JP6308790B2 - 可変形状ミラー及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(可変形状ミラーの構成)
図1を参照しながら本発明にかかる可変形状ミラーの実施形態について説明する。図1(b)は、可変形状ミラーの平面図であり、図1(a)は平面図である図1(b)のA−B断面図である。可変形状ミラーは、ミラー基材2と反射膜3を含むミラー部1及びアクチュエータ部8を有する。ミラー部1は、ポスト6及び周縁接合部材7を介してアクチュエータ部8に接合されている。ポスト6は、ミラー基材2の接合部とアクチュエータ部8の接合部である可動部9に設けられた接合パッド14とに接合されている。周縁接合部材7は、ミラー基材2の周縁に設けられた周縁接合部とアクチュエータ部8側の周辺固定部13上に設けられた接合パッド14とに接合されている。ミラー基材2の周縁とアクチュエータ部8の周辺固定部13とは必要に応じて接合すればよく、省略することも可能である。
次に、図2を参照しながら本発明の実施形態にかかる形状可変ミラーの製造方法について説明する。図2は、第2の実施形態に係る可変形状ミラーの製造方法を示す断面図であり、図1(b)のA−B断面におけるプロセス断面図である。本実施形態に係る可変形状ミラーの形成方法は、ミラー基材となるSOI基板20のSOI層21に薄部を形成して、このミラー基材をアクチュエータ部に移設するものである。
次に、ミラー基材となるSOI層21上の薄部4で囲まれた接合部にポスト6を形成し、薄部5の外側の周縁接合部に周縁接合部材7を形成すると、図2(a)に示すように、ポスト6及び周縁接合部材7の周囲に薄部を有する構造が形成される。ポスト6及び周縁接合部材7の形成には、例えば、Auバンプを、例えば、電解メッキ法によって形成する。なお、ポスト6としてAuバンプの例を挙げたが、他の形成方法で形成しても良く、次工程の接合方法によっては半田など他材料を用いても良い。
図4を用いて、本発明に係る可変形状ミラーに好適な静電櫛歯型アクチュエータを用いた、アクチュエータ部の構成およびその製造方法について説明する。アクチュエータ部8に静電櫛歯型アクチュエータを用いた場合、変位のストローク(最大変位量)が比較的小さく、例えば、10μmであるが、変位量を細かく制御できる利点がある。
以上説明した可変形状ミラーを、光学収差を補償する波面補正デバイスとして用いた補償光学システムについて、走査型レーザ顕眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope:以下SLO装置と記述する)を例にとって説明する。SLO装置とは、光を眼底に照射し、視細胞・網膜神経線維束・血球動態等の観察を可能にする眼科装置である。
本発明にかかる可変形状ミラーについて、第1の領域と第2の領域との膜厚を変えた構成サンプル1〜6(下記の表1参照)について、シミュレーションを行った。シミュレーションを行うにあたっては、有限要素法の解析が可能な市販ソフト(ANSYS社製)を用いた。シミュレーションの条件は、下記の通りである。なお、接合部は、有効ミラー径の範囲だけでなく、可変形状ミラー全体に渡って一様に設けている。
可変形状ミラーの直径:15mmφ
有効ミラー径:7.5mmφ
ミラー基材:単結晶シリコン(ヤング率は130000、ポアソン比は0.3)
接合部の配置:三角格子状
接合部のピッチ:1082μm
接合部の径:30μmφ
第1の領域(薄部)の幅:30μm
理想形状:Astigma
有効ミラー径のミラー中心Oに対する変位量:
X軸交点(X1、X2) +3.75μm、
Y軸交点(Y1、Y2) −3.75μm
Claims (15)
- 複数のアクチュエータが、それぞれ複数の接合部を介して、連続する反射面を有する1つのミラー基材に接合された可変形状ミラーであって、
前記ミラー基材は、前記反射面の反対側の面に前記複数の接合部の周囲に設けられた複数の第1の領域と、前記第1の領域の周囲に位置すると共に、前記接合部とは別の位置に設けられた第2の領域と、を有しており、前記第1の領域の厚さは前記第2の領域の厚さよりも薄いことを特徴とする可変形状ミラー。 - 前記第2の領域は、2つの隣り合う前記接合部の間に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の可変形状ミラー。
- 前記第1の領域は、それぞれ、前記複数の接合部の周囲を連続的または離散的に取り囲んで配置されていること特徴とする請求項1または2に記載の可変形状ミラー。
- 前記ミラー基材は、前記アクチュエータが接合されている面の第1の領域に凹部が設けられていること特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の可変形状ミラー。
- 前記ミラー基材は、前記第1の領域から前記第2の領域にかけて、徐々に厚さが厚くなっていること特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の可変形状ミラー。
- 前記ミラー基材は、前記ミラー基材の周縁接合部において前記複数のアクチュエータを固定する固定部に接合されており、前記固定部に接合された接合部の内側にも第1の領域が設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の可変形状ミラー。
- 前記接合部において、前記ミラー基材と前記アクチュエータとの間にはポストおよびパッドが設けられていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の可変形状ミラー。
- 前記複数のアクチュエータのそれぞれは、前記ミラー基材に接続される可動部と、前記可動部によって支持されて前記ミラー基材の反射面に対して平行な方向に延出する可動櫛歯電極と、前記可動部を支持する支持部と、前記支持部によって支持され前記ミラー基材の反射面に対して平行な方向に延出し、かつ、前記可動櫛歯電極と噛み合って配置される固定櫛歯電極と、を備えることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の可変形状ミラー。
- 前記接合部のミラー基材の厚さが前記第1の領域よりも厚くなっており、前記接合部におけるミラー基材の径が、前記接合部側よりも前記ミラー基材の反射面側で小さくなっていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の可変形状ミラー。
- 波面収差を補正する補償光学システムであって、
入射する光の波面収差を補正する反射型光変調素子と、 入射する光の波面収差を測定する収差測定ユニットと、 前記収差測定ユニットの測定結果に基づいて前記反射型光変調素子を制御する制御ユニットと、を有し、
前記反射型光変調素子が請求項1乃至9のいずれか1項に記載の可変形状ミラーを含んでいることを特徴とする補償光学システム。 - 被検眼の画像を取得する眼科装置であって、
測定光および戻り光の少なくとも一方の波面収差を補正する反射型光変調素子と、前記被検眼にて発生する収差を測定する収差測定ユニットと、前記収差測定ユニットの測定結果に基づいて前記反射型光変調素子を制御する制御ユニットと、を有し、前記反射型光変調素子が請求項1乃至9のいずれか1項に記載の可変形状ミラーを含んでいることを特徴とする眼科装置。 - 更に850nm帯以下の波長のレーザ光を出射する光源を有することを特徴とする請求項11に記載の眼科装置。
- 複数のアクチュエータが、それぞれ複数の接合部を介して、連続する反射面を有する1つのミラー基材に接合された可変形状ミラーの製造方法であって、
シリコン層、絶縁体層、及びハンドル層の3層をこの順に有する第1基板を用意する工程、
前記シリコン層の前記接合部となる領域の周囲に、前記シリコン層の厚さが他の部分の厚さより薄い領域を形成する工程、
第2基板に複数のアクチュエータを形成する工程、
前記シリコン層の接合部と前記アクチュエータの接合部とを接合して、前記第1基板と前記第2基板とを接合する工程、
前記第1基板の前記ハンドル層及び前記絶縁体層を除去する工程、
を含むことを特徴とする可変形状ミラーの製造方法。 - 前記第1基板と前記第2基板とを接合する工程の前に、前記シリコン層および前記アクチュエータのうちの少なくとも一方の前記接合部に、ポストまたはパッドを形成する工程を含むことを特徴とする請求項13に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記第1基板の前記ハンドル層及び前記絶縁体層を除去する工程の後に、前記シリコン層の前記接合部が設けられていない側の面に、反射膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項13または14に記載の可変形状ミラーの製造方法。
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