘッドの斜視図である。 実施の形態に係るインクジェットヘッドの部分的な上面斜視図である。 実施の形態に係るインクジェットヘッドの図1中のAA´に沿うヘッド本体の縦断面図である。 実施の形態に係るインクジェットヘッドの図3中のBB´に沿う圧電体の縦断面図である。 実施の形態に係るインクジェットヘッドの圧電体の傾斜端面の斜視図である。 実施の形態に係るインクジェットヘッドの接着剤が充填されるベース基板の欠けの拡大図である。 実施の形態に係るインクジェットヘッドのインク孔の図6のCC´に沿う断面構造例を示す図である。
以下、実施の形態に係るインクジェットヘッドについて、図1乃至図7を参照しながら説明する。尚、各図において同一箇所については同一の符号を付すとともに、重複した説明は省略する。
(一実施形態)
図1は実施の形態に係るインクジェットヘッドの斜視図である。本実施形態に係るインクジェットヘッドは、ノズル配列方向に配列された複数の吐出口10を有するヘッド本体11を有し、吐出口10毎の吐出駆動によって基板下面18側から供給されるインクを排出する。
図2は本実施形態に係るインクジェットヘッドの部分的な上面斜視図である。本実施形態に係るインクジェットヘッドは、基板上面17および基板下面18を有する絶縁性のベース基板19と、このベース基板19の基板上面17から互いに傾斜する一対の傾斜端面15、16およびこれらの傾斜端面15、16間にそれぞれ一方向に沿って形成された複数の隔壁26を持つ圧電体20と、この圧電体20に平行に基板上面17に設けられ圧電体20と同じ構造を有する別の圧電体21(図1)とを備える。このインクジェットヘッドは、傾斜端面15側にそれぞれベース基板19に貫通形成され、それぞれ基板上面17から基板下面18へかけて縮小するテーパ状の孔直径を持つ複数のインク供給孔28(インク孔)と、傾斜端面16側にそれぞれベース基板19に貫通形成され、それぞれ基板上面17から基板下面18へかけて縮小するテーパ状の孔直径を持つ複数のインク排出孔29(インク孔)と、を備える。
更に本実施形態に係るインクジェットヘッドは、インク供給孔28及びインク排出孔29の周辺でのベース基板19の欠けに充填された接着剤の層22と、これらの層22、圧電体20、21およびベース基板19を覆うフォトレジストによるパターニングによって形成され、隔壁26毎の電極23からベース基板19上に引出される導体パターン24とを備えている。
図3は図1中のAA´に沿うヘッド本体11の縦断面図である。既述の符号はそれらと同じ要素を表す。ベース基板19には例えばアルミナ(Al)が用いられる。ベース基板19と、このベース基板19上に接着された枠部材32と、それぞれこの枠部材32に囲まれた圧電体20、21と、これらの圧電体20、21を上方から覆うノズル基板30とによりヘッド本体11が構成されている。ベース基板19の下方にはインク流路の分岐部兼結合部であるマニフォールド12が連結されている。ベース基板19、枠部材32およびノズル基板30によってインクの共通液室33、34、35が形成されている。
図4は図3中のBB´に沿う圧電体20の縦断面図である。既述の符号はそれらと同じ要素を表す。圧電体20は2枚の圧電板20a、20bが厚さ方向で張り合わせられて構成されており、これらの圧電板20a、20bの分極特性はそれぞれの分極方向が板厚方向で逆向きの関係にある。圧電板20a、20bには例えば圧電定数が高いPZT(lead zirconate titanateチタン酸ジルコン酸鉛)が用いられている。隣接する2つの隔壁26間に一つの圧力室31が形成される。圧力室31は共通液室33、34、35(図1、図3)との間で連通し、インクの流路を形成する。圧電体21も圧電体20の例と同じである。
図5は圧電体20の傾斜端面16の斜視図である。既述の符号はそれらと同じ要素を表す。図4、図5のように圧力室31は、溝状の底面36、この底面36から両側に起立する側壁面37、38、傾斜端面15、16上の各開口39及びノズル基板30の裏面によって囲まれている。また、底面36及び側壁面37、38上の導電膜により隔壁26毎の駆動用の電極23が形成され、各電極23は導体パターン24(図2)に電気的に接続されるようになっている。
また、図3のようにベース基板19に1列形成された複数のインク供給孔28はマニフォールド12に連通している。ベース基板19に2列形成された複数のインク排出孔29はマニフォールド12に連通している。
図6は接着剤が充填されるベース基板19の欠けの拡大図である。既述の符号はそれらと同じ要素を表す。同図は導体パターン24のパターニング前の一つのインク供給孔28の周辺を上面視した例を示している。インク供給孔28の穿設加工によってインク供給孔28周辺におけるベース基板19には欠け25が生じやすい。欠け25とは、基板上面17における基板材の欠落や、所望する基板上面17の上下方向の段差や凹凸の乱れ、成型されたベース基板19内の亀裂などの破壊を指す。パターニング工程前における補修工程において欠け25に接着剤を充填する。補修とは、基板上面17における欠落を接着剤により埋めて平坦にすること、ベース基板19内の亀裂に接着剤を浸透させて平坦にすること、あるいはベース基板19内に深く入った穴に接着剤を詰めることによって、傾斜の連続性あるいは角部を再現することを指す。他のインク供給孔28及びインク排出孔29も図6の例と実質同じである。
導体パターン24(図2)は隔壁26の電極23に電気的に接続された配線パターンであり、例えば電極23から基板上面17に導かれた1本以上の配線や、フレキシブルプリント配線板(FPC)27に接続される配線(図3)である。導体パターン24はフレキシブルプリント配線板27を介してドライバIC13に接続される。
次に上述の本実施形態に係るインクジェットヘッド(図1、図2)の製造方法について説明する。インクジェットヘッドの製造方法は、セラミックからなるベース基板19上に2つのPZTを接着し、機械的な溝の切削加工によって圧電体20及び圧電体21のそれぞれに傾斜端面15、16を形成し、これらの圧電体20、21に隔壁26及び圧力室31を形成する。PZTに複数の隔壁26が所定の間隔で形成され、各隔壁26間にインクの流路が形成される。また、製造方法は、圧電体20、21に対してそれぞれ、隔壁端面(傾斜端面15、16)を、その頂部から底部にかけて外側に広がる傾斜面とするとともに、該傾斜面を上記ベース基板19上まで延設し、かつ上記隔壁26の傾斜面およびベース基板19に上記駆動用電極23の引出線を形成する。ベース基板19には一列のインク供給孔28及び2列のインク排出孔29が形成される。
図7は本実施形態に係るインクジェットヘッドのインク孔の図6のCC´に沿う断面構造例を示す図である。既述の符号はそれらと同じ要素を表す。インク供給孔28の孔形状は上部から下部にかけて孔直径が小さくなるようにテーパ状に形成される。他のインク供給孔28及びインク排出孔29も同様にしてテーパ状に形成される。
孔開け工程の後、補修工程はインク供給孔28の周辺を接着剤にて補修する。例えばインク供給孔28の周辺に欠落部40が生じていると、補修工程ではこの欠落部40に接着剤を流し込んで基板上面17を平坦にする。欠落部40は孔開けの際、ベース基板19の材料自身に熱や物理的な力が加わることにより、ベース基板19に歪みが生じることによる。
仮にこの欠落部40に何ら補修をしないで製造工程を続行すると、導体パターン24となる金属膜の成膜時に金属膜が欠落部40の底面及び側壁面に付着し、続くレジスト膜の蒸着時では、欠落部40の底面及び側壁面に付着した金属膜の上にレジスト膜が付着する。欠落部40を補修せずに製造工程を続けると、現像工程、エッチング工程の後、残渣を除去する工程において欠落部40の底面及び側壁面に付着した金属膜及びレジスト膜の片が基板上面17上に飛散し、飛び散った金属膜片がショート(短絡)の引き金となる。
本実施形態に係るインクジェットヘッドの製造工程は、基板上面17の欠けを取り除く補修工程を金属膜の成膜又はパターニングの工程の前に行っているため、エッチング又は残渣除去の工程において、インク孔周辺での欠け25(図6)、欠落部40(図7)によってレジスト膜や金属膜が剥がれることが生じない。レジスト膜や金属膜の剥がれによって生じ得るショートが発生しない。製造工程で不良が発生することがなくなり、インクジェットヘッドの製造の効率化を図れる。インク排出孔29もインク供給孔28の例と同様である。
また、粘性を有する接着剤を使うことで、基板材の欠落や、所望する段差や凹凸について荒れ、乱れ、ただれ、あるいは亀裂などの補修作業をしやすくすることができる。粘性が低い液相の補修剤では成形のための型枠等を要し補修作業が困難か又はできない。粘性が低いとは接着剤の粘性よりも相対的に低いことである。具体的に接着剤には有機溶剤などの剥離液に対して不溶の物質が用いられる。剥離液に不溶な接着剤を補修剤に用いることで、ベース基板19を剥離液に浸けたときにも、充填した接着剤が消滅せずに成形部分の形状が保たれる。また、接着剤には、ベース基板19の材質との密着性を保てるコーティング材を用いてもよい。接着剤には、ベース基板19の洗浄後、ベース基板19を乾燥させた後にも、基板上面17から剥がれずに連続性を保てる物質を用いてもよい。
接着剤による補修の後、隔壁26間の底面36および側壁面37、38に無電解めっきを実施する。パターニング方法としては、フォトリソグラフィ法を用いる。例えばNi(ニッケル)のめっき膜を成膜する。
続く工程においてベース基板19及び圧電体20、21の隔壁26を覆うように、感光性のレジスト膜42が形成される。
続いて露光装置は焦点をベース基板19の基板上面17に合わせてレジスト膜を露光する。ポジ型レジスト処理では、現像液に浸けた対象基板への現像処理により、配線電極を形成したい部分以外のレジスト膜42を除去する。図7に示すように、インク供給孔28のテーパ状の傾斜する傾斜孔壁41には、ベース基板19の基板上面17と連続的にレジスト膜が形成されており、露光装置からの露光によって基板上面17上で段差を有するレジストパターンが形成され、現像及びエッチングを経て複数本の導体パターン24(図2)が生成される。インク孔29もインク孔28の例と同様である。図4の圧力室31となる空間については空間毎に隔壁26の上端部のめっき膜が除去される。
また、図7において、インク供給孔28は、基板上面17上の接着剤の層22および層22上の金属膜(図7の導体パターン24に相当)が積層されたベース基板19に対するテーパ加工と、傾斜孔壁41にレジスト膜42の塗布、レジスト膜42への露光、露光パターンの現像、およびエッチングによるレジスト膜42の除去によるパターニングとによって製造される。ここでレジスト膜42上の任意の一点、および一点から直下方向へ傾斜孔壁41の面上に到達した他の一点間の距離をDとし、レジスト膜42の膜厚をxとし、基板下面18および傾斜孔壁41が交差するテーパ角度をθとすると、θ=cos-1(x/D)である。xおよびDが与えた場合、テーパ角度はθ以下にされる。露光工程での露光量が不十分にならないように、テーパ角度は45度以下が適している。
このように、本実施形態に係るインクジェットによれば、ベース基板19上のインク供給孔28、インク排出孔29の形状をそれぞれテーパ状に形成し、及び欠け25を接着剤により補修することで、傾斜孔壁41上のレジスト膜42に対して十分な露光量の光を当てることができ、現像及びエアーブロー水切りの処理でレジスト残渣なく、完全にレジスト残渣を溶解除去できるようになる。レジスト残渣が残存した場合、金属膜が剥がれて金属膜の片が捲れ上がってこの片が基板上面17に付着し、導体パターン24の生成後、配線ショートを引き起こすことがある。本実施形態に係るインクジェットによれば、この配線ショートを防ぐことができる。
次に本実施形態に係るインクジェットヘッド(図1〜図5)の作用動作について述べると、プリンタ本体からの駆動信号を何れかのドライバIC13が受信し、ドライバIC13は圧力室31へ導体パターン24によりパルス電圧信号を印可する。圧力室31内で電界が発生し、この圧力室31内の隔壁26が変形する。この変形では電界発生によって圧電板20a、20bが互いに逆向きに屈曲して圧力室31の側壁面37、38がこの圧力室31内方へ出っ張り変形し、電界消滅によって変形が元に戻る。圧力室31の容積が拡張し縮小することにより、インクが加圧され、ヘッド本体11は液滴を吐出口10から吐出し液弾が被記録媒体へ発射される。マニフォールド12から供給されたインクは共通液室34から全ての圧力室31に送られ、これらの圧力室31を通過したインクは共通液室33、35を経てマニフォールド12へ排出される。
本実施形態に係るインクジェットヘッドでは、それぞれテーパ状を持つインク供給孔28、インク排出孔29及び接着剤補修によって傾斜孔壁41の下部にまで十分な量の露光が届くため、相互間の密着力を高めることができる。このため、インク孔28、29の内壁下部においてレジスト膜42は金属膜又はベース基板19から剥がれない。ベース基板19上に上下方向の段差又は凹凸を多数形成し、高低差が著しい加工を基板上面17に施しても、インク供給孔28、インク排出孔29をテーパ状にし、接着剤の層22によって欠けを補修することで露光、現像及びエッチング後のレジスト残渣をなくすことができる。
なお上記実施形態では、θが45度の場合の例であったが、θが45度よりも小さい角度であってもレジスト残渣を除去できる。インク供給孔28の個数及びインク排出孔29の個数は種々変形可能である。パターニング方法としては、フォトリソグラフィ法のほかに、熱硬化性のレジストを用いたレーザ加工によってもよい。
導体パターンは、電極からベース基板19の基板上面17上に引出されて形成されていたが、ベース基板19内に配線層を設け、この配線層に導体パターンを導通接続させてもよい。図2における導体パターン24の配線経路は一例であり、配線経路は同図の例に限定されるものではなく種々変形できることは言うまでも無い。一つの隔壁26の壁厚及び隔壁26間の間隔は解像度やインクの吐出量、圧力室31の容積及び吐出口10の開口面積等によって決められる。これらの変形をして実施したに過ぎない実施品に対して実施の形態に係るインクジェットヘッドの優位性は何ら損なわれるものではない。
いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
19…ベース基板、20,21…圧電体、22…接着剤の層、24…導体パターン、28…インク供給孔(インク孔)、29…インク排出孔(インク孔)、31…圧力室、42…レジスト膜。

Claims (2)

  1. 基板上面から基板下面へかけて縮小するテーパ形状のインク孔を有する絶縁性のベース基板と、
    このベース基板の前記基板上面から互いに傾斜する一対の傾斜端面およびこれらの傾斜端面間にそれぞれ一方向に沿って形成された複数の隔壁を持つ圧電体と、
    前記インク孔の周辺での前記ベース基板の欠けに充填された接着剤と、
    前記隔壁毎の電極から前記ベース基板に引出される導体パターンと、を備えたインクジェットヘッド。
  2. 前記インク孔は、前記基板上面の上の前記接着剤の層および前記層上の金属膜が積層された前記ベース基板に対するテーパ加工と、このテーパ加工による傾斜孔壁にレジスト膜の塗布、前記レジスト膜への露光、露光パターンの現像、およびエッチングによる前記レジスト膜の除去によるパターニングと、によって製造され、
    前記レジスト膜上の任意の一点、および前記一点から直下方向へ前記傾斜孔壁の面上に到達した他の一点間の距離をDとし、前記レジスト膜の膜厚をxとし、前記基板下面および前記傾斜孔壁が交差するテーパ角度をθとすると、θ=cos-1(x/D)である請求項1記載のインクジェットヘッド。
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