JP6185187B2 - 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、高分子化合物 - Google Patents
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Description
従来の平版印刷版としては、特許文献1又は2に記載の平版印刷版が知られている。
また、上記ハイライト再現性の問題を解決するために、非画像部をより容易に現像しうる、即ち、アルカリ水溶液に対する溶解性がより良好な特性を有する材料からなる記録層を用いることが考えられるが、このような記録層は、画像部領域においても化学的に弱くなり、現像液や印刷中に使用されるインキ洗浄溶剤、プレートクリーナー等によりダメージを受け易くなるなど、耐薬品性に劣るといった問題があり、未露光部領域においては皮膜の耐薬品性や耐久性に優れ、かつ、露光により溶解抑制作用が解除された後は、現像性に優れるという特性を有する樹脂材料が熱望されていた。
上記と同様の目的で種々の改良技術が提案され、例えば、主鎖にスルホンアミドを有し、水に不溶でかつアルカリ性水溶液に可溶なポリウレタン樹脂と、ポジ型に作用する感光性化合物とを含有する感光性組成物(例えば、特許文献1参照)や、支持体上に、主鎖に活性水素を有する水不溶かつアルカリ可溶性樹脂、及び、赤外線吸収剤を含有し、露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版の技術が開示されている(例えば、特許文献2参照)。これら平版印刷版原版によれば、耐刷性及び耐薬品性に優れたポジ型平版印刷版原版を提供することができる。
<1> アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を主鎖及び/又は側鎖に有する高分子化合物と赤外線吸収材料とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、
<2> 上記高分子化合物が、下記式1又は式2で表される構成単位を、少なくとも1つ主鎖に有する、<1>に記載の感光性樹脂組成物、
<3> 上記V11及びV12が−N(R1A)−であり、上記V21及びV22が−N(R2A)−である、<2>に記載の感光性樹脂組成物、
<4> 上記L11〜L13のうち少なくとも一つが、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であり、上記L21〜L23のうち少なくとも一つが、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基である、<2>又は<3>に記載の感光性樹脂組成物、
<5> 上記L11が、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であり、上記L21が、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基である、<2>〜<4>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物、
<6> 上記L11及び/又はL21が、下記式A−1で表される、<2>〜<5>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物、
<7> 上記L11及び/又はL21が、下記式A−2で表される、<2>〜<5>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物、
<8> 上記L11及び/又はL21が、下記式A−3で表される、<2>〜<5>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物、
<9> 親水性表面を有する支持体上に、<1>〜<8>のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物を含有する記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版、
<10> ポジ型である、<9>に記載の平版印刷版原版、
<11> 上記親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に有する記録層を有してなる平版印刷版原版であって、上記感光性樹脂組成物を下層又は上層の少なくとも一層に含有する、<9>又は<10>に記載の平版印刷版原版、
<12> 上記支持体と上記記録層との間に下塗層を有する、<9>〜<11>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版、
<13> <9>〜<12>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含むことを特徴とする、平版印刷版の作製方法、
<14> アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記の式A−4で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物、
<15> アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記の式A−5で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物、
<16> アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記式A−6で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物、
<17> 上記YA41及びYA42がそれぞれ独立に、単結合、アルキレン基又はアリーレン基を表す、<14>に記載の高分子化合物、
<18> 上記YA51、及び、YA52がそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基を表す、<15>に記載の高分子化合物、
<19> 上記YA61、YA62、及び、YA63がそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基を表す、<16>に記載の高分子化合物。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
なお、本明細書中において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
本発明において、「式1で表される構成単位」等を、単に「構成単位1」等ともいう。
また、化学式中の*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。
また、本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本発明の感光性樹脂組成物は、アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を主鎖及び/又は側鎖に有する高分子化合物と赤外線吸収材料とを含有することを特徴とする。
本発明において、「主鎖」とは樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている炭素鎖を表す。
また、本発明において、「フェノール性水酸基」とは、芳香族炭化水素環に直接結合した水酸基をいい、「フェノール性水酸基を主鎖/側鎖に有する」とは、水酸基が直接結合した二価の芳香族炭化水素基を主鎖/側鎖に有することをいう。
これによる優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。
本発明者等の検討により、印刷における耐刷性には樹脂の膜強度が重要であり、膜強度はバインダー間の相互作用の影響が大きいことが分かってきた。特に、低品質な印刷資材においてはこの効果が顕著であり、一般的なアクリル樹脂やポリウレタン樹脂では十分な膜強度を付与することは難しい。これは印刷資材(紙、インキ等)に含まれる無機塩粒子(炭酸カルシウムやカオリン等)が印刷中に溶出し、これが印刷版の画像部に研磨的に作用することで、磨耗が促進してしまうためであると考えられる。これに対し、本発明における、バインダーポリマーは、主鎖に有するアミン結合又はアンモニウム塩結合に加え、ウレア結合、ウレタン結合あるいはカーボネート結合といった相互作用が非常に高い結合を複数有するため、耐刷性に優れる。これは、樹脂の膜強度が向上し、印刷版の画像部の磨耗が抑制される効果によるものと推定している。
また、本発明者等の検討により、バインダーポリマーの極性を上げることが耐薬品性に有効であることが分かってきた。本発明におけるバインダーポリマーは、主鎖に有するアミン結合又はアンモニウム塩結合に加え、ウレア結合、ウレタン結合あるいはカーボネート結合といった結合、更に、フェノール性水酸基あるいはスルホンアミド基といった高極性基を有するため、耐薬品性に優れる。その結果、画像部の強度と耐薬品性の両立が可能となったものと考えている。
以下、まずは本発明の感光性樹脂組成物の必須成分である、高分子化合物及び赤外線吸収材料について説明する。
本発明に用いられる高分子化合物(以下、「特定高分子化合物」ともいう。)は、アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を主鎖及び/又は側鎖に有する。
特定高分子化合物中、アミン結合とは、−NRx−で表される二価の結合を表し、Rxは水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子、炭素数6以下のアルキル基、又は、炭素数6〜10のアリール基がより好ましく、水素原子、炭素数3以下のアルキル基、又は、フェニル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
第4級アンモニウム塩結合とは、−N+RyRz−で表される二価の結合を表し、Ry及びRzはそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子、炭素数6以下のアルキル基、又は、炭素数6〜10のアリール基がより好ましく、水素原子、炭素数3以下のアルキル基、又は、フェニル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
特定高分子化合物は、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を有し、主鎖骨格がウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合であることが好ましい。また、特定高分子化合物の主鎖骨格としては、画像形成性、耐刷性、製造適性の観点から、ウレタン結合が好ましく、耐薬品性、耐刷性、現像性の観点から、ウレア結合が好ましい。
特定高分子化合物は、主鎖及び/又は側鎖に、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有し、主鎖にスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有することが好ましい。
特定高分子化合物は、下記式1又は式2で表される構成単位を、少なくとも1つ主鎖に有することが好ましい。
また、R11は酸基により置換されていてもよく、酸基としては、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基が好ましく挙げられる。
L11〜L13はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、アルキレン基、アリーレン基、スルホンアミド基、フェノール性水酸基、又は、それらの組み合わせを有する連結基であることが好ましく、炭素数4以下のアルキレン基、炭素数6〜10のアリーレン基、スルホンアミド基、フェノール性水酸基、又は、それらの組み合わせを有する連結基であることがより好ましい。
また、L11〜L13のうち少なくとも一つが、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であることが好ましく、L11がスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であることがより好ましい。
L11がスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基である場合、L12は−V11’−N(=O)−V12’−という二価の連結基と、アルキレン基、アリーレン基、又は、それらの組み合わせとを有する連結基であることが好ましく、L13はアルキレン基であることが好ましく、V11’及びV12’は、それぞれ独立に、−N(R1A’)−又は−O−を表し、V11’及びV12’がいずれも−N(R1A’)−であることが好ましく、後述するV11及びV12と同様の構造を表すことが好ましい。またその場合、L12及びL13はスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を含まないことが好ましい。
V11及びV12はそれぞれ独立に、−N(R1A)−又は−O−を表し、V11及びV12がいずれも−N(R1A)−であることが好ましく、R1Aは水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子が好ましい。
また、式1で表される連結基中のR11及びL13は、更に別の式1で表される連結基中のR11及びL13と互いに結合して環を形成してもよい。
L21〜L23はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、アルキレン基、アリーレン基、又は、それらの組み合わせ、若しくは、スルホンアミド基又はフェノール性水酸基を有する連結基でであることが好ましく、炭素数4以下のアルキレン基、炭素数6〜10のアリーレン基、又は、それらの組み合わせ、若しくは、スルホンアミド基又はフェノール性水酸基を有する連結基であることがより好ましい。
また、L21〜L23のうち少なくとも一つが、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であることが好ましく、L21がスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であることがより好ましい。
L21がスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基である場合、L22は−V21’−N(=O)−V22’−という二価の連結基と、アルキレン基、アリーレン基、又は、それらの組み合わせとを有する連結基であることが好ましく、L23はアルキレン基であることが好ましく、V21’及びV22’は、それぞれ独立に、−N(R2A’)−又は−O−を表し、V21’及びV12’がいずれも−N(R2A’)−であることが好ましく、後述するV21及びV22と同様の構造を表すことが好ましい。またその場合、L22及びL23はスルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を含まないことが好ましい。
V21及びV22はそれぞれ独立に、−N(R2A)−又は−O−を表し、V21及びV22がいずれも−N(R2A)−であることが好ましく、R2Aは水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子が好ましい。
Xは無機又は有機の共役塩基を表し、有機アニオンが好ましい。上記有機又は無機のアニオンは、一価のアニオンであっても、二価以上のアニオンであってもよい。これらのアニオンは、特定高分子化合物中のアンモニウム基等のカチオンと電気的に等量となる量存在することが好ましい。
有機アニオンとしては、アルカン又はアレーンスルホン酸イオン、アルキル又はアリールカルボン酸イオンが挙げられ、具体的には例えば、メタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、酢酸イオンが挙げられる。
無機アニオンとしては、ハロゲン化物イオン、硫酸イオン、リン酸イオンが挙げられ、ハロゲン化物イオンが挙げられる。ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオンが挙げられる。
また、Xは後述する一価の酸性化合物由来のアニオンであることが好ましい。
また、構成単位1から構成単位2を生じさせるために、樹脂組成物中に、後述する一価の酸性化合物を含有することが好ましい。
特定高分子化合物は、式2で表される構成単位を主鎖に含有することが好ましい。
構成単位2を高分子化合物中に含有することにより、更に耐薬品性及び耐刷性に優れた平版印刷版が得られる。
式1又は式2中、L11及び/又はL21は、下記式A−1で表されることが好ましい。
*で表される、他の構造との結合部位に直接結合するYA11及びYA12はそれぞれ独立に、単結合であることが好ましく、いずれもが単結合であることがより好ましい。
*で表される、他の構造との結合部位に直接結合しないYA11は、単結合、炭素数3以下のアルキレン基、又は、スルホニル基であることが好ましく、単結合又は炭素数3以下のアルキレン基がより好ましい。上記アルキレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数6以下のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、ハロゲン原子、又は、これらの組み合わせが挙げられる。
また、上記YA11は、フェノール性水酸基等の酸基を有していてもよい。
ZA11はそれぞれ独立に、スルホンアミド基、又は、ヒドロキシ基を表し、ヒドロキシ基であることが好ましい。
m1は1以上の整数を表し、1〜2であることが好ましく、2であることがより好ましい。
n1は1〜4の整数を表し、1〜2であることが好ましく、1であることがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、L11及び/又はL21が下記式A−2で表されることが好ましい。
以下、上記高分子化合物の各構成単位、及び、構成単位同士の組み合わせについて説明する。
WA21はアリーレン基、又は、アリーレン基と二価の連結基との組み合わせを表し、アリーレン基が好ましい。
上記アリーレン基としては、炭素数6〜10のアリーレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
また、WA21がフェニレン基を表す場合、連結基A−2中の2つのスルホンアミド基はメタ位となるように結合することが好ましい。
WA21がアリーレン基と二価の連結基との組み合わせを表す場合、アリーレン基としてはフェニレン基が好ましく、二価の連結基としては、エーテル結合(−O−)及びスルホニル基が好ましい。
また、WA21がフェニレン基とエーテル結合(−O−)又はスルホニル基との組み合わせを表す場合、下記式(A−2−1)で表される基を表すことが好ましい。
上記式1又は式2中、VA21が酸素原子であり、VA22が窒素原子の場合、YA21及びYA22はアルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、炭素数4以下のアルキレン基であることがより好ましい。YA21及びYA22におけるアルキレン基又はアリーレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数6以下のアルキル基、炭素数6以下のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数4以下のアルキル基又は無置換であることがより好ましい。
また、上記式A−2中、VA21及びVA22が共に酸素原子の場合、YA21及びYA22はアルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、炭素数4以下のアルキレン基であることがより好ましい。YA21及びYA22におけるアルキレン基又はアリーレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数6以下のアルキル基、炭素数6以下のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数4以下のアルキル基又は無置換であることがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、L11及び/又はL21が下記式A−3で表されることが好ましい。
以下、上記高分子化合物の各構成単位、及び、構成単位同士の組み合わせについて説明する。
YA31、YA32、及び、YA33はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、YA31、及び、YA32、はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、炭素数4以下のアルキレン基であることがより好ましい。YA31、及び、YA32におけるアルキレン基又はアリーレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数6以下のアルキル基、炭素数6以下のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数4以下のアルキル基又は無置換であることがより好ましい。YA33は、アミド又はチオエーテルを含むアミドであることが好ましく、アミドであることがより好ましい。
WA31はで炭素原子又は窒素原子を表し、炭素原子であることが好ましい。
ZA31はそれぞれ独立に、スルホンアミド基、又は、ヒドロキシ基を表し、スルホンアミド基であることがより好ましい。
i3は1〜5の整数を表し、1であることが好ましい。
j3は1又は0を表し、WA31が炭素原子である場合は1を、WA31が窒素原子である場合は0を表すことが好ましい。
本発明に用いられる特定高分子化合物は、2つ以上のイソシアネート基を有する化合物と、2つ以上のアミノ基を有する化合物との逐次重合反応により生成するか、2つ以上のイソシアネート基を有する化合物と2つ以上のヒドロキシ基を有する化合物の逐次重合反応により生成されるポリマーことが好ましく、L11及び/又はL21は、上記2つ以上のアミノ基を有する化合物、又は、上記2つ以上のヒドロキシ基を有する化合物に由来する構造を含む連結基であることが好ましい。
また、L12及び/又はL22は、イソシアネート基を2つ以上有する化合物に由来する構造を含む連結基であることが好ましい。
また、本発明に用いられる構成単位2中のXは後述する一価の酸性化合物由来のアニオンであることが好ましい。
特定高分子化合物中、式A−1、式A−2又は式A−3で表される構成単位の含有量は、1〜70質量%であることが好ましく、20〜70質量%であることがより好ましく、30〜60質量%であることが更に好ましい。
以下、好ましい主鎖構造を有するポリマーについて説明する。
本発明においてアミン結合又は第4級アンモニウム塩結合を主鎖に有するポリウレアとは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物と3級アミンを少なくとも1つ含有するアニリン又はアミノ基を2つ以上有する化合物との逐次重合反応により生成されるポリマーであって、アミン結合又はアンモニウム塩結合を主鎖に有するポリウレアであれば特に制限はない。
本発明に用いることができる上記ポリウレアの好ましい具体例を表1及び表2に示す。具体例PU−1〜PU−25は、表1及び表2に記載された、3級アミンを少なくとも1つ含有するジアミン化合物と、フェノール性水酸基又はスルホンアミド基を少なくとも1つ含有するアニリン又はアミノ基を2つ以上有する化合物と、イソシアネート基を2つ以上有する化合物とを表1及び表2に記載された割合(モル比)で反応してできた特定高分子化合物を意味する。
また、表中にはポリウレアの合成に使用したモル比及び得られた特定ポリウレアの重量平均分子量(Mw)を示すが、本発明に用いられるポリウレアはこれらに限定されない。
また、ポリマーの重量平均分子量は、GPC法により測定した値である。
本発明においてアミン結合又は第4級アンモニウム塩結合を主鎖に有するポリウレタンとは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物と3級アミンを少なくとも1つを含有するジオール化合物の逐次重合反応により生成されるポリマーであって、アミン又はアンモニウム塩を主鎖に有するポリウレタンであれば特に制限はない。
本発明に用いることができる上記ポリウレタンの好ましい具体例を表3に示す。具体例PT−1〜PT−15は、表3に記載された、3級アミンを少なくとも1つを含有するジオール化合物、及び、スルホンアミド基を少なくとも1つを含有するジオール化合物とイソシアネート基を2つ以上有する化合物とを表3に記載された割合(モル比)で反応してできた特定高分子化合物を意味する。また、ポリウレタンの合成に使用したモル比及び得られたポリウレタンの重量平均分子量(Mw)を示すが、本発明に用いられるポリウレタンはこれらに限定されない。
また、ポリマーの重量平均分子量は、GPC法により測定した値である。
本発明において用いられるアミン結合又は第4級アンモニウム塩結合を主鎖に有するポリカーボネートとは、アルキルカーボネートなどのカーボネート基を有する化合物と第3級アミンを少なくとも1つを含有するジオール化合物の逐次重合反応により生成されるポリマーであって、アミン又はアンモニウム塩を主鎖に有するポリカーボネートであれば特に制限はない。
本発明に用いることができるポリカーボネートの好ましい具体例を表4に示す。具体例PK−1〜PK11は、表4に記載された、第3級アミンを少なくとも1つを含有するジオール化合物、及び、酸基を少なくとも1つを含有するジオール化合物と上記のいずれも含まないジオール化合物とを表4に記載された割合(モル比)で、炭酸ジエチルと反応してできた特定高分子化合物を意味する。また、ポリカーボネートの合成に使用したモル比及び得られたポリカーボネートの重量平均分子量(Mw)を示すが、本発明に用いられるポリカーボネートはこれらに限定されない。
また、ポリマーの重量平均分子量は、GPC法により測定した値である。
本発明の感光性樹脂組成物は、赤外線吸収材料を含有する。
赤外線吸収材料としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。
本発明に用いることができる赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち、赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収するものが、赤外光又は近赤外光を発光するレーザーでの利用に適する点で好ましく、シアニン染料が特に好ましい。
また、染料として米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のEpolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等が特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
Y11、Y12は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R2c及びR2dは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
R2e、R2f、R2g及びR2hは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。但し、式(a)で示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Za-は必要ない。好ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
上層が含有する赤外線吸収剤として特に好ましくは、以下に示すシアニン染料Aでる。
以下、本発明の感光性樹脂組成物の好ましい成分である一価の酸性化合物、及び、任意成分である他のアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸増殖剤、その他の添加剤について説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、一価の酸性化合物を含むことが好ましい。
本発明に用いられる一価の酸性化合物とは、上記特定高分子化合物中の構成単位1と塩構造を形成可能な一価の酸性化合物を意味し、好ましい例としては、塩酸、硝酸、などの無機酸、あるいは、アルキルカルボン酸、環状アルキルカルボン酸、芳香族カルボン酸、アルキルスルホン酸、環状アルキルスルホン酸、芳香族スルホン酸、リン酸、環状アルキルリン酸、芳香族リン酸などの有機酸を挙げることができる。
また、本発明において「塩構造を形成する」とは、そこで定義される化合物ないし基がそのまま塩をなすことのほか、その化合物ないし塩の一部が組み合わされて塩をなすことを意味する。例えば、特定の化合物のカチオンが解離してアニオン部分のみがアミノ基と塩を形成してもよい。また、上記「塩構造」が感光性樹脂組成物の層中で解離して存在していてもよい。
LD100、LE100、LF100及びLF200はそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を表し、アルキル基、アリール基は、更に、ヒドロキシ基、アミド基、エステル基等の置換基を有していてもよい。
これら式A〜式Fで示される好ましい化学構造を含む、本発明に使用しうる一価の酸性化合物の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに制限されない。
酸性化合物の本発明の感光性樹脂組成物に対する添加量は、樹脂組成物の全固形分質量に対し、好ましくは0.01〜30質量%、より好ましくは0.5〜20質量%である。
特定高分子化合物に対して、一価の酸性化合物の添加量(中和量)は、層間混合抑制、現像性、耐刷性の観点から、塩基性基100mol%に対し、30mol%〜100mol%であることが好ましく、50mol%〜100mol%であることがより好ましく、80mol%〜100mol%であることが最も好ましい。
なお、本発明に用いられる特定高分子化合物は、これらの具体例に限定されるものではない。
本発明で用いることのできる上記一価のスルホン酸エステル化合物の中でも、芳香族スルホン酸が好ましく、下記式(G)で示される構造を有する一価の酸性化合物が好ましく挙げられる。
ZG100は、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を表し、YG100とZG100は結合して環を形成してもよい。アルキル基、アリール基は、更に、ヒドロキシ基、アミド基、エステル基、ハロゲン等の置換基を有していてもよい。
なお、本発明に用いられる特定高分子化合物は、これらの具体例に限定されるものではない。
上記化合物の本発明の感光性樹脂組成物に対する含有量は、樹脂組成物の全固形分質量に対し、好ましくは0.01〜30質量%、より好ましくは0.5〜20質量%である。
一価の酸性化合物の添加量(中和量)は、層間混合抑制、現像性、耐刷性の観点から、塩基性基100mol%に対し、30mol%〜100mol%であることが好ましく、50mol%〜100mol%であることがより好ましく、80mol%〜100mol%であることが最も好ましい。
なお、本発明に用いられる特定高分子化合物は、これらの具体例に限定されるものではない。
なお、「一価の」酸性化合物において優れた効果を奏する理由については以下のように推定される。つまり、2価以上の多価化合物により例えば特定高分子化合物中の塩基と架橋構造を作ってしまうと、現像性及び現像ラチチュードが悪化する方向となりうる。一価の化合物であればそのような架橋構造を生じず、良好な特性が得られるものと考えられる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を、後述する上層と下層との重層構造を持つ印刷版原版に用いる場合、それらの層の相溶を抑制する観点から、酸性化合物の共役塩基はそのpKaが1〜6であることが好ましい。一方、このような強塩基側で2価以上の化合物となると上記の架橋構造を一層作りやすくなるので、現像性及び現像ラチチュードは更に避けがたいものとなる。この観点からも、本願発明において一価の酸性化合物を適用することが効果的であり好ましい。
本発明において、「アルカリ可溶性」とは、pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液に標準現像時間の処理で可溶であることを意味する。
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる、特定高分子化合物以外のアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に、フェノール性水酸基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の酸性の官能基を有するものが好ましく、このような、アルカリ可溶性を付与する酸性の官能基を有するモノマーを10モル%以上含む樹脂が挙げられ、20モル%以上含む樹脂がより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が10モル%以上であると、アルカリ可溶性が十分得られ、また、現像性に優れる。
本発明に用いることができるノボラック樹脂としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
また更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3−8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。また、その重量平均分子量(Mw)が500以上であることが好ましく、1,000〜700,000であることがより好ましい。また、その数平均分子量(Mn)が500以上であることが好ましく、750〜650,000であることがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に所望により含まれる他のアルカリ可溶性樹脂は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
本発明における感光性樹脂組成物の全固形分中に対する他のアルカリ可溶性樹脂の含有量は、0〜98質量%の添加量が好ましく、0〜80質量%であることがより好ましい。また、本発明に用いられる特定高分子化合物100質量部に対し、80質量部以下の割合で含むことが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、感度向上の観点から、酸発生剤を含有することが好ましい。
本発明において酸発生剤とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、赤外線の照射や、100℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。この酸発生剤から発生した酸が触媒として機能し、上記酸分解性基における化学結合が開裂して酸基となり、記録層のアルカリ水溶液に対する溶解性がより向上するものである。
更に、上記特開平8−220752号公報において、「酸前駆体」として記載されている化合物、あるいは、特開平9−171254号公報において「(a)活性光線の照射により酸を発生しうる化合物」として記載されている化合物なども本発明の酸発生剤として適用しうる。
本発明において好適に用い得るオニウム塩化合物としては、赤外線露光、及び、露光により赤外線吸収剤から発生する熱エネルギーにより分解して酸を発生する化合物として知られる化合物を挙げることができる。本発明に好適なオニウム塩化合物としては、感度の観点から、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する、以下に述べるオニウム塩構造を有するものを挙げることができる。
本発明において好適に用いられるオニウム塩としては、公知のジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、アジニウム塩等が挙げられ、中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムのスルホン酸塩、カルボン酸塩、BF4 -、PF6 -、ClO4 -などが好ましい。
本発明において酸発生剤として用いうるオニウム塩としては、下記式(III)〜(V)で表されるオニウム塩が挙げられる。
上記式(IV)中、Ar21は、置換基を有していてもよい炭素数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数12個以下のアルキル基、炭素数12個以下のアルコキシ基、炭素数12個以下のアリールオキシ基、炭素数12個以下のアルキルアミノ基、炭素数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21-はZ11-と同義の対イオンを表す。
上記式(V)中、R31、R32及びR33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数12個以下のアルキル基、炭素数12個以下のアルコキシ基、又は炭素数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオンを表す。
一価の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル墓、水酸基、置換オキシ基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、置換スルホニル基、スルホナト基、置換スルフィニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、等が挙げられ、導入可能な場合には更に置換基を有していてもよい。
Z41-はZ11-と同義の対イオンを表す。
上記式(VI)で示されるアジニウム塩化合物の具体例としては、特開2008−195018号公報の段落0047〜0056に記載の化合物を挙げることができる。
また、特開昭63−138345号公報、特開昭63−142345号公報、特開昭63−142346号公報、特開昭63−143537号公報並びに特公昭46−42363号公報の各公報に記載のN−O結合を有する化合物群もまた、本発明における酸発生剤として好適に用いられる。
本発明に用いうる酸発生剤のより好ましい例として、下記化合物(PAG−1)〜(PAG−5)が挙げられる。
酸発生剤の好ましい添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜40質量%、より好ましくは0.5〜30質量%の範囲である。添加量が上記範囲において、酸発生剤添加の効果である感度の向上が見られるとともに、現像時における残膜の発生が抑制される。
本発明の記録層には、酸増殖剤を添加してもよい。本発明における酸増殖剤とは、比較的に強い酸の残基で置換された化合物であって、酸触媒の存在下で容易に脱離して新たに酸を発生する化合物である。すなわち、酸触媒反応によって分解し、再び酸(以下、式でZOHと記す。)を発生する。1反応で1つ以上の酸が増えており、反応の進行に伴って加速的に酸濃度が増加することにより、飛躍的に感度が向上する。この発生する酸の強度は、酸解離定数(pKa)として3以下であり、更に2以下であることが好ましい。これよりも弱い酸であると、酸触媒による脱離反応を引き起こすことができない。
このような酸触媒に使用される酸としては、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、フェニルスルホン酸等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、その他の添加剤として、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤/着色剤、可塑剤、ワックス剤等を含んでもよい。
本発明の感光性樹脂組成物には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシテトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては、無水酢酸などが挙げられる。
フェノール類としては、ビスフェノールA、2,2’−ビスヒドロキシスルホン、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されており、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の感光性樹脂組成物の全固形分に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特開2003−57820号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。
界面活性剤の感光性樹脂組成物の全固形分に占める割合は、0.01〜15質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.05〜2.0質量%が更に好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤及び着色剤としては、例えば、特開2009−229917号公報の段落0122〜0123に詳細に記載され、ここに記載の化合物を本発明にも適用しうる。
これらの染料は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合で添加することが好ましく、0.1〜3質量%の割合で添加することがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加してもよい。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、0.5〜10質量%の割合で添加することが好ましく、1.0〜5質量%の割合で添加することがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第6,117,913号明細書、特開2003−149799号公報、特開2003−302750号公報、又は、特開2004−12770号公報に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることができる。
添加量として好ましいのは、感光性樹脂組成物の固形分中に占める割合が0.1〜10質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物の全固形分質量に対して、特定高分子化合物の含有量は10〜90質量%であることが好ましく、赤外線吸収剤の含有量は0.01〜50質量%であることが好ましく、一価の塩基性化合物の含有量は0〜30質量%以上であることが好ましく、他のアルカリ可溶性樹脂の含有量は0〜80質量%であることが好ましく、酸発生剤の含有量は0〜30質量%であることが好ましく、酸増殖剤の含有量は0〜20質量%であることが好ましく、現像促進剤の含有量は0〜20質量%であることが好ましく、界面活性剤の含有量は0〜5質量%であることが好ましく、焼き出し剤/着色剤の含有量は0〜10質量%であることが好ましく、可塑剤の含有量は0〜10質量%であることが好ましく、ワックス剤の含有量は0〜10質量%であることが好ましい。
本発明の平版印刷版原版は、本発明の感光性樹脂組成物を含む記録層を有する。
また、本発明の平版印刷版原版は、ポジ型の平版印刷版原版であることが好ましい。
更に、本発明の平版印刷版原版は、親水性表面を有する支持体上に下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなるポジ型平版印刷版原版であって、上記感光性樹脂組成物を下層及び/又は上層に含有することが好ましく、下層又は上層に含有することがより好ましく、下層のみに含有することが更に好ましい。
本発明に用いられる記録層は、上記の感光性樹脂組成物の各成分を溶剤に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。
また、本発明の記録層は、支持体上に下層及び上層をこの順に有する記録層(以下、「2層構造の平版印刷版原版」ともいう。)であることが好ましい。
下層及び上層は、原則的に2つの層を分離して形成することが好ましい。
2つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去する方法等が挙げられる。後者の方法を併用することにより、層間の分離が一層良好に行われることになるため好ましい。
以下、これらの方法について詳述するが、2つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、0.05〜1.0g/m2の範囲にあることが好ましく、0.08〜0.7g/m2の範囲であることがより好ましい。0.05g/m2以上であると、現像ラチチュード、及び、耐傷性に優れ、1.0g/m2以下であると、感度に優れる。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、0.6〜4.0g/m2の範囲にあることが好ましく、0.7〜2.5g/m2の範囲にあることがより好ましい。0.6g/m2以上であると、耐刷性に優れ、4.0g/m2以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
本発明における2層構造の平版印刷版原版の上層は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成することもできるが、本発明の感光性樹脂組成物以外の樹脂組成物を用いて形成することが好ましい。
本発明における2層構造の平版印刷版原版の上層は、熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する赤外線感応性のポジ型記録層であることが好ましい。
上層における熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する機構には特に制限はなく、バインダー樹脂を含み、加熱された領域の溶解性が向上するものであれば、いずれも用いることができる。画像形成に利用される熱としては、赤外線吸収剤を含む下層が露光された場合に発生する熱が挙げられる。
熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する上層としては、例えば、ノボラック、ウレタン等の水素結合能を有するアルカリ可溶性樹脂を含む層、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、アブレーション可能な化合物を含む層、などが好ましく挙げられる。
本発明に係る上層には、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することで、赤外線吸収剤と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が有する極性基との間に相互作用が形成され、ポジ型の感光性を有する層が形成される。
一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
本発明に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又は、これらの混合物であることが好ましい。
このような酸性基を有する水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の官能基を有することが好ましい。したがって、このような樹脂は、上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーを1つ以上含むモノマー混合物を共重合することによって好適に生成することができる。上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーは、アクリル酸、メタクリル酸の他に、下式で表される化合物及びその混合物が好ましく例示できる。なお、下式中、R40は水素原子又はメチル基を表す。
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、等のアルキルアクリレートやアルキルメタクリレート。2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のその他の窒素原子含有モノマー。N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニルマレイミド、N−2,6−ジエチルフェニルマレイミド、N−2−クロロフェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド、等のマレイミド類。
これらの他のエチレン性不飽和モノマーのうち、好適に使用されるのは、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド類、(メタ)アクリロニトリルである。
また、上記の水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を本発明の樹脂組成物に用いることも可能である。
また、混合する量としては、上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂に対して50質量%以下であることが好ましい。
本発明の画像記録材料の他の樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
本発明における他の樹脂組成物の全固形分中に対するアルカリ可溶性樹脂の含有量は、全固形分中、2.0〜99.5質量%であることが好ましく、10.0〜99.0質量%であることがより好ましく、20.0〜90.0質量%であることが更に好ましい。アルカリ可溶性樹脂の添加量が2.0質量%以上であると記録層(感光層)の耐久性に優れ、また、99.5質量%以下であると、感度、及び、耐久性の両方に優れる。
上記、他の樹脂組成物には、赤外線吸収剤を含んでもよい。
赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、前述した、本発明の樹脂組成物において用いられる赤外線吸収剤を同様に用いることができる。
特に好ましい染料は、上記式(a)で表されるシアニン染料である。
上層における赤外線吸収剤の添加量としては、上層全固形分に対し、0.01〜50質量%であることが好ましく、0.1〜30質量%であることがより好ましく、1.0〜10質量%であることが特に好ましい。添加量が0.01質量%以上であることで感度が改良され、また、50質量%以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。
その他、2層構造の平版印刷版原版における上層は、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤/着色剤、可塑剤、ワックス剤等を含んでもよい。
これらの成分は、前述した、本発明の樹脂組成物において用いられるそれぞれの成分を同様に用いることができ、好ましい態様も同様である。
本発明における2層構造の平版印刷版原版の下層は、本発明の感光性樹脂組成物を塗布することにより形成されることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、画像形成性や耐刷性に優れた印刷版を得ることができる。
また、本発明の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、特に低品質のインク、紙等の資材を用いた場合に耐刷性が向上する。
上記のような効果が得られる詳細な機構は不明であるが、印刷における耐刷性は下層に用いられる樹脂の膜強度が重要であると推測されることから、バインダー間の相互作用(水素結合など)が強いため膜強度の高い本発明の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、耐刷性が向上すると推定している。
本発明の画像記録材料に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙、又は、プラスチックフィルム等が挙げられる。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みは、0.1〜0.6mmであることが好ましく、0.15〜0.4mmであることがより好ましく、0.2〜0.3mmであることが特に好ましい。
陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面は、必要により親水化処理が施される。
親水化処理としては、2009−175195号公報の段落0169に開示されているような、アルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法、フッ化ジルコン酸カリウム、あるいは、ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
また、特開2011−245844号公報に記載された支持体も好ましく用いられる。
本発明の画像記録材料を平版印刷版原版に適用する場合には、必要に応じて支持体と下層との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。また、これら下塗層成分は、1種単独で用いても、2種以上混合して用いてもよい。下塗層に使用される化合物の詳細、下塗層の形成方法は、特開2009−175195号公報の段落0171〜0172に記載され、これらの記載は本発明にも適用される。
下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2であることが好ましく、5〜100mg/m2であることがより好ましい。被覆量が上記範囲であると、十分な耐刷性能が得られる。
本発明の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
本発明の平版印刷版の作製方法は、上記平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、現像液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む。
本発明の平版印刷版の作製方法によれば、焼きだめ性が良好となり、得られた平版印刷版は、非画像部の残膜に起因する汚れの発生がなく、画像部の強度、耐久性に優れる。
以下、本発明の作製方法の各工程について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版の作製方法は、本発明の平版印刷版原版を画像様に露光する露光工程を含む。
本発明の平版印刷版原版の画像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザー、半導体レーザーがより好ましい。中でも、本発明においては、波長750〜1,400nmの赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーにより画像露光されることが特に好ましい。
レーザーの出力は、100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。
平版印刷版原版に照射されるエネルギーは、10〜300mJ/cm2であることが好ましい。上記範囲であると、硬化が十分に進行し、また、レーザーアブレーションを抑制し、画像が損傷を防ぐことができる。
本発明の平版印刷版の作製方法は、現像液を用いて現像する現像工程を含む。
現像工程に使用される現像液は、pH6.0〜13.5の水溶液が好ましく、pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液がより好ましい。界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
上記現像液に用いられる界面活性剤は、アニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性の界面活性剤のいずれも用いることができるが、既述のように、アニオン性、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。
本発明における現像液に用いられるアニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性界面活性剤としては、特開2013−134341号公報の段落0128〜0131に記載のものを使用することができる。
上記現像液に用いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤及びノニオン界面活性剤が好ましく、スルホン酸又はスルホン酸塩を含有するアニオン性界面活性剤及び、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するノニオン界面活性剤が特に好ましい。
界面活性剤は、単独又は組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の現像液中における含有量は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
上記現像液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。ただし、水溶性高分子化合物を添加すると、特に現像液が疲労した際に版面がベトツキやすくなるため、添加しないことが好ましい。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は20〜400μm、毛の長さは5〜30mmのものが好適に使用できる。
回転ブラシロールの外径は30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は0.1〜5m/secが好ましい。回転ブラシロールは、複数本用いることが好ましい。
本発明の平版印刷版の作製方法において好適に用いられる自動処理機としては、現像部と乾燥部とを有する装置が用いられ、平版印刷版原版に対して、現像槽で、現像とガム引きとが行なわれ、その後、乾燥部で乾燥されて平版印刷版が得られる。
このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に好適に用いられる。
本発明の高分子化合物は、本発明の感光性樹脂組成物に用いられる高分子化合物と同義であり、好ましい態様も同様である。
本発明の高分子化合物の第一の好ましい態様は、アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記の式A−4で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物である。
式A−4中、YA41、YA42、ZA41、m4及びn4は、式A−1中のYA11、YA12、ZA11、m1及びn1と同義であり、好ましい態様も同様である。
式A−5中、YA51、YA52、WA51及びk5は、式A−2中のYA21、YA22、WA21、及びk2と同義であり、好ましい態様も同様である。
式A−6中、RA61、YA61〜YA63、WA61、ZA61、i6及びj6は、式A−3中のRA31、YA31〜YA33、WA31、ZA31、i3及びj3と同義であり、好ましい態様も同様である。
<PU−2の合成>
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、3,3’−ジヒドロキシベンジジン(東京化成工業(株)製)を3.89g、N,N’−ビス(3−アミノプロピルアミン)メチルアミン(東京化成工業(株)製)を0.29g、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.0083g、N,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)35.72gを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。
1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(東京化成工業(株)製)3.88gをN,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)10.00gに溶解させ、室温中、滴下ロートを用いて15分かけて滴下し、その後室温で30分撹拌して反応させた後、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.30g、添加し、15分間撹拌した。次いで、メタノール10mLを反応液に加え、65℃、2時間反応させた後、室温まで冷却し、溶解させた。
上記反応液を純水0.3L、メタノール0.3Lの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量51,000のバインダーポリマー(PU−2)、7.55gを得た。
目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。同様にして、PU−1及びPU−3〜25を合成することができる。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、3,3’−ジヒドロキシベンジジン(東京化成工業(株)製)を3.89g、N,N’−ビス(3−アミノプロピルアミン)メチルアミン(東京化成工業(株)製)を0.29g、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.0083g、N,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)35.72gを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。
1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(東京化成工業(株)製)3.88gをN,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)10.00gに溶解させ、室温中、滴下ロートを用いて15分かけて滴下し、その後室温で30分撹拌して反応させた後、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.30g、添加し、15分間撹拌した。次いで、メタノール10mLを反応液に加え、65℃、2時間反応させた後、室温まで冷却し、p−トルエンスルホン酸1水和物(和光純薬工業(株)製)0.38g添加し、溶解させた。
上記反応液を純水0.3L、メタノール0.3Lの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量51,000のバインダーポリマー(PA−1)、8.02gを得た。
目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。同様にして、PA−2〜15を合成することができる。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、3,3’−ジヒドロキシベンジジン(東京化成工業(株)製)を3.89g、N,N’−ビス(3−アミノプロピルアミン)メチルアミン(東京化成工業(株)製)を0.29g、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.0083g、N,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)35.72gを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。
1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(東京化成工業(株)製)3.88gをN,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)10.00gに溶解させ、室温中、滴下ロートを用いて15分かけて滴下し、その後室温で30分撹拌して反応させた後、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.30g、添加し、15分間撹拌した。次いで、メタノール10mLを反応液に加え、65℃、2時間反応させた後、p−トルエンスルホン酸メチル(和光純薬工業(株)製)0.37gを反応液に加え、80℃、4時間反応させた。
上記反応液を純水0.3L、メタノール0.3Lの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量51,000のバインダーポリマー(PS−1)8.21gを得た。
目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。同様にして、PS−2〜9を合成することができる。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、クロロスルホン酸500.0gを秤取し、次いで、室温中、ジフェニルスルホン(Aldrich社製)130.96gを添加し、室温にて1時間撹拌した。反応液を80℃まで昇温し、8時間撹拌した。本反応液を撹拌しながら、室温まで冷却し、2Lの氷冷水に晶析し、30分撹拌した後、これをろ取し、6Lの酢酸エチルに溶解した。本酢酸エチル溶液を分液ロートに移し、純水にて2回分液洗浄し、次いで、飽和食塩水にて分液洗浄した。有機層を三角フラスコに移し、硫酸マグネシウム30gを添加し、撹拌し、固形物をろ過で取り除いた後、エバポレーターを用いて酢酸エチルを留去し、40℃で24時間真空乾燥し、目的物の前駆体S−1(ジスルホン酸クロリド体)を145g得た。前駆体(S−1)であることはNMRスペクトルから確認した。前駆体S−1について1NMRによる分析を行った。その結果を以下に示す。
1NMRデータ(重Dテトラヒドロフラン、400MHz、内部標準:テトラメチルシラン)
δ(ppm)=8.00−8.04(t、2H)、8.43−8.48(d、2H)、8.56−8.59(d、2H)、8.76(s、2H)
1NMRデータ(重DMSO、400MHz、内部標準:テトラメチルシラン)
δ(ppm)=2.80−2.83(t、4H)、3.32−3.36(t、4H)、4.67(s、2H)、7.86−7.90(t、2H)、7.94(s、2H)、8.11−8.13(d、2H)、8.24−8.26(d−2H)、8.35(s−2H)
同様にして、SP−2〜8を合成することができる。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、SP−1を18.58g、N−メチルジエタノールアミン(東京化成工業(株)製)を1.19g、N,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)65.76gを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。
ヘキサメチレンジイソシアナート(東京化成工業(株)製)8.41gを室温中、滴下ロートを用いて10分かけて滴下し、次いでネオスタンU−600(日東化成(株)製:ビスマス触媒)0.01g添加し、10分撹拌した後、反応液を60℃に昇温し、6時間撹拌した。次いで、メタノール10mLを反応液に加え、60℃、2時間反応させた後、室温まで冷却した。
上記反応液を純水1L、メタノール1Lの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量56,000のバインダーポリマー(PT−1)26.2gを得た。
目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。同様にして、PT−2〜15を合成することができる。
窒素置換された撹拌器・還流管付き3口フラスコに、各モノマージオールの混合物合計40質量部、炭酸ジエチル60質量部、20%ナトリウムエトキシドエタノール溶液60質量部を混合し、120℃に昇温した。その後、反応器内を30kPa程度減圧し、更に1時間撹拌した。その後、0.1kPaの真空下、3時間撹拌した。室温まで冷却した後、500質量部の純水へ反応物を撹拌しながら滴下した。得られた白色の粉末をろ過により取り出し、送風乾燥し、重量平均分子量41,000のバインダーポリマー(PK−2)を得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。同様にして、PK−1及び3〜11を合成することができる。
<支持体の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム合金板に対し、下記(A)から(F)のうちいずれかの処理を施し、平版印刷版用支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
(A−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.5g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.5g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン7g/Lを溶解した溶液を使用し、液温43℃、電流密度30A/dm2の条件下で陽極酸化処理を行った。マイクロポアの深さは27μm、得られた被膜量は0.13g/m2であった。
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度35℃、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に1秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン7g/Lを溶解した溶液を使用し、液温55℃、電流密度20A/dm2の条件下で陽極酸化処理を行った。得られた被膜量は2.6g/m2であった。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(C−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、1.0g/m2であった。
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸150g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、3秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dm2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dm2であり、電解処理は125C/dm2ずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度35℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は0.1g/m2であった。その後、水洗処理を行った。
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5.0g/L溶解)を用いた。液温は30℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/m2であった。
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.2g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具合的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/m2であった。
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.2g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具合的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。
電解浴としては硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン7g/Lを溶解した溶液を使用し、液温43℃、電流密度30A/dm2の条件下で陽極酸化処理を行った。マイクロポアの深さは27μm、得られた被膜量は0.13g/m2であった。
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度35℃、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に1秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン7g/Lを溶解した溶液を使用し、液温40℃、電流密度20A/dm2の条件下で陽極酸化処理を行った。得られた被膜量は2.6g/m2であった。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(F−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/m2であった。
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.2g/m2であった。
次に、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5.0g/L溶解)を用いた。液温は30℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.5g/m2であった。
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上述のように作製された支持体A〜F上に、以下に示す下塗り層塗布液1を塗布した後、80℃で15秒間乾燥し、下塗層を設けて支持体A−1〜F−1とした。乾燥後の被覆量は、15mg/m2であった。
(下塗層塗布液1)
・分子量2.8万の下記共重合体(下記構造式中、括弧の右下の添え字は各構成単位の含有量(モル%)を表す):0.3g
・メタノール:100g
・水:1g
得られた支持体A−1〜F−1に、下記組成の下層形成用塗布液組成物(I)を、ワイヤーバーで塗布したのち、150℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥して塗布量を1.0g/m2となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物(II)をワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後150℃、40秒間の乾燥を行い、下層と上層を合わせた塗布量が1.2g/m2となる平版印刷版原版を得た。
・表7に記載の特定高分子化合物:3.5部
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量6,000):0.6部
・赤外線吸収剤(IR色素(1):下記構造):0.2部
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン:0.3部
・テトラヒドロフタル酸:0.4部
・p−トルエンスルホン酸:0.02部
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート:0.06部
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの:0.15部
・フッソ系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業):0.07部
・メチルエチルケトン:30部
・1−メトキシ−2−ブチロラクトン:15部
・γ−ブチロラクトン:15部
・ノボラック樹脂(m−クレゾール/p−クレゾール/フェノール=3/2/5、Mw8,000):0.68部
・赤外線吸収剤(IR色素(1):上記構造):0.045部
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製):0.03部
・メチルエチルケトン:15.0部
・1−メトキシ−2−プロパノール:30.0部
・1−(4−メチルベンジル)−1−フェニルピペリジニウムの5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシベンゼンスルホン酸塩:0.01部
<非画像部現像時間の評価>
平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter VXにて露光エネルギーを変えてテストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム(株)製現像液XP−D(希釈して、電導度を43mS/cmとしたもの)を仕込んだ現像浴に浸漬させ、現像温度30℃で非画像部の現像に要する時間を測定した。画像濃度が、Al支持体の画像濃度と同等となった浸漬時間を非画像部現像時間とした。非画像部現像時間が短いほど、アルカリ水溶液現像性(ハイライト再現性)が良好である。結果を表7に示す。
平版印刷版原版をCreo社製Trendsetterにて、ビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム(株)製現像液XP−D(希釈して、電導度43mS/cmとしたもの)を仕込んだ富士フイルム(株)製PSプロセッサーLP940Hを用い、現像温度30℃、現像時間12秒で現像を行った。これを、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。インキとしては、低品位資材のモデルとして、炭酸カルシウムを含有させた東洋特練墨インキを使用した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。枚数が多いほど耐刷性に優れるものと評価する。結果を表7に示す。
実施例の平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光・現像及び印刷を行った。この際、5,000枚印刷する毎に、クリーナー(富士フイルム(株)製、マルチクリーナー)で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。この時の耐刷性が、前述の耐刷枚数の95%以上100%以下であるものを1、80%以上95%未満であるものを2、60%以上80%未満であるものを3、60%未満を4とした。クリーナーで版面を拭く工程を加えた場合であっても、耐刷指数に変化が小さいほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を以下の表7に示す。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、4.4’−ジアミノジフェニルメタン(東京化成工業(株)製)12.51g、N−メチルピロリドン(関東化学(株)製)112.59gを秤量し、氷冷しながら撹拌し、均一溶液とした。次いで滴下ロートにメチレンジフェニル4.4’−ジイソシアナート(東京化成工業(株)製)5.95g及びN−メチルピロリドン(関東化学(株)製)53.5gを秤量し、溶解した後、1時間かけて反応液へ滴下した。0〜10℃で1時間撹拌後、室温で2時間反応させた。反応液を純水0.5L、メタノール0.5Lの混合液に滴下し、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、平均分子量76,000のバインダーポリマー(CP−1)14.8gを得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、1.6−ヘキサンジアミン(東京化成工業(株)製)6.97g、N−メチルピロリドン(関東化学(株)製)53.9gを秤量し、窒素フローしながら室温で撹拌し、均一溶液とした。次いでピリジン(関東化学(株)製)9.49g及び4−ジメチルアミノピリジン(東京化成工業(株)製)7.33gを秤量し、反応液に添加し、溶解させた。次いで4.4’−オキシビス(ベンゼンスルホニルクロリド)(東京化成工業(株)製)22.03gをフラスコに添加し、室温で1時間撹拌後、60℃に昇温し、10時間反応させた。反応液を純水0.5L、メタノール0.5Lの混合液に滴下し、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、平均分子量52,000のバインダーポリマー(CP−2)25.5gを得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、N,N’−ジメチルホルムアミド(和光純薬工業(株)製)5.80gを秤量し、窒素フローしながら65℃で30分撹拌した。次いで滴下ロートに4−メタクリルアミドベンゼンスルホンアミド(富士フイルムファインケミカルズ(株)製)7.21g、メタクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)3.00g、アクリロニトリル(東京化成工業(株)製)2.12g、N,N’−ジメチルホルムアミド(和光純薬工業(株)製)23.0、アソビスイソブチロニトリル(和光純薬工業(株)製)0.324を秤量し、溶解させ、2時間かけてフラスコに滴下した。更に65℃で3時間撹拌した。反応液を純水0.5L、メタノール0.5Lの混合液に滴下し、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、平均分子量53,000のバインダーポリマー(CP−3)11.2gを得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。
<支持体の作製>
実施例1〜18と同様にして、支持体A〜Fを作製した。
<下塗層の形成>
実施例1〜18と同様にして、下塗層を有する支持体A−1〜F−1を作製した。
<記録層の形成>
得られた支持体A−1〜F−1に、下記組成の下層形成用塗布液組成物(III)を、ワイヤーバーで塗布したのち、150℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥して塗布量を1.0g/m2となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物(IV)をワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後150℃40秒間の乾燥を行い、下層と上層を合わせた塗布量が1.2g/m2となる平版印刷版原版を得た。
・N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/メタクリル酸メチル/アクリロニトリル=35/35/30(モル比)の共重合体(重量平均分子量6.5万):3.5部
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量6,000):0.6部
・赤外線吸収剤(上記IR色素(1)):0.2部
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン:0.3部
・テトラヒドロフタル酸:0.4部
・p−トルエンスルホン酸:0.02部
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート:0.06部
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの:0.15部
・フッソ系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製):0.07部
・メチルエチルケトン:30部
・1−メトキシ−2−ブチロラクトン:15部
・γ−ブチロラクトン:15部
・表8に記載の特定高分子化合物:0.3部
・ノボラック樹脂(m−クレゾール/p−クレゾール/フェノール=3/2/5、Mw8,000):0.4部
・赤外線吸収剤(上記IR色素(1)):0.045部
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製):0.03部
・メチルエチルケトン:15.0部
・1−メトキシ−2−プロパノール:30.0部
・1−(4−メチルベンジル)−1−フェニルピペリジニウムの5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシベンゼンスルホン酸塩:0.01部
<支持体の作製>
実施例1〜18と同様にして、支持体A〜Fを作製した。
上述のように作製された支持体A〜F上に、以下に示す下塗層塗布液2を塗布した後、80℃で15秒間乾燥し、下塗層を設けて支持体A−1〜F−1とした。乾燥後の被覆量は、15mg/m2であった。
(下塗層塗布液2)
・β−アラニン:0.5部
・メタノール:95部
・水:5部
得られた支持体A−1〜F−1に、下記組成の下層形成用塗布液組成物(V)を、塗布量が1.5g/m2となるようワイヤーバーで塗布したのち、160℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥し、直ちに17〜20℃の冷風で支持体の温度が35℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物(VI)を塗布量が0.5g/m2になるようワイヤーバーで塗布したのち、130℃で40秒間乾燥し、更に20〜26℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。
・表9に記載の特定高分子化合物:0.8部
・赤外線吸収剤(IR色素(1):上記構造):0.017部
・クリスタルヴァイオレット(保土ヶ谷化学(株)製):0.017部
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤):0.015部
・γ−ブチロラクトン:10部
・メチルエチルケトン:10部
・1−メトキシ−2−プロパノール:8部
・スチレン/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマー(組成比69mol%/25mol%/6mol%、重量平均分子量 45,000):20部
・アルカリ可溶性樹脂:下記ポリウレタン1:10部
・エチルバイオレット:0.03部
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤):0.05部
・3−ペンタノン:60部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルー2−アセテート:8部
下記式で表されるジイソシアネート化合物とジオール化合物とを1:1のモル比となるように重合させた(重量平均分子量36,000)
・水:796部
・炭酸ナトリウム:12.8部
・炭酸水素原子ナトリウム:7.0部
・グルコン酸ナトリウム:15.5部
・ソフタゾリンLPB−R(30%水溶液):154.0部
・ソフタゾリンLAO(30%水溶液):38.0部
・エチレンジアミンジサクシネート:6.7部
pH9.85
<支持体の作製>
実施例1〜18と同様にして、支持体A〜Fを作製した。
<下塗層の形成>
実施例37〜54と同様にして、下塗層を有する支持体A−1〜F−1を作製した。
得られた支持体A−1〜F−1に、下記組成の下層形成用塗布液組成物(VII)を、塗布量が1.5g/m2となるようワイヤーバーで塗布したのち、160℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥し、直ちに17〜20℃の冷風で支持体の温度が35℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物(VIII)を塗布量が0.5g/m2になるようワイヤーバーで塗布したのち、130℃で40秒間乾燥し、更に20〜26℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。
・N−フェニルマレイミド/メタクリル酸/メタクリルアミドコポリマー
(共重合比60mol%/15mol%/25mol%、重量平均分子量=50,000):0.8部
・赤外線吸収剤(IR色素(1):上記構造):0.017部
・クリスタルヴァイオレット(保土ヶ谷化学(株)製):0.017部
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤):0.015部
・γ−ブチロラクトン:10部
・メチルエチルケトン:10部
・1−メトキシ−2−プロパノール:8部
・表10に記載の特定高分子化合物:20部
・アルカリ可溶性樹脂:上記ポリウレタン1:10部
・エチルバイオレット:0.03部
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤):0.05部
・3−ペンタノン:60部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルー2−アセテート:8部
<支持体の作製>
実施例1〜18と同様にして、支持体A〜Fを作製した。
<下塗層の形成>
実施例1〜18と同様にして、下塗層を有する支持体A−1〜F−1を作製した。
得られた支持体A−1〜F−1に、下記組成の塗布液組成物(IX)を、ワイヤーバーで塗布したのち、140℃の乾燥オーブンで50秒間乾燥して塗布量を1.0g/m2となる平版印刷版原版を得た。
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量5,000):0.474部
・表11に記載の特定高分子化合物:2.37部
・赤外線吸収剤(上記IR色素(1)):0.155部
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート:0.03部
・テトラヒドロ無水フタル酸:0.19部
・エチルバイオレット対イオンを6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの:0.11部
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業(株)製):0.07部
・p−トルエンスルホン酸:0.008部
・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン:0.13部
・3,3’−チオジプロピオン酸ジミリスチル:0.04部
・ラウリルステアレート:0.02部
・γ−ブチルラクトン:13部
・メチルエチルケトン:24部
・1−メトキシ−2−プロパノール:11部
Claims (16)
- アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を主鎖及び/又は側鎖に有する高分子化合物と
赤外線吸収材料とを含有することを特徴とする
感光性樹脂組成物。 - 前記高分子化合物が、下記式1又は式2で表される構成単位を、少なくとも1つ主鎖に有する、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
式1及び式2中、R11は水素原子又は一価の有機基を表し、L11〜L13はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、V11及びV12はそれぞれ独立に、−N(R1A)−又は−O−を表し、R1Aは水素原子又は一価の有機基を表し、R21及びR22はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、L21〜L23はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、V21及びV22はそれぞれ独立に、−N(R2A)−又は−O−を表し、R2Aは水素原子又は一価の有機基を表し、Xは無機又は有機の共役塩基を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 - 前記V11及びV12が−N(R1A)−であり、前記V21及びV22が−N(R2A)−である、請求項2に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記L11〜L13のうち少なくとも一つが、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であり、前記L21〜L23のうち少なくとも一つが、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基である、請求項2又は3に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記L11が、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基であり、前記L21が、スルホンアミド基、又は、フェノール性水酸基を有する連結基である、請求項2〜4のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記L11及び/又はL21が、下記式A−1で表される、請求項2〜5のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
式A−1中、YA11及びYA12はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、ZA11はそれぞれ独立に、スルホンアミド基、又は、ヒドロキシ基を表し、m1は1以上の整数を表し、n1は1〜4の整数を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 - 前記L11及び/又はL21が、下記式A−2で表される、請求項2〜5のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
式A−2中、YA21及び、YA22はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、WA21はアリーレン基、又は、アリーレン基と二価の連結基との組み合わせを表し、k2は1以上の整数を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 - 前記L11及び/又はL21が、下記式A−3で表される、請求項2〜5のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
式A−3中、RA31は水素原子又は一価の有機基を表し、YA31、YA32、及び、YA33はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、WA31は炭素原子又は窒素原子を表し、ZA31はそれぞれ独立に、スルホンアミド基、又は、ヒドロキシ基を表し、i3は1〜5の整数を表し、j3は1又は0を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 - 親水性表面を有する支持体上に、
請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を含有する記録層を有することを特徴とする
平版印刷版原版。 - ポジ型である、請求項9に記載の平版印刷版原版。
- 前記親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に有する記録層を有してなる平版印刷版原版であって、前記感光性樹脂組成物を下層又は上層の少なくとも一層に含有する、請求項9又は10に記載の平版印刷版原版。
- 前記支持体と前記記録層との間に下塗層を有する、請求項9〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 請求項9〜12のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、
pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含むことを特徴とする、
平版印刷版の作製方法。 - アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記式A−4で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物。
式A−4中、YA41及びYA42はそれぞれ独立に、単結合、アルキレン基又はアリーレン基を表し、ZA41はそれぞれ独立に、スルホンアミド基、又は、ヒドロキシ基を表し、m4は1以上の整数を表し、n4は1〜4の整数を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 - アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記式A−5で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物。
式A−5中、YA51、及び、YA52はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基を表し、WA51はアリーレン基、又は、アリーレン基と二価の連結基との組み合わせを表し、k5は1以上の整数を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 - アミン結合又は第4級アンモニウム塩結合、並びに、ウレア結合、ウレタン結合、及び、カーボネート結合よりなる群から選ばれた少なくとも一つの結合を主鎖に有し、かつ、下記式A−6で表される構成単位を主鎖に有する高分子化合物。
式A−6中、RA61は水素原子、炭素数4以下のアルキル基、又は、炭素数6〜10のアリーレン基を表し、YA61、YA62、及び、YA63はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基を表し、WA61は炭素原子又は窒素原子を表し、ZA61はそれぞれ独立に、スルホンアミド基又はヒドロキシ基を表し、i6は1〜5の整数を表し、j6は1又は0を表し、*部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。
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