JP6263162B2 - トランジスタ - Google Patents
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図8(a)にnチャネル電界効果トランジスタを内蔵する従来の完全空乏型SOI−IC50の構造を示した斜視図、図8(b)にその上面図、図8(c)に当該SOI−IC50が内蔵するトランジスタの回路記号図を、それぞれ示す。図8(a)に示すように、SOI−IC50は、Si等の基板51上にSiO2膜等の絶縁基板52を設け、このSiO2膜等の絶縁基板52上にnチャネル電界効果トランジスタを設けた構成となっている。トランジスタには、ボディ54(p型半導体)、ソース53(n型半導体)、ドレイン55(n型半導体)、ゲート電極56が設けられ、図8(c)に示す回路を形成している。
11・・・Si基板
12・・・絶縁性基板
13・・・ソース
14・・・ドレイン
15・・・ボディ
16・・・電荷排出用端子(ボディ端子)
17・・・ゲート電極
20・・・Si活性層
21・・・電荷排出用端子
Claims (4)
- 絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に形成されたシリコン層と、
前記シリコン層に形成され、第1導電型であるボディ(P−)、第2導電型であるソース(N+)、ドレイン(N+)からなる部分と、
前記ボディ(P−)及び前記ソース(N+)にボディ(P−)と同一導電型で接合され、前記ソース(N+)より低い電位が供給されるボディ端子(P+)と、
を具備し、
前記ボディ(P−)において放射線によって発生した正電荷は、前記ボディ端子(P+)を介して当該トランジスタ外に流出し、
前記ボディ端子(P+)は、前記ボディ(P−)と同一導電型であること、
を特徴とする完全空乏型のトランジスタ。 - 絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に形成されたシリコン層と、
前記シリコン層に形成され、第1導電型であるボディ(P−)、第2導電型であるソース(N+)、ドレイン(N+)からなる部分と、
前記ボディ(P−)及び前記ソース(N+)にボディ(P−)と同一導電型で接合され、前記ソース(N+)より低い電位が供給されるボディ端子(P+)と、
を具備し、
前記ボディ(P−)において放射線によって発生した正電荷は、前記ボディ端子(P+)を介して当該トランジスタ外に流出し、
前記ボディ端子(P+)には、nチャネル電界効果トランジスタでは、GND電位が供給されていること、
を特徴とする完全空乏型のトランジスタ。 - 絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に形成されたシリコン層と、
前記シリコン層に形成され、第1導電型であるボディ(N−)、第2導電型であるソース(P+)、ドレイン(P+)からなる部分と、
前記ボディ(N−)及び前記ソース(P+)にボディ(N−)と同一導電型で接合され、前記ソース(P+)より高い電位が供給されるボディ端子(N+)と、
を具備し、
前記ボディ(N−)において放射線によって発生した負電荷は、前記ボディ端子(N+)を介して当該トランジスタ外に流出し、
前記ボディ端子(N+)は、前記ボディ(N−)と同一導電型であること、
を特徴とする完全空乏型のトランジスタ。 - 絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に形成されたシリコン層と、
前記シリコン層に形成され、第1導電型であるボディ(N−)、第2導電型であるソース(P+)、ドレイン(P+)からなる部分と、
前記ボディ(N−)及び前記ソース(P+)にボディ(N−)と同一導電型で接合され、前記ソース(P+)より高い電位が供給されるボディ端子(N+)と、
を具備し、
前記ボディ(N−)において放射線によって発生した負電荷は、前記ボディ端子(N+)を介して当該トランジスタ外に流出し、
前記ボディ端子(N+)には、pチャネル電界効果トランジスタでは、電源の電位が供給されていること、
を特徴とする完全空乏型のトランジスタ。
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