JP6293710B2 - 半導体ナノ粒子およびその製造方法 - Google Patents
半導体ナノ粒子およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6293710B2 JP6293710B2 JP2015145103A JP2015145103A JP6293710B2 JP 6293710 B2 JP6293710 B2 JP 6293710B2 JP 2015145103 A JP2015145103 A JP 2015145103A JP 2015145103 A JP2015145103 A JP 2015145103A JP 6293710 B2 JP6293710 B2 JP 6293710B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor nanoparticles
- semiconductor
- group
- nanoparticles
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 291
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 title claims description 290
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 53
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 74
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 65
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 38
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 37
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 31
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 30
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 24
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 19
- -1 organic acid salt Chemical class 0.000 claims description 19
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 10
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 30
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 24
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 18
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 14
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 13
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 12
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 7
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 7
- QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N (z)-octadec-9-en-1-amine Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 5
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000005476 size effect Effects 0.000 description 5
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 5
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 3
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 3
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- YUKQRDCYNOVPGJ-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Chemical compound CC(N)=S YUKQRDCYNOVPGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Natural products CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 1-Hexadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 1-Hexanethiol Chemical compound CCCCCCS PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanamine Chemical compound CC(C)CN KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDFAOUQQXJIZDG-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-thiol Chemical compound CC(C)CS BDFAOUQQXJIZDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVRDHUBQLOKMHZ-UHFFFAOYSA-N chalcopyrite Chemical compound [S-2].[S-2].[Fe+2].[Cu+2] DVRDHUBQLOKMHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052951 chalcopyrite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K diacetyloxyindiganyl acetate Chemical compound [In+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCGDBWLKAYKBTN-UHFFFAOYSA-N 1,2-dithiole Chemical compound C1SSC=C1 PCGDBWLKAYKBTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRKMQKLGEQPLNS-UHFFFAOYSA-N 1-Pentanethiol Chemical compound CCCCCS ZRKMQKLGEQPLNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIIOWUSRPSUBTN-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethaneselenol Chemical compound CN(CC[SeH])C DIIOWUSRPSUBTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHVJTZIICQZTJY-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enyltellanylprop-1-ene Chemical compound C=CC[Te]CC=C DHVJTZIICQZTJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016066 BaSi Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLMMPAFGVXFLEB-UHFFFAOYSA-N O[Si](O)(O)Cl.P Chemical compound O[Si](O)(O)Cl.P RLMMPAFGVXFLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003564 SiAlON Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003668 SrAl Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005811 Viola adunca Nutrition 0.000 description 1
- 240000009038 Viola odorata Species 0.000 description 1
- 235000013487 Viola odorata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002254 Viola papilionacea Nutrition 0.000 description 1
- 244000172533 Viola sororia Species 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHQLJMJLROMYRN-UHFFFAOYSA-L cadmium acetate Chemical compound [Cd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O LHQLJMJLROMYRN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWUZMTJBRUASOW-UHFFFAOYSA-N cadmium tellanylidenezinc Chemical compound [Zn].[Cd].[Te] QWUZMTJBRUASOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000000404 calcium aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 235000012215 calcium aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- WNCYAPRTYDMSFP-UHFFFAOYSA-N calcium aluminosilicate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O WNCYAPRTYDMSFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078583 calcium aluminosilicate Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N decane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCS VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229940116901 diethyldithiocarbamate Drugs 0.000 description 1
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCMDQKIQBKULEI-UHFFFAOYSA-N dimethyl ditelluride Chemical compound C[Te][Te]C LCMDQKIQBKULEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYOBPSCQKZPJGZ-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamodiselenoic acid Chemical compound CN(C([SeH])=[Se])C VYOBPSCQKZPJGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- ORTRWBYBJVGVQC-UHFFFAOYSA-N hexadecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCS ORTRWBYBJVGVQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QJAOYSPHSNGHNC-UHFFFAOYSA-N octadecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCS QJAOYSPHSNGHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XJLUMEOUYQBTMT-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dithione Chemical compound CC(=S)CC(C)=S XJLUMEOUYQBTMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/62—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing gallium, indium or thallium
- C09K11/621—Chalcogenides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G15/00—Compounds of gallium, indium or thallium
- C01G15/006—Compounds containing, besides gallium, indium, or thallium, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
- H01L33/502—Wavelength conversion materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
- C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
- C01P2002/54—Solid solutions containing elements as dopants one element only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
- C01P2004/82—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases
- C01P2004/84—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases one phase coated with the other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
- H01L33/502—Wavelength conversion materials
- H01L33/504—Elements with two or more wavelength conversion materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/813—Of specified inorganic semiconductor composition, e.g. periodic table group IV-VI compositions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/895—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure having step or means utilizing chemical property
- Y10S977/896—Chemical synthesis, e.g. chemical bonding or breaking
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/902—Specified use of nanostructure
- Y10S977/932—Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
- Y10S977/949—Radiation emitter using nanostructure
- Y10S977/95—Electromagnetic energy
Description
M1が、Ag、CuおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、
M2が、Al、Ga、InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、
Zが、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、
M1の原子数対M2の原子数の比(M1/M2)が0.990以上、1.089以下であり、
350〜1000nmの範囲内にある波長の光が照射されると、蛍光寿命が200ns以下の蛍光を発する、
半導体ナノ粒子である。
第1の実施形態として、三元系の半導体ナノ粒子を説明する。
第1の実施形態の半導体ナノ粒子は、M1、M2、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の半導体ナノ粒子である。ここで、M1は、Ag、CuおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、好ましくはAgまたはCuであり、特に好ましくはAgである。M1がAgであると、半導体ナノ粒子の合成が容易となる。M1として二以上の元素が含まれていてよい。また、前記半導体ナノ粒子の結晶構造は、正方晶、六方晶、または斜方晶からなる群より選ばれる少なくとも一種であってもよい。
ナノ粒子の集合体においては、異なる結晶構造のナノ粒子が混在していてよい。その場合、XRDパターンにおいては、複数の結晶構造に由来するピークが観察される。
一つのTEM像に含まれるナノ粒子が合計100点以上である場合には、一つのTEM像を用いて平均粒径を求める。一つのTEM像に含まれるナノ粒子の数が少ない場合には、撮像場所を変更して、TEM像をさらに得、二つ以上のTEM像に含まれる100点以上の粒子について粒径を測定する。
第2の実施形態として、四元系の半導体ナノ粒子を説明する。
第2の実施形態の半導体ナノ粒子は、
M1、M2、M3、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の半導体ナノ粒子である。また、前記半導体ナノ粒子の結晶構造は、正方晶、六方晶、または斜方晶からなる群より選ばれる少なくとも一種であってもよい。ナノ粒子の集合体においては、異なる結晶構造のナノ粒子が混在していてよい。その場合、XRDパターンにおいては、複数の結晶構造に由来するピークが観察される。
M1、M2およびZは、先に第1の実施形態に関連して説明したとおりであるから、ここではその説明を省略する。
M3は、ZnおよびCdからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である。M3は好ましくはZnである。M3がZnであれば、本実施形態の半導体ナノ粒子を低毒性の組成のものとして提供できる。
なお、第2の実施形態の半導体ナノ粒子の結晶構造の同定方法は、第1の実施の形態に関連して説明したとおりである。
第2の実施形態は、M3をドープしたことに起因して、第1の実施形態との比較において、バンド端発光のピーク波長等が異なる。したがって、M3の種類およびドープ量を選択することにより、バンド端発光のピーク波長を調節することが可能となる。
第1の実施形態および第2の実施形態の半導体ナノ粒子は、一または複数の被覆層で覆われてよい。被覆層で覆われた半導体ナノ粒子は、いわゆるコアシェル構造を有し、コアシェル構造ナノ粒子と呼ばれることもある。被覆層は、一般式M3’Z’(式中、M3’はZnおよびCdからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、Z’は、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である)で表されるものであってよい。コアシェル構造の粒子は凝集したとしても、コアとコアはシェルにより隔てられて、コア自体が凝集することはなく、したがって、コアをなす半導体ナノ粒子はその機能(例えば波長変換機能)を十分に発揮できる。
また、コアシェル構造のナノ粒子においては被覆層により表面欠陥サイトがなくなるため、バンド端発光がより強くあらわれる傾向にある。
次に、第4の実施形態として、第1の実施形態および第2の実施形態の半導体ナノ粒子を製造する方法を説明する。本実施形態の製造方法は、半導体ナノ粒子(一次半導体ナノ粒子)を用意し、あるいは任意の方法で半導体ナノ粒子(一次半導体ナノ粒子)を製造した後で引き続き、一次半導体ナノ粒子を以下で説明する処理に付することを含む方法である。この処理によって、一次半導体ナノ粒子における、M1の原子数対M2の原子数の比(M1/M2)を変化させて、一次半導体ナノ粒子とは異なるM1/M2を有する半導体ナノ粒子を得ることが可能となる。すなわち、本実施形態の製造方法は、一次半導体ナノ粒子におけるM1およびM2の割合を化学量論比と比較したときに、その割合がより少ない方の金属を事後的に半導体ナノ粒子にドーピングする点にその特徴がある。
M1、M2、およびZは第1の実施形態に関連して説明したとおりである。また、第2の実施形態の半導体ナノ粒子を製造する場合には、一次半導体ナノ粒子は、M1、M2、M3、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の半導体ナノ粒子である。M1、M2、M3、およびZは第2の実施形態に関連して説明したとおりである。いずれの形態の半導体ナノ粒子を製造する場合にも、一次半導体ナノ粒子の製造方法は特に限定されない。すなわち、いずれの方法で製造された一次半導体ナノ粒子であっても、上記ドーピング処理によりM1/M2を変化させることができる。一次半導体ナノ粒子におけるM1/M2は、製造方法にもよるが、一般に0.500以上、0.990未満の範囲内にある。
この製造方法においても、M1の塩、M2の塩およびZの供給源となる化合物の仕込み比は、M1M2Z2の組成式に対応して、1:1:2(モル比)とすることが好ましい。
次に、第5の実施形態として、第1ないし第3の実施形態のいずれかの半導体ナノ粒子を用いた、発光デバイスを説明する。
第5の実施形態である発光デバイスは、光変換部材および半導体発光素子を含む発光デバイスであって、光変換部材に第1ないし第3の実施形態のいずれかの半導体ナノ粒子を含むものである。この発光デバイスによれば、例えば、半導体発光素子からの発光の一部を、半導体ナノ粒子が吸収してより長波長の光が発せられる。そして、半導体ナノ粒子からの光と半導体発光素子からの発光の残部とが混合され、その混合光を発光デバイスの発光として利用できる。
あるいは、ピーク波長が400nm以下の紫外線を発光する半導体発光素子を用い、紫外線を吸収して青色光、緑色光、赤色光をそれぞれ発光する、三種類の半導体ナノ粒子を用いる場合でも、白色発光デバイスを得ることができる。この場合、発光素子から発せられる紫外線が外部に漏れないように、発光素子からの光をすべて半導体ナノ粒子に吸収させて変換させることが望ましい。
あるいはまた、光変換部材のさらに別の例は、半導体発光素子の周囲にその上端が半導体発光素子と同一平面を構成するように反射材を含む樹脂部材が充填されている場合にあっては、前記半導体発光素子および前記反射材を含む樹脂部材の上部に、所定の厚さで平板状に形成された樹脂部材である。
また、発光デバイスにおいて、異なる波長の発光を示す2種類以上の半導体ナノ粒子を用いる場合には、1つの光変換部材内で前記2種類以上の半導体ナノ粒子が混合されていてもよいし、あるいは1種類の半導体ナノ粒子のみを含む光変換部材を2つ以上組み合わせて用いてもよい。この場合、2種類以上の光変換部材は積層構造を成してもよいし、平面上にドット状ないしストライプ状のパターンとして配置されていてもよい。
(1)一次半導体ナノ粒子の製造
酢酸銀(AgOAc)、酢酸インジウム(In(OAc)3)をそれぞれ0.1mmol、チオ尿素を0.2mmol、1−ドデカンチオール0.05cm3を試験管に入れ、さらにオレイルアミンを試験管の内容物の合計量が3.0cm3となるように試験管に加えた。窒素雰囲気下で、試験管内の内容物を撹拌しながら、250℃にて10分間加熱した。得られた懸濁液を遠心分離(半径144mm、4000rpm)に付し、上澄み液を取り出し、これを先端にメンブレンフィルターを取り付けたシリンジを用いて濾過した。濾過した上澄み液にメタノールを加えて、遠心分離(半径144mm、4000rpm)に付し、沈殿物を常温で真空脱気により乾燥させて、半導体ナノ粒子(一次半導体ナノ粒子)を得た。
平均粒径は、TEM像に含まれているナノ粒子のうち、計測可能なものをすべて、すなわち、画像の端において粒子の像が切れているようなものを除くすべての粒子について、粒径を測定し、その算術平均を求める方法で求めた。一つのTEM像に含まれるナノ粒子が100点に満たない場合には、別のTEM像を測定して、そのTEM像に含まれる粒子について粒径を測定し、算術平均を100点以上の粒子から求めるようにした。
この一次半導体ナノ粒子の平均粒径は5.7nmであった。
蛍光X線分析装置を用いたM1/M2の測定は具体的には以下の手順で実施した(以下の実験例においても同じ)。
AgおよびIn標準溶液を1mol・dm−3の硝酸水溶液で0.0、2.0、10、50、100ppmとなるよう希釈した。蛍光X線分析装置(リガク, EDXL300)によりそれぞれの濃度における、Ag,InのX線強度を測定し、線形近似により検量線を作成した。半導体ナノ粒子は減圧乾燥により溶媒を除去したものに、濃硝酸を加えてサンプルを溶解させ、純水で硝酸イオン濃度が1mol・dm−3となるように希釈した。これを同様に蛍光X線分析し、得られたシグナル強度を、前述した検量線を用いて濃度に変換し、Ag(M1)およびIn(M2)の濃度をそれぞれ求めた。これを用いて、ナノ粒子中の原子数比M1/M2を求めた。
上記(1)で得た半導体ナノ粒子(粒子数2.0×10−5mmol、Ag含有量2.0×10−2mmol)と、以下に示す量の酢酸銀(AgOAc)と、オレイルアミン2.95cm3と、1−ドデカンチオール0.05cm3とを、試験管に入れ、窒素雰囲気下で250℃にて8分間加熱撹拌した。加熱後の溶液を遠心分離(半径144mm、4000rpm)に付して上澄み液を取り出し、メタノールを加えて沈殿を析出させた。沈殿を常温で真空脱気により乾燥させて、目的とする半導体ナノ粒子を得た。
酢酸銀の使用量
サンプル1−1: 0.5×10−2mmol(Ag含有量の0.25倍)
サンプル1−2: 1.0×10−2mmol(Ag含有量の0.5倍)
サンプル1−3: 2.0×10−2mmol(Ag含有量の1倍)
サンプル1−4: 10.0×10−2mmol(Ag含有量の5倍)
サンプル1−1: 0.984
サンプル1−2: 0.990
サンプル1−3: 0.995
サンプル1−4: −(測定不可)
なお、蛍光寿命は、浜松ホトニクス社製 小型蛍光寿命測定装置 Quantaurus−Tau(C11367−01)を用いて測定した(以下の実験例において同じ)。
実験例1と同様にして一次半導体ナノ粒子を得た。この一次半導体ナノ粒子を、実験例1と同様にしてドーピング処理に付した。ドーピング処理は、酢酸銀の使用量を1.0×10−2 mmolとし、加熱時間を以下のとおりサンプルごとに変えて実施した。
加熱時間
サンプル2−1: 4分間
サンプル2−2: 8分間
サンプル2−3: 15分間
サンプル2−1: 1.050
サンプル2−2: 0.990
サンプル2−3: 1.089
(1)一次半導体ナノ粒子の製造
主に1−ドデカンチオールの量と真空脱気後に常温常圧で放置すること以外は、実験例1と同様にして実施した。酢酸銀(AgOAc)、酢酸インジウム(In(OAc)3)をそれぞれ0.1mmol、チオ尿素を0.2mmol、1−ドデカンチオール0.15cm3を試験管に入れ、さらにオレイルアミンを試験管の内容物の合計量が3.0cm3となるように試験管に加えた。窒素雰囲気下で、試験管内の内容物を撹拌しながら、250℃にて10分間加熱した。得られた懸濁液を遠心分離(半径170mm、2400rpm)に付し、上澄み液を取り出し、これを先端にメンブレンフィルターを取り付けたシリンジを用いて濾過した。濾過した上澄み液にメタノールを加えて、遠心分離(半径170mm、2400rpm)に付し、沈殿物を乾燥させて、半導体ナノ粒子(一次半導体ナノ粒子)を得た。沈殿物の乾燥は、6時間真空脱気した後、さらに常温常圧で30時間放置することにより実施した。得られた一次半導体ナノ粒子の平均粒径は3.5nmであった。
上記(1)で得た半導体ナノ粒子(粒子数1.56×10−5mmol、Ag含有量1.56×10−2mmol)と、酢酸銀(AgOAc)0.78×10−2mmol(Ag含有量の0.5倍)と、オレイルアミン2.95cm3と、1−ドデカンチオール0.05cm3とを、試験管に入れ、窒素雰囲気下で250℃にて8分間加熱撹拌した。加熱後の溶液を遠心分離(半径170mm、2400rpm)に付して上澄み液を取り出し、メタノールを加えて沈殿を析出させた。沈殿を常温で真空脱気により乾燥させて、目的とする半導体ナノ粒子を得た。
Claims (26)
- M1、M2、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の一次半導体ナノ粒子であって、M1が、Ag、CuおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、M2が、Al、Ga、InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、Zが、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である、一次半導体ナノ粒子と、元素M1の塩とを、溶媒中で、100℃〜300℃の範囲内に設定された温度にて加熱することを含む、半導体ナノ粒子の製造方法。
- M1、M2、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の一次半導体ナノ粒子であって、M1が、Ag、CuおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、M2が、Al、Ga、InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、Zが、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である、一次半導体ナノ粒子と、元素M2の塩とを、溶媒中で、100℃〜300℃の範囲内に設定された温度にて加熱することを含む、半導体ナノ粒子の製造方法。
- M1、M2、M3、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の一次半導体ナノ粒子であって、M1が、Ag、CuおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、M2が、Al、Ga、InおよびTlからなる群より選択される少なくとも一種の元素であり、M3が、ZnおよびCdからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、Zが、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である、一次半導体ナノ粒子と、元素M1の塩とを、溶媒中で、100℃〜300℃の範囲内に設定された温度にて加熱することを含む、半導体ナノ粒子の製造方法。
- M1、M2、M3、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の一次半導体ナノ粒子であって、M1が、Ag、CuおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、M2が、Al、Ga、InおよびTlからなる群より選択される少なくとも一種の元素であり、M3が、ZnおよびCdからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、Zが、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である、一次半導体ナノ粒子と、元素M2の塩とを、溶媒中で、100℃〜300℃の範囲内に設定された温度にて加熱することを含む、半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記加熱により、前記一次半導体ナノ粒子における、M1の原子数対M2の原子数の比(M1/M2)を増加させる、請求項1または3に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記加熱により、前記一次半導体ナノ粒子における、M1の原子数対M2の原子数の比(M1/M2)を減少させる、請求項2または4に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記一次半導体ナノ粒子におけるM1の原子数対M2の原子数の比が0.500以上、0.990未満であり、得られた半導体ナノ粒子におけるM1の原子数対M2の原子数の比が、0.990以上、1.089以下である、請求項5に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 元素M1の塩が有機酸塩である、請求項1または3に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 元素M2の塩が有機酸塩である、請求項2または4に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記一次半導体ナノ粒子を製造することをさらに含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記溶媒が、表面修飾剤、または表面修飾剤を含む溶液である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記一次半導体ナノ粒子が、正方晶、六方晶および斜方晶から成る群より選ばれる少なくとも一種の結晶構造を有する、請求項1〜11のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記溶媒が、炭素数4〜20の炭化水素基を有するアミンおよび炭素数4〜20の炭化水素基を有するチオールから選択される少なくとも一種の溶媒である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記溶媒が、炭素数4〜20の炭化水素基を有するアミンと炭素数4〜20の炭化水素基を有するチオールとの混合溶媒である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- 前記加熱を0.1MPa以上1.0MPa以下の圧力下で行う請求項1〜14のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子の製造方法。
- M1、M2、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の半導体ナノ粒子であって、
M1が、Agであり、
M2が、Inであり、
Zが、Sであり、
M1の原子数対M2の原子数の比(M1/M2)が0.990以上、1.089以下であり、
350〜1000nmの範囲内にある波長の光が照射されると、蛍光寿命が200ns以下であり、半値幅36nm以下である蛍光を発する、
半導体ナノ粒子。 - M1、M2、M3、およびZを含む、平均粒径が50nm以下の半導体ナノ粒子であって、
M1が、Agであり、
M2が、Inであり、
M3が、ZnおよびCdからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、
Zが、Sであり、
M1の原子数対M2の原子数の比(M1/M2)が0.990以上、1.089以下であり、
350〜1000nmの範囲内にある波長の光が照射されると、蛍光寿命が200ns以下であり、半値幅36nm以下である蛍光を発する、
半導体ナノ粒子。 - 元素M3の一部がCo、Ni、Pd、Sr、Ba、Fe、Cr、Mn、Cu、Cd、Rh、W、Ru、Pb、Sn、MgおよびCaから選ばれる少なくとも一種の元素により置換されている、請求項16または17に記載の半導体ナノ粒子。
- 前記半導体ナノ粒子を体積を等分する内殻部と外殻部とに分けたときに、外殻部に含まれるM1またはM2の数が、内殻部に含まれるM1またはM2の数よりも大きい、請求項16〜18のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子。
- その吸収スペクトルがエキシトンピークを示すものである、請求項16〜19のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子。
- 前記エキシトンピークが350nm〜1000nmの範囲内にある、請求項20に記載の半導体ナノ粒子。
- 元素M2の一部が、Cr、Fe、Al、Y、Sc、La、V、Mn、Co、Ni、Ga、In、Rh、Ru、Mo、Nb、W、Bi、AsおよびSbから選ばれる少なくとも一種の元素により置換されている、請求項16〜21のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子。
- 粒子表面に、一般式M3’Z’(式中、M3’はZnおよびCdからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素であり、Z’は、S、SeおよびTeからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素である)で表される被覆層を一または複数有する、請求項16〜22のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子。
- 光変換部材および半導体発光素子を含む発光デバイスであって、前記光変換部材に請求項16〜23のいずれか1項に記載の半導体ナノ粒子が含まれる、発光デバイス。
- 前記半導体発光素子はLEDチップである、請求項24に記載の発光デバイス。
- 請求項24または25に記載の発光デバイスを光源として含む、液晶表示装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015145103A JP6293710B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 半導体ナノ粒子およびその製造方法 |
US15/215,961 US10233389B2 (en) | 2015-07-22 | 2016-07-21 | Semiconductor nanoparticles and method of producing semiconductor nanoparticles |
US16/260,767 US10717925B2 (en) | 2015-07-22 | 2019-01-29 | Semiconductor nanoparticles and method of producing semiconductor nanoparticles |
US16/900,980 US11174429B2 (en) | 2015-07-22 | 2020-06-14 | Semiconductor nanoparticles and method of producing semiconductor nanoparticles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015145103A JP6293710B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 半導体ナノ粒子およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017025201A JP2017025201A (ja) | 2017-02-02 |
JP6293710B2 true JP6293710B2 (ja) | 2018-03-14 |
Family
ID=57836797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015145103A Active JP6293710B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 半導体ナノ粒子およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10233389B2 (ja) |
JP (1) | JP6293710B2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7070826B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2022-05-18 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 半導体ナノ粒子およびその製造方法ならびに発光デバイス |
EP4235825A3 (en) | 2017-02-28 | 2023-10-25 | National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System | Semiconductor nanoparticle, method for producing same, and light-emitting device |
KR101904968B1 (ko) | 2017-04-26 | 2018-10-08 | 국민대학교산학협력단 | Ⅰ-ⅲ-ⅵ 계 녹색 발광 양자점 및 이의 제조방법 |
JP2019085432A (ja) * | 2017-11-01 | 2019-06-06 | 日野自動車株式会社 | 潤滑油用摩擦調整剤および潤滑油組成物 |
US11532767B2 (en) * | 2018-02-15 | 2022-12-20 | Osaka University | Semiconductor nanoparticles, production method thereof, and light-emitting device |
US10954439B2 (en) | 2018-05-10 | 2021-03-23 | National University Corporation Tokai National Higher Education And Research System | Semiconductor nanoparticles, method of producing the semiconductor nanoparticles, and light-emitting device |
JP7007671B2 (ja) * | 2018-06-22 | 2022-01-24 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 半導体ナノ粒子、その製造方法及び発光デバイス |
CN109021970B (zh) * | 2018-08-06 | 2021-08-27 | 桂林电子科技大学 | 一种AgInS2或CuInS2超小量子点及其制备方法和应用 |
JP7289650B2 (ja) * | 2018-12-25 | 2023-06-12 | 東京応化工業株式会社 | 量子ドット含有被膜を製造する方法、及び量子ドット含有被膜形成用の組成物 |
US11757064B2 (en) | 2019-03-12 | 2023-09-12 | National University Corporation Tokai National Higher Education And Research System | Semiconductor nanoparticle, method for manufacturing same, and light emitting device |
WO2020257510A1 (en) | 2019-06-20 | 2020-12-24 | Nanosys, Inc. | Bright silver based quaternary nanostructures |
CN112752828A (zh) | 2019-08-23 | 2021-05-04 | Ns材料株式会社 | 量子点及其制造方法 |
CN111153429B (zh) * | 2019-12-31 | 2021-08-03 | 肇庆市华师大光电产业研究院 | 一种Cu2ZnBi2S3纳米棒及其应用 |
KR20220036283A (ko) * | 2020-09-15 | 2022-03-22 | 홍익대학교 산학협력단 | 비-Cd계 I-Ⅲ-VI족 양자점을 이용한 백색 양자점-발광 소자 및 그 제조 방법 |
US11407940B2 (en) | 2020-12-22 | 2022-08-09 | Nanosys, Inc. | Films comprising bright silver based quaternary nanostructures |
US11926776B2 (en) | 2020-12-22 | 2024-03-12 | Shoei Chemical Inc. | Films comprising bright silver based quaternary nanostructures |
US20240079518A1 (en) | 2020-12-25 | 2024-03-07 | Ns Materials Inc. | Method for manufacturing quantum dot and quantum dot |
US11360250B1 (en) | 2021-04-01 | 2022-06-14 | Nanosys, Inc. | Stable AIGS films |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070114779A (ko) | 2005-03-28 | 2007-12-04 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 반도체 나노 결정용 유기 배위자 |
JP5162742B2 (ja) | 2005-09-02 | 2013-03-13 | 国立大学法人名古屋大学 | 半導体ナノ粒子及びその製造方法 |
US7518160B2 (en) | 2005-10-31 | 2009-04-14 | Kyocera Corporation | Wavelength converter, lighting system, and lighting system assembly |
JP2007146154A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-06-14 | Kyocera Corp | 波長変換器、照明装置および照明装置集合体 |
JP2007169605A (ja) | 2005-11-24 | 2007-07-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 蛍光体、及びその製造方法 |
US7736913B2 (en) * | 2006-04-04 | 2010-06-15 | Solopower, Inc. | Composition control for photovoltaic thin film manufacturing |
US8071419B2 (en) * | 2006-06-12 | 2011-12-06 | Nanosolar, Inc. | Thin-film devices formed from solid particles |
JP2008041361A (ja) | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 蛍光変換媒体及びそれを含むカラー発光装置 |
JP5187657B2 (ja) * | 2007-08-31 | 2013-04-24 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 蛍光体、及びその製造方法 |
WO2009041168A1 (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-02 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | ロッド状半導体ナノ粒子の製造方法、ロッド状半導体ナノ粒子及び生体物質標識剤 |
JP2010106119A (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Sharp Corp | 半導体ナノ粒子蛍光体 |
KR101562022B1 (ko) | 2009-02-02 | 2015-10-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 발광 다이오드 유닛, 이를 포함하는 표시 장치 및 발광 다이오드 유닛 제조 방법 |
JP5649072B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2015-01-07 | 国立大学法人名古屋大学 | 半導体ナノ粒子及びその製法 |
JP5561723B2 (ja) | 2009-05-14 | 2014-07-30 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 半導体ナノ粒子からなる蛍光性ファイバー |
JP2012528020A (ja) * | 2009-05-26 | 2012-11-12 | ナノシス・インク. | ナノワイヤおよび他のデバイスの電場沈着のための方法およびシステム |
KR101129194B1 (ko) * | 2010-07-20 | 2012-03-26 | 한국에너지기술연구원 | 고밀도를 갖는 태양전지용 cis계 화합물 박막의 제조방법 및 상기 cis계 화합물 박막을 이용한 박막 태양전지의 제조방법 |
JP5548073B2 (ja) * | 2010-09-13 | 2014-07-16 | パナソニック株式会社 | 太陽電池 |
US20120100660A1 (en) * | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Hagedorn Kevin V | Method for preparation of metal chalcogenide solar cells on complexly shaped surfaces |
JP5862357B2 (ja) | 2011-03-24 | 2016-02-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 白色led用積層体、及び白色led |
US20130074933A1 (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-28 | Bang-Yen Chou | Photovoltaic device and method for making the same |
JP5809756B2 (ja) * | 2011-10-20 | 2015-11-11 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 量子ドットを有する光源 |
KR101364649B1 (ko) | 2012-04-27 | 2014-02-20 | 한국과학기술연구원 | 코어/쉘 구조의 다기능성 자성 나노형광체 및 그 제조방법 |
US8673672B2 (en) * | 2012-07-12 | 2014-03-18 | National Chung Cheng University | Method for making Cu2-xSe nanoparticles and method for making deposited Cu2-xSe thin film by electrophoresis |
JP6304228B2 (ja) | 2013-02-19 | 2018-04-04 | Jsr株式会社 | 波長変換フィルム、波長変換基板、波長変換素子および表示素子 |
US9196768B2 (en) * | 2013-03-15 | 2015-11-24 | Jehad A. Abushama | Method and apparatus for depositing copper—indium—gallium selenide (CuInGaSe2-CIGS) thin films and other materials on a substrate |
WO2014208478A1 (ja) * | 2013-06-25 | 2014-12-31 | コニカミノルタ株式会社 | 発光体材料、その製造方法、光学フィルム及び発光デバイス |
KR101638470B1 (ko) * | 2013-07-19 | 2016-07-11 | 주식회사 엘지화학 | 금속 나노 입자를 포함하는 광흡수층 제조용 잉크 조성물 및 이를 사용한 박막의 제조 방법 |
US9960314B2 (en) * | 2013-09-13 | 2018-05-01 | Nanoco Technologies Ltd. | Inorganic salt-nanoparticle ink for thin film photovoltaic devices and related methods |
US9893220B2 (en) * | 2013-10-15 | 2018-02-13 | Nanoco Technologies Ltd. | CIGS nanoparticle ink formulation having a high crack-free limit |
US9751071B2 (en) * | 2013-12-27 | 2017-09-05 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Continuous microwave-assisted segmented flow reactor for high-quality nanocrystal synthesis |
JP6351157B2 (ja) | 2014-03-28 | 2018-07-04 | 国立大学法人名古屋大学 | テルル化合物ナノ粒子及びその製法 |
US20160369975A1 (en) * | 2015-06-22 | 2016-12-22 | National Tsing Hua University | Quantum dot-containing wavelength converter |
US10563122B2 (en) * | 2016-03-18 | 2020-02-18 | Osaka University | Semiconductor nanoparticles and method of producing semiconductor nanoparticles |
US10156009B2 (en) * | 2016-12-05 | 2018-12-18 | Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd. | Silver copper indium gallium selenide reactive sputtering method and apparatus, and photovoltaic cell containing same |
-
2015
- 2015-07-22 JP JP2015145103A patent/JP6293710B2/ja active Active
-
2016
- 2016-07-21 US US15/215,961 patent/US10233389B2/en active Active
-
2019
- 2019-01-29 US US16/260,767 patent/US10717925B2/en active Active
-
2020
- 2020-06-14 US US16/900,980 patent/US11174429B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190153310A1 (en) | 2019-05-23 |
US10233389B2 (en) | 2019-03-19 |
US10717925B2 (en) | 2020-07-21 |
US20170022413A1 (en) | 2017-01-26 |
US20200308483A1 (en) | 2020-10-01 |
US11174429B2 (en) | 2021-11-16 |
JP2017025201A (ja) | 2017-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6293710B2 (ja) | 半導体ナノ粒子およびその製造方法 | |
JP7070826B2 (ja) | 半導体ナノ粒子およびその製造方法ならびに発光デバイス | |
KR102604186B1 (ko) | 반도체 나노 입자 및 그 제조 방법 및 발광 디바이스 | |
JP6464215B2 (ja) | 半導体ナノ粒子およびその製造方法 | |
US11788003B2 (en) | Semiconductor nanoparticles and method of producing semiconductor nanoparticles | |
JP6838086B2 (ja) | 半導体ナノ粒子および半導体ナノ粒子の製造方法ならびに発光デバイス | |
WO2019160093A1 (ja) | コアシェル型半導体ナノ粒子、その製造方法および発光デバイス | |
WO2019160094A1 (ja) | 半導体ナノ粒子、その製造方法および発光デバイス | |
JP6317314B2 (ja) | テルル化合物ナノ粒子および複合ナノ粒子とそれらの製造方法 | |
JP7456591B2 (ja) | 半導体ナノ粒子及びその製造方法、並びに発光デバイス | |
JP7319402B2 (ja) | 半導体ナノ粒子、その製造方法及び発光デバイス | |
JP2019218524A (ja) | 半導体ナノ粒子、その製造方法及び発光デバイス | |
JP2020033245A (ja) | 半導体ナノ粒子、その製造方法及び発光デバイス | |
WO2021039727A1 (ja) | 半導体ナノ粒子及びその製造方法並びに発光デバイス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161122 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170831 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170919 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171208 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20171218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180214 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6293710 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |