JP6316181B2 - 基板保持ステージ - Google Patents
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Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
140 熱板
143 吸着ノズル
143a 本体部
143b 吸引部
143c 吸引流路
170 真空室
171、172、173 貫通孔
200 吸着ノズル
200a 本体部
210 弾性部材
220 磁石
230 コイル
240、241 コイル
250、251 電極
W ウェハ
Claims (5)
- 載置した基板を吸着保持する基板保持ステージであって、
基板を載置する載置面を備えた載置盤と、
前記載置盤を厚み方向に貫通する複数の貫通孔と、
排気装置に通じる前記貫通孔内に配置された吸着ノズルと、を有し、
前記吸着ノズルは、前記貫通孔の内側面と気密に接触する本体部と、基板を吸引する吸引部と、前記本体部の内部に形成され且つ一方の端部が前記排気装置に通じ、他方の端部が前記吸引部に連通する吸引流路と、を備え、
前記吸引部は、前記載置盤の載置面よりも上方に突出して配置され、
前記吸着ノズルは、前記載置盤上に載置された基板を前記吸引部で吸着したときに、前記排気装置の排気により、前記吸引部が前記載置盤側に移動するように構成され、
前記貫通孔は円柱形状を有し、
前記本体部は、前記貫通孔の内側面と摺動自在で且つ当該貫通孔を気密に塞ぐ直径の球体形状を有し、
前記貫通孔の側面には、円環状の磁石が配置され、
前記本体部には、前記円環状の磁石と平行に配置された強磁性体板が設けられ、
前記吸引部が基板を吸着したときに、前記排気装置の排気によって前記本体部を前記吸引部と反対側に移動させるように作用する力が、前記磁石が前記本体部の強磁性体板を保持する力よりも大きくなることで、前記吸引部が前記載置盤側に移動することを特徴とする、基板保持ステージ。 - 載置した基板を吸着保持する基板保持ステージであって、
基板を載置する載置面を備えた載置盤と、
前記載置盤を厚み方向に貫通する複数の貫通孔と、
排気装置に通じる前記貫通孔内に配置された吸着ノズルと、を有し、
前記吸着ノズルは、前記貫通孔の内側面と気密に接触する本体部と、基板を吸引する吸引部と、前記本体部の内部に形成され且つ一方の端部が前記排気装置に通じ、他方の端部が前記吸引部に連通する吸引流路と、を備え、
前記吸引部は、前記載置盤の載置面よりも上方に突出して配置され、
前記吸着ノズルは、前記載置盤上に載置された基板を前記吸引部で吸着したときに、前記排気装置の排気により、前記吸引部が前記載置盤側に移動するように構成され、
前記貫通孔は円柱形状を有し、
前記本体部は、前記貫通孔の内側面と摺動自在で且つ当該貫通孔を気密に塞ぐ直径の球体形状を有する強磁性材料であり、
前記貫通孔の側面には、円筒形状の電磁石が配置され、
前記吸引部が基板を吸着したときに、前記排気装置の排気によって前記本体部を前記吸引部と反対側に移動させるように作用する力が、前記電磁石が前記本体部を保持する力よりも大きくなることで、前記吸引部が前記載置盤側に移動することを特徴とする、基板保持ステージ。 - 載置した基板を吸着保持する基板保持ステージであって、
基板を載置する載置面を備えた載置盤と、
前記載置盤を厚み方向に貫通する複数の貫通孔と、
排気装置に通じる前記貫通孔内に配置された吸着ノズルと、を有し、
前記吸着ノズルは、前記貫通孔の内側面と気密に接触する本体部と、基板を吸引する吸引部と、前記本体部の内部に形成され且つ一方の端部が前記排気装置に通じ、他方の端部が前記吸引部に連通する吸引流路と、を備え、
前記吸引部は、前記載置盤の載置面よりも上方に突出して配置され、
前記吸着ノズルは、前記載置盤上に載置された基板を前記吸引部で吸着したときに、前記排気装置の排気により、前記吸引部が前記載置盤側に移動するように構成され、
前記貫通孔は円柱形状を有し、
前記本体部は、前記貫通孔の内側面と摺動自在で且つ当該貫通孔を気密に塞ぐ直径の球体形状を有する導電材料であり、
前記貫通孔の内側面には、前記載置盤の厚み方向に延伸する一対の電極が、前記本体部と電気的に接触した状態で配置され、
前記吸引部が基板を吸着したときに、前記排気装置の排気によって前記本体部を前記吸引部と反対側に移動させるように作用する力が、前記一対の電極に電流を流した時に前記本体部に作用するローレンツ力よりも大きくなることで、前記吸引部が当前記載置盤側に移動することを特徴とする、基板保持ステージ。 - 前記載置盤の貫通孔の内部における、前記本体部の上方であって前記吸引部の下方位置には、当該貫通孔の中心方向に向けて突出する係止部が設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板保持ステージ。
- 前記載置盤の内部には真空室が形成され、
前記真空室は、前記吸引流路の前記排気装置と前記吸引部との間に設けられていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板保持ステージ。
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