JP6314682B2 - エキシマ光照射装置 - Google Patents

エキシマ光照射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6314682B2
JP6314682B2 JP2014125347A JP2014125347A JP6314682B2 JP 6314682 B2 JP6314682 B2 JP 6314682B2 JP 2014125347 A JP2014125347 A JP 2014125347A JP 2014125347 A JP2014125347 A JP 2014125347A JP 6314682 B2 JP6314682 B2 JP 6314682B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lamp
excimer
movable body
light irradiation
excimer lamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014125347A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016004711A (ja
Inventor
小柳 博
博 小柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Original Assignee
Ushio Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2014125347A priority Critical patent/JP6314682B2/ja
Publication of JP2016004711A publication Critical patent/JP2016004711A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6314682B2 publication Critical patent/JP6314682B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明はエキシマ光照射装置に関する。特に、半導体素子や液晶基板の製造工程において、真空紫外光を利用した基板の洗浄処理などに好適に用いられるエキシマ光照射装置に関する。
現在、例えば、半導体素子や液晶基板の製造工程において、シリコンウエハやガラス基板の表面に付着した有機化合物等の汚れを除去する洗浄方法として、紫外光を用いたドライ洗浄方法が広く利用されている。特に、エキシマランプから放射される真空紫外線により生成されるオゾン等の活性酸素を利用した方法は、より効率良く短時間で所定の処理を行うことができることから、好適に利用されており、これまでに種々の構成のエキシマ光照射装置が提案されている(例えば特許文献1〜特許文献3参照。)。
図9は、従来のエキシマ光照射装置の一例における構成を概略的に示す正面図である。
このエキシマ光照射装置は、下方が開放された金属製の箱型形状の筺体70を備えており、筺体70は、水平に延びる基台71上に載置されている。筺体70内には、一方向に延びるエキシマランプ75が、その両端がランプホルダ72,72によって保持された状態で、吊下されて設けられている。図9における符号Wは、例えばガラス基板などの被処理物であり、80は、例えばローラコンベヤよりなる被処理物搬送ユニットである。
エキシマランプ75は、断面が偏平な矩形管状の発光管を備えており、発光管の上壁外面および下壁外面に、一対のメッシュ状の外部電極76が互いに対向して設けられている。また、発光管の少なくとも上壁内面には、シリカを主成分とする紫外線反射膜(図示せず)が形成されている。
特開2009−183949号公報 特開2008−068155号公報 特開2010−80351号公報
近年、例えば液晶基板の大型化に伴ってその基材であるガラス基板も大型化しており、エキシマ光照射装置においては、大型の平板状の被処理物に対しても所期の処理を行うために、被処理物の幅寸法や長さ寸法に応じて、より全長が大きい複数のエキシマランプを並べて配置した構成とすることが必要とされるなど、エキシマ光照射装置自体も大型化している。
而して、エキシマ光照射装置においては、例えば、被処理物について、あらかじめ設定された時間内に、その全体を均一に処理するためには、被処理物とエキシマランプとの離間距離を面方向の全域にわたってほぼ等しくなるように設定する必要がある。この理由は、例えば洗浄処理においては、中心波長172nmのエキシマ光が使用されるが、このエキシマ光は空気中の酸素によって吸収されるため、エキシマランプから被処理物までの距離が少しでも大きくなると、被処理物に到達するエキシマ光の光量が急激に減衰してしまうからである。例えば、中心波長172nmのエキシマ光を使用した洗浄工程の場合においては、エキシマランプ75の下面と被処理物Wの被処理面との間の離間距離dを、4mm±0.5mmの大きさに設定することが必要である。
エキシマランプと被処理物との間の離間距離の大きさの調整は、エキシマランプを含む筺体全体の高さ位置の調整を行うことにより行っていた。具体的には例えば、「シム」と呼ばれる厚さが一定の薄い間隔調整板を筐体と基台との間に介在させて配置し、これにより、基台に対する筐体の高さ位置を変えることにより行っていた。
しかしながら、大型のエキシマ光照射装置の筺体は、例えば、縦横の寸法が3m、またエキシマランプの重量を含む重量も100kgから200kgとなるものもあり、筺体全体の高さ位置の調整作業は、労力も時間も多く必要となる。また、このように大型の筐体では、自重によるたわみやねじれも生じやすい。そのため、基台に対する筐体の高さ位置を調整するだけでは、エキシマランプと被処理物との間の離間距離の大きさを、被処理物の被処理面における面方向の全域にわたって精度よく均一に設定することが困難であるのが実情である。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、エキシマランプと被処理物との間の離間距離の調整を極めて容易に、高い精度で行うことのできるエキシマ光照射装置を提供することを目的とする。
本発明のエキシマ光照射装置は、下方が開口する筺体内において、一方向に延びる発光管を備えたエキシマランプが、その両端がランプ保持機構によって吊下保持された状態で、設けられたエキシマ光照射装置において、
前記ランプ保持機構は、前記一方向に離間した位置において、各々上下方向に移動可能に設けられた一対の可動体と、当該可動体の移動に伴って上下方向に移動される前記エキシマランプの両端の各々を保持する一対のランプホルダとを備えており、
前記可動体の各々は、水平面内において前記一方向と直交する方向に延びる軸部を有し、前記ランプホルダの各々が対応する可動体における当該軸部の周りに揺動可能に設けられていることを特徴とする。
本発明のエキシマ光照射装置においては、前記エキシマランプは、紫外線反射膜が発光管における上方領域の内面に形成されてなるものであって、
前記ランプホルダの各々は、前記可動体の各々における軸部に両端部が枢支された、前記一方向に延びる棒状のホルダ支持部材に設けられており、
当該ホルダ支持部材には、前記エキシマランプの反りによる変形を規制するエキシマランプ変形規制部材が設けられた構成とされていることが好ましい。
さらにまた、本発明のエキシマ光照射装置においては、前記可動体の上下方向以外の方向の移動を規制するガイド機構をさらに備えた構成とされていることが好ましい。
さらにまた、本発明のエキシマ光照射装置においては、前記筺体は、内部空間が水平に延びる隔壁によって上下に区画されており、
前記可動体の各々には、当該隔壁を貫通して上下方向に延びるボールねじのねじ部が螺合連結されており、当該ボールねじのねじ軸の回転によって当該可動体が上下方向に移動される構成とされていることが好ましい。
本発明のエキシマ光照射装置によれば、各々の可動体を移動させることによって対応するランプホルダの各々が上下方向に移動されて、被処理物に対してエキシマランプ自体を単独で上下方向に移動させることができるので、エキシマランプと被処理物との間の離間距離の大きさを、極めて容易に精度よく調整することができる。しかも、ランプホルダの上下動に際して、各々の可動体が互いに異なる移動量で移動されたとしても、可動体の上下動に伴ってランプホルダが可動体の軸部の周りに揺動されるので、発光管に無理な力(せん断力)が加わることがなく、エキシマランプが破損することを回避することができる。また、各々の可動体を同時に移動させる必要がないので、この点においても、エキシマランプと被処理物との間の離間距離の大きさを極めて容易に調整することができる。
また、ランプホルダの各々が、可動体の各々における軸部に両端部が枢支されたホルダ支持部材に設けられ、当該ホルダ支持部材に、エキシマランプ変形規制部材が設けられた構成とされていることにより、さらに、次のような効果を得ることができる。すなわち、発光管の紫外線照射による経時的な劣化に起因した上方に反るような変形がエキシマランプに生じることを、エキシマランプ変形規制部材によって防止することができるので、エキシマランプと被処理物との距離を適正な大きさに維持することができ、所期の処理を確実に行うことができる。
さらにまた、可動体の上下方向以外の方向の移動を規制するガイド機構をさらに備えた構成とされていることにより、可動体の移動に際して、可動体が例えば回転してエキシマランプを屈曲させるような力がエキシマランプに加わることを防止することができるので、エキシマランプの高さ位置の調整時において、エキシマランプが破損することを回避することができると共に、調整作業自体を円滑に行うことができる。
さらにまた、筺体の内部空間を区画する隔壁に設けられたボールねじ機構によって可動体が上下方向に移動される構成とされていることにより、隔壁の上方側からエキシマランプの高さ位置の調整作業を行うことができるので、高い作業性を得ることができる。
本発明のエキシマ光照射装置の一例における構成の概略を、一部を断面で示す正面図である。 図1に示すエキシマ光照射装置におけるランプ保持機構の構成の概略を示す部分拡大図である。 図1に示すエキシマ光照射装置におけるランプ保持機構の構成の概略を示す、ランプ中心軸に垂直な部分断面図である。 図1に示すエキシマ光照射装置におけるエキシマランプの保持構造を説明するための分解斜視図である。 ランプ吊下保持部における高さ調整機構によって、エキシマランプが隔壁に接近するよう上方向に移動された状態を示す、(a)ランプ中心軸方向に沿った部分断面図、(b)ランプ中心軸に垂直な部分断面図である。 エキシマランプの高さ調整に際して、一方のボールねじ機構のみが動作された状態を示す、ランプ中心軸方向に沿った部分断面図である。 本発明のエキシマ光照射装置の他の例におけるランプ保持機構の構成の概略を、一部を断面で示す正面図である。 図7に示すエキシマ光照射装置において、ランプ吊下保持部における高さ調整機構によって、エキシマランプが隔壁に接近するよう上方向に移動された状態を示す、ランプ中心軸方向に沿った部分断面図である。 従来のエキシマ光照射装置の一例における構成を概略的に示す正面図である。
図1は、本発明のエキシマ光照射装置の一例における構成の概略を、一部を断面で示す正面図である。
このエキシマ光照射装置は、例えば液晶基板用のガラス基板などの平板状の被処理物Wを搬送する被処理物搬送ユニット10と、被処理物Wに対してエキシマ光を照射するエキシマランプ30を具備したランプユニット20とにより構成されている。以下、便宜上、エキシマランプ30のランプ中心軸が延びる方向(図1において左右方向)を「長さ方向」、水平面内においてランプ中心軸の延びる方向と直交する方向(図1において紙面に垂直な方向)を「幅方向」というものとする。
被処理物搬送ユニット10は、例えば、複数の円柱状の搬送ローラ12を備えており、各々の搬送ローラ12におけるローラ用シャフト11は、各々同一水平面内において互いに平行に長さ方向に延びる状態で、両端が搬送ローラ支持部材13によって回転可能に軸支されている。この被処理物搬送ユニット10においては、各々のローラ用シャフト11が駆動手段(不図示)によって回転駆動されることにより搬送ローラ12が回転され、これにより、被処理物Wが幅方向に搬送される。
ランプユニット20は、下方が開放された全体が箱型形状の筐体21を備えており、被処理物搬送ユニット10の上方位置に配置された基台15の上面に、筺体21の開口端面が対接されて載置されている。ここに、基台15は、その筺体載置面が水平に延びる姿勢で配置されており、被処理物搬送ユニット10によって搬送される被処理物Wの被処理面の高さ位置と、基台15の例えば上面の高さ位置との距離は、面方向において実質的に一定の大きさとされている。
筺体21は、その内部空間が水平に延びる平板状の隔壁22によって上下に区画されており、上部空間は例えばエキシマランプ30に給電するための電源装置(不図示)などが配置される電装体配置空間部S1とされていると共に下部空間部はエキシマランプ30が配置されるランプ配置空間部S2とされている。
筐体21および隔壁22を構成する材料としては、例えばアルミニウムや、ステンレス鋼などの耐紫外線性及び耐オゾン性を有する金属材料などが挙げられる。
エキシマランプ30は、例えば、ランプ中心軸に垂直な断面形状が扁平な矩形形状を有する一方向に長尺な発光管31を備えており、発光管31における上壁および下壁の各々の外表面には、一対の格子状または網状の外部電極32が互いに対向して配置されている。そして、発光管31の内部には、例えばキセノンガスや、アルゴンと塩素とを混合したガスが封入されている。
また、発光管31における上方領域の内面、少なくとも上壁の内面には、シリカ粒子を主体とした紫外線反射膜(図示せず)が形成されている。
発光管31を構成する材料としては、真空紫外光を良好に透過するシリカガラス、例えば合成石英ガラスなどを例示することができる。
エキシマランプ30は、筺体21におけるランプ配置空間部S2において、ランプ中心軸が長さ方向に水平に延びる姿勢で、その両端がランプ保持機構によって吊下保持されて設けられている。
ここに、エキシマランプ30の下面と被処理物Wの被処理面との間の上下方向の離間距離dは、例えば2〜5mmである。
ランプ保持機構は、エキシマンプ30の両端の各々を保持する一対のランプ吊下保持部41を備えており、各々のランプ吊下保持部41は、筺体21の隔壁22における長さ方向に互いに離間した位置に設けられている。
各々のランプ吊下保持部41は、図2および図3に示すように、上下方向に移動可能に設けられたブロック状の可動体45を備えた、エキシマランプ30の被処理物Wに対する高さ位置を調整する高さ調整機構と、可動体45の移動に伴って上下方向に移動されるランプホルダ55とを備えている。
高さ調整機構は、例えばボールねじ機構によって構成されており、筺体21の隔壁22に形成された貫通孔23内に挿通状態で配置されたボールねじ42のねじ部42aが、可動体45の上面に形成された、ねじ溝を有する凹所よりなる螺合装着部46に螺合連結されている。
ボールねじ42の頭部42bは、隔壁22における貫通孔23の上端側開口部に形成された凹所23a内に収容されて配置されており、従って、頭部42bの下面が凹所23aの底面に係止された状態とされていることから、ボールねじ42のねじ部42aの回転によって当該可動体45が上下方向に移動される。また、凹所23a内におけるボールねじ42の頭部42aの側周面と凹所23aの内周面との間には、エキシマランプ30の高さ位置調整後において、ボールねじ42の回転を禁止するリング状の回転防止部材43が配置されている。
そして、筺体21における隔壁22の上面には、凹所23aの開口部を覆う平板状の蓋部材25が例えば、ねじ止めされて固定されている。このような構成とされていることにより、エキシマランプ30から放射される例えば中心波長172nmのエキシマ光が雰囲気中の酸素と反応することにより発生するオゾンが、ボールねじ42と隔壁22の貫通孔23との隙間を介して、電装体配置空間部S1内に進入することを防止することができる。ここに、蓋部材25を構成する材料としては、例えばアルミニウム、ステンレス鋼などの金属材料を例示することができる。
可動体45の上面には、螺合装着部(凹所)46を挟んで軸方向に離間した位置に、各々上方に向かって突出して延びる一対の柱状のガイドピン47が設けられている。各々のガイドピン47の上端部は、隔壁22の下面における各々のガイドピン47に対向する位置に形成された隔壁22の厚み方向に延びるガイドピン挿入用孔24内に挿入されている。これにより、可動体45の移動に際して、可動体45の上下方向以外の方向の移動を規制するガイド機構が構成されている。
可動体45は、その下面に、各々エキシマランプ30と平行に下方に延びる互いに対向する2つの側板51,51と、各々の側板51、51の上端部において2つの側板51、51を連結する水平方向に延びる連結板52とよりなる断面形状がコの字型の支持アーム部50を有している。
支持アーム部50における2つの側板51,51間における連結板52と離間した位置には、側板51に垂直な方向に延びる枢支軸53が設けられている。
可動体45を構成する材料としては、例えばアルミニウムなどを例示することができ、支持アーム部50を構成する材料としては、例えばステンレス鋼などを例示することができる。
ランプホルダ55は、図4にも示すように、互いに対向する2つの側板56,56と、各々の側板56、56の上端部において2つの側板56、56を連結する連結板57とよりなる断面形状が略コの字型のものである。各々の側板56、56には、内方側端縁から軸方向外方に向かって水平に延びるスリット58よりなる被係合部が互いに対向する位置に形成されている。
そして、外方に突出して延びる柱状突起36を両側面の各々に有するベース部材35がエキシマランプ30の両端部の各々に装着された状態において、エキシマランプ30の両端部がそれぞれランプホルダ55の側板56,56間に挿入されることによりベース部材35の柱状突起36の各々がランプホルダ55の対応するスリット58にスライド係合され、これにより、エキシマランプ30がランプホルダ55によって保持される。
而して、この例におけるランプ保持機構においては、2つのランプ吊下保持部41におけるランプホルダ55の各々は、エキシマランプ30に沿って軸方向に延びる四角柱状のホルダ支持部材60の下面に固定されて設けられている。このホルダ支持部材60は、その両端部が可動体45(具体的には支持アーム部50)の各々における枢支軸53に枢支されて、枢支軸53の周りに揺動可能に設けられており、従って、各々のランプホルダ55が対応する可動体45の枢支軸53の周りに揺動可能に設けられている。ここに、ホルダ支持部材60を構成する材料としては、例えばステンレス鋼、アルミニウムなどを例示することができる。
ホルダ支持部材60には、例えば、エキシマランプ30を上方側から押圧してエキシマランプ30の反りによる変形を規制するエキシマランプ変形規制部材65が設けられている。
エキシマランプ変形規制部材65は、例えばセラミックスなどの絶縁性材料よりなるローラ部材により構成されており、ホルダ支持部材60の下面における例えば2つのランプホルダ55間の中央位置において、ローラ部材の周面がエキシマランプ30の発光管31の上壁に対して押圧状態で当接するよう設けられている。
上述したように、被処理物Wの処理を行うに際しては、エキシマランプ30の下面と被処理物Wの被処理面との間の離間距離を適正な大きさに設定することが必要である。
而して、上記のエキシマ光照射装置においては、各々のランプ吊下保持部41におけるボールねじ42の頭部42bを、可動体45の螺合装着部46に対して締める方向に回転させると、図5(a)、(b)に示すように、ガイドピン47の各々が対応するガイドピン挿入用孔24によって案内されながら、可動体45が隔壁22に接近するよう上方向に移動される。そして、可動体45の移動に伴って、可動体45の支持アーム部50に保持されたホルダ支持部材60が上方向に移動される。
一方、各々のランプ吊下保持部41におけるボールねじ42の頭部42bを、可動体45の螺合装着部46に対して緩める方向に回転させると、ガイドピン47の各々が対応するガイドピン挿入用孔24によって案内されながら、可動体45が隔壁22より離間するよう下方向に移動される。そして、可動体45の移動に伴って、可動体45の支持アーム部50に保持されたホルダ支持部材60が下方向に移動される。
以上のようにして、ホルダ支持部材60に固定されたランプホルダ55によって吊下保持されたエキシマランプ30の、基台15に対する高さ位置が調整される。
上記構成のエキシマ光照射装置によれば、各々のランプ吊下保持部41における可動体45をそれぞれ移動させることによって対応するランプホルダ55の各々が上下方向に移動されて、基台15に対してエキシマランプ30自体を単独で上下方向に移動させることができるので、エキシマランプ30と被処理物Wとの間の離間距離dの大きさを、極めて容易に精度よく調整することができる。
しかも、例えば図6に示すように、一方のランプ吊下保持部41aにおけるボールねじ42の頭部42bが回転された場合や、各々のランプ吊下保持部41におけるボールねじ42の頭部42bを互いに逆方向に回転させてしまった場合など、各々の可動体45が互いに異なる移動量で移動されたとしても、可動体45の上下動に伴ってランプホルダ55が可動体45の枢支軸53の周りに揺動されるので、エキシマランプ30とホルダ支持部材60は常に平行状態が維持される。従って、エキシマランプ30の発光管31に無理な力(せん断力)が加わることがなく、エキシマランプ30が破損することを回避することができる。
また、エキシマランプ30の高さ位置の調整に際して、各々の可動体45を、例えば同方向に同一の大きさの移動量で同時に、移動させる必要がないので、この点においても、エキシマランプ30の高さ位置の調整を極めて容易に行うことができる。
さらにまた、ランプホルダ55の各々が、両端部が可動体45の各々における枢支軸53に枢支されたホルダ支持部材60に設けられ、ホルダ支持部材60に、エキシマランプ変形規制部材65が設けられた構成とされていることにより、さらに、次のような効果を得ることができる。すなわち、発光管31の紫外線照射による経時的な劣化に起因した上方に反るような変形がエキシマランプ30に生じることを、エキシマランプ変形規制部材65によって防止することができるので、エキシマランプ30と被処理物60との離間距離を面方向の全域にわたって適正な大きさに維持することができ、所期の処理を確実に行うことができる。
さらにまた、可動体45の上下動に際して、可動体45に設けられた一対のガイドピン47が隔壁22に形成された各々のガイドピン挿入用孔24によって案内されて可動体45の上下方向以外の方向の移動が規制される構成とされていることにより、可動体45の移動に際して可動体45が例えば回転してエキシマランプ30を屈曲させるような力がエキシマランプ30に加わることを防止することができる。従って、エキシマランプ30の高さ位置の調整時において、エキシマランプ30が破損することを回避することができると共に、調整作業自体を円滑に行うことができる。
さらにまた、筺体21の内部空間を区画する隔壁22に設けられたボールねじ機構によって可動体45が上下方向に移動される構成とされていることにより、隔壁22の上方側からエキシマランプ30の高さ位置の調整作業を行うことができるので、高い作業性を得ることができる。
そして、上記のエキシマ光照射装置は、例えば、軸方向(図1における左右方向)における寸法が3000mm以上であり、幅方向(図1において紙面に垂直な方向)における寸法が700mm以上である大型の被処理物Wが処理可能なものとして、極めて有用なものとなる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、ランプ吊下保持部を構成するランプホルダが、直接的に、可動体の枢支軸に枢支されて枢支軸の周りに揺動可能に設けられた構成とされていてもよい。
図7は、本発明のエキシマ光照射装置の他の例におけるランプ保持機構の構成の概略を、一部を断面で示す正面図である。
このエキシマ光照射装置においては、ランプホルダがホルダ支持部材に固定されて設けられた構成とされることに代えて、ランプホルダ55aが可動体45aにおける枢支軸53に枢支されて当該枢支軸53の周りに揺動可能に設けられた構成とされていることの他は、上記実施形態のエキシマ光照射装置と同一の構成を有するランプ吊下保持部41を備えている。
この例におけるランプ吊下保持部41の構成について具体的に説明すると、ブロック状の可動体45aの正面および背面の各々に、当該正面および背面に対して垂直に外方に突出して延びる枢支軸53が設けられており、ランプホルダ55aが、各々の側板56に形成された貫通孔に各々の枢支軸53が挿入された状態で、設けられている。
本発明においては、エキシマランプ変形規制部材は、ランプ保持機構に設けられている必要はなく、従って、このエキシマ光照射装置においては、例えば、エキシマランプ変形規制部材が着脱可能に構成されたエキシマランプ変形規制部材装着部を筺体21における隔壁22に形成しておき、エキシマランプ30の高さ位置の調整後に、エキシマランプ変形規制部材を装着すればよい。
このエキシマ光照射装置においても、エキシマランプ30の高さ位置の調整に際して、例えば図8に示すように、一方のランプ吊下保持部41aにおけるボールねじ42の頭部42bが回転された場合や、各々のランプ吊下保持部41におけるボールねじ42の頭部42bを互いに逆方向に回転させてしまった場合など、各々の可動体45aが互いに異なる移動量で移動されたとしても、可動体45aの上下動に伴ってランプホルダ55aが可動体45aの枢支軸53の周りに揺動されるので、エキシマランプ30全体が隔壁22に対して傾く(斜めになる)だけで、エキシマランプ30の発光管31に無理な力(せん断力)が加わることがない。
このように、上記のエキシマ光照射装置においても、上記実施形態に係るエキシマ光照射装置と同様の効果を得ることができる。
さらにまた、本発明においては、ガイド機構は、上記実施形態に係るものに限定されるものではない。また、上記実施形態に係るエキシマ光照射装置において、筺体における隔壁の下面に下方に突出して延びるガイドピンが設けられ、可動体にその上面に開口するガイドピン挿入用孔が形成された構成とされていてもよい。
さらにまた、ランプホルダによるエキシマランプの保持構造についても、上記実施形態に係るものに限定されるものではなく、エキシマランプの数も特に制限されるものではない。例えば、複数のエキシマランプが、ランプ中心軸が同一水平面内に位置された状態で、互いに平行に離間して並ぶよう配置された構成とされていてもよい。
10 被処理物搬送ユニット
11 ローラ用シャフト
12 搬送ローラ
13 搬送ローラ支持部材
15 基台
20 ランプユニット
21 筐体
22 隔壁
23 貫通孔
23a 凹所
24 ガイドピン挿入用孔
25 蓋部材
S1 電装体配置空間部
S2 ランプ配置空間部
30 エキシマランプ
31 発光管
32 外部電極
35 ベース部材
36 柱状突起
41,41a ランプ吊下保持部
42 ボールねじ
42a ねじ部
42b 頭部
43 回転防止部材
45,45a 可動体
46 螺合装着部
47 ガイドピン
50 支持アーム部
51 側板
52 連結板
53 枢支軸
55,55a ランプホルダ
56 側板
57 連結板
58 スリット
60 ホルダ支持部材
65 エキシマランプ変形規制部材
70 筺体
71 基台
72 ランプホルダ
75 エキシマランプ
76 外部電極
80 被処理物搬送ユニット
W 被処理物

Claims (4)

  1. 下方が開口する筺体内において、一方向に延びる発光管を備えたエキシマランプが、その両端がランプ保持機構によって吊下保持された状態で、設けられたエキシマ光照射装置において、
    前記ランプ保持機構は、前記一方向に離間した位置において、各々上下方向に移動可能に設けられた一対の可動体と、当該可動体の移動に伴って上下方向に移動される前記エキシマランプの両端の各々を保持する一対のランプホルダとを備えており、
    前記可動体の各々は、水平面内において前記一方向と直交する方向に延びる軸部を有し、前記ランプホルダの各々が対応する可動体における当該軸部の周りに揺動可能に設けられていることを特徴とするエキシマ光照射装置。
  2. 前記エキシマランプは、紫外線反射膜が発光管における上方領域の内面に形成されてなるものであって、
    前記ランプホルダの各々は、前記可動体の各々における軸部に両端部が枢支された、前記一方向に延びる棒状のホルダ支持部材に設けられており、
    当該ホルダ支持部材には、前記エキシマランプの反りによる変形を規制するエキシマランプ変形規制部材が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のエキシマ光照射装置。
  3. 前記可動体の上下方向以外の方向の移動を規制するガイド機構をさらに備えていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエキシマ光照射装置。
  4. 前記筺体は、内部空間が水平に延びる隔壁によって上下に区画されており、
    前記可動体の各々には、当該隔壁を貫通して上下方向に延びるボールねじのねじ部が螺合連結されており、当該ボールねじのねじ軸の回転によって当該可動体が上下方向に移動されることを特徴とする請求項1に記載のエキシマ光照射装置。
JP2014125347A 2014-06-18 2014-06-18 エキシマ光照射装置 Active JP6314682B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014125347A JP6314682B2 (ja) 2014-06-18 2014-06-18 エキシマ光照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014125347A JP6314682B2 (ja) 2014-06-18 2014-06-18 エキシマ光照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016004711A JP2016004711A (ja) 2016-01-12
JP6314682B2 true JP6314682B2 (ja) 2018-04-25

Family

ID=55223852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014125347A Active JP6314682B2 (ja) 2014-06-18 2014-06-18 エキシマ光照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6314682B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108325889B (zh) * 2018-04-18 2021-01-22 中原工学院 一种纺织机械用刺辊清洗装置
JP2021118066A (ja) * 2020-01-24 2021-08-10 ウシオ電機株式会社 エキシマランプ、光照射装置
JP2021150057A (ja) * 2020-03-17 2021-09-27 ウシオ電機株式会社 紫外線照射装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5642945Y2 (ja) * 1977-05-18 1981-10-07
JPH06203621A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Toshiba Lighting & Technol Corp 照明装置
JP3859259B2 (ja) * 1995-07-13 2006-12-20 三星電子株式会社 紫外線照射装置
JPH11306847A (ja) * 1998-04-21 1999-11-05 Matsushita Electric Works Ltd 直管蛍光灯器具
JP5601546B2 (ja) * 2012-10-17 2014-10-08 ウシオ電機株式会社 エキシマ光照射装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016004711A (ja) 2016-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6314682B2 (ja) エキシマ光照射装置
JP5861696B2 (ja) 光照射装置
KR101181171B1 (ko) 자외선 조사 유닛 및 자외선 조사 처리 장치
JP5765504B1 (ja) 光照射装置
JP5652424B2 (ja) 偏光素子ユニット及び偏光光照射装置
TW201546933A (zh) 基板支持裝置及基板處理裝置
JP5682910B2 (ja) 基板ホルダー及び基板搬送装置
JP5983810B1 (ja) 光照射装置
JP4578051B2 (ja) 紫外線照射装置
WO2015083435A1 (ja) アッシング方法およびアッシング装置
JP6135764B2 (ja) デスミア処理装置
JP3871535B2 (ja) ロードポート装置及びこの装置と上位装置との取り付け機構
JP7373953B2 (ja) 収容カセット
JP5892210B2 (ja) 光配向装置
TWI582888B (zh) Substrate processing device
JP2010231125A (ja) プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のマスク搬送方法
JP6123649B2 (ja) アッシング装置および被処理物保持構造体
JP4983829B2 (ja) 紫外線照射装置
JP6628521B2 (ja) レーザー加工装置
JP5504896B2 (ja) ランプユニット
JP6733274B2 (ja) 紫外線処理装置
JP2019053162A (ja) 検査装置
JP2011165540A (ja) エキシマ光照射装置
JP2018048828A (ja) 照射装置
JP5146808B2 (ja) 紫外線照射装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170314

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180124

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180227

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180312

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6314682

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250