TW201546933A - 基板支持裝置及基板處理裝置 - Google Patents

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TW201546933A
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Shinji Yamaguchi
Naohiko Satsuka
Keigo Amamoto
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Kowa Co
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Abstract

提供可迴避來自支持銷的熱對於被處理基板的 所定處即使短時間也會集中地被持續施加之狀況，且可防止加熱等處理後的基板發生銷跡(pin mark)的基板支持裝置，及包含其之基板處理裝置。 具備被固定於加熱板之複數支持銷、使被 處理基板在其下面接觸於前述各支持銷的上端部之狀態下直接2維地搖動的搖動手段、以前述基板在前述基板的加熱等的處理中，前述基板的下面的特定處接觸於前述各支持銷的上端部之狀態下不會位於固定位置之方式，控制前述搖動手段的控制手段的基板支持裝置，及具備其之基板處理裝置。

Description

基板支持裝置及基板處理裝置
本發明係關於用以載置或支持為了對液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等所使用之被處理基板(玻璃製或樹脂製的基板)進行加熱及/或乾燥等所使用之被處理基板的基板支持裝置，及包含其之基板處理裝置。
先前，例如對塗布光阻液的玻璃基板等進行熱處理時，一邊藉由複數支持銷支持玻璃基板，一邊藉由其下方的加熱板來對玻璃基板進行加熱。圖6(從專利文獻1修正一部份所引用)係揭示此種「為了對於玻璃基板進行加熱及/或乾燥等的熱處理所使用之基板處理裝置」所包含之基板支持裝置的先前例。在圖6所示範例中，於加熱板101的複數凹部101a的內周面，形成有母螺絲101b。於前述凹部101a，插入有支持銷102的基部102a。於前述基部102a的外周面，形成有公螺絲102b。藉由前述基部102a的公螺絲102b螺合於前述加熱板101之凹部101a的母螺絲101b，支持銷102被固定於加熱板 101。支持銷102係藉由從加熱板101突出於玻璃基板100的方向，其上端部抵接於玻璃基板100的下面，支持被塗布光阻液100a等的玻璃基板100。藉由玻璃基板100在被支持銷102支持之狀態下與加熱板101對向配置，藉由來自加熱板101的熱，對玻璃基板100進行加熱處理。
又，圖7(從專利文獻2修正一部份所引用)係揭示對彩色濾光基板201進行加熱或乾燥處理時所使用之先前的其他基板支持裝置的圖。在此圖7所示範例中，加熱板202具備相互獨立而交互升降之複數支持銷203a、203b及203c。藉由前述各支持銷203a~203c，一邊從其背面支持基板201，一邊進行前述基板201的加熱乾燥處理。專利文獻2係根據圖7所示範例，在基板201的加熱等的處理中，各支持銷203a~203c交互升降，所以，可分散來自各支持銷203a~203c的熱對加熱等的處理中之基板201的影響，欲解決被加熱處理之基板201發生銷跡(pin mark)的問題。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2010-243110號公報
[專利文獻2]日本特開2007-226128號公報
的確，使用像圖7所示之先前的基板支持裝置時，因各支持銷203a~203c交互升降，可防止來自1個支持銷的熱長時間集中地被施加於基板201的下面的相同處之狀況。然而，圖7所示之先前的基板支持裝置所致狀況時，因為是各支持銷203a~203c交互升降一邊交互支持基板201的構造，故各支持銷203a~203c中任一一定會有例如數秒鐘以上的短暫所定時間，固定地位於且持續接觸基板201之下面的所定一處。結果，來自各支持銷203a~203c的熱一定會有例如數秒鐘以上的短暫所定時間，集中地被施加於基板201之下面的所定一處，故無法避免於基板201發生某程度的銷跡。亦即，如圖7所示之先前的基板支持裝置所致狀況時，來自各支持銷203a~203c的熱一定會有例如數秒鐘以上的所定時間，集中地被施加於基板201之下面的所定一處，故無法完全解決於被加熱處理之基板發生銷跡的問題。
本發明係著目於此種先前技術的問題點所發明者，目的為提供對被支持銷支持之狀態的基板進行加熱處理時，可幾乎完全防止加熱處理之基板發生銷跡之狀況的基板支持裝置，及包含其之基板處理裝置。
用以解決此種課題的本發明是一種基板支持裝置，係在被處理基板的加熱等的處理中，支持被配置於加熱板的上方之被處理基板的基板支持裝置，具備：複數 支持銷，係藉由本身各上端部分別抵接於前述基板的下面中的複數處，來支持前述基板的複數支持銷，且以從前述加熱板往前述基板的方向突出之方式，分別被固定於前述加熱板；搖動手段，係把持前述基板的端部，透過前述基板的端部來搖動藉由前述複數支持銷支持之前述基板的搖動手段，以前述基板往與前述基板的下面平行的方向2維移動，且前述基板在來自前述加熱板的加熱作用可影響的範圍內移動之方式，搖動前述基板；及控制手段，係在前述基板的加熱等的處理中，以不會有「前述複數支持銷的各上端部分別抵接前述基板的下面之相同處之狀態持續之狀況」之方式，控制前述搖動手段使前述基板搖動。
又，於本發明的基板支持裝置中，於前述各支持銷的上端，具備有對於前述各支持銷的本體可旋轉的球狀滾子為佳。
又，於本發明的基板支持裝置中，更可具備：複數細長之略棒狀的銷保持體，係以各支持銷相互隔著所定間隔而略直線狀地並排之方式，保持前述複數支持銷；及複數溝部，係形成於前述加熱板的上面之複數溝部，且形成為可分別插入及卸下前述各銷保持體。
又，於本發明所致之基板支持裝置中，於前述各支持銷的上端，具備或形成有使前述基板的下面對於前述各支持銷可低摩擦地滑動的低摩擦部亦可。
進而，本發明所致之基板處理裝置，係用以對基板進行加熱及/或乾燥等的基板處理裝置，且包含如 前述之基板支持裝置者。
依據本發明，使前述各支持銷不會持續抵接(接觸)前述基板的下面中之相同處，可使來自前述各支持銷的熱不集中於前述基板的下面中的特定處。
亦即，於本發明中，前述搖動手段，係藉由利用前述控制手段進行控制，在被處理基板的加熱等的處理中，以前述基板在前述基板的下面接觸被固定於加熱板之各支持銷的上端部之狀態下，於與前述基板的下面平行之方向中2維性搖動之方式，來使前述基板搖動。藉此，前述基板係以在前述基板的加熱等的處理中，來自前述各支持銷的熱不集中於前述基板的特定處，且在前述基板之下面的特定處接觸前述各支持銷的上端部之狀態下不位於固定位置之方式搖動。此時，前述搖動手段，係以前述基板不會跑出與前述加熱板的加熱面對向之範圍的外側，或前述基板不移動至來自前述加熱板的加熱作用可影響之範圍的外側之方式，搖動前述基板。因此，依據本發明，可迴避來自各支持銷的熱，即使在例如數秒中等的短暫時間中，也會集中地被施加於被處理基板之下面的所定處之狀況，結果，可幾乎完全防止加熱等處理過的基板發生銷跡之狀況。
又，於本發明中，作為於前述各支持銷的上端分別具備對於前述支持銷的本體可旋轉的球狀滾子(球 狀的滾子)時，因為可極為順暢地進行前述基板的搖動，可確時防止在前述基板的搖動中，前述基板的下面與支持銷的上端部摩擦而損傷之問題。
又，於本發明中，1個細長之略棒狀的銷保持體，將前述複數支持銷在相互隔著所定間隔而並排成略直線狀之狀態下予以保持，該等各銷保持體作為可分別裝卸於加熱板的複數各溝部中時，例如在加熱等的處理中前述複數支持銷之一故障而產生交換的必要之狀況中，與對於加熱板直接交換支持銷之狀況(因為加熱板為高溫狀態，對於加熱板直接交換支持銷的作業無法輕易進行)相較，因為可將前述銷保持體的整體與新的銷保持體進行交換(或者，將前述銷保持體從加熱板卸下，對於該銷保持體交換已故障的支持銷)，所以，可更容易地進行支持銷的故障時的對應。
進而，於本發明中，作為在前述支持銷，具備或形成使前述基板的下面對於前述支持銷可低摩擦地滑動的低摩擦部時，因為可低摩擦且順暢地進行前述基板的搖動，可防止在前述基板的搖動中，前述基板的下面與支持銷的上端部摩擦而損傷之問題。而且，依據本發明，附有前述低摩擦部的支持銷，係與附有前述球狀滾子的支持銷相較，可極為廉價地製造，故可使基板支持裝置低成本化。
1‧‧‧加熱板
2‧‧‧支持銷
2a‧‧‧球狀滾子
2b‧‧‧銷本體
2c‧‧‧基部
2d‧‧‧公螺絲
4‧‧‧機械臂
5‧‧‧電動機
6‧‧‧控制部
7‧‧‧升降銷
10‧‧‧被處理基板
12‧‧‧支持銷
12a‧‧‧低摩擦上端部
12b‧‧‧銷本體
12c‧‧‧基部
12d‧‧‧公螺絲
21‧‧‧加熱板
21a‧‧‧溝部
22‧‧‧支持銷
22a‧‧‧球狀滾子
23‧‧‧銷保持體
100‧‧‧玻璃基板
101‧‧‧加熱板
101a‧‧‧凹部
101b‧‧‧母螺絲
102‧‧‧支持銷
102a‧‧‧基部
102b‧‧‧公螺絲
201‧‧‧基板
203a‧‧‧支持銷
203b‧‧‧支持銷
203c‧‧‧支持銷
[圖1]用以說明本發明的實施形態1所致之基板支持裝置的圖，(a)是揭示先前方式的概略模式圖，(b)是揭示本實施形態的概略模式圖。
[圖2]用以說明本實施形態1之支持銷的構造的側視圖。
[圖3]用以說明本實施形態1之加熱板的構造的俯視圖。
[圖4]用以說明本實施形態2之支持銷的構造的側視圖。
[圖5](a)是用以說明本實施形態3所致之基板支持裝置的側視圖，(b)是其立體圖。
[圖6]用以說明先前之基板的熱處理裝置所使用之基板支持裝置的側剖面圖。
[圖7]用以說明先前之基板的加熱乾燥裝置所使用之基板支持裝置的側剖面圖。
[第1實施形態]
以下，參照圖面來說明本發明的實施形態1。圖1係用以說明本發明的一實施形態的概念的模式圖，(a)是揭示先前方式與其問題點的圖，(b)是揭示本實施形態1的模式圖。
於先前方式中，如圖1(a)所示，被處理基板(工件)100係在固定地配置於被固定於加熱板101的支持銷102上之狀態下被加熱、乾燥。因此，與基板100之下面的支持銷102接觸之處會發生銷跡(pin mark)。
相對於此，於本實施形態1中，如圖1(b)所示，於配置在被處理基板10的下方之加熱板1，固定支持銷2。於該支持銷2的上端，設置有構成為對於前述支持銷2可自由旋轉的球狀滾子2a。前述基板10係藉由前述支持銷2支持，但是，與前述基板10的下面接觸的部分是前述支持銷2之上端的球狀滾子2a。因此，在本實施形態1中，前述基板10可藉由前述球狀滾子2a往圖示的左右方向及前後方向順暢地移動(搖動)。再者，在圖1(b)中，因便利圖示，於1個加熱板1上僅模式地揭示顯示為較大之3個支持銷2，但是，實際上，於1個加熱板1上配置有多數較小的支持銷(參照後述之圖3等)。
在本實施形態1中，可藉由把持前述基板10之端部的機械臂4，及驅動該機械臂4的電動機5，使配置於前述球狀滾子2a上的前述基板10，往圖示的左右方向及前後方向移動(搖動)。在本實施形態1中，前述電動機5係藉由例如由電腦等所構成的控制部6控制，使前述基板10搖動。亦即，前述控制部6係於前述基板10的加熱或乾燥等的處理中，以前述基板10，不會發生來自前述各支持銷2之上端的球狀滾子2a的熱集中於前述基 板10的特定處，而於該部分發生銷跡，且前述基板10之下面的特定處不會在接觸於前述各支持銷2之上端的球狀滾子2a之狀態下被固定地配置之方式，控制前述電動機5。亦即，前述控制部6係以一邊常使前述基板10往圖示的左右方向及前後方向分別略直線狀移動，一邊作為整體，2維地(以不會有前述基板10之下面的相同處不會持續與前述支持銷2之上端的球狀滾子2a接觸的狀況之方式)搖動之方式，控制前述電動機5。
例如，前述控制部6係一邊以在前述基板10的加熱等的處理中，前述基板10不會從與前述加熱板1的加熱面對向之範圍內(來自前述加熱板1的加熱作用可影響的範圍內)移動到外側之方式，且一邊以往圖1(b)的前後方向及左右方向(往與前述加熱板1的加熱面平行之方向2維地)，常纖細地搖動之方式，控制前述電動機5。藉此，在前述基板10的加熱等的處理中，不會有前述球狀滾子2a即使例如數十秒鐘的短暫時間也固定地位於且持續接觸於前述基板10的特定處之狀況，也不會有來自前述球狀滾子2a的熱集中地被施加於前述基板10之下面的所定一處之狀況，所以，可幾乎確時防止前述基板10的下面發生銷跡之狀況。
接著，圖2係用以說明本實施形態1之前述支持銷2的構造的側視圖。於圖2中，2b是從前述加熱板1往前述基板10方向突出之略圓柱狀的銷本體，且為前述球狀滾子2a可旋轉地(參照圖2的箭頭)安裝於其 上端部的銷本體，2c是形成於前述銷本體2b的下方之略圓柱狀的基部，2d是形成於前述基部2c之外周面的公螺絲。前述基部2c是藉由插入且螺合於形成在前述加熱板1之上面側的凹部(省略圖示，例如參照圖6的101a等)，且於內周面形成有母螺絲(例如參照圖6的101b等)的凹部內，被螺止固定於前述加熱板1。前述銷本體2b及基部2c係可藉由公知的耐熱性樹脂，例如PEEK(聚醚醚酮)等來形成。
接著，圖3係用以說明本實施形態1之前述加熱板1的俯視圖。於本實施形態1中，如圖3所示，於前述加熱板1上，以所定間隔配置多數個支持銷2，以螺絲等固定，並且多數個升降銷7隔著所定間隔配置。再者，前述升降銷7是使前述基板10對於前述加熱板1升降時，以對於前述加熱板1升降之方式，設置於前述加熱板1之公知的銷。
如上所述，於本實施形態1中，在前述基板10的加熱等的處理中(燒成中)，藉由前述電動機5(搖動手段)及控制部6使前述基板10搖動，在前述基板10時的下面接觸於前述各支持銷2之上端的球狀滾子2a之狀態下，往與前述基板10的下面平行之方向，2維地搖動。此時，前述電動機5(搖動手段)及控制部6係以前述基板10不會從與前述加熱板1的加熱面對向的範圍超出外側之方式，使前述基板10搖動。又，此時，前述電動機5(搖動手段)及控制部6係以前述基板10的下面 的特定處不會在接觸於前述各支持銷2之上端的球狀滾子2a之狀態下位於固定位置之方式(以前述各支持銷2的上端部不常持續接觸前述基板10的下面中的相同處之方式)，使前述基板10搖動。結果，可迴避來自前述各支持銷2之球狀滾子2a的熱集中於前述基板10的特定處之狀況。因此，依據本實施形態1，可迴避來自前述各支持銷2的熱，即使在例如數秒鐘等的短暫時間中，也會集中地被施加於前述基板10之下面的所定處之狀況，所以，可幾乎完全防止進行過前述加熱等的處理的基板10發生銷跡之狀況。
又，於本實施形態1中，於前述各支持銷2的上端，具備對於前述銷本體2b可旋轉的球狀滾子2a，所以，可極為順暢地進行前述基板10的搖動。結果，依據本實施形態1，可確實防止在前述基板10的搖動中前述基板10的下面與支持銷的上端部摩擦而損傷之狀況。
[第2實施形態]
接著，參照圖4來說明本發明的實施形態2所致之基板支持裝置。本實施形態2的構造基本上與前述實施形態1相同，所以，以下僅針對不同之部分進行說明。圖4係揭示關於本實施形態2的基板支持裝置中所使用之支持銷12的側視圖。於圖4中，12b是從加熱板1往基板10方向突出之略圓柱狀的銷本體，12a是配置於前述銷本體12b之上端的略半球狀(或上面為圓弧狀)的低摩擦上端 部，12c是形成於前述銷本體12b的圖示下方之略圓柱狀的基部，12d是形成於前述基部12c之外周面的公螺絲。前述低摩擦上端部12a係藉由對例如耐熱樹脂以摩擦係數成為極小之方式進行研磨等所形成。
關於前述以外，本實施形態2的構造與前述實施形態1相同。因此，於本實施形態2中，藉由前述電動機5及控制部6(參照圖1)，可使前述基板10不會常在前述基板10的下面的特定處接觸於前述各支持銷12之低摩擦上端部12a之狀態下位於固定位置(前述各支持銷12的低摩擦上端部12a不常持續接觸於前述基板10的下面中的相同處)。因此，依據本實施形態2，藉由前述搖動的動作，來自前述各支持銷12之低摩擦上端部12a的熱不會集中於前述基板10的特定處，所以，可幾乎完全防止被加熱等處理過基板10發生銷跡之狀況。又，在本實施形態2中，因將前述基板10的下面抵接之部分設為前述支持銷12的低摩擦上端部12a，前述基板10係可極為順暢地搖動於前述低摩擦上端部12a上，結果，可防止前述基板10的搖動中前述基板10的下面與支持銷的上端部摩擦而損傷等之問題。而且，在本實施形態2中，因為可藉由僅對前述銷本體12b上端側的略半球狀不分(或上面為圓弧狀部分)的表面進行研磨等來形成前述各支持銷12的低摩擦上端部12a，所以可極為低成本地進行前述支持銷12的製造。
[第3實施形態]
接著，參照圖5來說明本發明的實施形態3。於圖5中，21是加熱板，21a是分別形成於前述加熱板21之上面側的複數處的溝部，22是支持銷，22a是設置於支持銷之上端的球狀滾子(與前述實施形態1的球狀滾子2a相同者)。又，23是將前述複數支持銷22，以該等相互隔著所定間隔而並排成略直線狀之方式配置之狀態下予以保持的銷保持體。前述銷保持體23形成為細長的棒狀。
在本實施形態3中，藉由前述各銷保持體23分別可自由裝卸地插入且安裝於前述各溝部21a中，使前述各支持銷22被配置、固定於前述加熱板21上。關於本實施形態3之前述以外的構造，因為與前述實施形態1幾乎相同，故省略說明。
根據以上內容，於本實施形態3中，使略直線狀地並排之狀態下來保持前述複數支持銷22的各銷保持體23，可收容於前述加熱板21之各溝部21a中，及可從其卸下。因此，依據本實施形態3，例如在基板10的加熱等處理中前述球狀滾子22a之一故障而發生交換的必要之狀況中，與對於前述加熱板21直接交換支持銷22之狀況(因為前述加熱板21為高溫狀態，對於前述加熱板21直接交換前述支持銷22的作業無法輕易進行)相較，因為可將前述銷保持體23整體與新的銷保持體23進行交換(或者，將前述銷保持體23從加熱板21卸下，對於從該加熱板21卸下的銷保持體23交換球狀滾子22a已故障 的支持銷22)，所以，可更容易進行球狀滾子22a的故障等的對應。
以上，已針對本發明的各實施形態進行說明，但是，本發明不限定於作為前述各實施形態所述者，可施加各種修正及變更。例如，於前述實施形態1中，前述控制部6係以前述基板10一邊往圖1的左右方向及前後方向分別略直線狀地移動，一邊作為整體而2維地搖動之方式來控制前述電動機5，但是，於本發明中並不是限定於此者，例如，前述控制手段當然以一邊使前述基板以於與前述基板的下面略平行的水平面(與前述加熱板的上面略平行的水平面)中沿著略圓形狀、略橢圓形狀、略螺旋狀、或略多角形狀(例如長方形狀)旋回，一邊作為整體而2維地搖動之方式來控制前述電動機5亦可。
1‧‧‧加熱板
2‧‧‧支持銷
2a‧‧‧球狀滾子
4‧‧‧機械臂
5‧‧‧電動機
6‧‧‧控制部
10‧‧‧被處理基板
100‧‧‧玻璃基板
101‧‧‧加熱板
102‧‧‧支持銷

Claims (5)

  1. 一種基板支持裝置，係在被處理基板的加熱等的處理中，支持被配置於加熱板的上方之被處理基板的基板支持裝置，其特徵為具備：複數支持銷，係藉由本身各上端部分別抵接於前述基板的下面中的複數處，來支持前述基板的複數支持銷，且以從前述加熱板往前述基板的方向突出之方式，分別被固定於前述加熱板；搖動手段，係把持前述基板的端部，透過前述基板的端部來搖動藉由前述複數支持銷支持之前述基板的搖動手段，以前述基板往與前述基板的下面平行的方向2維移動，且前述基板在來自前述加熱板的加熱作用可影響的範圍內移動之方式，搖動前述基板；及控制手段，係在前述基板的加熱等的處理中，以不會有「前述複數支持銷的各上端部分別抵接前述基板的下面之相同處之狀態持續之狀況」之方式，控制前述搖動手段使前述基板搖動。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之基板支持裝置，其中，於前述支持銷的上端，具備有對於前述支持銷的本體可旋轉的球狀滾子。
  3. 如申請專利範圍第2項所記載之基板支持裝置，其中，更具備：複數細長之略棒狀的銷保持體，係以各支持銷相互隔 著所定間隔而略直線狀地並排之方式，保持前述個別具備球狀滾子之複數支持銷；及複數溝部，係形成於前述加熱板的上面之複數溝部，且可分別插入及卸下前述各銷保持體。
  4. 如申請專利範圍第1項所記載之基板支持裝置，其中，於前述各支持銷的上端，具備或形成有使前述基板的下面對於前述各支持銷可低摩擦地滑動的低摩擦部。
  5. 一種基板處理裝置，係用以對基板進行加熱及/或乾燥等的基板處理裝置，其特徵為包含申請專利範圍第1項至第4項中任一項所記載之基板支持裝置。
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