JP6289625B2 - 有機−無機複合多孔性膜、これを含むセパレーター及び電極構造体 - Google Patents
有機−無機複合多孔性膜、これを含むセパレーター及び電極構造体 Download PDFInfo
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Description
また、本発明は、前記有機−無機複合多孔性膜を含むセパレーターを提供することを他の目的とする。
さらに、本発明は、前記有機−無機複合多孔性膜を含む電極構造体を提供することを他の目的とする。
本発明の望ましい更に他の実施例によれば、前記有機−無機複合多孔性膜の厚さは、0.5〜50μmであり得る。
本発明の望ましい一実施例によれば、前記単位粒子の平均粒径は、0.01〜20μmであり得る。
本発明の望ましい更に他の実施例によれば、前記有機−無機複合多孔性膜の厚さは、0.5〜50μmであり得る。
前記有機−無機複合多孔性膜は、電気化学素子のセパレーターに含めるか、または電極構造体に含めることができる。
一般的に、球形の粒子が面心立方構造(face centered cubic;fcc)で最大に充填されれば、その充填率は74%となる。
前記有機−無機複合多孔性膜の成分は、前述の無機物粒子及びバインダー高分子の以外に、他の添加剤をさらに含み得る。
また、多孔性高分子不織布には、ポリエチレンテレフタルレート(PET)のようなポリエステルなどを用いることができる。
前記電極活物質層の厚さは、0.5〜200μmであり得る。前記範囲の場合、用途に相応して電極活物質の機能を果すことができる。
本発明による有機−無機複合多孔性膜は、電極上で絶縁層の役割を果すようになり、絶縁層を含む電極構造体を提供することができる。
前記電気化学素子は、電気化学反応をするすべての素子を含み、具体的な例には、全種類の一次・二次電池、燃料電池、太陽電池またはキャパシタなどがある。
有機−無機複合多孔性膜を備えるセパレーターの製造
ポリスチレン高分子10重量%をメチレンクロライドに添加し、50℃で約12時間以上溶解してバインダー高分子溶液を製造した。製造したバインダー高分子溶液に無機物粒子としてアルミナ粉末を、バインダー高分子と無機物粒子との重量比が10:1となるよう添加して混合した。前記混合額を気孔サイズが1μm以下のフィルターに通過させて界面活性剤のTween20が含まれた水溶液内に落とす。この際、前記水溶液の温度は25℃に維持し、前記水溶液内に落とした溶液が落ちてからすぐ固形化し、無機物粒子の表面がバインダー高分子で囲まれた単位粒子となる。その後、前記水溶液内に増粘剤としてCMCを投入してスラりーを製造し、このように製造されたスラリーを、厚さ12μmのポリエチレン多孔性フィルム(気孔度45%)の両面にディップコーティング方式でコーティングし、80℃の熱を加えて最外郭バインダーはスライトメルティング方式によって結着するようになる。前記製造された有機−無機複合多孔性膜において、無機物粒子の充填率はSEMで観察した写真から計算した結果、70%であった。
負極の製造
負極活物質として炭素粉末、結合剤としてポリビニリデンフルオライド(PVdF)、導電材としてカーボンブラック(carbon black)をそれぞれ96重量%、3重量%、1重量%にし、溶剤のN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に添加して負極混合物スラリーを製造した。前記負極混合物スラリーを、厚さ10μmの負極集電体である銅(Cu)薄膜に塗布及び乾燥して負極を製造した後、ロールプレス(roll press)を施した。
正極活物質としてリチウムコバルト複合酸化物92重量%、導電材としてカーボンブラック4重量%、結合剤としてPVdF 4重量%を、溶剤のN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に添加して正極混合物スラリーを製造した。前記正極混合物スラリーを厚さ20μmの正極集電体のアルミニウム(Al)薄膜に塗布及び乾燥して正極を製造した後、ロールプレスを施した。
以上製造された電極及び実施例によるセパレーターの製造方法で製造されたセパレーターを積層(stacking)方式を用いて組立て、組み立てられた電池に1Mのリチウムヘキサフロロホスフェート(LiPF6)が溶解されたエチレンカーボネート/エチルメチルカーボネート(EC/EMC=1:2、体積比)系電解液を注入してリチウム二次電池を製造した。
有機−無機複合多孔性膜用スラリーの製造
ポリスチレン高分子10重量%をメチレンクロライドに添加して50℃で約 12時間以上溶解させてバインダー高分子溶液を製造した。製造したバインダー高分子溶液に、無機物粒子としてアルミニナ粉末を、バインダー高分子と無機物粒子との重量比が10:1となるように添加して混合した。前記混合液を気孔の大きさが1μm以下のフィルターに通過させて界面活性剤のTween20が含まれた水溶液内に落とす。この際、前記水溶液の温度は25℃に維持し、前記水溶液内に落とした溶液が落ちてからすぐ固形化し、無機物粒子の表面がバインダー高分子で囲まれた単位粒子となる。その後、前記水溶液内に増粘剤としてCMCを投入してスラリーを製造した。
負極活物質として炭素粉末を96%、結合剤としてCMC−SBRを3重量%、導電材としてカーボンブラック1重量%を、溶剤の蒸溜水(H2O)に添加して負極活物質用スラリーを製造した。
正極活物質としてリチウムコバルト複合酸化物(LiCoO2)92重量%、導電材としてカーボンブラック4重量%、結合剤としてCMC−SBR 4重量%を、溶剤のN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に添加して正極活物質用スラリーを製造した。
厚さ15μmの銅集電体を用意し、前記銅集電体の上に前記負極活物質層用スラリーを塗布して乾燥及び圧着し、続いて、有機−無機複合多孔性膜用スラリーを塗布して80℃の熱を加えて最外郭バインダーをスライトメルティング方式によって結着させ、絶縁層が含まれた電極構造体を製造した。前記製造された有機−無機複合多孔性膜において、無機物粒子の充填率はSEMで観察した写真から計算した結果、70%であった。
また、同様に、15μmのアルミニウム集電体及び前記正極活物質用スラリーを用いて、正極構造体を製造した。
ポリビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVdF−HFP)高分子を5重量%アセトンに添加し、50℃で約12時間以上を溶解させてバインダー高分子溶液を製造した。製造されたバインダー高分子溶液に、Al2O3粉末をバインダー高分子/Al2O3=10/90の重量比となるように添加して12時間以上ボールミル(ball mill)法を用いて Al2O3粉末を破砕及び分散させてスラリーを製造した。このように製造されたスラリーを、厚さ12μmのポリエチレン多孔性フィルム(気孔度45%)の両面にディップコーティングの方式でコーティングして乾燥させて有機−無機コーティング層を形成し、有機−無機コーティング層が形成されたセパレーターを製造した。
無機物粒子のAl2O3粉末100重量部に対し、カルボキシメチルセルロースナトリウム(Sodium carboxyl methyl cellulose)2重量部、スチレンブタジエンゴム(Styrene−butadien rubber,SBR)4重量部を溶剤の蒸溜水(H2O)に添加して混合し、約12時間以上溶解させて高分子溶液を製造した。前記高分子溶液を12時間以上ボールミル法を用いてAl2O3粉末を破砕及び分散させて絶縁層用スラリーを製造した。また、厚さ15μmの銅集電体を載置し、前記銅集電体の上に負極活物質層用スラリーを塗布して乾燥及び圧着し、その後絶縁層用スラリーを塗布して乾燥及び圧着して絶縁層が含まれた電極構造体を製造した。
有機−無機複合多孔性膜内の無機物粒子と高分子バインダーの分布度評価
断面分析によって、バインダーに結着された無機物粒子が全体的に均一の気孔サイズで構成され、充填率が70%(孔隙率は30%)に計算された。
2 バインダー高分子
3 単位粒子
5 電極活物質
10 多孔性基材
20 電極集電体
11、21 有機−無機複合多孔性膜
22 電極活物質層
Claims (20)
- 電気化学素子用多孔性膜であって、
無機物粒子及び有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子と、前記粒子全体の表面を囲んでいるバインダー高分子とを含んだ単位粒子を備えてなり、
前記単位粒子が、前記バインダー高分子によって互いに結着されたものであり、
前記単位粒子の充填率が60〜70%であり、
前記充填率は、前記電気化学素子用多孔性膜において前記単位粒子が占める体積分率であり、かつ、前記電気化学素子用多孔性膜において前記単位粒子が満たされている平行六面体の空間である単位セル(unit cell)の体積に対する、実際に満たされている粒子の体積比率で計算されてなるものであり、
前記単位粒子の平均粒径が0.05〜10μmであることを特徴とする、電気化学素子用多孔性膜。 - 前記バインダー高分子の含量が、前記無機物粒子及び前記有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子100重量部を基準として1〜30重量部であることを特徴とする、請求項1に記載の電気化学素子用多孔性膜。
- 前記無機物粒子が、誘電率が5以上の無機物粒子、リチウムイオン伝達能力を有する無機物粒子及びこれらの混合物からなる群より選択される一つ以上であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の電気化学素子用多孔性膜。
- 前記有機物粒子が、ポリエチレン(PE)、ポリスチレン(PS)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリアセタール(POM)、ポリアミド(PA)、ポリカーボネート(PC)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)及びポリブチレンテレフタレート(PBT)からなる群より選択される一種以上であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜。
- 前記バインダー高分子が、ポリビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン、ポリビニリデンフルオライド−トリクロロエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセテート、エチレンビニルアセテート共重合体、ポリエチレンオキサイド、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、シアノエチルプルラン、シアノエチルポリビニルアルコール、シアノエチルセルロース、シアノエチルスクロース、プルラン、カルボキシルメチルセルロース、アクリロニトリルスチレンブタジエン共重合体、ポリイミド、ポリスチレン及びポリエチレンからなる群より選択される一種以上であることを特徴とする、請求項1〜4の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜。
- 前記電気化学素子用多孔性膜は、前記バインダー高分子によって前記無機物粒子及び有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子が充填されて互いに連結されたものであり、
前記粒子間にインタースティシャルボリウムが形成されたものであり、
前記粒子間のインタースティシャルボリウムが空き空間とされた気孔を備えてなることを特徴とする、請求項1〜5の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜。 - 前記電気化学素子用多孔性膜の厚さが、0.5〜50μmであることを特徴とする、請求項1〜6の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜。
- 前記無機物粒子及び有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子の大きさが0.001〜10μm範囲であることを特徴とする、請求項1〜7の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜。
- 請求項1〜8の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法であって、
無機物粒子及び有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子と、前記粒子全体の表面を囲んでいるバインダー高分子とを含んだ単位粒子を形成する段階と、
前記単位粒子に熱を加えて、前記バインダー高分子によって、前記単位粒子同士を互いに結着させる段階とを含んでなり、
前記単位粒子の充填率を60%〜70%としてなり、
前記単位粒子の平均粒径を0.05μm〜10μmとしてなる、電気化学素子用多孔性膜の製造方法。 - 前記単位粒子内のバインダー高分子の含量が、前記無機物粒子及び有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子100重量部を基準として1〜30重量部であることを特徴とする、請求項9に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。
- 前記単位粒子に熱を加える段階が、前記バインダー高分子の溶融温度よりも5〜100℃高い温度で熱を加え、前記単位粒子を結着させることを特徴とする、請求項9又は10に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。
- 前記無機物粒子が、誘電率が5以上の無機物粒子、リチウムイオン伝達能力を有する無機物粒子及びこれらの混合物からなる群より選択される一つ以上であることを特徴とする、請求項9〜11の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。
- 前記有機物粒子が、ポリエチレン(PE)、ポリスチレン(PS)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリアセタール(POM)、ポリアミド(PA)、ポリカーボネート(PC)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)及びポリブチレンテレフタレート(PBT)からなる群より選択される一種以上であることを特徴とする、請求項9〜12の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。
- 前記バインダー高分子が、ポリビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン、ポリビニリデンフルオライド−トリクロロエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセテート、エチレンビニルアセテート共重合体、ポリエチレンオキサイド、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、シアノエチルプルラン、シアノエチルポリビニルアルコール、シアノエチルセルロース、シアノエチルスクロース、プルラン、カルボキシルメチルセルロース、アクリロニトリルスチレンブタジエン共重合体、ポリイミド、ポリスチレン及びポリエチレンからなる群より選択される一種以上であることを特徴とする、請求項9〜13の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。
- 前記電気化学素子用多孔性膜が、前記バインダー高分子によって前記無機物粒子及び前記有機物粒子より選択される少なくとも一つ以上の粒子が充填されて互いに連結されたものであり、
前記粒子間にインタースティシャルボリウムが形成されたものであり、
前記粒子間のインタースティシャルボリウムが空き空間とされた気孔を備えてなることを特徴とする、請求項9〜14の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。 - 前記電気化学素子用多孔性膜の厚さが、0.5〜50μmであることを特徴とする、請求項9〜15の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜の製造方法。
- 電気化学素子であって、
正極、負極、前記正極と前記負極との間に介されたセパレーターを備えてなり、
前記セパレーターが、請求項1〜8の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜であることを特徴とする、電気化学素子。 - 電気化学素子であって、
正極、負極、前記正極と前記負極との間に介されたセパレーターを備えてなり、
前記セパレーターが、気孔を有する多孔性基材、及び前記多孔性基材の少なくとも一面に形成された、請求項1〜8の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜を備えてなることを特徴とする、電気化学素子。 - 電極構造体であって、
電極集電体、
前記電極集電体の少なくとも一面に形成された電極活物質層、及び
前記電極活物質層の上に形成された、請求項1〜8の何れか一項に記載の電気化学素子用多孔性膜を備えてなることを特徴とする、電極構造体。 - 電気化学素子であって、
正極、負極及び電解液を備えてなり、
前記正極及び前記負極の少なくとも一つ以上が、請求項19に記載の電極構造体であることを特徴とする、電気化学素子。
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