JP6211490B2 - 端子連鎖体及び端子製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、端子連鎖体及び端子製造方法に関する。
従来、基板などの対象と接続する端子において、対象と直接電気的に接続される接続部の接続性能の向上を主な目的として、接続部の表面にメッキ層を形成する手法が知られている。例えば特許文献1には、金属板のプレス打ち抜きによって複数の中継ピン端子がタイバー(キャリア)で並列に接続された中継ピン端子素材(端子連鎖体)を成形し、この中継ピン端子素材にメッキ処理を施して表面にメッキ層を形成し、タイバーを切断して各中継ピン端子同士を分離することにより、接続部にメッキ層を有する複数の中継ピン端子を製造することが記載されている。
特開2011−129457号公報
しかしながら、特許文献1に記載されるように複数の端子を連結した端子連鎖体の状態でメッキ層を形成する従来のメッキ処理手法では、端子連鎖体の形状等の各種条件によっては、端子の接続部表面に形成されるメッキ層の膜厚が均等にならない場合がある。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、端子の接続部表面に形成されるメッキ層の膜厚を均等にできる端子連鎖体及び端子製造方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明に係る端子連鎖体は、それぞれが本体部と、前記本体部から同一の延在方向へ延在して設けられる複数の接続部とを有し、板状に成形される複数の端子と、前記複数の端子と一体的に成形され、前記複数の端子を前記延在方向と交差する連鎖方向に沿って並列に配置するキャリアと、前記端子の前記複数の接続部のうちの隣接する2つの接続部の間にて前記延在方向に沿って延在して設けられるメッキ膜厚調整部と、メッキ処理によって前記キャリア及び前記メッキ膜厚調整部の少なくとも一部及び前記複数の端子の前記接続部の表面に形成されるメッキ層と、を備え、前記端子の前記接続部は、前記連鎖方向に沿って並列に配置され、前記キャリアは、前記接続部を挟んで前記延在方向の前記本体部と反対側に配置され、前記連鎖方向に延在して設けられる基部と、前記延在方向に沿って延在して設けられ、前記基部と、連鎖方向に沿って隣接する2つの前記端子の前記本体部の前記連鎖方向の端部とを連結する端子間連結部と、を有し、前記メッキ膜厚調整部及び前記キャリアの前記端子間連結部は、前記端子間連結部と当該端子間連結部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第一距離と、前記メッキ膜厚調整部と当該メッキ膜厚調整部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第二距離とが均等となるように、前記連鎖方向の寸法が設定されることを特徴とする。
また、上記の端子連鎖体において、前記メッキ膜厚調整部は、前記基部と前記端子の前記本体部とを連結するよう形成されることが好ましい。
また、上記の端子連鎖体において、前記メッキ膜厚調整部は、前記キャリアの前記基部と連結され、前記基部から前記端子の前記本体部側へ突出して設けられることが好ましい。
また、上記の端子連鎖体において、前記メッキ膜厚調整部は、前記端子の前記本体部と連結され、前記本体部から前記キャリアの前記基部側へ突出して設けられることが好ましい。
また、上記の端子連鎖体において、前記メッキ膜厚調整部は、前記メッキ処理が施され前記メッキ層が形成された後に、前記端子の前記本体部との連結部分が切断されて前記端子から切り離されることが好ましい。
また、上記の端子連鎖体において、前記メッキ膜厚調整部は、前記メッキ処理が施され前記メッキ層が形成された後に、前記キャリアと前記端子の前記本体部との連結部分が切断されることで、前記キャリアと共に前記端子から切り離されることが好ましい。
また、上記の端子連鎖体において、前記端子の前記接続部は、前記隣接する2つの接続部の間の前記連鎖方向の空間距離が前記第一距離より大きくなるよう形成され、前記メッキ膜厚調整部は、当該メッキ膜厚調整部と隣接する前記2つの接続部のそれぞれとの間の前記連鎖方向の空間距離が相互に均等となり、かつ、前記第一距離と均等となるように、前記隣接する2つの接続部の間に設けられることが好ましい。
同様に、上記の課題を解決するため、本発明に係る端子製造方法は、それぞれが本体部と、前記本体部から同一の延在方向へ延在して設けられる複数の接続部とを有し、板状に成形される複数の端子と、前記複数の端子と一体的に成形され、前記複数の端子を前記延在方向と交差する連鎖方向に沿って並列に配置するキャリアと、前記端子の前記複数の接続部のうちの隣接する2つの接続部の間にて前記延在方向に沿って延在して設けられるメッキ膜厚調整部と、を備え、前記端子の前記接続部は、前記連鎖方向に沿って並列に配置され、前記キャリアは、前記接続部を挟んで前記延在方向の前記本体部と反対側に配置され、前記連鎖方向に延在して設けられる基部と、前記延在方向に沿って延在して設けられ、前記基部と、連鎖方向に沿って隣接する2つの前記端子の前記本体部の前記連鎖方向の端部とを連結する端子間連結部と、を有し、前記メッキ膜厚調整部及び前記キャリアの前記端子間連結部は、前記端子間連結部と当該端子間連結部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第一距離と、前記メッキ膜厚調整部と当該メッキ膜厚調整部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第二距離とが均等となるように、前記連鎖方向の寸法が設定される端子連鎖体を成形する成形ステップと、前記成形ステップにて成形された前記端子連鎖体にメッキ処理を施し、前記キャリア及びメッキ膜厚調整部の少なくとも一部及び前記複数の端子の前記接続部の表面にメッキ層を形成するメッキ処理ステップと、前記メッキ処理ステップにて形成された前記メッキ層にリフロー処理を施すリフロー処理ステップと、前記リフロー処理ステップにて前記リフロー処理を施された前記端子連鎖体から前記キャリア及び前記メッキ膜厚調整部を切断して、前記複数の端子を切り出す切り出しステップと、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、端子連鎖体に含まれるすべての端子の接続部は、個々の連鎖方向両側の空間距離がすべて均等となるように構成されるので、電気メッキ処理において端子の接続部の表面に形成されるメッキ層の膜厚を均等にできるという効果を奏する。
図1は、本発明の一実施形態に係る端子連鎖体を用いて製造される端子の概略構成を示す斜視図である。 図2は、第一実施形態に係る端子連鎖体の概略構成を示す斜視図である。 図3は、本発明の第一実施形態に係る端子製造方法の手順を示すフローチャートである。 図4は、第一実施形態の端子連鎖体に電気メッキ処理を施した場合のメッキ層の形成プロセスを説明するための模式図である。 図5は、端子連鎖体にメッキ膜厚調整部を設けない比較例の構成において、電気メッキ処理を施した場合のメッキ層の形成プロセスを説明するための模式図である。 図6は、第二実施形態に係る端子連鎖体の概略構成を示す斜視図である。 図7は、第三実施形態に係る端子連鎖体の概略構成を示す斜視図である。
以下に、本発明に係る端子連鎖体及び端子製造方法の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の図面において、同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
[第一実施形態]
図1〜5を参照して第一実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る端子連鎖体を用いて製造される端子の概略構成を示す斜視図である。図1に示す端子2は、プリント基板に用いられる基板用端子である。基板用端子は、一般に、プリント基板に形成されたプリント配線と、ヒューズやコネクタ等の他部品とを接続するために用いられるものであり、主にプリント基板に直接立設される。図1に示すように、端子2は全体として略平板形状を有しており、一方向に沿って延在して形成され、当該一方向の一方側に本体部21を有し、他方側に平行配置される2つの接続部22,23を有する。端子2は、金属などの導電性材料により成形される。
以下の説明では、本体部21及び接続部22,23が配列される方向である上記の一方向(図1の上下方向)を「延在方向」と表記し、本体部21が配置される側(一方側)を「基端側」、接続部22,23が配置される側(他方側)を「先端側」と表記する。また、2つの接続部22,23の配列方向を「幅方向」と表記する。この「幅方向」は、上記の延在方向と、端子2の板厚方向と、共に直交する方向である。
本体部21は、延在方向の基端側に突出して延びる略矩形状の部分であり、他部品と電気的に接続するための要素である。本体部21は、延在方向の先端側の端面21aに沿って幅方向の両側に突出して設けられる一対の突出端部21b,21cを有する。
2つの接続部22,23は、互いに同様の棒状に形成され、共に延在方向に沿って延在して設けられると共に、幅方向に沿って並列かつ平行に配置されている。2つの接続部22,23は、共に本体部21の端面21aから延在方向の先端側に突出して形成されている。より詳細には、2つの接続部22,23は、本体部21の一対の突出端部21b,21cから延在方向の先端側に突設されており、図1に示すように、幅方向の一方側の突出端部21bから一方の接続部22が突設され、幅方向の他方側の突出端部21cから他方の接続部23が突設されている。
接続部22,23は、端子2がプリント基板に取り付けられる際に基板と直接的に接続される部分である。接続部22,23は、プリント基板の接続孔に挿通されてプリント基板に固定される。なお、本実施形態では、接続部22,23と基板との接続形態は任意のものでよく、はんだ接続でもよいし、例えばプレスフィット端子のように接続孔に圧入することではんだ接続無しで保持する構成でもよい。
端子2の2つの接続部22,23の表面には、電気メッキなどのメッキ処理によってメッキ層5(図4参照)が形成されており、これにより接続部22,23とプリント基板との接続性能を向上でき、また、接続部22,23の耐食性やはんだ付け性などの特性を改善できるよう構成されている。なお、本実施形態では、接続部22,23が接続される本体部21の端面21aの全体にもメッキ層5が形成されているが、2つの接続部22,23の間の部分の略中央部分21f(後述するメッキ膜厚調整部4が切断された面)は非メッキ層となっている。同様に、本体部21の一対の突出端部21b,21cの幅方向の端面21d,21e(後述する端子間連結部32が切断された面)も非メッキ層となっている(詳細は端子製造方法の説明で後述する)。
本実施形態では、このような端子2を製造する際の中間生成物として、複数の端子2が並列接続されて構成される端子連鎖体1が利用される。図2は、第一実施形態に係る端子連鎖体の概略構成を示す斜視図である。図2に示すように、端子連鎖体1は、複数の端子2が幅方向に沿って連鎖状に(並列に)接続されて一体的に形成されている。以降の説明では、幅方向を「連鎖方向」とも表現する場合がある。
図2に示すように、端子連鎖体1は、複数の端子2と、キャリア3と、メッキ膜厚調整部4とを備え、これらの要素を一体的に成形した略平板形状の部材である。端子連鎖体1は、端子2と同一の導電性材料により成形される。図2では、端子連鎖体1に一体的に成形されている端子2の該当部分をキャリア3及びメッキ膜厚調整部4と視覚的に区別できるよう、キャリア3及びメッキ膜厚調整部4の該当部分に網目模様を付して図示されている。なお、図2では、2つの端子2を備える端子連鎖体1を例示しているが、1つの端子連鎖体1に3つ以上の端子2を備える構成の場合には、図2に示す端子連鎖体1が連鎖方向に沿って連続的に増設された形状となる。
キャリア3は、複数の端子2と一体的に成形され、複数の端子2を連鎖方向に沿って並列に配置するための要素である。キャリア3は、基部31と、端子間連結部32とを有する。
基部31は、端子2の接続部22,23を挟んで延在方向の本体部21と反対側、つまり接続部22,23よりも延在方向の先端側に配置され、連鎖方向に延在して設けられる。
端子間連結部32は、延在方向に沿って延在して設けられ、基部31と、端子2の本体部21の連鎖方向の端部(すなわち突出端部21b,21c)とを連結する。より詳細には、端子間連結部32は、連鎖方向に沿って隣接する2つの端子2の間にて、基部31から延在方向の基端側に突出して設けられ、一方の端子2の接続部22側の突出端部21bと、他方の端子2の接続部23側の突出端部21cとを連結するよう形成されている。
メッキ膜厚調整部4は、単一の端子2の2つの接続部22,23の間にて延在方向に沿って延在して設けられ、2つの接続部22,23の間にてキャリア3の基部31と、端子2の本体部21とを連結するよう形成されている。なお、キャリア3及びメッキ膜厚調整部4は、端子連鎖体1にメッキ処理が施されメッキ層5が形成された後に、端子2の本体部21との連結部分が切断されることで、最終的に端子2から切り離される。
そして、特に本実施形態では、メッキ膜厚調整部4及びキャリア3の端子間連結部32は、図2に示す第一距離Xと第二距離Yとが均等となる(X=Y)ように連鎖方向の寸法が設定されている(設定基準1)。第一距離Xとは、端子間連結部32と、この端子間連結部32と隣接する接続部22,23(隣接する2つの端子2のうち一方の端子2の接続部22、及び、他方の端子の接続部23)と、の間の連鎖方向の空間距離である。第二距離Yとは、メッキ膜厚調整部4と、このメッキ膜厚調整部4と隣接する接続部22,23(単一の端子2の2つの接続部22,23)との間の連鎖方向の空間距離である。
上記の設定基準1は、下記の(1)及び(2)の両方の条件を満たすことと言い換えることもできる(設定基準2)。
(1)端子2の接続部22,23は、図2に示すように、隣接する2つの接続部22,23の間の連鎖方向の空間距離Zが第一距離Xより大きくなるよう形成される。
(2)メッキ膜厚調整部4は、図2に示すように、当該メッキ膜厚調整部4と隣接する2つの接続部22,23のそれぞれとの間の連鎖方向の空間距離が、相互に均等となり(すなわち共に第二距離Yとなり)、かつ、第一距離Xと均等となるように、隣接する2つの接続部22,23の間に設けられる。
つまり、本実施形態では、端子連鎖体1に含まれるすべての接続部22,23は、個々の連鎖方向両側の空間距離がすべて均等となるように構成されている。
次に、図3を参照して、本実施形態に係る端子製造方法について説明する。図3は、本発明の第一実施形態に係る端子製造方法の手順を示すフローチャートである。
ステップS01では、金属板などの導電性材料の板材をプレス打ち抜き加工することにより、複数の端子2が並列接続された端子連鎖体1が成形される(成形ステップ)。図2を参照して説明したとおり、端子連鎖体1は、複数の端子2と、キャリア3と、メッキ膜厚調整部4とを備え、これらの要素を一体的に成形した略平板形状の部材である。ステップS01の処理が完了するとステップS02に進む。
ステップS02では、ステップS01にて成形された端子連鎖体1に電気メッキ処理が施される(メッキ処理ステップ)。電気メッキ処理では、例えば、メッキ溶液が貯留されているメッキ槽の中に端子連鎖体1を浸漬し、直流の電気を通電することで、メッキ溶液中の金属イオン(例えばSnイオン)が、メッキ槽に浸漬されている端子連鎖体1の表面に析出される。なお、本実施形態では、電気メッキ処理において、端子連鎖体1の全体をメッキ槽の中に浸漬させ、端子連鎖体1の全表面に金属イオンを析出させてもよいが、端子連鎖体1に含まれる端子2の接続部22,23をメッキ槽の中に浸漬させ、少なくとも各接続部22,23の表面に金属イオンを析出させることができればよい。この電気メッキ処理により、キャリア3及びメッキ膜厚調整部4の少なくとも一部、及び、複数の端子2の接続部22,23の表面にメッキ層5(Snメッキ)が形成される(図4参照)。
ここで、本実施形態では、端子連鎖体1において、メッキ膜厚調整部4及びキャリア3の端子間連結部32の連鎖方向の寸法が上記の設定基準1または設定基準2に基づき設定されることにより、端子連鎖体1に含まれるすべての接続部22,23のメッキ層5の膜厚が均等に形成される。なお、メッキ層5の膜厚が均等となる理由については図4,5を参照して後述する。ステップS02の処理が完了するとステップS03に進む。
ステップS03では、ステップS02にて電気メッキ処理が施された端子連鎖体1にリフロー処理が施される(リフロー処理ステップ)。リフロー処理では、端子連鎖体1の表面に形成されたメッキ層5を加熱炉で溶融させ、その後急冷することによって、メッキ層5の表面に再結晶組織を生じさせる。ステップS03の処理が完了するとステップS04に進む。
ステップS04では、ステップS03にてリフロー処理を施された端子連鎖体1から端子2が切り出される(切り出しステップ)。具体的には、図2に示す端子連鎖体1において、キャリア3の端子間連結部32と端子2の本体部21の突出端部21b,21cとの連結部分と、メッキ膜厚調整部4と端子2の本体部21との連結部分と、が切断される。これにより、キャリア3及びメッキ膜厚調整部4が端子2から切り離され、端子連鎖体1から各端子2が分離して切り出される。このように切り出された端子2では、図1に示すように、本体部21の端面21aのうちメッキ膜厚調整部4が切断された幅方向の略中央部分21fと、端子間連結部32が切断された突出端部21b,21cの幅方向の端面21d,21eとが、メッキ処理後に露出する部分であるので非メッキ層となっている。
次に、本実施形態に係る端子連鎖体1と、この端子連鎖体1を用いる端子製造方法の効果について説明する。
本実施形態の端子連鎖体1は、それぞれが本体部21と、本体部21から同一の延在方向へ延在して設けられる複数の接続部22,23とを有し、板状に成形される複数の端子2と、複数の端子2と一体的に成形され、複数の端子2を延在方向と直交する連鎖方向に沿って並列に配置するキャリア3と、端子2の2つの接続部22,23の間にて延在方向に沿って延在して設けられるメッキ膜厚調整部4と、メッキ処理によってキャリア3及びメッキ膜厚調整部4の少なくとも一部及び端子2の接続部22,23の表面に形成されるメッキ層5と、を備える。端子2の接続部22,23は、連鎖方向に沿って並列に配置される。キャリア3は、接続部22,23を挟んで延在方向の本体部21と反対側(延在方向先端側)に配置され、連鎖方向に延在して設けられる基部31と、延在方向に沿って延在して設けられ、基部31と端子2の本体部21の連鎖方向の端部とを連結する端子間連結部32と、を有する。メッキ膜厚調整部4及びキャリア3の端子間連結部32は、端子間連結部32と当該端子間連結部32と隣接する接続部22,23との間の連鎖方向の空間距離である第一距離Xと、メッキ膜厚調整部4と当該メッキ膜厚調整部4と隣接する接続部22,23との間の連鎖方向の空間距離である第二距離Yとが均等となるように、連鎖方向の寸法が設定される。
同様に、本実施形態の端子製造方法は、複数の端子2と、キャリア3と、メッキ膜厚調整部4と、を備える上記の端子連鎖体1を成形する成形ステップS01と、成形ステップS01にて成形された端子連鎖体1に電気メッキ処理を施し、キャリア3及びメッキ膜厚調整部4の少なくとも一部及び複数の端子2の接続部22,23の表面にメッキ層5を形成するメッキ処理ステップS02と、メッキ処理ステップS02にて形成されたメッキ層5にリフロー処理を施すリフロー処理ステップS03と、リフロー処理ステップS03にてリフロー処理を施された端子連鎖体1からキャリア3及びメッキ膜厚調整部4を切断して、複数の端子2を切り出す切り出しステップS04と、を含む。
これらの構成により、端子連鎖体1に含まれるすべての端子2の接続部22,23は、個々の連鎖方向両側の空間距離がすべて均等となるように構成されるので、電気メッキ処理において端子2の接続部22,23の表面に形成されるメッキ層5の膜厚を均等にできる。
ここで、図4,5を参照して、本実施形態が上記の効果を奏する理由についてさらに説明する。図4は、第一実施形態の端子連鎖体に電気メッキ処理を施した場合のメッキ層の形成プロセスを説明するための模式図である。図5は、端子連鎖体にメッキ膜厚調整部を設けない比較例の構成において、電気メッキ処理を施した場合のメッキ層の形成プロセスを説明するための模式図である。
まず、図5に示すように、本実施形態に対する比較例として、端子連鎖体1にメッキ膜厚調整部4を設けない構成を考える。単一の端子2の接続部22,23の間に、本実施形態のメッキ膜厚調整部4に該当する部材が無いため、連鎖方向に沿って、端子間連結部32、接続部22、接続部23、端子間連結部32の順で配列されている。図5左側の端子間連結部32と接続部22との間の領域Aにおける連鎖方向の空間距離、及び、接続部23と図5右側の端子間連結部32との間の領域Bにおける連鎖方向の空間距離(共に上述の第一距離X)は、接続部22,23の間の領域Eにおける連鎖方向の空間距離Zより小さい(X<Z)。このような構成の端子連鎖体1に電気メッキ処理を施す場合、連鎖方向の空間距離が相対的に大きい接続部22,23の間の領域E内に存在する金属イオン10の数は、他の領域A,B内のものより多くなる。このため、接続部22,23の表面に析出される金属イオン10の数も、接続部22,23の間の領域E側の表面の方が、他の領域A,B側より多くなる。したがって、図5に示すように、比較例の構成では、電気メッキ処理により形成されるメッキ層5´は、領域A,B側の膜厚αに比べて領域E側の膜厚β´が大きくなり(α<β´)、連鎖方向に沿って均等な膜厚にならないと考えられる。
一方、本実施形態では、図4に示すように、単一の端子2の接続部22,23の間にメッキ膜厚調整部4が設けられる。また、メッキ膜厚調整部4の連鎖方向の寸法は、図4左側の端子間連結部32と接続部22との間の領域Aにおける連鎖方向の空間距離(上述の第一距離X)と、接続部22とメッキ膜厚調整部4との間の領域Cにおける連鎖方向の空間距離(上述の第二距離Y)とが均等となるように設定されている(X=Y)。同様に、図4右側の端子間連結部32と接続部23との間の領域Bにおける連鎖方向の空間距離(上述の第一距離X)と、接続部23とメッキ膜厚調整部4との間の領域Dにおける連鎖方向の空間距離(上述の第二距離Y)とも均等となるように設定されている。つまり、接続部22,23の連鎖方向両側のすべての領域A,B,C,Dでは、連鎖方向の空間距離が均等となっている。
このような構成の端子連鎖体1に電気メッキ処理を施す場合、接続部22,23の連鎖方向両側の各領域A,B,C,D内に存在する金属イオン10の数はほぼ均等となる。このため、接続部22,23の表面に析出される金属イオン10の数も、各領域A,B,C,D側でほぼ均等となる。したがって、図4に示すように、本実施形態の構成では、電気メッキ処理により形成されるメッキ層5は、領域A,B側の膜厚αと、領域C,D側の膜厚βとが均等となり(α=β)、この結果、接続部22の連鎖方向両側の膜厚が均等となり、同様に、接続部23の連鎖方向両側の膜厚も均等となると考えられる。
また、本実施形態に係る端子連鎖体1において、メッキ膜厚調整部4は、2つの接続部22,23の間にてキャリア3の基部31と、端子2の本体部21とを連結するよう形成されている。この構成により、メッキ膜厚調整部4は、2つの接続部22,23の間の領域を連鎖方向に沿って完全に区分することができ、延在方向に沿って接続部22,23が存在する全範囲に亘って、接続部22,23とメッキ膜厚調整部4との間の連鎖方向の空間距離Yを均等にできる。これにより、電気メッキ処理において端子2の接続部22,23の表面に形成されるメッキ層5の膜厚が均等になるようにより一層の促進を図ることができる。
[第二実施形態]
次に、図6を参照して第二実施形態について説明する。図6は、第二実施形態に係る端子連鎖体の概略構成を示す斜視図である。図6に示すように、第二実施形態の端子連鎖体1Aは、メッキ膜厚調整部4Aが端子2の本体部21に連結されない点で、第一実施形態の端子連鎖体1と異なる。メッキ膜厚調整部4Aは、延在方向先端側の一端がキャリア3の基部31に連結され、延在方向基端側の他端は自由端である片持ち梁状に形成されている。
第二実施形態の端子連鎖体1Aによっても、接続部22,23とメッキ膜厚調整部4Aとの間の連鎖方向の空間距離Yを概ね均等にできるので、電気メッキ処理において端子2の接続部22,23の表面に形成されるメッキ層5の膜厚を均等にできるという第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
また、第二実施形態の端子連鎖体1Aでは、メッキ膜厚調整部4Aが端子2の本体部21に連結されていないため、図3のフローチャートの切り出しステップS04において、メッキ膜厚調整部4Aは、キャリア3と端子2の本体部21との連結部分が切断されることで、キャリア3に付随して端子2から切り離される。これにより、メッキ膜厚調整部4Aと端子2の本体部21とを切断する工程を省くことができ、端子2の製造容易性を向上できる。
[第三実施形態]
図7を参照して第三実施形態について説明する。図7は、第三実施形態に係る端子連鎖体の概略構成を示す斜視図である。図7に示すように、第三実施形態の端子連鎖体1Bは、メッキ膜厚調整部4Bがキャリア3の基部31に連結されない点で、第一実施形態の端子連鎖体1と異なる。メッキ膜厚調整部4Bは、延在方向基端側の一端が端子2の本体部21に連結され、延在方向先端側の他端は自由端である片持ち梁状に形成されている。
第三実施形態の端子連鎖体1Bでは、メッキ膜厚調整部4Bがキャリア3の基部31に連結されていない。このため、図3のフローチャートの切り出しステップS04では、まず、キャリア3の端子間連結部32と端子2の本体部21の突出端部21b,21cとの連結部分が切断されて端子連鎖体1Bからキャリア3が切り離され、次に、メッキ膜厚調整部4Bと端子2の本体部21との連結部分が切断されてメッキ膜厚調整部4Bが端子2から切り離されることで、端子連鎖体1Bの各端子2が分離して切り出される。このように、第三実施形態の端子連鎖体1Bでは、キャリア3とメッキ膜厚調整部4Bとが相互に連結しない別部材であるので、端子連鎖体1Bから別々に切り離すことが可能となり、端子連鎖体1Bからの端子2の切り出し作業を容易にでき、端子2の製造容易性を向上できる。
第三実施形態の端子連鎖体1Bによっても、接続部22,23とメッキ膜厚調整部4Bとの間の連鎖方向の空間距離Yを概ね均等にできるので、電気メッキ処理において端子2の接続部22,23の表面に形成されるメッキ層5の膜厚を均等にできるという第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上記実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。上記実施形態及びその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
上記実施形態では、単一の端子2が2つの接続部22,23を有する構成を例示したが、端子2は複数の接続部を有する構成であればよく、3つ以上の接続部を有する構成としてもよい。接続部が3つ以上ある場合には、メッキ膜厚調整部4,4A,4Bは、複数の接続部のうち隣接する2つの接続部22,23の間に設けられる。つまり、連鎖方向に沿って、接続部22,23とメッキ膜厚調整部4,4A,4Bとが交互に配置されればよい。
また、上記実施形態では、端子連鎖体1,1A,1Bにおいて複数の端子2が配置される連鎖方向は、延在方向と直交する方向として例示したが、少なくとも延在方向と交差する方向であればよい。
1,1A,1B 端子連鎖体
2 端子
21 本体部
22,23 接続部
3 キャリア
31 基部
32 端子間連結部
4,4A,4B メッキ膜厚調整部
5 メッキ層
S01 成形ステップ
S02 メッキ処理ステップ
S03 リフロー処理ステップ
S04 切り出しステップ

Claims (8)

  1. それぞれが本体部と、前記本体部から同一の延在方向へ延在して設けられる複数の接続部とを有し、板状に成形される複数の端子と、
    前記複数の端子と一体的に成形され、前記複数の端子を前記延在方向と交差する連鎖方向に沿って並列に配置するキャリアと、
    前記端子の前記複数の接続部のうちの隣接する2つの接続部の間にて前記延在方向に沿って延在して設けられるメッキ膜厚調整部と、
    メッキ処理によって前記キャリア及び前記メッキ膜厚調整部の少なくとも一部及び前記複数の端子の前記接続部の表面に形成されるメッキ層と、
    を備え、
    前記端子の前記接続部は、前記連鎖方向に沿って並列に配置され、
    前記キャリアは、
    前記接続部を挟んで前記延在方向の前記本体部と反対側に配置され、前記連鎖方向に延在して設けられる基部と、
    前記延在方向に沿って延在して設けられ、前記基部と、連鎖方向に沿って隣接する2つの前記端子の前記本体部の前記連鎖方向の端部とを連結する端子間連結部と、
    を有し、
    前記メッキ膜厚調整部及び前記キャリアの前記端子間連結部は、前記端子間連結部と当該端子間連結部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第一距離と、前記メッキ膜厚調整部と当該メッキ膜厚調整部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第二距離とが均等となるように、前記連鎖方向の寸法が設定される
    ことを特徴とする端子連鎖体。
  2. 前記メッキ膜厚調整部は、前記基部と前記端子の前記本体部とを連結するよう形成される、
    請求項1に記載の端子連鎖体。
  3. 前記メッキ膜厚調整部は、前記キャリアの前記基部と連結され、前記基部から前記端子の前記本体部側へ突出して設けられる、
    請求項1に記載の端子連鎖体。
  4. 前記メッキ膜厚調整部は、前記端子の前記本体部と連結され、前記本体部から前記キャリアの前記基部側へ突出して設けられる、
    請求項1に記載の端子連鎖体。
  5. 前記メッキ膜厚調整部は、前記メッキ処理が施され前記メッキ層が形成された後に、前記端子の前記本体部との連結部分が切断されて前記端子から切り離される、
    請求項2または4に記載の端子連鎖体。
  6. 前記メッキ膜厚調整部は、前記メッキ処理が施され前記メッキ層が形成された後に、前記キャリアと前記端子の前記本体部との連結部分が切断されることで、前記キャリアと共に前記端子から切り離される、
    請求項3に記載の端子連鎖体。
  7. 前記端子の前記接続部は、前記隣接する2つの接続部の間の前記連鎖方向の空間距離が前記第一距離より大きくなるよう形成され、
    前記メッキ膜厚調整部は、当該メッキ膜厚調整部と隣接する前記2つの接続部のそれぞれとの間の前記連鎖方向の空間距離が相互に均等となり、かつ、前記第一距離と均等となるように、前記隣接する2つの接続部の間に設けられる、
    請求項1〜6のいずれか1項に記載の端子連鎖体。
  8. それぞれが本体部と、前記本体部から同一の延在方向へ延在して設けられる複数の接続部とを有し、板状に成形される複数の端子と、前記複数の端子と一体的に成形され、前記複数の端子を前記延在方向と交差する連鎖方向に沿って並列に配置するキャリアと、前記端子の前記複数の接続部のうちの隣接する2つの接続部の間にて前記延在方向に沿って延在して設けられるメッキ膜厚調整部と、を備え、前記端子の前記接続部は、前記連鎖方向に沿って並列に配置され、前記キャリアは、前記接続部を挟んで前記延在方向の前記本体部と反対側に配置され、前記連鎖方向に延在して設けられる基部と、前記延在方向に沿って延在して設けられ、前記基部と、連鎖方向に沿って隣接する2つの前記端子の前記本体部の前記連鎖方向の端部とを連結する端子間連結部と、を有し、前記メッキ膜厚調整部及び前記キャリアの前記端子間連結部は、前記端子間連結部と当該端子間連結部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第一距離と、前記メッキ膜厚調整部と当該メッキ膜厚調整部と隣接する前記接続部との間の前記連鎖方向の空間距離である第二距離とが均等となるように、前記連鎖方向の寸法が設定される端子連鎖体を成形する成形ステップと、
    前記成形ステップにて成形された前記端子連鎖体にメッキ処理を施し、前記キャリア及び前記メッキ膜厚調整部の少なくとも一部及び前記複数の端子の前記接続部の表面にメッキ層を形成するメッキ処理ステップと、
    前記メッキ処理ステップにて形成された前記メッキ層にリフロー処理を施すリフロー処理ステップと、
    前記リフロー処理ステップにて前記リフロー処理を施された前記端子連鎖体から前記キャリア及び前記メッキ膜厚調整部を切断して前記複数の端子を切り出す切り出しステップと、
    を含むことを特徴とする端子製造方法。
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