JP6244317B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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まず、図1、図2及び図3を参照して、本実施形態に係る基板処理システム1の概要を説明する。図1に示されるように、基板処理システム1は、塗布・現像装置2と露光装置3とを備える。露光装置3は、レジスト膜(感光性被膜)の露光処理を行う。塗布・現像装置2は、露光装置3による露光処理の前に、ウエハW(基板)の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。
続いて、基板処理装置の一例として、熱処理ユニットU2の構成について詳細に説明する。図4に示されるように、熱処理ユニットU2は、熱板20と、熱板保持部23と、昇降機構30と、制御部50とを有する。
続いて、基板熱処理方法の一例として、熱処理ユニットU2によるウエハWの加熱手順について説明する。
Claims (7)
- 基板を支持する支持台と、
複数の昇降ピンを有し、前記複数の昇降ピンにより前記支持台上において前記基板を昇降させる昇降機構と、
前記複数の昇降ピンの少なくとも一つと前記基板との接触状態及び非接触状態の切り替わりのタイミングに関する情報に基づいて前記基板の載置状態を検出する検出機構と、を備え、
前記検出機構は、前記昇降ピンにて生じた振動を検出可能な振動センサを有し、前記振動センサにより検出される振動の強度が第1の閾値よりも大きくなった期間の合計値を前記切り替わりに関する情報として用い、当該期間の合計値に基づいて前記載置状態を検出する、基板処理装置。 - 前記検出機構は、前記非接触状態から前記接触状態への前記切り替わりのタイミングに基づいて前記基板の載置状態を検出する、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記基板を前記支持台上に載置した後に当該基板を再度上昇させ、当該基板を前記支持台上に再度載置する昇降制御部を更に備え、
前記検出機構は、前記昇降機構が前記基板を再度上昇させるときにおける前記切り替わりのタイミングに基づいて前記基板の載置状態を検出する、請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記振動センサは、固体を介して前記振動を検出するように設けられている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記昇降機構は、前記複数の昇降ピンを支持するピン支持部を有し、
前記振動センサは、前記ピン支持部に設けられている、請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記検出機構は、前記複数の昇降ピンのそれぞれに対応する複数の前記振動センサを有する、請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記検出機構は、前記合計値が第2の閾値よりも小さいか否かに基づいて前記載置状態が正常であるか否かを検出する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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