WO2017056761A1 - 感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 - Google Patents

感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 Download PDF

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acid
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敦靖 野崎
祐一 安原
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富士フイルム株式会社
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    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition, a lithographic printing plate precursor, and a lithographic printing plate making method.
  • various photosensitive compositions have been used as visible image forming materials and lithographic printing plate materials.
  • the development of lasers in the field of lithographic printing has been remarkable in recent years.
  • solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can be easily obtained with high output and small size. ing.
  • these lasers are very useful as an exposure light source for making a plate directly from digital data such as a computer.
  • the positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser comprises an alkali-soluble binder resin and an infrared absorber that absorbs light and generates heat.
  • This infrared absorber or the like acts as a development inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin in the developer by interaction with the binder resin in the unexposed area (image area), and the exposed area (non-image area). Then, the interaction between the infrared absorbent and the binder resin is weakened by the generated heat and is dissolved in an alkali developer to form a lithographic printing plate.
  • conventional lithographic printing plate precursors there are lithographic printing plate precursors described in JP-A-2005-91429, JP-A-2005-258070, JP-A-2003-315995, and JP-A-2006-225432. Are known.
  • Inexpensive printing materials include paper materials and inks containing coarse particles (for example, inorganic salt particles having a particle size of 100 nm to 10 ⁇ m). When printed using these, coarse particles appear in the image area. Damage, thereby significantly reducing the number of printed sheets.
  • a lithographic printing plate precursor provided with an image recording layer excellent in alkali solubility containing a polyurethane resin, a polyamide resin, or a phenol resin is disclosed (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-91429, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-91429). JP 2005-258070 A, JP 2003-315995 A, and JP 2006-225432 A). According to these lithographic printing plate precursors, although the resulting lithographic printing plate is excellent in chemical resistance, there is room for improvement in either the developability or printing durability of the exposed portion.
  • the problem to be solved by one embodiment of the present invention is that a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance can be obtained, and a photosensitive resin composition having a short non-image area development time, printing durability And a lithographic printing plate precursor having a short non-image area development time, and a method for making a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor is there.
  • component A a polymer compound having a structure represented by the following formula 1, and as component B, a photosensitive resin composition containing an infrared absorber,
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • R 3 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group A group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group
  • X 1 represents —NR—, an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • Y 1 represents an oxygen atom
  • Or represents a sulfur atom
  • W represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 0 to 3, ⁇ 2>
  • R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • R 8 and R 9 each represent Independently represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group
  • X 2 and X 3 each independently represent —NR—, an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • Z 1 represents an alkylene group, an arylene group, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a single bond
  • W2 represents an integer of 1 to 4
  • n2 represents an integer of 0 to 3
  • W3 represents 1 to 4 represents an integer
  • n3 represents an integer of 0 to 3.
  • An image recording layer is provided on a support, and the image recording layer contains, as component A, a polymer compound having a structure represented by the following formula 1, and as component B, an infrared absorber.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • R 3 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group A group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group
  • X 1 represents —NR—, an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • Y 1 represents an oxygen atom
  • Or represents a sulfur atom
  • W represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 0 to 3, ⁇ 7>
  • R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • R 8 and R 9 each represent Independently represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group
  • X 2 and X 3 each independently represent —NR—, an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • Z 1 represents an alkylene group, an arylene group, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a single bond
  • W2 represents an integer of 1 to 4
  • n2 represents an integer of 0 to 3
  • W3 represents 1 to 4 represents an integer
  • n3 represents an integer of 0 to 3.
  • the lithographic printing plate precursor as described in ⁇ 12> The lithographic printing plate precursor as described in any one of ⁇ 6> to ⁇ 11>, which has an intermediate layer between the support and the image recording layer, ⁇ 13>
  • a plate making method of a lithographic printing plate comprising a developing step in which development is performed in this order.
  • a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance can be obtained, and a photosensitive resin composition having a short non-image area development time, printing durability and chemical resistance.
  • a lithographic printing plate precursor having a short non-image area development time, and a lithographic printing plate making method using the lithographic printing plate precursor can be provided.
  • the chemical structural formula in this specification may be expressed as a simplified structural formula in which a hydrogen atom is omitted.
  • “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate
  • “(meth) acryl” represents acryl and methacryl
  • “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl.
  • “mass%” and “wt%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
  • a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure contains, as component A, a polymer compound having a structure represented by the following formula 1, and as component B, an infrared absorber.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure is preferably a positive photosensitive resin composition.
  • “main chain” represents a relatively long bond chain in the molecule of the polymer compound
  • “side chain” represents a molecular chain branched from the main chain.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • R 3 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group A group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group
  • X 1 represents —NR—, an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • Y 1 represents an oxygen atom
  • W represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 0 to 3.
  • the photosensitive resin composition contains, as component A, a polymer compound having a structure represented by the above formula 1 and, as component B, an infrared absorber, It has been found that a lithographic printing plate precursor having excellent printing durability and chemical resistance and a short non-image area development time can be provided. Although the mechanism of the excellent effect by this is not clear, it is estimated as follows. According to the study by the present inventors, it has been found that the film strength of the resin is important for the printing durability in printing, and the film strength is greatly influenced by the interaction between the polymer compounds. In particular, this effect is remarkable in a low-quality printing material, and it is difficult to impart sufficient film strength with a general acrylic resin or polyurethane resin.
  • the polymer compound in the present disclosure has, for example, a structure represented by Formula 1 (for example, a urea structure or an amide structure) having a large interaction between polymer compounds in the main chain. This is considered to be extremely resistant to chemicals (for example, cleaners and organic compounds) used for printing, and has excellent image area strength and high printing durability.
  • Formula 1 for example, a urea structure or an amide structure
  • the polymer compound has high alkali solubility, and also has a high content of the sulfonamide group, so that the penetration speed of the developer is high and the non-image area development time is short. I guess.
  • the polymer compound since it has a plurality of structures represented by Formula 1 that have very high interaction and high cohesiveness, it has excellent printing durability. This is presumed to be due to the effect of improving the film strength of the resin and suppressing the abrasion of the image portion of the printing plate. As a result of the above, the present inventors believe that both the strength of the image portion and the chemical resistance can be achieved.
  • a polymer compound and an infrared absorber which are components of the photosensitive resin composition of the present disclosure, will be described.
  • the polymer compound used in the present disclosure (hereinafter also referred to as “specific polymer compound”) has a structure represented by the above formula 1.
  • the specific polymer compound preferably has a structure represented by the following formula 2.
  • the structure represented by each formula will be described.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • R 3 each independently represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group A group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group
  • X 1 represents —NR—, an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • Y 1 represents an oxygen atom
  • W represents an integer of 1 to 4
  • n represents an integer of 0 to 3.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and still more preferably a hydrogen atom.
  • each R 2 is preferably independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, More preferably, it is an atom.
  • each R 3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. It is preferably an alkoxycarbonyl group or an acyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. Preferably, it is a hydrogen atom.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic.
  • X 1 is preferably —NR—, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 20 carbon atoms, —NR—, More preferably, it is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkyleneoxy group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • X 1 represents an alkyleneoxy group, it is preferable that the oxygen atom contained in the alkyleneoxy group and the carbon atom to which Y 1 is bonded are not directly bonded.
  • R is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and still more preferably a hydrogen atom.
  • Y 1 is preferably an oxygen atom.
  • W represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • n represents an integer of 0 to 3, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • X 1 is —NR— and Y 1 is an oxygen atom, or X 1 is an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group, and Y 1 is an oxygen atom
  • Y 1 is an oxygen atom
  • the specific polymer compound preferably contains 10 to 90% by mass, more preferably 30 to 80% by mass, and more preferably 50 to 75% by mass of the structure represented by Formula 1 with respect to the total mass of the specific polymer compound. % Is more preferable.
  • Component A is preferably a polymer compound having a structure represented by the following formula 2.
  • a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance can be obtained, and the non-image area development time becomes shorter.
  • R 4 and R 5 are each independently the same as R 1 in Formula 1, and the preferred embodiments are also the same.
  • R 6 and R 7 are each independently synonymous with R 2 in Formula 1, and the preferred embodiments are also the same.
  • R 8 and R 9 are each independently the same as R 3 in Formula 1, and the preferred embodiments are also the same.
  • X 2 and X 3 are each independently synonymous with X 1 in Formula 1, and the preferred embodiments are also the same.
  • X 2 and X 3 are preferably the same group.
  • X 2 and X 3 represent an alkylene group, an arylene group, or an alkyleneoxy group
  • X 2 in a structure represented by a certain formula 2 represents X 3 in a structure represented by another formula 2 It may be.
  • Z 1 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a carbonyl group, a sulfonyl group, or a single bond, and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or a carbon number of 6 It is more preferably a ⁇ 12 arylene group or a single bond, and even more preferably a single bond.
  • W2 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • n2 represents an integer of 0 to 3, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • W3 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • n3 represents an integer of 0 to 3, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • the positional relationship between the N atom bonded to R 4 and Z 1 and the positional relationship between the N atom bonded to R 5 and Z 1 are as follows: It is preferable that all are meta positions or para positions, and it is more preferable that both are para positions.
  • the specific polymer compound preferably contains 10 to 90% by mass, more preferably 30 to 80% by mass, and more preferably 50 to 75% by mass of the structure represented by Formula 2 with respect to the total mass of the specific polymer compound. % Is more preferable.
  • the specific polymer compound may have a structure having an acid group other than the structures represented by Formulas 1 and 2 as other structures.
  • the acid group include a sulfonamide group, a phenolic hydroxyl group, and a carboxy group, and a phenolic hydroxyl group or a carboxy group is preferable.
  • the specific polymer compound of the present disclosure preferably further has an alkyleneoxy group in the main chain.
  • the photosensitive resin composition excellent in the image-forming property of the obtained lithographic printing plate and excellent in the printing durability of the obtained lithographic printing plate can be obtained.
  • the alkyleneoxy group is preferably an alkyleneoxy group having 2 to 200 carbon atoms, more preferably an alkyleneoxy group having 2 to 100 carbon atoms, still more preferably an alkyleneoxy group having 2 to 50 carbon atoms, an ethyleneoxy group, or A propyleneoxy group is particularly preferred.
  • the alkyleneoxy group may be a polyalkyleneoxy group.
  • the polyalkyleneoxy group is preferably a polyalkyleneoxy group having 2 to 50 repeats, more preferably a polyalkyleneoxy group having 2 to 40 repeats, and still more preferably a polyalkyleneoxy group having 2 to 30 repeats.
  • the preferable carbon number of the structural repeating unit of the polyalkyleneoxy group is the same as the preferable carbon number of the alkyleneoxy group.
  • the specific polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 10,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 200,000, and still more preferably 20,000 to 100,000.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be calculated by a standard polystyrene conversion method using gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • a GPC column filled with polystyrene cross-linked gel (TSKgel SuperAWM-H; manufactured by Tosoh Corporation) is used, and N-methylpyrrolidone (phosphoric acid and lithium bromide 0.01 mol / L each) is used as a GPC solvent. It is possible.
  • the acid value of the specific polymer compound in the present disclosure is preferably 0.5 to 6.0 mmol / g, from the viewpoint of shortening the non-image area development time and the image area strength, and preferably 0.5 to 4.0 mmol. / G is more preferable.
  • the specific polymer compound will be described with specific examples.
  • the specific polymer compound in the present disclosure has a benzene ring having a sulfonamide group and an amino group as substituents, and a compound having two or more amino groups in the compound (hereinafter referred to as “specific polyvalent amine compound”). And a compound containing two or more acid halide groups (hereinafter also referred to as “specific acid halide compound”) or a compound containing two or more isocyanate groups (hereinafter also referred to as “specific isocyanate compound”). And a polymer compound obtained by sequential polymerization reaction.
  • the specific polyvalent amine compound is preferably a compound having a benzene ring having a sulfonamide group and an amino group as substituents, and having two amino groups in the compound.
  • the specific polyvalent amine compound has one benzene ring having a sulfonamide group and two amino groups as substituents, or two benzene rings having a sulfonamide group and one amino group as substituents.
  • a compound is preferred.
  • the specific acid halide compound is preferably a compound containing two acid halide groups.
  • the specific isocyanate compound is preferably a compound containing two isocyanate groups.
  • the structure represented by Formula 1 is formed by a reaction between an amino group in a benzene ring having a sulfonamide group and an amino group as substituents in a specific polyvalent amine compound and an acid halide group in the specific acid halide compound. Or it is preferably formed by a reaction between the amino group and an isocyanate group in the specific isocyanate compound.
  • the specific polymer compound of the present disclosure is a polyamide obtained by sequentially polymerizing a specific polyvalent amine compound, a specific acid halide compound, and another polyvalent amine compound, or a specific polyvalent amine and a specific isocyanate compound. And a polyurea obtained by sequentially polymerizing with other polyvalent amine compounds.
  • the said other polyvalent amine compound is not specifically limited, It is preferable that it is a diamine compound.
  • the other polyvalent amine compound preferably contains an alkyleneoxy group in the structure.
  • the alkyleneoxy group is preferably an alkyleneoxy group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyleneoxy group having 2 to 8 carbon atoms, still more preferably an alkyleneoxy group having 2 to 4 carbon atoms, an ethyleneoxy group, or A propyleneoxy group is particularly preferred.
  • the alkyleneoxy group may be a polyalkyleneoxy group.
  • the polyalkyleneoxy group is preferably a polyalkyleneoxy group having 2 to 50 repeats, more preferably a polyalkyleneoxy group having 2 to 40 repeats, and still more preferably a polyalkyleneoxy group having 2 to 30 repeats.
  • the preferable carbon number of the structural repeating unit of the polyalkyleneoxy group is the same as the preferable carbon number of the alkyleneoxy group.
  • polyamide or polyurea Preferred specific examples of the polyamide or polyurea that can be used in the present disclosure are shown in Table 1 or Table 2.
  • Specific examples PU-1 to PU-25 and PA-1 to PA-25 were prepared by reacting each compound described in Table 1 or Table 2 at a ratio (molar ratio) described in Table 1 or Table 2. The resulting polyurea or polyamide is meant.
  • “-” indicates that the corresponding compound is not contained.
  • the molar ratio of each compound used for the synthesis of polyurea or polyamide, and the weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyamide and polyurea are shown.
  • Polyurea used in the present disclosure Polyamide is not limited to these.
  • the weight average molecular weight of a polymer is the value measured by GPC method.
  • PU-1, PU-2, PU-3, PU-13, PU-14, PU-16, and PU-18 are preferable.
  • PA-1, PA-2, PA-3, PA-4, PA-6, PA-9, PA-14, and PA-16 are preferable.
  • the content of the specific polymer compound is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total solid content of the photosensitive resin composition of the present disclosure. More preferably, it is ⁇ 80% by mass. If content of a specific polymer compound is the said range, the photosensitive resin composition excellent in applicability
  • the solid content is an amount of a component excluding a volatile component such as a solvent.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure contains an infrared absorber as Component B.
  • the infrared absorber is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and various dyes known as infrared absorbers can be used.
  • the infrared absorber that can be used in the present disclosure commercially available dyes and known ones described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemical Society, published in 1970) can be used.
  • azo dyes include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes.
  • these dyes those that absorb at least infrared light or near infrared light are preferable in terms of being suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light, and cyanine dyes are particularly preferred. preferable.
  • Examples of the dye that absorbs at least infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, Cyanine dyes described in JP-A-60-78787, etc., JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc.
  • Methine dyes JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, or JP-A-60- Naphthoquinone dyes described in each publication such as 63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc., cyanides described in British Patent 434,875 Mention may be made of dyes and the like. Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferred.
  • Epolight III-178 of Eporin Co. Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.
  • Another particularly preferable example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
  • cyanine dyes cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes are particularly preferable.
  • the cyanine dye represented by the following formula (a) is most preferable because when used in the upper layer in the present disclosure, the dissolution inhibiting action by exposure is good and the stability and economy are excellent.
  • X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a diarylamino group, —X 2 -L 1 or a group represented by formula (b).
  • X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom.
  • L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring group having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms containing a hetero atom.
  • the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se.
  • X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and the group consisting of a halogen atom Represents a substituent selected from
  • R 21 and R 22 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive resin composition, R 21 and R 22 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 21 and R 22 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.
  • Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring.
  • Preferred examples of the substituent include a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
  • Y 11 and Y 12 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 3 to 12 carbon atoms.
  • R 23 and R 24 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • Preferred substituents include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a carboxy group, and a sulfo group.
  • R 25 , R 26 , R 27 and R 28 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of availability of raw materials.
  • Z a - represents a counter anion. However, it has an anionic substituent in the cyanine dye in its structure represented by formula (a), does not necessitate neutralization of the charge, Z a - is not necessary.
  • Preferred Z a ⁇ is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the photosensitive resin composition. , Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.
  • cyanine dyes represented by formula (a) that can be suitably used include paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133969, paragraphs 0012 to 0038 of JP-A-2002-40638, and Examples thereof include those described in paragraphs 0012 to 0023 of JP-A-2002-23360.
  • the cyanine dye A shown below is particularly preferable as the infrared absorber contained in the upper layer.
  • the addition amount when adding the infrared absorber to the photosensitive resin composition of the present disclosure is preferably 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive resin composition, 0.1% It is more preferably from 30 to 30% by mass, and particularly preferably from 1.0 to 30% by mass.
  • the addition amount is 0.01% by mass or more, high sensitivity is obtained, and when it is 50% by mass or less, the uniformity of the layer is good and the durability of the layer is excellent.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure may contain an alkali-soluble resin other than Component A (another alkali-soluble resin).
  • alkali-soluble means that 0.01 g of resin dissolves in 200 g of an aqueous sodium hydroxide solution at 30 ° C. and pH 13.0 within 200 seconds.
  • dissolution shows the state which the residue of melt
  • the alkali-soluble resin other than Component A used in the photosensitive resin composition of the present disclosure is not particularly limited as long as it has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer, but the main chain in the polymer and At least one selected from the group consisting of side chains preferably has an acidic functional group such as a phenolic hydroxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfonamide group, or an active imide group. Examples thereof include a resin containing 10 mol% or more of a monomer having an acidic functional group imparting alkali solubility, and a resin containing 20 mol% or more is more preferable. If the copolymerization component of the monomer imparting alkali solubility is 10 mol% or more, sufficient alkali solubility is obtained, and the non-image area development time is short.
  • novolak resins are also preferred as other alkali-soluble resins.
  • examples of novolak resins that can be used in the present disclosure include phenol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, p-cresol formaldehyde resins, m- / p-mixed cresol formaldehyde resins, or phenol / cresol (m-, p-, Or m- / p-mixing.)
  • novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallol acetone resins.
  • the weight average molecular weight (Mw) is preferably 500 or more, more preferably 1,000 to 700,000.
  • the number average molecular weight (Mn) is preferably 500 or more, and more preferably 750 to 650,000.
  • the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
  • the other alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more, a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 800 to 250. Is more preferable.
  • the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the other alkali-soluble resin is preferably 1.1 to 10.
  • Other alkali-soluble resins optionally contained in the photosensitive resin composition of the present disclosure may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the other alkali-soluble resin with respect to the total solid content of the photosensitive resin composition in the present disclosure is preferably 0 to 98% by mass, and more preferably 0 to 80% by mass. Moreover, it is preferable to contain other alkali-soluble resin in the ratio of 80 mass parts or less with respect to 100 mass parts of component A used for this indication.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure preferably contains an acid generator from the viewpoint of improving sensitivity.
  • the acid generator is a compound that generates an acid by light or heat, and refers to a compound that decomposes by irradiation with infrared rays or heating at 100 ° C. or more to generate an acid.
  • the acid generated is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid or hydrochloric acid.
  • the acid generated from the acid generator increases the permeability of the developer into the exposed area image recording layer, thereby further improving the solubility of the image recording layer in an alkaline aqueous solution.
  • Examples of the acid generator suitably used in the present disclosure include iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, and onium salts such as diazonium salts. Specific examples include compounds described in US Pat. No. 4,708,925 and JP-A-7-20629. In particular, iodonium salts, sulfonium salts, or diazonium salts having a sulfonate ion as a counter ion are preferable. Examples of the diazonium salt include a diazonium compound described in U.S. Pat. No. 3,867,147, a diazonium compound described in U.S. Pat. No.
  • JP-A-1-102456 2,632,703, JP-A-1-102456, and JP-A-1-102457.
  • the diazo resin described in the publication is also preferred.
  • benzyl sulfonates described in US Pat. No. 5,135,838 and US Pat. No. 5,200,544 are also preferable.
  • active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A-2-100054, JP-A-2-100055 and JP-A-8-9444 are also preferred.
  • haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferred.
  • the compound described as “acid precursor” in the above-mentioned JP-A-8-220552, or “(a) compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays” in JP-A-9-171254. And the like can be applied as the acid generator of the present disclosure.
  • an onium salt compound as the acid generator.
  • the onium salt compound will be described.
  • Examples of onium salt compounds that can be suitably used in the present disclosure include compounds that are known as compounds that generate an acid by being decomposed by infrared energy and thermal energy generated from an infrared absorber upon exposure.
  • Examples of the onium salt compound suitable for the present disclosure include known thermal polymerization initiators and compounds having an onium salt structure described below having a bond with small bond dissociation energy from the viewpoint of sensitivity.
  • Examples of the onium salt suitably used in the present disclosure include known diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, ammonium salts, pyridinium salts, and azinium salts. Among them, sulfonates of triarylsulfonium and diaryliodonium , Carboxylate, BF 4 ⁇ , PF 6 ⁇ , ClO 4 ⁇ and the like are preferable.
  • Examples of onium salts that can be used as an acid generator in the present disclosure include onium salts represented by the following formulas (III) to (V).
  • Ar 11 and Ar 12 each independently represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent.
  • Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. Can be mentioned.
  • Z 11- is a pair selected from the group consisting of halide ions, perchlorate ions, tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, sulfonate ions, and sulfonate ions having fluorine atoms such as perfluoroalkylsulfonate ions.
  • Ar 21 represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, Examples thereof include a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, an arylamino group having 6 to 12 carbon atoms, and a diarylamino group having 1 to 20 carbon atoms.
  • Z 21- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
  • R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms.
  • Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
  • onium salts represented by formula (III) OI-1 to OI-10
  • onium salts represented by formula (IV) that can be suitably used in the present disclosure (ON-1) To ON-5) and specific examples (OS-1 to OS-6) of the onium salt represented by the formula (V) are listed below.
  • the compounds described as examples of the radical polymerization initiator in paragraphs 0036 to 0045 of JP-A-2008-195018 can be used. It can be suitably used as an acid generator in the present disclosure.
  • an onium salt that is preferable as an acid generator used in the present disclosure includes an azinium salt compound represented by the following formula (VI).
  • R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 and R 46 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent substituent.
  • Monovalent substituents include, for example, halogen atoms, amino groups, substituted amino groups, substituted carbonyl tombs, hydroxyl groups, substituted oxy groups, thiol groups, thioether groups, silyl groups, nitro groups, cyano groups, alkyl groups, alkenyl groups.
  • a skeleton (cation part) having a specific structure in the compound represented by the formula (VI) is bonded via R 41 , and two or more cation parts are contained in the molecule. (Multimeric forms) are also included, and such compounds are also preferably used.
  • Z 41- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
  • Specific examples of the azinium salt compound represented by the above formula (VI) include compounds described in paragraphs 0047 to 0056 of JP-A-2008-195018. Also described in JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, and JP-B-46-42363.
  • the compound group having the N—O bond is also suitably used as an acid generator in the present disclosure. More preferred examples of the acid generator that can be used in the present disclosure include the following compounds PAG-1 to PAG-5. Me represents a methyl group.
  • the addition amount of the acid generator is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive resin composition, More preferably, it is ⁇ 30% by mass.
  • the addition amount is in the above range, the sensitivity, which is the effect of adding the acid generator, is improved, and the generation of a residual film in the non-image area is suppressed.
  • An acid multiplier may be added to the photosensitive resin composition of the present disclosure.
  • the acid proliferating agent in the present disclosure is a compound substituted with a relatively strong acid residue, and is a compound that is easily eliminated in the presence of an acid catalyst to newly generate an acid. That is, it decomposes by an acid catalytic reaction and generates an acid again.
  • One or more acids are increased in one reaction, and the sensitivity is dramatically improved by increasing the acid concentration at an accelerated rate as the reaction proceeds.
  • the strength of the generated acid is 3 or less, preferably 2 or less, as an acid dissociation constant (pKa). If the acid is weaker than this, the elimination reaction by the acid catalyst cannot be caused.
  • Examples of the acid used for such an acid catalyst include dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and naphthalenesulfonic acid.
  • Examples of the acid proliferating agent include International Publication No. 95/29968, International Publication No. 98/24000, Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-305262, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-34106, Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-248561, No. 8-503082, U.S. Pat. No. 5,445,917, JP-T 8-503081, U.S. Pat. No. 5,534,393, U.S. Pat. No. 5,395,736 US Pat. No. 5,741,630, US Pat. No. 5,334,489, US Pat. No. 5,582,956, US Pat. No. 5,578,424, US Patent No. 5,453,345, US Pat. No.
  • the acid proliferating agent in the present disclosure include compounds described in paragraphs 0056 to 0067 of JP-A No. 2001-66765.
  • the following compounds described as exemplary compounds (ADD-1), (ADD-2), and (ADD-3) can be preferably used.
  • the addition amount of the acid proliferating agent is preferably 0.01 to 20% by mass, preferably 0.01 to 10% by mass, and preferably 0.1% to the total solid content of the photosensitive resin composition. More preferably, it is ⁇ 5 mass%.
  • the addition amount of the acid proliferating agent is within the above range, the effect of adding the acid proliferating agent is sufficiently obtained, the sensitivity is improved, and the decrease in the film strength of the image area is suppressed.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure may contain a development accelerator, a surfactant, a bake-out agent / colorant, a plasticizer, a wax agent, and the like as other additives.
  • the photosensitive resin composition of this indication may contain the solvent mentioned later in a lithographic printing plate precursor.
  • the solid content concentration of the photosensitive resin composition of the present disclosure is not particularly limited, but is preferably 1 to 50% by mass.
  • a development accelerator such as acid anhydrides, phenols, and organic acids may be added to the photosensitive resin composition of the present disclosure for the purpose of improving sensitivity.
  • acid anhydrides cyclic acid anhydrides are preferable, and specific examples of the cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydro described in US Pat. No. 4,115,128.
  • phthalic anhydride 3,6-endooxytetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, ⁇ -phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, and pyromellitic anhydride it can.
  • acyclic acid anhydrides include acetic anhydride.
  • phenols include bisphenol A, 2,2′-bishydroxysulfone, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4- Hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 ′′ -trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ′′, 4 ′′ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane, etc. Can be mentioned.
  • organic acids are described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755.
  • p-toluenesulfonic acid dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, Ethyl sulfuric acid, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene Examples include -1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid.
  • the proportion of the acid anhydrides, phenols and organic acids in the total solid content of the photosensitive resin composition is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, ⁇ 10% by weight is particularly preferred.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure is described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 in order to improve the coating property and to expand the processing stability against development conditions.
  • Nonionic surfactants as described above, amphoteric surfactants as described in JP 59-121044 A, JP 4-13149 A, JP 62-170950 A, JP A fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A-11-288093 or JP-A-2003-57820 can be added.
  • nonionic surfactant examples include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether, and the like.
  • amphoteric activators include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
  • the ratio of the surfactant to the total solid content of the photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and further 0.05 to 2.0% by mass. preferable.
  • a print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure or a dye or pigment as an image colorant can be added.
  • Examples of the print-out agent and the colorant are described in detail in paragraphs 0122 to 0123 of JP-A-2009-229917, and the compounds described therein can be applied to the present disclosure.
  • These print-out agent and colorant are preferably added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, and in a proportion of 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the photosensitive resin composition. It is more preferable.
  • a plasticizer may be added to the photosensitive resin composition of the present disclosure in order to impart flexibility and the like of the coating film.
  • a plasticizer may be added to the photosensitive resin composition of the present disclosure in order to impart flexibility and the like of the coating film.
  • These plasticizers are preferably added in a proportion of 0.5 to 10% by mass, more preferably in a proportion of 1.0 to 5% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive resin composition. .
  • [Wax agent] A compound (waxing agent) that lowers the coefficient of static friction of the surface can be added to the photosensitive resin composition of the present disclosure for the purpose of imparting resistance to scratches. Specifically, as described in US Pat. No. 6,117,913, JP-A No. 2003-149799, JP-A No. 2003-302750, or JP-A No. 2004-12770, A compound having an ester of a long-chain alkyl carboxylic acid can be exemplified. The amount of the wax agent added is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass in the total solid content of the photosensitive resin composition.
  • the content of the specific polymer compound is preferably 10 to 90% by mass and the content of the infrared absorber is 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive resin composition of the present disclosure.
  • the content of the other alkali-soluble resin is preferably 0 to 98% by mass
  • the content of the acid generator is preferably 0 to 50% by mass
  • the content of the acid proliferating agent is
  • the content of the development accelerator is preferably 0 to 20% by mass
  • the content of the surfactant is preferably 0 to 15% by mass
  • the print-out agent is /
  • the content of the colorant is preferably 0 to 10% by mass
  • the content of the plasticizer is preferably 0 to 10% by mass
  • the content of the wax agent is 0 to 10% by mass. preferable.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure can be applied to various fields that require resin pattern formation with excellent durability, for example, various fields such as resists, displays, and lithographic printing plate precursors. Since it can be recorded with sensitivity, has excellent image formability, and the formed image portion has good durability, it can be applied to an infrared sensitive positive planographic printing plate precursor described in detail below. It can be said that the effect is remarkable.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer on a support, and the image recording layer has, as Component A, a polymer compound having a structure represented by Formula 1 above, and Component B as Contains an infrared absorber.
  • the image recording layer is preferably a layer formed using at least the photosensitive resin composition of the present disclosure. Furthermore, the image recording layer has a two-layer structure of a lower layer and an upper layer, and it is preferable that component A and component B are contained in at least one of the lower layer and the upper layer.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably a positive lithographic printing plate precursor.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is a positive lithographic printing plate precursor having an image recording layer having a lower layer and an upper layer in this order on a support having a hydrophilic surface
  • the component A and the component A B is preferably contained in at least one layer selected from the group consisting of the lower layer and the upper layer, more preferably contained in the lower layer or the upper layer, and still more preferably contained only in the lower layer.
  • the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure contains component A and component B, and optionally other alkali-soluble resins, acid generators, acid multipliers, development accelerators, surfactants. , At least one selected from the group consisting of a bake-out agent / colorant, a plasticizer, a wax agent, and the like.
  • Preferred embodiments of Component A, Component B, other alkali-soluble resins, acid generators, acid multipliers, development accelerators, surfactants, print-out / colorants, plasticizers, and wax agents in the image recording layer are the same as the preferable aspect in the photosensitive resin composition of this indication mentioned above.
  • preferable content of these components in the said image recording layer is the same as that with respect to the total solid of the photosensitive resin composition in the photosensitive resin composition of this indication mentioned above.
  • the image recording layer used in the present disclosure can be formed by dissolving each component of the photosensitive resin composition of the present disclosure in a solvent and coating the solution on a suitable support.
  • Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, ⁇ -butyrolactone, and toluene. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination.
  • the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer having a lower layer and an upper layer in this order on a support (hereinafter, an image recording layer having a lower layer and an upper layer in this order on the support).
  • the planographic printing plate precursor is also referred to as “two-layer planographic printing plate precursor”.
  • the lower layer and the upper layer are preferably formed by separating the two layers.
  • a method for forming the two layers separately for example, a method using a difference in solvent solubility between a component contained in the lower layer and a component contained in the upper layer, or after applying the upper layer, a solvent is rapidly used.
  • a solvent system in which any of the components contained in the lower layer is insoluble is used when the upper layer coating solution is applied. Is. Thereby, even if it carries out 2 layer application
  • a component insoluble in a solvent such as methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol that dissolves the alkali-soluble resin as the upper layer component is selected, and the lower layer is applied using a solvent system that dissolves the lower layer component. Then, the upper layer mainly composed of the alkali-soluble resin is dissolved in methyl ethyl ketone, 1-methoxy-2-propanol, or the like, and coated and dried, whereby two layers can be formed.
  • high-pressure air is blown from a slit nozzle installed substantially perpendicular to the web traveling direction, or heating such as steam is performed.
  • This can be achieved by applying thermal energy as conduction heat from the lower surface of the web from a roll (heating roll) supplied inside the medium, or by combining them.
  • the photosensitive resin composition of the present disclosure is preferably contained in at least one layer selected from the group consisting of the upper layer and the lower layer, and more preferably contained only in the lower layer.
  • the coating amount after drying of the lower layer component coated on the support of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably in the range of 0.5 to 4.0 g / m 2 , and is preferably 0.6 to 2.5 g. / M 2 is more preferable. When it is 0.5 g / m 2 or more, printing durability is excellent, and when it is 4.0 g / m 2 or less, image reproducibility and sensitivity are excellent.
  • the coating amount of the upper layer component after drying is preferably in the range of 0.05 to 1.0 g / m 2 , and more preferably in the range of 0.08 to 0.7 g / m 2 .
  • the coating amount after drying of the lower layer and the upper layer is preferably in the range of 0.6 to 4.0 g / m 2 , more preferably in the range of 0.7 to 2.5 g / m 2. .
  • 0.6 g / m 2 or more printing durability is excellent, and when it is 4.0 g / m 2 or less, image reproducibility and sensitivity are excellent.
  • the upper layer of a lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the present disclosure can be formed using the photosensitive resin composition of the present disclosure, but is formed using a resin composition other than the photosensitive resin composition of the present disclosure. It is preferable to do.
  • the upper layer of the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the present disclosure is preferably an infrared-sensitive positive image recording layer whose solubility in an alkaline aqueous solution is improved by heat.
  • the mechanism for improving the solubility in an aqueous alkali solution by heat in the upper layer and any mechanism can be used as long as it includes a binder resin and improves the solubility of the heated region.
  • the upper layer whose solubility in an aqueous alkali solution is improved by heat includes, for example, a layer containing an alkali-soluble resin having a hydrogen bonding ability such as novolak and urethane, a water-insoluble and alkali-soluble resin, and a compound having a dissolution inhibiting action.
  • Preferred examples include a layer and a layer containing a compound capable of ablation.
  • the heat generated in the upper layer can also be used for image formation.
  • the upper layer containing the infrared absorber for example, a layer containing an infrared absorber, a water-insoluble and alkali-soluble resin and a compound having a dissolution inhibiting action, an infrared absorber, a water-insoluble and alkali-soluble resin, and an acid generator A layer containing is preferred.
  • the upper layer in the image recording layer preferably contains a water-insoluble and alkali-soluble resin.
  • a water-insoluble and alkali-soluble resin By containing the water-insoluble and alkali-soluble resin, an interaction is formed between the infrared absorber and the polar group of the water-insoluble and alkali-soluble resin, and a positive-type photosensitive layer is formed.
  • General water-insoluble and alkali-soluble resins will be described in detail below. Among them, for example, polyamide resins, epoxy resins, polyacetal resins, acrylic resins, methacrylic resins, polystyrene resins, and novolac phenol resins can be used. Preferable examples can be given.
  • the water-insoluble and alkali-soluble resin that can be used in the present disclosure is not particularly limited as long as it has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer, but from the group consisting of a main chain and a side chain in a polymer. It is preferably a homopolymer containing at least one selected from an acidic group, a copolymer thereof, or a mixture thereof.
  • the water-insoluble and alkali-soluble resin having such an acidic group preferably has a functional group such as a phenolic hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfonamide group, or an active imide group.
  • such a resin can be suitably produced by copolymerizing a monomer mixture containing one or more ethylenically unsaturated monomers having the functional group.
  • Preferred examples of the ethylenically unsaturated monomer having the functional group include a compound represented by the following formula and a mixture thereof in addition to acrylic acid and methacrylic acid.
  • R 40 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the water-insoluble and alkali-soluble resin that can be used in the present disclosure is preferably a polymer compound obtained by copolymerizing another polymerizable monomer in addition to the polymerizable monomer.
  • the copolymerization ratio in this case is a monomer that imparts alkali solubility such as a monomer having a functional group such as a phenolic hydroxy group, a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfonamide group, and an active imide group. Is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. When the copolymerization component of the monomer imparting alkali solubility is 10 mol% or more, sufficient alkali solubility is obtained, and the non-image area development time is short.
  • Examples of other polymerizable monomers that can be used include the compounds listed below.
  • Alkyl acrylates and alkyl methacrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and benzyl methacrylate.
  • Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxy group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
  • Acrylamide or methacrylamide such as acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-phenylacrylamide, etc.
  • Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
  • Styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
  • Other nitrogen atom-containing monomers such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, acrylonitrile and methacrylonitrile.
  • the novolak resin mentioned as another alkali-soluble resin which is an arbitrary component of the photosensitive resin composition of this indication is also mentioned preferably.
  • the above water-insoluble and alkali-soluble resin can be used for the photosensitive resin composition of the present disclosure.
  • resins that can be used in combination include water-insoluble and alkali-soluble resins.
  • General water-insoluble and alkali-soluble resins will be described in detail below. Among them, for example, polyamide resins, epoxy resins, polyacetal resins, acrylic resins, methacrylic resins, polystyrene resins, and novolac phenol resins can be used. Preferable examples can be given.
  • the amount to be mixed is preferably 50% by mass or less based on the water-insoluble and alkali-soluble resin.
  • the water-insoluble and alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more, a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 800 to More preferably, it is 250,000. Further, the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the alkali-soluble resin is preferably 1.1 to 10.
  • the water-insoluble and alkali-soluble resins in the upper layer may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the water-insoluble and alkali-soluble resin with respect to the total solid content of the upper layer is preferably 2.0 to 99.5% by mass in the total solid content, and 10.0 to 99.0.
  • the mass is more preferably 20.0 to 90.0 mass%.
  • the addition amount of the water-insoluble and alkali-soluble resin is 2.0% by mass or more, the durability of the image recording layer (photosensitive layer) is excellent, and when it is 99.5% by mass or less, the sensitivity and durability are excellent. Excellent in both sex.
  • the upper layer may contain an infrared absorber.
  • the infrared absorber is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and the above-described infrared absorber used in the photosensitive resin composition of the present disclosure can be used in the same manner.
  • Particularly preferred dyes are cyanine dyes represented by the above formula (a).
  • an infrared absorber in the upper layer By containing an infrared absorber in the upper layer, a positive lithographic printing plate precursor excellent in image forming properties can be obtained.
  • the addition amount of the infrared absorber in the upper layer is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1.0 to 10% with respect to the total solid content of the upper layer. It is particularly preferable that the content is% by mass. When the addition amount is 0.01% by mass or more, the sensitivity is improved, and when it is 50% by mass or less, the uniformity of the layer is good and the durability of the layer is excellent.
  • the upper layer in the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure is selected from the group consisting of an acid generator, an acid proliferation agent, a development accelerator, a surfactant, a bake-out agent / colorant, a plasticizer, a wax agent, and the like. At least one of them may be included.
  • these components can use similarly each component used in the photosensitive resin composition of this indication mentioned above, A preferable aspect is also the same.
  • the lower layer of the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the present disclosure is preferably a layer containing the photosensitive resin composition of the present disclosure.
  • the lower layer of the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the present disclosure is preferably formed by applying the photosensitive resin composition of the present disclosure.
  • the film strength of the resin used in the lower layer is important for the printing durability in printing. Therefore, the photosensitive resin composition of the present disclosure When used in the lower layer, the interaction between specific polymer compounds (hydrogen bonding, etc.) is strong, so it is estimated that the printing durability will be improved by using the photosensitive resin composition of the present disclosure having a high film strength for the lower layer. is doing.
  • the lower layer is also preferably formed of the photosensitive resin composition of the present disclosure, but the lower layer is formed using a resin composition other than the photosensitive resin composition of the present disclosure. It may be formed.
  • the preferred embodiment of the lower layer is the same as the preferred embodiment of the upper layer described above.
  • the support used in the lithographic printing plate precursor of the present disclosure is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material having necessary strength and durability.
  • paper for example, Paper laminated with polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited, or a plastic film.
  • plastic for example, Paper laminated with polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate,
  • a polyester film or an aluminum plate is preferable as a support in the case where the image forming material of the present disclosure is applied to a lithographic printing plate precursor.
  • a polyester film or an aluminum plate is preferable.
  • an aluminum plate having particularly good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable.
  • a suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited.
  • the different elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium.
  • the content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less.
  • Particularly suitable aluminum in the present disclosure is pure aluminum. However, since completely pure aluminum is difficult to manufacture by refining technology, it may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present disclosure is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used.
  • the thickness of the aluminum plate used in the present disclosure is preferably 0.1 to 0.6 mm, more preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm. preferable.
  • Such an aluminum plate may be subjected to a surface treatment such as a roughening treatment or an anodizing treatment as necessary.
  • a surface treatment such as a roughening treatment or an anodizing treatment as necessary.
  • the surface treatment of the aluminum support for example, degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or the like, as described in detail in paragraphs 0167 to 0169 of JP-A-2009-175195, Anodizing treatment, anodizing treatment or the like is appropriately performed.
  • the anodized aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary.
  • Hydrophilic treatment includes alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method, potassium zirconate fluoride or polyvinylphosphonic acid as disclosed in paragraph 0169 of JP-A-2009-175195. Etc. are used.
  • a support described in JP 2011-245844 A is also preferably used.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an intermediate layer between the support and the image recording layer.
  • Various organic compounds are used as the intermediate layer component.
  • phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose and dextrin
  • Preferred examples include amine hydrochlorides.
  • middle layer components may be used individually by 1 type, or may be used in mixture of 2 or more types. Details of the compounds used for the intermediate layer and the method for forming the intermediate layer are described in paragraphs 0171 to 0172 of JP-A-2009-175195, and these descriptions also apply to the present disclosure.
  • the formation amount of the intermediate layer is preferably 2 to 200 mg / m 2 , and more preferably 5 to 100 mg / m 2 . When the forming amount is in the above range, sufficient printing durability can be obtained.
  • the lithographic printing plate of the present disclosure may have a protective layer (also referred to as “overcoat layer”) on the image recording layer.
  • a protective layer also referred to as “overcoat layer”
  • the protective layer has a function of preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure.
  • the material used for the protective layer include materials described in paragraphs 0213 to 0227 of JP 2009-255434 A (water-soluble polymer compounds, inorganic layered compounds, and the like).
  • the protective layer can be formed by applying the prepared protective layer coating solution on the image recording layer provided on the support and drying it.
  • the coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water.
  • the coating method of the protective layer is not particularly limited, and examples thereof include a blade coating method, an air knife coating method, a gravure coating method, a roll coating coating method, a spray coating method, a dip coating method, and a bar coating method. It is done.
  • the coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 ⁇ 10g / m 2, more preferably in the range of 0.02 ⁇ 3g / m 2, and most preferably 0. It is in the range of 02 to 1 g / m 2 .
  • a back coat layer is provided on the back surface of the support of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure as necessary.
  • Such a back coat layer comprises a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174.
  • a coating layer is preferably used.
  • silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are inexpensive.
  • a metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferred because of its excellent developer resistance.
  • the lithographic printing plate making method of the present disclosure includes an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor of the present disclosure, and developing the exposed lithographic printing plate precursor using an alkaline aqueous solution having a pH of 8.5 to 13.5. Development steps are included in this order. According to the plate-making method of a lithographic printing plate of the present disclosure, a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance can be obtained, and the non-image area development time is short.
  • each process of the lithographic printing plate making method of the present disclosure will be described in detail.
  • the plate making method of the lithographic printing plate of the present disclosure includes an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor of the present disclosure.
  • imagewise exposure can be performed in an arbitrary shape so as to form a desired image.
  • the actinic ray light source used for imagewise exposure of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region, and more preferably a solid laser or a semiconductor laser.
  • the laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time.
  • the exposure time per pixel is preferably within 20 ⁇ sec.
  • the energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . When it is in the above range, curing can proceed sufficiently, laser ablation can be suppressed, and damage to the image can be prevented.
  • the exposure in the present disclosure can be performed by overlapping the light beams of the light sources.
  • Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter.
  • the overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the full width at half maximum (FWHM) of the beam intensity.
  • the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.
  • the light source scanning method of the exposure apparatus that can be used in the present disclosure is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, and the like can be used.
  • the channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.
  • the lithographic printing plate making method of the present disclosure includes a developing step of developing the exposed lithographic printing plate precursor using an alkaline aqueous solution (hereinafter also referred to as “developer”) having a pH of 8.5 to 13.5.
  • the developer used in the development step is an aqueous solution having a pH of 8.5 to 13.5, and an alkaline aqueous solution having a pH of 12 to 13.5 is more preferable.
  • Surfactant contributes to the improvement of processability.
  • any of anionic, nonionic, cationic, and amphoteric surfactants can be used.
  • anionic or nonionic surfactants can be used.
  • a surfactant is preferred.
  • the anionic, nonionic, cationic, and amphoteric surfactants used in the developer in the present disclosure those described in paragraphs 0128 to 0131 of JP2013-134341A can be used.
  • the HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.
  • the surfactant used in the developer is preferably an anionic surfactant or a nonionic surfactant, and has an anionic surfactant containing a sulfonic acid or a sulfonate, an aromatic ring, and an ethylene oxide chain. Nonionic surfactants are particularly preferred. Surfactant can be used individually by 1 type or in combination.
  • the content of the surfactant in the developer is preferably from 0.01 to 10% by mass, more preferably from 0.01 to 5% by mass, based on the total mass of the developer.
  • carbonate and bicarbonate may be added to the developer, or by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Carbonate ions and hydrogen carbonate ions may be generated.
  • the carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the total content of carbonate and bicarbonate is preferably 0.3 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and particularly preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer. .
  • the total amount is 0.3% by mass or more, the non-image area development time is short and the processing capacity is hardly lowered.
  • the total amount is 20% by mass or less, it is difficult to form precipitates and crystals, and further, the developer is treated as a waste liquid. Sometimes it becomes difficult to gel during neutralization, and the waste liquid treatment is unlikely to be hindered.
  • another alkali agent such as an organic alkali agent may be supplementarily used together.
  • the organic alkaline agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, and tetramethylammonium hydroxide.
  • the developer may contain a wetting agent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like.
  • a wetting agent preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like.
  • the wetting agent described in paragraph 0141 of JP2013-134341A can be suitably used.
  • the wetting agent may be used alone or in combination of two or more.
  • the addition amount of the wetting agent is preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer.
  • the preservative described in paragraph 0142 of JP2013-134341A can be suitably used. It is preferable to use two or more kinds of preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization.
  • the addition amount of the preservative is an amount that exhibits a stable effect on bacteria, fungi, yeast, etc., and varies depending on the type of bacteria, fungi, yeast, etc., but is 0 with respect to the total mass of the developer. The range of 0.01 to 4% by mass is preferable.
  • a chelate compound described in paragraph 0143 of JP2013-134341A can be suitably used.
  • the chelate compound is selected so that it is stably present in the developer composition and does not impair the printability.
  • the addition amount is preferably in the range of 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total mass of the developer.
  • the antifoaming agent described in paragraph 0144 of JP2013-134341A can be suitably used.
  • the content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total mass of the developer.
  • an antifoaming agent described in paragraph 0145 of JP2013-134341A can be suitably used.
  • the content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total mass of the developer.
  • organic solvent examples include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (Esso Chemical Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, Xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.
  • aliphatic hydrocarbons hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (Esso Chemical Co., Ltd.)
  • gasoline kerosene, etc.
  • aromatic hydrocarbons toluene, Xylene, etc.
  • halogenated hydrocarbons methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.
  • polar solvents examples include polar solvents.
  • Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, etc.), ketones (methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, Methyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).
  • alcohols methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, etc.
  • ketones methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.
  • esters ethyl acetate, Methyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate,
  • the organic solvent when it is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like.
  • the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass with respect to the total mass of the developer from the viewpoints of safety and flammability.
  • inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, and nickel sulfate.
  • the content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total mass of the developer.
  • the development temperature is not particularly limited as long as development is possible, but it is preferably 60 ° C. or lower, more preferably 15 to 40 ° C.
  • the developing solution may be fatigued depending on the processing amount. Therefore, the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution.
  • the reference conductivity for determining the timing for replenishing the developer replenisher is set in consideration of the ratio between processing fatigue and carbon dioxide fatigue. By automatically setting an appropriate value, the activity of the developer may be maintained in a good state for a long time.
  • An example of development and post-development processing is a method in which alkali development is performed, alkali is removed in a post-water washing step, gumming is performed in a gumming step, and drying is performed in a drying step.
  • a method in which pre-water washing, development and gumming are simultaneously performed by using an aqueous solution containing carbonate ions, hydrogen carbonate ions and a surfactant can be preferably exemplified. Therefore, the pre-water washing step is not particularly required, and it is preferable to perform the drying step after performing pre-water washing, development and gumming in one bath only by using one liquid. After development, it is preferable to dry after removing excess developer using a squeeze roller or the like.
  • the unnecessary image portion is erased.
  • Such erasing is preferably carried out by applying an erasing solution to an unnecessary image portion as described in, for example, JP-B-2-13293, leaving it as it is, and washing it with water.
  • a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber as described in JP-A-174842 can also be used.
  • the developing process can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a rubbing member.
  • an automatic processor for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs rubbing while conveying a lithographic printing plate precursor after image exposure, The automatic processing described in the specifications of US Pat. Nos. 5,148,746, 5,568,768, and British Patent 2,297,719, wherein the lithographic printing plate precursor after image exposure set on is subjected to rubbing while rotating the cylinder Machine.
  • an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.
  • the rotating brush roll used in the present disclosure can be appropriately selected in consideration of the scratch resistance of the image portion and the stiffness of the lithographic printing plate precursor support.
  • a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used.
  • metal or plastic in which brush materials are implanted in rows can be used.
  • a brush roll in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without any gap can be used.
  • brush materials include plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylics such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylate).
  • plastic fibers for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylics such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylate).
  • Polypropylene-based synthetic fibers such as polypropylene or polystyrene
  • fibers having a hair diameter of 20 to 400 ⁇ m and a hair length of 5 to 30 mm can be preferably used.
  • the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec. It is preferable to use a plurality of rotating brush rolls.
  • the rotating direction of the rotating brush roll may be the same or opposite to the conveying direction of the lithographic printing plate precursor. However, when two or more rotating brush rolls are used, at least one rotating brush roll is used. It is preferred that the rotating brush rolls rotate in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the photosensitive layer in the non-image area. It is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.
  • a drying step for drying the obtained lithographic printing plate continuously or discontinuously after the development step. Drying is performed by hot air, infrared rays, far infrared rays, or the like.
  • an automatic processor suitably used in the plate making method of the lithographic printing plate of the present disclosure, an apparatus having a developing unit and a drying unit is used. In the lithographic printing plate precursor, development and gumming are performed in a developing tank. And then dried in a drying section to obtain a lithographic printing plate.
  • the developed printing plate can be heated under very strong conditions.
  • the heating temperature is preferably in the range of 200 to 500 ° C. If the temperature is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
  • the lithographic printing plate obtained in this way is applied to an offset printing machine and is suitably used for printing a large number of sheets.
  • the reaction solution was cooled to 0 ° C. to 10 ° C. with stirring, dropped into 1 L of 28% aqueous ammonia (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), stirred for 1 hour, and filtered.
  • the filtrated product was poured into 500 mL of pure water, stirred for 30 minutes and filtered to collect a solid, which was then vacuum-dried at 60 ° C. for 24 hours to obtain 10.4 g of the desired product SA-1.
  • the target product (SA-1) was confirmed from the NMR spectrum.
  • the target product (SA-1) was analyzed by 1 NMR. The results are shown below.
  • PU-1 a specific polymer compound having a weight average molecular weight of 46,000.
  • the target product was confirmed by NMR spectrum (nuclear magnetic resonance spectrum), IR spectrum (infrared spectrum), and GPC (polystyrene conversion).
  • PU-2 to PU-25 can be synthesized.
  • the structure of PU-1 is as follows.
  • PA-1 a specific polymer compound having a weight average molecular weight of 45,000. It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and GPC (polystyrene conversion) that it was the target product. Similarly, PA-2 to PA-25 can be synthesized.
  • the structure of PA-1 is as follows.
  • weight average molecular weight was calculated by a standard polystyrene conversion method using gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • a GPC column packed with polystyrene cross-linked gel TKgel SuperAWM-H; manufactured by Tosoh Corporation
  • N-methylpyrrolidone phosphoric acid and lithium bromide 0.01 mol / L each
  • Examples 1 to 23, Comparative Examples 1 to 3 ⁇ Production of support>
  • the aluminum alloy plate of material 1S having a thickness of 0.3 mm was subjected to any of the following treatments (A) to (F) to produce a lithographic printing plate support.
  • the water washing process was performed between all the process processes, and the liquid draining was performed with the nip roller after the water washing process.
  • the distance between the two support rollers ( ⁇ 200 mm) at the bottom of the bundle-planting brush was 300 mm.
  • the bundle brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the bundle brush was pressed against the aluminum plate.
  • the rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate.
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
  • Amount of electricity (C / dm 2) the aluminum plate was 185C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of dissolved aluminum was 0.5 g / m 2 .
  • desmutting treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution.
  • the sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L.
  • the liquid temperature was 30 ° C.
  • the desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of hydrochloric acid electrolysis 60 Hz.
  • As the electrolytic solution an electrolytic solution in which aluminum chloride was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum chloride to an aqueous solution having a liquid temperature of 35 ° C. and hydrochloric acid of 6.2 g / L was used.
  • An electrochemical surface roughening treatment was performed using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time tp of 0.8 msec until the current value reached a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 25A / dm 2 at the peak of electric current amount of hydrochloric acid electrolysis (C / dm 2) the aluminum plate was 63C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 0.1 g / m 2 .
  • Desmutting treatment in acidic aqueous solution was performed in an aqueous sulfuric acid solution. Specifically, desmutting treatment was performed for 4 seconds at a liquid temperature of 35 ° C. using the waste liquid generated in the anodizing treatment step (dissolving 5 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid). The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Anodizing treatment Anodizing apparatus of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2. 4m) was used for anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
  • (Ak) Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, a silicate treatment was performed by dipping for 7 seconds at 50 ° C. using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
  • the distance between the two support rollers ( ⁇ 200 mm) at the bottom of the bundle-planting brush was 300 mm.
  • the bundle brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the bundle brush was pressed against the aluminum plate.
  • the rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate.
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed.
  • Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
  • Amount of electricity (C / dm 2) the aluminum plate was 185C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • (Be) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of dissolved aluminum was 0.5 g / m 2 .
  • desmutting treatment was carried out in an aqueous sulfuric acid solution.
  • the sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L.
  • the liquid temperature was 30 ° C.
  • the desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of hydrochloric acid electrolysis 60 Hz.
  • As the electrolytic solution an electrolytic solution in which aluminum chloride was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum chloride to an aqueous solution having a liquid temperature of 35 ° C. and hydrochloric acid of 6.2 g / L was used.
  • An electrochemical surface roughening treatment was performed using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time tp of 0.8 msec until the current value reached a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 25A / dm 2 at the peak of electric current amount of hydrochloric acid electrolysis (C / dm 2) the aluminum plate was 63C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • the first stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus based on direct current electrolysis.
  • an electrolytic bath a solution obtained by dissolving 7 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid was used, and anodization was performed under conditions of a liquid temperature of 43 ° C. and a current density of 30 A / dm 2 .
  • the depth of the micropores was 27 ⁇ m, and the obtained coating amount was 0.13 g / m 2 .
  • (Bl) Second stage anodizing treatment The second stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis.
  • As an electrolytic bath a solution obtained by dissolving 7 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid was used, and anodization was performed under conditions of a liquid temperature of 55 ° C. and a current density of 20 A / dm 2 . The coating amount obtained was 2.6 g / m 2 .
  • (Bm) Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, a silicate treatment was carried out by dipping at 50 ° C. for 7 seconds using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
  • Electrochemical roughening treatment in aqueous hydrochloric acid solution an electrolytic solution having a hydrochloric acid concentration of 14 g / L, an aluminum ion concentration of 13 g / L, and a sulfuric acid concentration of 3 g / L is used and electrolysis is performed using an alternating current. A roughening treatment was performed. The liquid temperature of the electrolytic solution was 30 ° C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
  • the waveform of the alternating current is a sine wave in which positive and negative waveforms are symmetrical, the frequency is 50 Hz, the anode reaction time and the cathode reaction time in one cycle of the alternating current are 1: 1, and the current density is the peak current value of the alternating current waveform. It was 75 A / dm 2 .
  • the electric amount was 450C / dm 2 in terms of the total electric quantity aluminum plate participating in the anode reaction, electrolytic treatment was carried out four times to open the energization interval 125C / dm 2 by 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate. Then, the water washing process was performed.
  • (Cd) Alkaline etching treatment Etching is carried out by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 35 ° C. on the aluminum plate after the electrochemical roughening treatment. Processed. The amount of aluminum dissolved on the surface subjected to the electrochemical surface roughening treatment was 0.1 g / m 2 . Then, the water washing process was performed.
  • Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2. 4m) was used for anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
  • (Cg) Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, a silicate treatment was carried out by dipping at 50 ° C. for 7 seconds using an aqueous 2.5 mass% No. 3 sodium silicate solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
  • desmutting treatment was performed in an aqueous nitric acid solution.
  • the nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a nitric acid waste solution used for electrochemical roughening in the next step.
  • the liquid temperature was 35 ° C.
  • the desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was continuously carried out using an alternating voltage of nitric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, the trapezoidal rectangular wave AC is used, and the electrochemical surface roughening treatment is performed using the carbon electrode as the counter electrode. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
  • the amount of electricity (C / dm 2 ) was 250 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was an anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • desmutting treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution.
  • the sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L.
  • the liquid temperature was 30 ° C.
  • the desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of hydrochloric acid electrolysis 60 Hz.
  • As the electrolytic solution an electrolytic solution in which aluminum chloride was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum chloride to an aqueous solution having a liquid temperature of 35 ° C. and hydrochloric acid of 6.2 g / L was used.
  • As the AC power supply waveform the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 25A / dm 2 at the peak of electric current amount of hydrochloric acid electrolysis (C / dm 2) the aluminum plate was 63C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • (Dg) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 0.1 g / m 2 .
  • Desmutting treatment in acidic aqueous solution was performed in an aqueous sulfuric acid solution. Specifically, the desmut treatment was performed for 4 seconds at a liquid temperature of 35 ° C. using the waste liquid generated in the anodizing treatment step (dissolving 5 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid). The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2. 4m) was used for anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
  • (Dj) Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, a silicate treatment was performed by dipping for 7 seconds at 50 ° C. using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
  • Etching was performed by spraying an aqueous caustic soda solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass% with a spray tube at a temperature of 70 ° C. on an aluminum plate. Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved on the surface that was later subjected to electrochemical surface roughening was 5 g / m 2 .
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, the trapezoidal rectangular wave AC is used, and the electrochemical surface roughening treatment is performed using the carbon electrode as the counter electrode. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
  • the amount of electricity (C / dm 2 ) was 250 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was an anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 0.2 g / m 2 .
  • Desmutting treatment in acidic aqueous solution Desmutting treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution.
  • the sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L.
  • the liquid temperature was 30 ° C.
  • the desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of hydrochloric acid electrolysis 60 Hz.
  • As the electrolytic solution an electrolytic solution in which aluminum chloride was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum chloride to an aqueous solution having a liquid temperature of 35 ° C. and hydrochloric acid of 6.2 g / L was used.
  • As the AC power supply waveform the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 25A / dm 2 at the peak of electric current amount of hydrochloric acid electrolysis (C / dm 2) the aluminum plate was 63C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 0.1 g / m 2 .
  • the first stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus based on direct current electrolysis.
  • an electrolytic bath a solution obtained by dissolving 7 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid was used, and anodization was performed under conditions of a liquid temperature of 43 ° C. and a current density of 30 A / dm 2 .
  • the depth of the micropores was 27 ⁇ m, and the obtained coating amount was 0.13 g / m 2 .
  • (Ek) Second stage anodizing treatment The second stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis.
  • As an electrolytic bath a solution obtained by dissolving 7 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid was used, and anodization was performed under conditions of a liquid temperature of 40 ° C. and a current density of 20 A / dm 2 . The coating amount obtained was 2.6 g / m 2 .
  • Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed.
  • Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
  • the amount of electricity (C / dm 2 ) was 250 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was an anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • Anodizing treatment Anodizing apparatus of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2. 4m) was used for anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
  • the brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm.
  • the distance between the two support rollers ( ⁇ 200 mm) at the bottom of the bundle-planting brush was 300 mm.
  • the bundle brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the bundle brush was pressed against the aluminum plate.
  • the rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate.
  • Anodizing treatment Anodizing apparatus of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis part length 6 m each, first and second feeding part length 3 m each, first and second feeding electrode part length 2. 4m) was used for anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
  • Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, a silicate treatment was performed by dipping for 7 seconds at 50 ° C using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
  • the brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm.
  • the distance between the two support rollers ( ⁇ 200 mm) at the bottom of the bundle-planting brush was 300 mm.
  • the bundle brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the bundle brush was pressed against the aluminum plate.
  • the rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate.
  • Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed.
  • Ferrite was used for the auxiliary anode.
  • the current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
  • Amount of electricity (C / dm 2) the aluminum plate was 185C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.
  • desmutting treatment was carried out in an aqueous sulfuric acid solution.
  • the sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L.
  • the liquid temperature was 30 ° C.
  • the desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.
  • Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolysis section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2. 4m) was used for anodizing treatment. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
  • intermediate layer coating solution 1 On the supports A to F produced as described above, the intermediate layer coating solution 1 shown below was applied, and then dried at 80 ° C. for 15 seconds to provide intermediate layers to provide the supports A-1 to F-1. It was. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .
  • Intermediate layer coating solution 1 The following copolymer with a weight average molecular weight of 28,000: 0.3 parts In the chemical formula below, the numbers on the lower right of the parentheses of each structural unit represent the molar ratio. ⁇ Methanol: 100 parts ⁇ Water: 1 part
  • the lower layer forming coating liquid composition (I) having the following composition was coated with a wire bar, and then dried in a drying oven at 150 ° C. for 40 seconds to reduce the coating amount.
  • the lower layer was provided so as to be 1.0 g / m 2 .
  • the upper layer forming coating solution composition (II) having the following composition was applied with a wire bar to provide the upper layer. After coating, drying was performed at 150 ° C. for 40 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor in which the total coating amount of the lower layer and the upper layer was 1.2 g / m 2 .
  • a test pattern was drawn on the planographic printing plate precursor in an image with a Trend setter manufactured by Creo at a beam intensity of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm. Thereafter, development was performed at a development temperature of 30 ° C. using a PS processor LP940H manufactured by Fujifilm Co., Ltd., which was charged with a developer XP-D manufactured by Fujifilm Co., Ltd. (diluted to a conductivity of 43 mS / cm). It was.
  • the development time for each lithographic printing plate precursor is 20 seconds if the non-image portion development time is “1”, 60 seconds if the non-image portion development time is “2”, and if the non-image portion development time is “3”.
  • the non-image portion development time is “4” for 150 seconds, it is set to 200 seconds.
  • the ink Toyo Ink ink containing calcium carbonate was used as a model for low-grade materials.
  • the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The larger the number, the better the printing durability. The results are shown in Table 3.
  • a coating solution (III) for forming a lower layer having the following composition is coated on the obtained supports A-1 to F-1 with a wire bar, and then dried in a drying oven at 150 ° C. for 40 seconds to reduce the coating amount.
  • the lower layer was provided so as to be 1.0 g / m 2 .
  • the upper layer forming coating solution composition (IV) having the following composition was applied with a wire bar to provide the upper layer. After coating, drying was performed at 150 ° C. for 40 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor in which the total coating amount of the lower layer and the upper layer was 1.2 g / m 2 .
  • Table 4 shows the results of evaluating the obtained lithographic printing plate precursors under the same conditions as in Example 1.
  • the lower layer-forming coating solution composition (V) having the following composition was coated with a wire bar so that the coating amount became 1.5 g / m 2, and then 160 ° C.
  • the substrate was dried in a drying oven for 40 seconds, immediately cooled with cold air of 17 to 20 ° C. until the temperature of the support became 35 ° C., and a lower layer was provided.
  • the upper layer-forming coating solution composition (VI) having the following composition was coated with a wire bar so that the coating amount was 0.5 g / m 2 , dried at 130 ° C. for 40 seconds, and further 20 to 20 Slow cooling was performed with 26 ° C. wind, and an upper layer was provided to obtain a lithographic printing plate precursor.
  • Polyurethane 1 A diisocyanate compound and a diol compound represented by the following formula were polymerized so as to have a molar ratio of 1: 1 (weight average molecular weight 36,000).
  • the obtained lithographic printing plate precursor was evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the following specific developer A was used for development. The results are shown in Table 5 below.
  • composition of specific developer A Water: 796 parts-Sodium carbonate: 12.8 parts-Sodium hydrogen carbonate atom: 7.0 parts-Sodium gluconate: 15.5 parts-Softazoline LPB-R (30% aqueous solution): 154.0 parts-Softazolin LAO (30% aqueous solution): 38.0 parts ⁇ Ethylenediamine disuccinate: 6.7 parts pH 9.85
  • the lower layer-forming coating solution composition (VII) having the following composition was coated with a wire bar so that the coating amount was 1.5 g / m 2, and then 160 ° C.
  • the substrate was dried in a drying oven for 40 seconds, immediately cooled with cold air of 17 to 20 ° C. until the temperature of the support became 35 ° C., and a lower layer was provided.
  • the upper layer-forming coating liquid composition (VIII) having the following composition was coated with a wire bar so that the coating amount was 0.5 g / m 2 , dried at 130 ° C. for 40 seconds, and further 20 to Slow cooling was performed with 26 ° C. wind, and an upper layer was provided to obtain a lithographic printing plate precursor.
  • a coating liquid composition (IX) having the following composition was coated on the obtained supports A-1 to F-1 with a wire bar, and then dried in a drying oven at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a coating amount of 1.0 g.
  • a lithographic printing plate precursor of / m 2 was obtained.
  • Table 7 below shows the results obtained by evaluating the obtained lithographic printing plate precursor under the same conditions as in Example 1 except that the developer LH-DS manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used for the development process.

Abstract

感光性樹脂組成物は、成分Ａとして、式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。平版印刷版原版は、支持体上に、画像記録層を有し、前記画像記録層が、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。　

Description

感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
　本発明は、感光性樹脂組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法に関する。
　従来、種々の感光性組成物が可視画像形成材料や平版印刷版材料として使用されている。特に、平版印刷分野における近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザーや半導体レーザーは、高出力、かつ、小型の物が容易に入手できるようになっている。平版印刷の分野においては、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
　赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収剤等とを成分とする。この赤外線吸収剤等が、未露光部（画像部）では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働き、露光部（非画像部）では、発生した熱により赤外線吸収剤等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
　従来の平版印刷版原版としては、特開２００５－９１４２９号公報、特開２００５－２５８０７０号公報、特開２００３－３１５９９５号公報、及び、特開２００６－２２５４３２号公報に記載の平版印刷版原版が知られている。
　しかしながら、このような感光性のポジ型樹脂組成物を適用した平版印刷版材料では、露光領域におけるアルカリ水溶液への溶解性がより良好な特性を示す樹脂組成物からなる画像記録層を用いると、未露光領域における画像形成層の強度が低下し、現像性と耐刷性の両立が困難となっている。
　また、近年印刷市場においてコストダウンの要求が高まっており、安価な印刷資材の使用が広まりつつある。安価な印刷資材の中には、粗大な粒子（例えば、粒径が１００ｎｍ～１０μｍの無機塩粒子など）を含む紙材やインキが存在し、これらを用いて印刷すると、粗大な粒子が画像部を損傷させ、それにより、著しく印刷枚数が低下する。
　以上の問題を解決するために、ポリウレタン樹脂やポリアミド樹脂、フェノール樹脂を含むアルカリ溶解性に優れた画像記録層を設けた平版印刷版原版が開示されている（特開２００５－９１４２９号公報、特開２００５－２５８０７０号公報、特開２００３－３１５９９５号公報、及び、特開２００６－２２５４３２号公報参照）。これらの平版印刷版原版によれば、得られる平版印刷版の耐薬品性には優れるものの、露光部の現像性又は耐刷性のいずれかに改良の余地がある。
　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつ非画像部現像時間が短い感光性樹脂組成物、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつ非画像部現像時間が短い平版印刷版原版、並びに、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法を提供することである。
　上記課題は、以下の＜１＞、＜６＞又は＜１３＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞～＜５＞及び＜７＞～＜１２＞とともに以下に記載する。
　＜１＞　成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する感光性樹脂組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式１中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ1は－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｙ1は酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｗは１～４の整数を表し、ｎは０～３の整数を表す、
　＜２＞　式１中、Ｘ1が－ＮＲ－であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、＜１＞に記載の感光性樹脂組成物、
　＜３＞　式１中、Ｘ1がアルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、＜１＞に記載の感光性樹脂組成物、
　＜４＞　成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、＜１＞に記載の感光性樹脂組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式２中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ2及びＸ3はそれぞれ独立に、－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｚ1はアルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、又は、単結合を表し、Ｗ２は１～４の整数を表し、ｎ２は０～３の整数を表し、Ｗ３は１～４の整数を表し、ｎ３は０～３の整数を表す、
　＜５＞　ポジ型感光性樹脂組成物である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
　＜６＞　支持体上に、画像記録層を有し、上記画像記録層が、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する平版印刷版原版、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式１中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ1は－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｙ1は酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｗは１～４の整数を表し、ｎは０～３の整数を表す、
　＜７＞　式１中、Ｘ1が－ＮＲ－であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、＜６＞に記載の平版印刷版原版、
　＜８＞　式１中、Ｘ1がアルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、＜６＞に記載の平版印刷版原版、
　＜９＞　成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、＜６＞に記載の平版印刷版原版、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式２中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ2及びＸ3はそれぞれ独立に、－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｚ1はアルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、又は、単結合を表し、Ｗ２は１～４の整数を表し、ｎ２は０～３の整数を表し、Ｗ３は１～４の整数を表し、ｎ３は０～３の整数を表す、
　＜１０＞　ポジ型平版印刷版原版である、＜６＞～＜９＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版、
　＜１１＞　上記画像記録層が、下層及び上層の２層構造であり、上記下層及び上記上層の少なくとも１層に成分Ａ及び成分Ｂを含有する、＜６＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版、
　＜１２＞　上記支持体と上記画像記録層との間に、中間層を有する、＜６＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版、
　＜１３＞　＜６＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５～１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む平版印刷版の製版方法。
　本発明の一実施形態によれば、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつ非画像部現像時間が短い感光性樹脂組成物、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつ非画像部現像時間が短い平版印刷版原版、並びに、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法を提供することができる。
　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
　なお、本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
（感光性樹脂組成物）
　本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。
　本開示の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。
　なお、本開示において、「主鎖」とは高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている分子鎖を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式１中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ1は－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｙ1は酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｗは１～４の整数を表し、ｎは０～３の整数を表す。
　本発明者等が鋭意検討した結果、感光性樹脂組成物に、成分Ａとして、上記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有することにより、耐刷性、及び、耐薬品性に優れ、非画像部現像時間が短い平版印刷版原版を提供することができることを見出した。
　これによる優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。
　本発明者等の検討により、印刷における耐刷性には樹脂の膜強度が重要であり、膜強度は高分子化合物間の相互作用の影響が大きいことが分かってきた。特に、低品質な印刷資材においてはこの効果が顕著であり、一般的なアクリル樹脂やポリウレタン樹脂では十分な膜強度を付与することは難しい。これは印刷資材（例えば、紙、インキ等）に含まれる無機塩粒子（例えば、炭酸カルシウムやカオリン等）が印刷中に溶出し、これが印刷版の画像部に研磨的に作用することで、磨耗が促進してしまうためであると考えられる。これに対し、本開示における高分子化合物は、例えば高分子化合物間の相互作用の大きい式１で表される構造（例えば、ウレア構造又はアミド構造など）を主鎖に有するため、高分子化合物間の相互作用が大きく、印刷に用いられる薬品（例えば、クリーナーや有機化合物）に対し、耐性が極めて高く、かつ画像部強度に優れ、高耐刷となると考えている。また、スルホンアミド基を有することにより、高分子化合物のアルカリ溶解性が高くなることに加え、スルホンアミド基を高い含有率で有するため、現像液の浸透速度が速く、非画像部現像時間が短いと推測する。また、相互作用が非常に高く、凝集性が高い式１で表される構造を複数有するため、耐刷性に優れる。これは、樹脂の膜強度が向上し、印刷版の画像部の磨耗が抑制される効果によるものと推定している。
　本発明者等は、上記の結果、画像部の強度と耐薬品性の両立が可能となったものと考えている。
　以下、まずは本開示の感光性樹脂組成物の成分である、高分子化合物及び赤外線吸収剤について説明する。
＜成分Ａ：高分子化合物＞
　本開示で用いられる高分子化合物（以下、「特定高分子化合物」ともいう。）は上記式１で表される構造を有する。
　上記特定高分子化合物は、下記式２で表される構造を有することが好ましい。
　以下、各式で表される構造について説明する。
〔式１で表される構造〕
　式１中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ1は－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｙ1は酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｗは１～４の整数を表し、ｎは０～３の整数を表す。
　式１中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　式１中、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～８のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　式１中、Ｒ3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～８のアルキル基、炭素数６～２０のアリール基、ハロゲン原子、炭素数１～８のアルコキシ基、炭素数１～８のアルコキシカルボニル基、又は、炭素数１～８のアシル基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～８のアルキル基、炭素数６～２０のアリール基、又は、ハロゲン原子であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　なお、本開示において、アルキル基は直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。
　式１中、Ｘ1は－ＮＲ－、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数６～２０のアリーレン基、又は、炭素数１～２０のアルキレンオキシ基であることが好ましく、－ＮＲ－、炭素数１～２０のアルキレン基、又は、炭素数１～２０のアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
　なお、本開示において、アルキレン基は直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。
　また、Ｘ1がアルキレンオキシ基を表す場合、アルキレンオキシ基に含まれる酸素原子と、Ｙ1が結合した炭素原子とは、直接結合しないことが好ましい。
　Ｒは水素原子又は炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　式１中、Ｙ1は酸素原子であることが好ましい。
　式１中、Ｗは１～４の整数を表し、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
　式１中、ｎは０～３の整数を表し、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
　式１中、Ｘ1が－ＮＲ－であり、かつ、Ｙ1が酸素原子であるか、又は、Ｘ1がアルキレン基、アリーレン基、若しくは、アルキレンオキシ基であり、かつ、Ｙ1が酸素原子であることが好ましい。上記態様によれば、耐刷性及び耐薬品性により優れた平版印刷版を得ることができ、また、非画像部現像時間がより短くなる。
　また、式１に記載のベンゼン環における、Ｒ1が結合したＮ原子と、式１で表される構造が他の構造と結合する結合部位と、の位置関係は、メタ位又はパラ位であることが好ましく、パラ位であることがより好ましい。
　特定高分子化合物は、式１で表される構造を、特定高分子化合物の全質量に対し、１０～９０質量％含むことが好ましく、３０～８０質量％含むことがより好ましく、５０～７５質量％含むことが更に好ましい。
〔式２で表される構造〕
　成分Ａは、下記式２で表される構造を有する高分子化合物であることが好ましい。上記態様であると、耐刷性及び耐薬品性により優れた平版印刷版を得ることができ、また、非画像部現像時間がより短くなる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式２中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、式１中のＲ1と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式２中、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に、式１中のＲ2と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式２中、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に、式１中のＲ3と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式２中、Ｘ2及びＸ3はそれぞれ独立に、式１中のＸ1と同義であり、好ましい態様も同様である。また、Ｘ2及びＸ3は同一の基であることが好ましい。更に、Ｘ2及びＸ3がアルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表す場合、ある式２で表される構造中のＸ2が、別の式２で表される構造中のＸ3であってもよい。
　Ｚ1は、炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数６～２０のアリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、又は、単結合であることが好ましく、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、又は、単結合であることがより好ましく、単結合であることが更に好ましい。
　式２中、Ｗ２は１～４の整数を表し、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
　式２中、ｎ２は０～３の整数を表し、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
　式２中、Ｗ３は１～４の整数を表し、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
　式２中、ｎ３は０～３の整数を表し、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
　また、式２に記載の２つのベンゼン環における、Ｒ4が結合したＮ原子と、Ｚ1と、の位置関係、及び、Ｒ5が結合したＮ原子と、Ｚ1と、の位置関係は、いずれもがメタ位又はパラ位であることが好ましく、いずれもがパラ位であることがより好ましい。
　特定高分子化合物は、式２で表される構造を、特定高分子化合物の全質量に対し、１０～９０質量％含むことが好ましく、３０～８０質量％含むことがより好ましく、５０～７５質量％含むことが更に好ましい。
〔その他の構造〕
－酸基を有する構造－
　特定高分子化合物は、その他の構造として、式１～式２で表される構造以外の、酸基を有する構造を有していてもよい。
　上記酸基としては、スルホンアミド基、フェノール性水酸基、及び、カルボキシ基が挙げられ、フェノール性水酸基、又は、カルボキシ基が好ましい。
－アルキレンオキシ基－
　本開示の特定高分子化合物は、アルキレンオキシ基を更に主鎖に有することが好ましい。
　上記態様によれば、得られる平版印刷版の画像形成性に優れ、得られる平版印刷版の耐刷性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
　上記アルキレンオキシ基としては、炭素数２～２００のアルキレンオキシ基が好ましく、炭素数２～１００のアルキレンオキシ基がより好ましく、炭素数２～５０のアルキレンオキシ基が更に好ましく、エチレンオキシ基、又は、プロピレンオキシ基が特に好ましい。
　また、上記アルキレンオキシ基は、ポリアルキレンオキシ基であってもよい。
　ポリアルキレンオキシ基としては、繰り返し数２～５０のポリアルキレンオキシ基が好ましく、繰り返し数２～４０のポリアルキレンオキシ基がより好ましく、繰り返し数２～３０のポリアルキレンオキシ基が更に好ましい。
　ポリアルキレンオキシ基の構成繰り返し単位の好ましい炭素数は、上記アルキレンオキシ基の好ましい炭素数と同様である。
〔特定高分子化合物の物性〕
　特定高分子化合物は重量平均分子量が１０，０００～５００，０００であることが好ましく、１０，０００～２００，０００であることがより好ましく、２０，０００～１００，０００であることが更に好ましい。
　本開示において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算法により算出することができる。ＧＰＣカラムとしてはポリスチレン架橋ゲルを充填したもの（ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ；東ソー（株）製）を、ＧＰＣ溶媒としてはＮ－メチルピロリドン（リン酸、臭化リチウム各０．０１ｍｏｌ／Ｌ）を使用することが可能である。
　本開示における特定高分子化合物の酸価としては、非画像部現像時間の短縮と画像部強度の観点から、０．５～６．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．５～４．０ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましい。
　以下、特定高分子化合物について、具体例を挙げて説明する。
〔特定高分子化合物の具体例〕
　本開示における特定高分子化合物は、スルホンアミド基とアミノ基とを置換基として有するベンゼン環を有し、かつ、化合物中にアミノ基を２つ以上有する化合物（以下、「特定多価アミン化合物」ともいう。）と、酸ハライド基を２つ以上含む化合物（以下、「特定酸ハライド化合物」ともいう。）、又は、イソシアナート基を２以上含む化合物（以下、「特定イソシアナート化合物」ともいう。）とを逐次重合反応した高分子化合物であることが好ましい。
　特定多価アミン化合物は、スルホンアミド基とアミノ基とを置換基として有するベンゼン環を有し、かつ、化合物中にアミノ基を２つ有する化合物であることが好ましい。
　特定多価アミン化合物は、スルホンアミド基と２つのアミノ基とを置換基として有するベンゼン環を１つ有する化合物か、スルホンアミド基と１つのアミノ基とを置換基として有するベンゼン環を２つ有する化合物であることが好ましい。
　特定酸ハライド化合物は、酸ハライド基を２つ含む化合物であることが好ましい。
　特定イソシアナート化合物は、イソシアナート基を２つ含む化合物であることが好ましい。
　式１で表される構造は、特定多価アミン化合物中の、スルホンアミド基とアミノ基とを置換基として有するベンゼン環におけるアミノ基と、特定酸ハライド化合物中の酸ハライド基との反応により形成されるか、又は、上記アミノ基と、特定イソシアナート化合物中のイソシアナート基との反応により形成されることが好ましい。
　また、本開示の特定高分子化合物は、特定多価アミン化合物と、特定酸ハライド化合物と、その他の多価アミン化合物とを逐次重合させたポリアミドであるか、特定多価アミンと、特定イソシアネート化合物と、その他の多価アミン化合物とを逐次重合させたポリウレアであることが好ましい。
　上記その他の多価アミン化合物は、特に限定されないが、ジアミン化合物であることが好ましい。
　また、上記その他の多価アミン化合物は、構造中にアルキレンオキシ基を含むことが好ましい。上記アルキレンオキシ基としては、炭素数２～１０のアルキレンオキシ基が好ましく、炭素数２～８のアルキレンオキシ基がより好ましく、炭素数２～４のアルキレンオキシ基が更に好ましく、エチレンオキシ基、又は、プロピレンオキシ基が特に好ましい。
　また、上記アルキレンオキシ基は、ポリアルキレンオキシ基であってもよい。
　ポリアルキレンオキシ基としては、繰り返し数２～５０のポリアルキレンオキシ基が好ましく、繰り返し数２～４０のポリアルキレンオキシ基がより好ましく、繰り返し数２～３０のポリアルキレンオキシ基が更に好ましい。
　ポリアルキレンオキシ基の構成繰り返し単位の好ましい炭素数は、上記アルキレンオキシ基の好ましい炭素数と同様である。
　本開示に用いることができる上記ポリアミド又は上記ポリウレアの好ましい具体例を表１又は表２に示す。具体例ＰＵ－１～ＰＵ－２５及びＰＡ－１～ＰＡ－２５は、表１又は表２に記載された各化合物を、表１又は表２に記載された割合（モル比）で反応させてできたポリウレア又はポリアミドを意味する。なお、表１又は表２中の「－」の記載は、該当する化合物を含有しないことを示している。
　また、表１及び表２中にはポリウレア又はポリアミドの合成に使用した各化合物のモル比、及び、得られたポリアミド、ポリウレアの重量平均分子量（Ｍｗ）を示すが、本開示に用いられるポリウレア、ポリアミドはこれらに限定されない。
　また、ポリマーの重量平均分子量は、ＧＰＣ法により測定した値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
　表１中に記載の化合物を含む、本開示に用いられるポリウレアの合成に使用される好ましい化合物の具体的な構造は、下記の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　上記ポリウレアの中でも、ＰＵ－１、ＰＵ－２、ＰＵ－３、ＰＵ－１３、ＰＵ－１４、ＰＵ－１６、及びＰＵ－１８が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
　表２中に記載の化合物を含む、本開示に用いられるポリアミドの合成に使用される好ましい化合物の具体的な構造は、下記の通りである。なお、ＳＡ－１～ＳＡ－３、及び、ＤＡ－１～ＤＡ－３８の構造は、上記の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　上記ポリアミドの中でも、ＰＡ－１、ＰＡ－２、ＰＡ－３、ＰＡ－４、ＰＡ－６、ＰＡ－９、ＰＡ－１４、及び、ＰＡ－１６が好ましい。
〔特定高分子化合物の含有量〕
　また、本開示の感光性樹脂組成物の全固形分に対して、特定高分子化合物の含有量は１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、３０～８０質量％であることが更に好ましい。
　特定高分子化合物の含有量が上記範囲であれば、塗布性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
　なお、本開示において、固形分とは、溶剤等の揮発性成分を除いた成分の量である。
＜成分Ｂ：赤外線吸収剤＞
　本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。
　赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。
　本開示に用いることができる赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、及び、シアニン染料などの染料が挙げられる。本開示において、これらの染料のうち、赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収するものが、赤外光又は近赤外光を発光するレーザーでの利用に適する点で好ましく、シアニン染料が特に好ましい。
　そのような赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収する染料としては、例えば、特開昭５８－１２５２４６号、特開昭５９－８４３５６号、特開昭５９－２０２８２９号、又は、特開昭６０－７８７８７号等の各公報に記載されているシアニン染料、特開昭５８－１７３６９６号、特開昭５８－１８１６９０号、又は、特開昭５８－１９４５９５号等の各公報に記載されているメチン染料、特開昭５８－１１２７９３号、特開昭５８－２２４７９３号、特開昭５９－４８１８７号、特開昭５９－７３９９６号、特開昭６０－５２９４０号、又は、特開昭６０－６３７４４号等の各公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８－１１２７９２号公報等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
　また、染料として米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７－１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８－１８１０５１号、同５８－２２０１４３号、同５９－４１３６３号、同５９－８４２４８号、同５９－８４２４９号、同５９－１４６０６３号、又は、同５９－１４６０６１号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９－２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５－１３５１４号、同５－１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ　ＩＩＩ－１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ　ＩＩＩ－１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ　ＩＩＩ－１２５等が特に好ましく用いられる。
　また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
　これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、及び、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記式（ａ）で表されるシアニン色素は、本開示における上層に使用した場合に、露光による溶解抑制作用の解除が良好であり、かつ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　式（ａ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、ジアリールアミノ基、－Ｘ2－Ｌ1又は式（ｂ）により表される基を表す。Ｘ2は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｌ1は、炭素数１～１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環基、又は、ヘテロ原子を含む炭素数１～１２の炭化水素基を表す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　上記式（ｂ）中、Ｘa -は後述するＺa -と同様に定義され、Ｒaは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、及び、ハロゲン原子よりなる群から選択される置換基を表す。
　Ｒ21及びＲ22はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の炭化水素基を表す。感光性樹脂組成物の保存安定性から、Ｒ21及びＲ22は、炭素数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、Ｒ21とＲ22とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
　Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数１～１２の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルコキシ基が挙げられる。
　Ｙ11及びＹ12は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素数３～１２のジアルキルメチレン基を表す。Ｒ23及びＲ24は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の炭化水素基を表す。好ましい置換基としては、炭素数１～１２のアルコキシ基、カルボキシ基、及び、スルホ基が挙げられる。
　Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚa -は、対アニオンを表す。ただし、式（ａ）で表されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Ｚa -は必要ない。好ましいＺa -は、感光性樹脂組成物の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンである。
　好適に用いることのできる式（ａ）で表されるシアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９、特開２００２－４０６３８号公報の段落００１２～００３８、及び、特開２００２－２３３６０号公報の段落００１２～００２３に記載されたものを挙げることができる。
　上層が含有する赤外線吸収剤として特に好ましくは、以下に示すシアニン染料Ａである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　本開示の感光性樹脂組成物に赤外線吸収剤を添加する際の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１～５０質量％であることが好ましく、０．１～３０質量％であることがより好ましく、１．０～３０質量％であることが特に好ましい。添加量が０．０１質量％以上であると、高感度となり、また、５０質量％以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。
＜他のアルカリ可溶性樹脂＞
　本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ａ以外のアルカリ可溶性樹脂（他のアルカリ可溶性樹脂）を含有していてもよい。
　本開示において、「アルカリ可溶性」とは、３０℃、ｐＨ１３．０の水酸化ナトリウム水溶液５ｇ中で樹脂０．０１ｇが２００秒以内で溶解することを意味する。なお、溶解とは、溶解物の残存が目視にて確認でない状態を示す。
　本開示の感光性樹脂組成物に用いられる、成分Ａ以外のアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び側鎖よりなる群から選ばれた少なくとも１つに、フェノール性ヒドロキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、又は、活性イミド基等の酸性の官能基を有するものが好ましく、このような、アルカリ可溶性を付与する酸性の官能基を有するモノマーを１０モル％以上含む樹脂が挙げられ、２０モル％以上含む樹脂がより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が１０モル％以上であれば、アルカリ可溶性が十分得られ、また、非画像部現像時間が短い。
　また、他のアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂も好ましく挙げられる。
　本開示に用いることができるノボラック樹脂としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ－クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ－クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ－／ｐ－混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、又は、フェノール／クレゾール（ｍ－，ｐ－，又はｍ－／ｐ－混合のいずれでもよい。）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
　また更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ－ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、又は、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３～８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。また、その重量平均分子量（Ｍｗ）が５００以上であることが好ましく、１，０００～７００，０００であることがより好ましい。また、その数平均分子量（Ｍｎ）が５００以上であることが好ましく、７５０～６５０，０００であることがより好ましい。分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１～１０であることが好ましい。
　上記他のアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が２，０００以上、かつ数平均分子量が５００以上のものが好ましく、重量平均分子量が５，０００～３００，０００で、かつ数平均分子量が８００～２５０，０００であることがより好ましい。また、上記他のアルカリ可溶性樹脂の分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１～１０であることが好ましい。
　本開示の感光性樹脂組成物に所望により含まれる他のアルカリ可溶性樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　本開示における感光性樹脂組成物の全固形分中に対する他のアルカリ可溶性樹脂の含有量は、０～９８質量％の添加量が好ましく、０～８０質量％であることがより好ましい。また、他のアルカリ可溶性樹脂は、本開示に用いられる成分Ａ１００質量部に対し、８０質量部以下の割合で含むことが好ましい。
＜酸発生剤＞
　本開示の感光性樹脂組成物には、感度向上の観点から、酸発生剤を含有することが好ましい。
　本開示において酸発生剤とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、赤外線の照射や、１００℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、又は、塩酸等のｐＫａが２以下の強酸であることが好ましい。この酸発生剤から発生した酸によって、露光部画像記録層への現像液の浸透性が高くなり、画像記録層のアルカリ水溶液に対する溶解性がより向上するものである。
　本開示において好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、及び、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、米国特許第４，７０８，９２５号明細書や特開平７－２０６２９号公報に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、又は、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第３，８６７，１４７号明細書記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，６３２，７０３号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平１－１０２４５６号公報及び特開平１－１０２４５７号公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、米国特許第５，１３５，８３８号明細書や米国特許第５，２００，５４４号明細書に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平２－１０００５４号公報、特開平２－１０００５５号公報及び特願平８－９４４４号公報に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平７－２７１０２９号公報に記載されている、ハロアルキル置換されたＳ－トリアジン類も好ましい。
　更に、上記特開平８－２２０７５２号公報において、「酸前駆体」として記載されている化合物、あるいは、特開平９－１７１２５４号公報において「（ａ）活性光線の照射により酸を発生しうる化合物」として記載されている化合物なども本開示の酸発生剤として適用しうる。
　中でも、感度と安定性の観点から、酸発生剤としてオニウム塩化合物を用いることが好ましい。以下、オニウム塩化合物について説明する。
　本開示において好適に用い得るオニウム塩化合物としては、赤外線露光、及び、露光により赤外線吸収剤から発生する熱エネルギーにより分解して酸を発生する化合物として知られる化合物を挙げることができる。本開示に好適なオニウム塩化合物としては、感度の観点から、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する、以下に述べるオニウム塩構造を有するものを挙げることができる。
　本開示において好適に用いられるオニウム塩としては、公知のジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、及び、アジニウム塩等が挙げられ、中でも、トリアリールスルホニウム、ジアリールヨードニウムのスルホン酸塩、カルボン酸塩、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、又は、ＣｌＯ4 -などが好ましい。
　本開示において酸発生剤として用いうるオニウム塩としては、下記式（III）～式（V）で表されるオニウム塩が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　上記式（III）中、Ａｒ11及びＡｒ12はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数６～１２のアリール基を表す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ11-はハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホン酸イオン、及び、ペルフルオロアルキルスルホン酸イオン等フッ素原子を有するスルホン酸イオンよりなる群から選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、アリールスルホン酸イオン及びペルフルオロアルキルスルホン酸よりなる群から選択される対イオンである。
　上記式（IV）中、Ａｒ21は、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基を表す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリールオキシ基、炭素数１～１２のアルキルアミノ基、炭素数２～１２のジアルキルアミノ基、炭素数６～１２のアリールアミノ基又は炭素数１～２０のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ21-はＺ11-と同義の対イオンを表す。
　上記式（V）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の炭化水素基を表す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ31-はＺ11-と同義の対イオンを表す。
　本開示において、好適に用いることができる式（III）で表されるオニウム塩の具体例（ＯＩ－１～ＯＩ－１０）、式（IV）で表されるオニウム塩の具体例（ＯＮ－１～ＯＮ－５）、及び式（V）で表されるオニウム塩の具体例（ＯＳ－１～ＯＳ－６）を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　また、上記式（III）～式（V）で表される化合物の別の例としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００３６～００４５において、ラジカル重合開始剤の例として記載の化合物を、本開示における酸発生剤として好適に用いることができる。
　本開示に用いられる酸発生剤として好ましいオニウム塩の別の例として、下記式（VI）で表されるアジニウム塩化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　式（VI）中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、及びＲ46は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は一価の置換基を表す。
　一価の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル墓、水酸基、置換オキシ基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、置換スルホニル基、スルホナト基、置換スルフィニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基等が挙げられ、導入可能な場合には更に置換基を有していてもよい。
　式（VI）で表される化合物としては、式（VI）で表される化合物における特定構造の骨格（カチオン部）が、Ｒ41を介して結合し、カチオン部が分子中に２個以上含まれる化合物（多量体型）も包含され、このような化合物も好適に用いられる。
　Ｚ41-はＺ11-と同義の対イオンを表す。
　上記式（VI）で表されるアジニウム塩化合物の具体例としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００４７～００５６に記載の化合物を挙げることができる。
　また、特開昭６３－１３８３４５号公報、特開昭６３－１４２３４５号公報、特開昭６３－１４２３４６号公報、特開昭６３－１４３５３７号公報並びに特公昭４６－４２３６３号公報の各公報に記載のＮ－Ｏ結合を有する化合物群もまた、本開示における酸発生剤として好適に用いられる。
　本開示に用いうる酸発生剤のより好ましい例として、下記化合物ＰＡＧ－１～ＰＡＧ－５が挙げられる。なお、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　これらの酸発生剤を本開示の感光性樹脂組成物中に含有させる場合、これらの化合物は１種単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　酸発生剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１～５０質量％であることが好ましく、０．１～４０質量％であることがより好ましく、０．５～３０質量％であることが更に好ましい。添加量が上記範囲において、酸発生剤の添加効果である感度の向上が見られるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制される。
＜酸増殖剤＞
　本開示の感光性樹脂組成物には、酸増殖剤を添加してもよい。
　本開示における酸増殖剤とは、比較的に強い酸の残基で置換された化合物であって、酸触媒の存在下で容易に脱離して新たに酸を発生する化合物である。すなわち、酸触媒反応によって分解し、再び酸を発生する。１反応で１つ以上の酸が増えており、反応の進行に伴って加速的に酸濃度が増加することにより、飛躍的に感度が向上する。この発生する酸の強度は、酸解離定数（ｐＫａ）として３以下であり、更に２以下であることが好ましい。これよりも弱い酸であると、酸触媒による脱離反応を引き起こすことができない。
　このような酸触媒に使用される酸としては、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、及び、ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
　酸増殖剤は、国際公開第９５／２９９６８号公報、国際公開第９８／２４０００号公報、特開平８－３０５２６２号公報、特開平９－３４１０６号公報、特開平８－２４８５６１号公報、特表平８－５０３０８２号公報、米国特許第５，４４５，９１７号明細書、特表平８－５０３０８１号公報、米国特許第５，５３４，３９３号明細書、米国特許第５，３９５，７３６号明細書、米国特許第５，７４１，６３０号明細書、米国特許第５，３３４，４８９号明細書、米国特許第５，５８２，９５６号明細書、米国特許第５，５７８，４２４号明細書、米国特許第５，４５３，３４５号明細書、米国特許第５，４４５，９１７号明細書、欧州特許第６６５，９６０号公報、欧州特許第７５７，６２８号公報、欧州特許第６６５，９６１号公報、米国特許第５，６６７，９４３号明細書、及び、特開平１０－１５９８号公報等の各公報に記載の酸増殖剤を１種、あるいは２種以上組み合わせて用いることができる。
　本開示における酸増殖剤の好ましい具体例としては、例えば、特開２００１－６６７６５号公報の段落００５６～００６７に記載される化合物を挙げることができる。中でも、例示化合物（ＡＤＤ－１）、（ＡＤＤ－２）、（ＡＤＤ－３）として記載された下記化合物を好適に用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　酸増殖剤の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～５質量％であることが更に好ましい。酸増殖剤の添加量が上記範囲において、酸増殖剤を添加する効果が充分に得られ、感度向上が達成されるとともに、画像部の膜強度低下が抑制される。
＜その他の添加剤＞
　本開示の感光性樹脂組成物は、その他の添加剤として、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、ワックス剤等を含んでもよい。
　また、本開示の感光性樹脂組成物は、平版印刷版原版において後述する溶剤を含有していてもよい。本開示の感光性樹脂組成物の固形分濃度は、特に制限はないが、１～５０質量％であることが好ましい。
〔現像促進剤〕
　本開示の感光性樹脂組成物には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、及び、有機酸類等の現像促進剤を添加してもよい。
　酸無水物類としては、環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては、米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６－エンドオキシテトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、α－フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、及び、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては、無水酢酸などが挙げられる。
　フェノール類としては、ビスフェノールＡ、２，２’－ビスヒドロキシスルホン、ｐ－ニトロフェノール、ｐ－エトキシフェノール、２，４，４’－トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン、４－ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４”－トリヒドロキシトリフェニルメタン、及び、４，４’，３”，４”－テトラヒドロキシ－３，５，３’，５’－テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
　有機酸類としては、特開昭６０－８８９４２号公報、特開平２－９６７５５号公報などに記載されており、具体的には、ｐ－トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ－トルイル酸、３，４－ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ－ウンデカン酸、及び、アスコルビン酸などが挙げられる。
　上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の感光性樹脂組成物の全固形分に占める割合は、０．０５～２０質量％が好ましく、０．１～１５質量％がより好ましく、０．１～１０質量％が特に好ましい。
〔界面活性剤〕
　本開示の感光性樹脂組成物には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２－２５１７４０号公報や特開平３－２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９－１２１０４４号公報、特開平４－１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、特開昭６２－１７０９５０号公報、特開平１１－２８８０９３号公報、又は、特開２００３－５７８２０号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
　非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、及び、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
　両性活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２－アルキル－Ｎ－カルボキシエチル－Ｎ－ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ－テトラデシル－Ｎ，Ｎ－ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
　界面活性剤の感光性樹脂組成物の全固形分に占める割合は、０．０１～１５質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０５～２．０質量％が更に好ましい。
〔焼き出し剤／着色剤〕
　本開示の感光性樹脂組成物には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
　焼き出し剤及び着色剤としては、例えば、特開２００９－２２９９１７号公報の段落０１２２～０１２３に詳細に記載され、ここに記載の化合物を本開示にも適用しうる。
　これらの焼き出し剤及び着色剤は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１～１０質量％の割合で添加することが好ましく、０．１～３質量％の割合で添加することがより好ましい。
〔可塑剤〕
　本開示の感光性樹脂組成物には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加してもよい。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、及び、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
　これらの可塑剤は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．５～１０質量％の割合で添加することが好ましく、１．０～５質量％の割合で添加することがより好ましい。
〔ワックス剤〕
　本開示の感光性樹脂組成物には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物（ワックス剤）を添加することもできる。具体的には、米国特許第６，１１７，９１３号明細書、特開２００３－１４９７９９号公報、特開２００３－３０２７５０号公報、又は、特開２００４－１２７７０号公報に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることができる。
　ワックス剤の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分中に占める割合が０．１～１０質量％であることが好ましく、０．５～５質量％であることがより好ましい。
＜各成分の組成比＞
　本開示の感光性樹脂組成物の全固形分に対して、特定高分子化合物の含有量は１０～９０質量％であることが好ましく、赤外線吸収剤の含有量は０．０１～５０質量％であることが好ましく、他のアルカリ可溶性樹脂の含有量は０～９８質量％であることが好ましく、酸発生剤の含有量は０～５０質量％であることが好ましく、酸増殖剤の含有量は０～２０質量％であることが好ましく、現像促進剤の含有量は０～２０質量％であることが好ましく、界面活性剤の含有量は０～１５質量％であることが好ましく、焼き出し剤／着色剤の含有量は０～１０質量％であることが好ましく、可塑剤の含有量は０～１０質量％であることが好ましく、ワックス剤の含有量は０～１０質量％であることが好ましい。
　本開示の感光性樹脂組成物は、耐久性に優れた樹脂パターン形成を必要とする種々の分野、例えば、レジスト、ディスプレイ、平版印刷版原版などの種々の分野に適用することができるが、好感度で記録可能であり、画像形成性に優れ、形成された画像部の耐久性が良好であることから、以下に詳述する赤外線感応性ポジ型平版印刷版原版へ適用することにより本開示の効果が著しいといえる。
（平版印刷版原版）
　本開示の平版印刷版原版は、支持体上に、画像記録層を有し、上記画像記録層が、成分Ａとして、上記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。
　また、上記画像記録層は、本開示の感光性樹脂組成物を少なくとも用いて形成された層であることが好ましい。
　更に、上記画像記録層は、下層及び上層の２層構造であり、上記下層及び上記上層の少なくとも１層に成分Ａ及び成分Ｂを含有することが好ましい。
　また、本開示の平版印刷版原版は、ポジ型平版印刷版原版であることが好ましい。
　更に、本開示の平版印刷版原版は、親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に有する画像記録層を有してなるポジ型平版印刷版原版であって、成分Ａ及び成分Ｂを下層及び上層よりなる群から選ばれた少なくとも一層に含有することが好ましく、下層又は上層に含有することがより好ましく、下層のみに含有することが更に好ましい。
＜画像記録層＞
　本開示の平版印刷版原版における画像記録層は、成分Ａ、及び、成分Ｂを含有し、また、任意に、他のアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、及び、ワックス剤等よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含有していてもよい。
　上記画像記録層における成分Ａ、成分Ｂ、他のアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、及び、ワックス剤の好ましい態様は、上述した本開示の感光性樹脂組成物における好ましい態様と同様である。
　また、上記画像記録層におけるこれら成分の好ましい含有量は、上述した本開示の感光性樹脂組成物における感光性樹脂組成物の全固形分に対する好ましい含有量と同様である。
　本開示に用いられる画像記録層は、本開示の感光性樹脂組成物の各成分を溶剤に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
　ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１－メトキシ－２－プロパノール、２－メトキシエチルアセテート、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ－ブチロラクトン、及び、トルエン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。
＜下層及び上層の形成＞
　また、本開示の平版印刷版原版における画像記録層は、支持体上に、下層及び上層をこの順に有する画像記録層（以下、支持体上に、下層及び上層をこの順に有する画像記録層を有する平版印刷版原版を「２層構造の平版印刷版原版」ともいう。）であることが好ましい。
　下層及び上層は、原則的に２つの層を分離して形成することが好ましい。
　２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去する方法等が挙げられる。後者の方法を併用することにより、層間の分離が一層良好に行われることになるため好ましい。
　以下、これらの方法について詳述するが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
　下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや１－メトキシ－２－プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、上記下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布及び乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層をメチルエチルケトンや１－メトキシ－２－プロパノール等で溶解し、塗布及び乾燥することにより二層化が可能になる。
　次に、２層目（上層）を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつけることや、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール（加熱ロール）よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与えること、あるいはそれらを組み合わせることにより達成できる。
　本開示の感光性樹脂組成物は、上記の上層及び下層よりなる群から選ばれた少なくとも１層に含まれることが好ましく、下層のみに含まれることがより好ましい。
　本開示の平版印刷版原版の支持体上に塗布される下層成分の乾燥後の塗布量は、０．５～４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、０．６～２．５ｇ／ｍ2の範囲にあることがより好ましい。０．５ｇ／ｍ2以上であると、耐刷性に優れ、４．０ｇ／ｍ2以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
　また、上層成分の乾燥後の塗布量は、０．０５～１．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、０．０８～０．７ｇ／ｍ2の範囲であることがより好ましい。０．０５ｇ／ｍ2以上であると、現像ラチチュード、及び、耐傷性に優れ、１．０ｇ／ｍ2以下であると、感度に優れる。
　下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、０．６～４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、０．７～２．５ｇ／ｍ2の範囲にあることがより好ましい。０．６ｇ／ｍ2以上であると、耐刷性に優れ、４．０ｇ／ｍ2以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
＜上層＞
　本開示における２層構造の平版印刷版原版の上層は、本開示の感光性樹脂組成物を用いて形成することもできるが、本開示の感光性樹脂組成物以外の樹脂組成物を用いて形成することが好ましい。
　本開示における２層構造の平版印刷版原版の上層は、熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する赤外線感応性のポジ型画像記録層であることが好ましい。
　上層における熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する機構には特に制限はなく、バインダー樹脂を含み、加熱された領域の溶解性が向上するものであれば、いずれも用いることができる。画像形成に利用される熱としては、赤外線吸収剤を含む下層が露光された場合に発生する熱が挙げられる。
　熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する上層としては、例えば、ノボラック、ウレタン等の水素結合能を有するアルカリ可溶性樹脂を含む層、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、アブレーション可能な化合物を含む層、などが好ましく挙げられる。
　また、上層に、更に赤外線吸収剤を添加することにより、上層で発生する熱も画像形成に利用することができる。赤外線吸収剤を含む上層の構成としては、例えば、赤外線吸収剤と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、赤外線吸収剤と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と酸発生剤とを含む層などが好ましく挙げられる。
〔水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂〕
　上記画像記録層における上層には、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することで、赤外線吸収剤と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が有する極性基との間に相互作用が形成され、ポジ型の感光性を有する層が形成される。
　一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、及び、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
　本開示に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び側鎖よりなる群から選ばれた少なくとも１つに酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又は、これらの混合物であることが好ましい。
　このような酸性基を有する水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、又は、活性イミド基等の官能基を有することが好ましい。したがって、このような樹脂は、上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーを１つ以上含むモノマー混合物を共重合することによって好適に生成することができる。上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーは、アクリル酸、メタクリル酸の他に、下式で表される化合物及びその混合物が好ましく例示できる。なお、下式中、Ｒ40は水素原子又はメチル基を表す。
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　本開示に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、上記重合性モノマーの他に、他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、及び、活性イミド基等の官能基を有するモノマーのようなアルカリ可溶性を付与するモノマーを１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％以上含むものがより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が１０モル％以上であると、アルカリ可溶性が十分得られ、また、非画像部現像時間が短い。
　使用可能な他の重合性モノマーとしては、下記に挙げる化合物を例示することができる。
　アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、等のアルキルアクリレートやアルキルメタクリレート。２－ヒドロキシエチルアクリレート又は２－ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ－エチルアクリルアミド、Ｎ－フェニルアクリルアミド、等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。スチレン、α－メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のその他の窒素原子含有モノマー。Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－エチルマレイミド、Ｎ－プロピルマレイミド、Ｎ－ブチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－２－メチルフェニルマレイミド、Ｎ－２，６－ジエチルフェニルマレイミド、Ｎ－２－クロロフェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ラウリルマレイミド、Ｎ－ヒドロキシフェニルマレイミド、等のマレイミド類。
　これらの他のエチレン性不飽和モノマーのうち、好適に使用されるのは、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、マレイミド類、及び、（メタ）アクリロニトリルである。
　また、アルカリ可溶性樹脂としては、本開示の感光性樹脂組成物の任意成分である他のアルカリ可溶性樹脂として挙げたノボラック樹脂も好ましく挙げられる。
　また、上記の水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を本開示の感光性樹脂組成物に用いることも可能である。
　更に、本開示における上層中には、本開示の効果を損なわない範囲で他の樹脂を併用することができる。上層自体は、特に非画像部領域において、アルカリ可溶性を発現することを要するため、この特性を損なわない樹脂を選択する必要がある。この観点から、併用可能な樹脂としては、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、及び、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
　また、混合する量としては、上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂に対して５０質量％以下であることが好ましい。
　上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が２，０００以上、かつ数平均分子量が５００以上のものが好ましく、重量平均分子量が５，０００～３００，０００で、かつ数平均分子量が８００～２５０，０００であることがより好ましい。また、上記アルカリ可溶性樹脂の分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１～１０であることが好ましい。
　上記上層における上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　本開示における上記上層の全固形分中に対する上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂の含有量は、全固形分中、２．０～９９．５質量％であることが好ましく、１０．０～９９．０質量％であることがより好ましく、２０．０～９０．０質量％であることが更に好ましい。上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂の添加量が２．０質量％以上であると画像記録層（感光層）の耐久性に優れ、また、９９．５質量％以下であると、感度、及び、耐久性の両方に優れる。
〔赤外線吸収剤〕
　上記上層は、赤外線吸収剤を含んでいてもよい。
　赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、上述した、本開示の感光性樹脂組成物において用いられる赤外線吸収剤を同様に用いることができる。
　特に好ましい染料は、上記式（ａ）で表されるシアニン色素である。
　上層に赤外線吸収剤を含有することにより、画像形成性に優れたポジ型平版印刷版原版が得られる。
　上層における赤外線吸収剤の添加量としては、上層全固形分に対し、０．０１～５０質量％であることが好ましく、０．１～３０質量％であることがより好ましく、１．０～１０質量％であることが特に好ましい。添加量が０．０１質量％以上であることで感度が改良され、また、５０質量％以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。
〔その他の成分〕
　その他、２層構造の平版印刷版原版における上層は、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、及び、ワックス剤等よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含んでもよい。これらの成分は、上述した、本開示の感光性樹脂組成物において用いられるそれぞれの成分を同様に用いることができ、好ましい態様も同様である。
＜下層＞
　本開示における２層構造の平版印刷版原版の下層は、本開示の感光性樹脂組成物を含有する層であることが好ましい。
　本開示における２層構造の平版印刷版原版の下層は、本開示の感光性樹脂組成物を塗布することにより形成されることが好ましい。
　本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、画像形成性や耐刷性に優れた印刷版を得ることができる。
　また、本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、特に低品質のインク、紙等の資材を用いた場合に耐刷性が向上する。
　上記のような効果が得られる詳細な機構は不明であるが、印刷における耐刷性は下層に用いられる樹脂の膜強度が重要であると推測されることから、本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いた場合、特定高分子化合物間の相互作用（水素結合など）が強いため、膜強度の高い本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、耐刷性が向上すると推定している。
　本開示の感光性樹脂組成物を上層に用いる場合、下層も本開示の感光性樹脂組成物により形成することが好ましいが、下層を本開示の感光性樹脂組成物以外の樹脂組成物を用いて形成してもよい。その場合の下層の好ましい態様は、上記で説明した上層の好ましい態様と同様である。
＜支持体＞
　本開示の平版印刷版原版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、及び、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙、又は、プラスチックフィルム等が挙げられる。
　なお、本開示の画像形成材料を平版印刷版原版に適用する場合の支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、及び、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下であることが好ましい。
　本開示において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
　このように本開示に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本開示で用いられるアルミニウム板の厚みは、０．１～０．６ｍｍであることが好ましく、０．１５～０．４ｍｍであることがより好ましく、０．２～０．３ｍｍであることが特に好ましい。
　このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行ってもよい。アルミニウム支持体の表面処理については、例えば、特開２００９－１７５１９５号公報の段落０１６７～０１６９に詳細に記載されるような、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理、表面の粗面化処理、陽極酸化処理などが適宜、施される。
　陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面は、必要により親水化処理が施される。
　親水化処理としては、特開２００９－１７５１９５号公報の段落０１６９に開示されているような、アルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法、フッ化ジルコン酸カリウム或いは、ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
　また、特開２０１１－２４５８４４号公報に記載された支持体も好ましく用いられる。
＜中間層＞
　本開示の平版印刷版原版は、支持体と上記画像記録層との間に、中間層を有することが好ましい。
　中間層成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。また、これら中間層成分は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。中間層に使用される化合物の詳細、中間層の形成方法は、特開２００９－１７５１９５号公報の段落０１７１～０１７２に記載され、これらの記載は本開示にも適用される。
　中間層の形成量は、２～２００ｍｇ／ｍ2であることが好ましく、５～１００ｍｇ／ｍ2であることがより好ましい。形成量が上記範囲であると、十分な耐刷性能が得られる。
＜保護層＞
　本開示の平版印刷版は、画像記録層の上に保護層（「オーバーコート層」ともいう。）を有していてもよい。保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
　保護層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第３、４５８、３１１号明細書及び特公昭５５－４９７２９号公報に詳細に記載されている。
　また、保護層に用いられる材料としては、例えば、特開２００９-２５５４３４号公報の段落０２１３～０２２７などに記載される材料（水溶性高分子化合物、無機質の層状化合物など）を用いることができる。
　保護層は、調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた画像記録層の上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、例えば、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、及び、バー塗布法等が挙げられる。
　保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、０．０１～１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、０．０２～３ｇ／ｍ2の範囲がより好ましく、最も好ましくは０．０２～１ｇ／ｍ2の範囲である。
＜バックコート層＞
　本開示の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平５－４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６－３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、及び、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手しやすく、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
（平版印刷版の製版方法）
　本開示の平版印刷版の製版方法は、本開示の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５～１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む。
　本開示の平版印刷版の製版方法によれば、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつ非画像部現像時間が短い。
　以下、本開示の平版印刷版の製版方法の各工程について詳細に説明する。
＜露光工程＞
　本開示の平版印刷版の製版方法は、本開示の平版印刷版原版を像様露光する露光工程を含む。
　上記露光工程においては、所望の像を形成するように、任意の形状で像様露光を行うことができる。
　本開示の平版印刷版原版の像様露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザー、又は、半導体レーザーがより好ましい。中でも、本開示においては、波長７５０～１，４００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーにより像様露光されることが特に好ましい。
　レーザーの出力は、１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であることが好ましい。
　平版印刷版原版に照射されるエネルギーは、１０～３００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。上記範囲であると、硬化が十分に進行し、また、レーザーアブレーションを抑制し、画像が損傷を防ぐことができる。
　本開示における露光は、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは、副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）で表したとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ幅（オーバーラップ係数）で定量的に表現することができる。本開示ではこのオーバーラップ係数が、０．１以上であることが好ましい。
　本開示に使用することができる露光装置の光源の走査方式は、特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。
＜現像工程＞
　本開示の平版印刷版の製版方法は、露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５～１３．５のアルカリ水溶液（以下、「現像液」ともいう。）を用いて現像する現像工程を含む。
　現像工程に使用される現像液は、ｐＨ８．５～１３．５の水溶液であり、ｐＨ１２～１３．５のアルカリ水溶液がより好ましい。界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
　上記現像液に用いられる界面活性剤は、アニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性の界面活性剤のいずれも用いることができるが、既述のように、アニオン性、又は、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。
　本開示における現像液に用いられるアニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性界面活性剤としては、特開２０１３－１３４３４１号公報の段落０１２８～０１３１に記載の物を使用することができる。
　また、水に対する安定な溶解性及び混濁性の観点から、ＨＬＢ（Hydrophile-Lipophile Balance）値が、６以上であることが好ましく、８以上であることがより好ましい。
　上記現像液に用いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤が好ましく、スルホン酸又はスルホン酸塩を含有するアニオン性界面活性剤及び、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するノニオン界面活性剤が特に好ましい。
　界面活性剤は、１種単独又は組み合わせて使用することができる。
　界面活性剤の現像液中における含有量は、現像液の全質量に対し、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。
　上記現像液をｐＨ８．５～１３．５に保つためには、緩衝剤として炭酸イオン、炭酸水素イオンが存在することで、現像液を長期間使用してもｐＨの変動を抑制でき、ｐＨの変動による非画像部現像時間の長時間化、現像カス発生等を抑制できる。炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩とを現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にｐＨを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンとを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、及び、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　炭酸塩及び炭酸水素塩の総含有量は、現像液の全質量に対して、０．３～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましく、１～５質量％が特に好ましい。総量が０．３質量％以上であると非画像部現像時間が短く、及び、処理能力が低下しにくく、２０質量％以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたしにくい。
　また、アルカリ濃度の微少な調整、非画像部の感光層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、及び、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。これらの他のアルカリ剤は、単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。
　上記現像液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。ただし、水溶性高分子化合物を添加すると、特に現像液が疲労した際に版面がベトツキやすくなるため、添加しないことが好ましい。
　湿潤剤としては、特開２０１３－１３４３４１号公報の段落０１４１に記載の湿潤剤を好適に用いることができる。湿潤剤は単独で用いてもよいが、２種以上併用してもよい。湿潤剤の添加量は、現像剤の全質量に対し、０．１～５質量％の範囲が好ましい。
　防腐剤としては、特開２０１３－１３４３４１号公報の段落０１４２に記載の防腐剤を好適に用いることができる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように２種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、現像液の全質量に対して、０．０１～４質量％の範囲が好ましい。
　キレート化合物としては、特開２０１３－１３４３４１号公報の段落０１４３に記載のキレート化合物を好適に用いることができる。キレート化合物は現像液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量は、現像液の全質量に対して、０．００１～１．０質量％の範囲が好ましい。
　消泡剤としては、特開２０１３－１３４３４１号公報の段落０１４４に記載の消泡剤を好適に用いることができる。消泡剤の含有量は、現像液の全質量に対して、０．００１～１．０質量％の範囲が好ましい。
　有機酸としては、特開２０１３－１３４３４１号公報の段落０１４５に記載の消泡剤を好適に用いることができる。有機酸の含有量は、現像液の全質量に対して、０．０１～０．５質量％が好ましい。
　有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エッソ化学（株）製）、ガソリン、若しくは、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、又は、ハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等）や、極性溶剤が挙げられる。
　極性溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、及び、２－エトキシエタノール等）、ケトン類（メチルエチルケトン、及び、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、乳酸メチル、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、その他（トリエチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、Ｎ－フェニルエタノールアミン、及び、Ｎ－フェニルジエタノールアミン等）等が挙げられる。
　また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は、現像液の全質量に対し、４０質量％未満が好ましい。
　無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、及び、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は、現像液の全質量に対し、０．０１～０．５質量％が好ましい。
　現像の温度は、現像可能であれば特に制限はないが、６０℃以下であることが好ましく、１５～４０℃であることがより好ましい。自動現像機を用いる現像処理においては、処理量に応じて現像液が疲労してくることがあるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。また、特開平９－９６９１０号公報に記載されているような自動現像装置を用いて、現像補充液を補充するタイミングを決定する基準電導度を処理疲労と炭酸ガス疲労との比を配慮して適性な値に、自動的に設定することにより、現像液の活性度を長期に渡って良好な状態に維持してもよい。現像及び現像後の処理の一例としては、アルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が例示できる。また、他の例としては、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び界面活性剤を含有する水溶液を用いることにより、前水洗、現像及びガム引きを同時に行う方法が好ましく例示できる。よって、前水洗工程は特に行わなくともよく、一液を用いるだけで、更には一浴で前水洗、現像及びガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことが好ましい。現像の後は、スクイズローラ等を用いて余剰の現像液を除去してから乾燥を行うことが好ましい。得られた平版印刷版に不必要な画像部がある場合には、その不必要な画像部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平２－１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平５－１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
　現像工程は、擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平２－２２００６１号公報、特開昭６０－５９３５１号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許第５１４８７４６号、同第５５６８７６８号、英国特許第２２９７７１９号の各明細書に記載の自動処理機等が挙げられる。中でも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。
　本開示に使用する回転ブラシロールは、画像部の傷つきにくさ、更には、平版印刷版原版の支持体における腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチック又は金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭５８－１５９５３３号公報、特開平３－１００５５４号公報に記載のものや、実公昭６２－１６７２５３号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属又はプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック又は金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
　ブラシ素材としては、プラスチック繊維（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン６．６、ナイロン６．１０等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ（メタ）アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、ポリプロピレン、又は、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維）を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は２０～４００μｍ、毛の長さは５～３０ｍｍのものが好適に使用できる。
　回転ブラシロールの外径は３０～２００ｍｍが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は０．１～５ｍ／ｓｅｃが好ましい。回転ブラシロールは、複数本用いることが好ましい。
　回転ブラシロールの回転方向は、平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、２本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも１本の回転ブラシロールが同一方向に回転し、少なくとも１本の回転ブラシロールが逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去が更に確実となる。更に、回転ブラシロールをブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。
　現像工程の後、連続的又は不連続的に、得られた平版印刷版を乾燥する乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。
　本開示の平版印刷版の製版方法において好適に用いられる自動処理機としては、現像部と乾燥部とを有する装置が用いられ、平版印刷版原版に対して、現像槽で、現像とガム引きとが行なわれ、その後、乾燥部で乾燥されて平版印刷版が得られる。
　また、耐刷性等の向上を目的として、現像後の印刷版を非常に強い条件で加熱することもできる。加熱温度は、２００～５００℃の範囲であることが好ましい。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる恐れがある。
　このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に好適に用いられる。
　以下、実施例により本発明の実施形態を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「部」、「％」とは、特に断りのない限り、「質量部」、「質量％」を意味する。
（合成例）
＜ＳＡ－１の合成＞
　コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、クロロスルホン酸（東京化成工業（株）製）３５．０ｇを秤取し、次いで、オキシ塩化りん（東京化成工業（株）製）１６．８６ｇを秤取し、氷冷しながら撹拌し、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジヒドロキシビフェニル（東京化成工業（株）製）１７．２２ｇを３０分かけて加え、０℃～１０℃で１時間撹拌した。次いで反応液を６０℃まで昇温し、５時間撹拌した。本反応液を撹拌しながら、０℃～１０℃まで冷却し、１Ｌの２８％アンモニア水溶液（関東化学（株）製）に滴下し、１時間撹拌した後、これをろ過した。ろ過物を５００ｍＬの純水にあけ、３０分撹拌し、ろ過し、固形物を回収した後、６０℃で２４時間真空乾燥し、目的物のＳＡ－１を１０．４ｇ得た。目的物（ＳＡ－１）であることはＮＭＲスペクトルから確認した。目的物（ＳＡ－１）について1ＮＭＲによる分析を行った。その結果を以下に示す。
1ＮＭＲデータ（重ジメチルスルホキシド、４００ＭＨｚ、内部標準：テトラメチルシラン）
δ（ｐｐｍ）＝５．８０（ｓ、４Ｈ）、６．８８（ｓ、４Ｈ）、７．０８－７．１０（ｄ、２Ｈ）、７．５３－７．５５（ｄ、２Ｈ）、７．８０（ｓ、２Ｈ）
　同様にして、ＳＡ－２～ＳＡ－３を合成することができる。
＜特定高分子化合物の合成＞
〔ＰＵ－１の合成〕
　コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、上記で合成したＳＡ－１を６．８５ｇ、アニリン（東京化成工業（株）製）１０ｍｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）３７．９３ｇを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。次いで、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（東京化成工業（株）製）３．８８ｇをＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）５．００ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後６０℃に昇温し、２時間撹拌して反応させた。上記反応液を純水２００ｍＬ、メタノール２００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量４６，０００の特定高分子化合物（ＰＵ－１）９．４１ｇを得た。
　目的物であることは、ＮＭＲスペクトル（核磁気共鳴スペクトル）、ＩＲスペクトル（赤外分光スペクトル）、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。同様にして、ＰＵ－２～ＰＵ－２５を合成することができる。
　なお、ＰＵ－１の構造は下記の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
〔ＰＡ－１の合成〕
　コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、上記で合成したＳＡ－１を６．８５ｇ、アニリン（東京化成工業（株）製）１０ｍｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）４６．８１ｇを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。次いで、イソフタロイルジクロリド（東京化成工業（株）製）４．０６ｇをＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）１５．００ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後４０℃に昇温し、１時間撹拌して反応させた。上記反応液を純水２００ｍＬ、メタノール２００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量４５，０００の特定高分子化合物（ＰＡ－１）８．６８ｇを得た。
　目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。同様にして、ＰＡ－２～ＰＡ－２５を合成することができる。
　なお、ＰＡ－１の構造は下記の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　実施例中、「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算法により算出した。ただし、ＧＰＣカラムとしてポリスチレン架橋ゲルを充填したもの（ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ；東ソー（株）製）、ＧＰＣ溶媒としてＮ－メチルピロリドン（リン酸、臭化リチウム各０．０１ｍｏｌ／Ｌ）を用いた。
（実施例１～２３、比較例１～３）
＜支持体の作製＞
　厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム合金板に対し、下記（Ａ）から（Ｆ）のうちいずれかの処理を施し、平版印刷版用支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
〔処理Ａ〕
（Ａ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
　パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
　研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６－１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
（Ａ－ｂ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ2であった。
（Ａ－ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ａ－ｄ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ａ－ｅ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ2であった。
（Ａ－ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ａ－ｇ）電気化学的粗面化処理
　塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
　電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ａ－ｈ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。
（Ａ－ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ａ－ｊ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ａ－ｋ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理Ｂ〕
（Ｂ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
　パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
　研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
（Ｂ－ｂ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ2であった。
（Ｂ－ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｂ－ｄ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｂ－ｅ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ2であった。
（Ｂ－ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｂ－ｇ）電気化学的粗面化処理
　塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
　電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｂ－ｈ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。
（Ｂ－ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｂ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理
　直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温４３℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。マイクロポアの深さは２７μｍ、得られた被膜量は０．１３ｇ／ｍ2であった。
（Ｂ－ｋ）ポアワイド処理
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に１秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｂ－ｌ）第２段階の陽極酸化処理
　直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温５５℃、電流密度２０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。得られた被膜量は２．６ｇ／ｍ2であった。
（Ｂ－ｍ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理（Ｃ）〕
（Ｃ－ａ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１．０ｇ／ｍ2であった。
（Ｃ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
　次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
（Ｃ－ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
　次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
　交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ2であり、電解処理は１２５Ｃ／ｄｍ2ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
（Ｃ－ｄ）アルカリエッチング処理
　電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度３５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．１ｇ／ｍ2であった。その後、水洗処理を行った。
（Ｃ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｃ－ｆ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｃ－ｇ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理（Ｄ）〕
（Ｄ－ａ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ2であった。
（Ｄ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｄ－ｃ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｄ－ｄ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ2であった。
（Ｄ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｄ－ｆ）電気化学的粗面化処理
　塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｄ－ｇ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。
（Ｄ－ｈ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具合的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｄ－ｉ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｄ－ｊ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理（Ｅ）〕
（Ｅ－ａ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ2であった。
（Ｅ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｅ－ｃ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｅ－ｄ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ2であった。
（Ｅ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｅ－ｆ）電気化学的粗面化処理
　塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｅ－ｇ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。
（Ｅ－ｈ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具合的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｅ－ｉ）第１段階の陽極酸化処理
　直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。
　電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温４３℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。マイクロポアの深さは２７μｍ、得られた被膜量は０．１３ｇ／ｍ2であった。
（Ｅ－ｊ）ポアワイド処理
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に１秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｅ－ｋ）第２段階の陽極酸化処理
　直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温４０℃、電流密度２０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。得られた被膜量は２．６ｇ／ｍ2であった。
（Ｅ－ｌ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理（Ｆ）〕
（Ｆ－ａ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ2であった。
（Ｆ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｆ－ｃ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｆ－ｄ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ2であった。
（Ｆ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｆ－ｆ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｆ－ｇ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理（Ｇ）〕
（Ｇ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
　パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
　機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
（Ｇ－ｂ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ2であった。
（Ｇ－ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｇ－ｄ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｇ－ｅ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
〔処理（Ｈ）〕
（Ｈ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
　パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
　機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
（Ｈ－ｂ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ2であった。
（Ｈ－ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｈ－ｄ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｈ－ｅ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ2であった。
（Ｈ－ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｈ－ｇ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｈ－ｈ）シリケート処理
　非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
＜中間層の形成＞
　上述のように作製された支持体Ａ～Ｆ上に、以下に示す中間層塗布液１を塗布した後、８０℃で１５秒間乾燥し、中間層を設けて支持体Ａ－１～Ｆ－１とした。乾燥後の被覆量は、１５ｍｇ／ｍ2であった。
（中間層塗布液１）
　・重量平均分子量２．８万の下記共重合体：０．３部、なお、下記化学式中、各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。
　・メタノール：１００部
　・水：１部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
＜画像記録層の形成＞
　得られた支持体Ａ－１～Ｆ－１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（Ｉ）を、ワイヤーバーで塗布したのち、１５０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥して塗布量を１．０ｇ／ｍ2となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（II）をワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後１５０℃、４０秒間の乾燥を行い、下層と上層を合わせた塗布量が１．２ｇ／ｍ2となる平版印刷版原版を得た。
（下層形成用塗布液組成物（Ｉ））
　・表３に記載の特定高分子化合物：３．５部
　・ｍ，ｐ－クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量６，０００）：０．６部
　・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：下記構造）：０．２部
　・４，４’－ビスヒドロキシフェニルスルホン：０．３部
　・テトラヒドロフタル酸：０．４部
　・ｐ－トルエンスルホン酸：０．０２部
　・３－メトキシ－４－ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート：０．０６部
　・エチルバイオレットの対イオンを６－ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの：０．１５部
　・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ－７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０７部
　・メチルエチルケトン：３０部
　・１－メトキシ－２－ブチロラクトン：１５部
　・γ－ブチロラクトン：１５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
（上層形成用塗布液組成物（II））
　・ノボラック樹脂（ｍ－クレゾール／ｐ－クレゾール／フェノール＝３／２／５、Ｍｗ８，０００）：０．６８部
　・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：上記構造）：０．０４５部
　・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ－７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０３部
　・メチルエチルケトン：１５．０部
　・１－メトキシ－２－プロパノール：３０．０部
　・１－（４－メチルベンジル）－１－フェニルピペリジニウムの５－ベンゾイル－４－ヒドロキシ－２－メトキシベンゼンスルホン酸塩：０．０１部
　得られた平版印刷版原版を用いて、以下の評価を行い、結果を下記表３に示す。
＜非画像部現像時間の評価＞
　平版印刷版原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ　ＶＸにて露光エネルギーを変えてテストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム（株）製現像液ＸＰ－Ｄ（希釈して、電導度を４３ｍＳ／ｃｍとしたもの）を仕込んだ現像浴に浸漬させ、現像温度３０℃で非画像部の現像に要する時間を測定した。画像濃度が、Ａｌ支持体の画像濃度と同等となった浸漬時間を非画像部現像時間とした。この時の現像時間が、２０秒未満であるものを１、２０秒以上６０秒未満であるものを２、６０秒以上１５０秒未満であるものを３、１５０秒以上のものを４とした。非画像部現像時間が短いほど、非画像部におけるアルカリ水溶液への溶解性が良好であり、アルカリ水溶液現像性が良好である。結果を表３に示す。
＜耐刷性の評価＞
　平版印刷版原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒにて、ビーム強度９Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム（株）製現像液ＸＰ－Ｄ（希釈して、電導度４３ｍＳ／ｃｍとしたもの）を仕込んだ富士フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０Ｈを用い、現像温度３０℃で現像を行った。各平版印刷版原版における現像時間は、非画像部現像時間が「１」ならば、２０秒、非画像部現像時間が「２」ならば、６０秒、非画像部現像時間が「３」ならば、１５０秒、非画像部現像時間が「４」ならば、２００秒とした。これを、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。インキとしては、低品位資材のモデルとして、炭酸カルシウムを含有させた東洋特練墨インキを使用した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。枚数が多いほど耐刷性に優れるものと評価する。結果を表３に示す。
＜耐薬品性の評価＞
　実施例の平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光、現像及び印刷を行った。この際、５，０００枚印刷する毎に、クリーナー（富士フイルム（株）製、マルチクリーナー）で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。この時の耐刷性が、前述の耐刷枚数の９５％以上１００％以下であるものを１、８０％以上９５％未満であるものを２、６０％以上８０％未満であるものを３、６０％未満を４とした。クリーナーで版面を拭く工程を加えた場合であっても、耐刷指数に変化が小さいほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を以下の表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
＜比較例１（ＣＰ－１）の合成例＞
　コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、４，４’－ジアミノジフェニルメタン（東京化成工業（株））を９．９１ｇ、アニリン（東京化成工業（株）製）０．０４２３ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）７９．５９ｇを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。次いで、イソフタロイルジクロリド（東京化成工業（株）製）１０．１５ｇをＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）３４．１１ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後室温で３０分撹拌して反応させた。上記反応液を純水５００ｍＬ、アセトン５００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量５１，０００の特定高分子化合物（ＣＰ－１）１７．８ｇを得た。目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。ＣＰ－１の構造は下記に記載した。なお、下記化学式中、各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。
＜比較例２（ＣＰ－２）の合成例＞
　コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、３，５－ジアミノ安息香酸（東京化成工業（株））を７．６１ｇ、アニリン（東京化成工業（株）製）０．０４２３ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）７０．４４ｇを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。次いで、イソフタロイルジクロリド（東京化成工業（株）製）１０．１５ｇをＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）３０．１９ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後室温で３０分撹拌して反応させた。上記反応液を純水５００ｍＬ、アセトン５００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量４９，０００の特定高分子化合物（ＣＰ－２）１５．１ｇを得た。目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。ＣＰ－２の構造は下記に記載した。なお、下記化学式中、各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。
＜比較例３（ＣＰ－３）の合成例＞
　コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ’－ジメチルホルムアミド（和光純薬工業（株）製）５．８０ｇを秤量し、窒素フローしながら６５℃で３０分撹拌した。次いで滴下ロートに４－メタクリルアミドベンゼンスルホンアミド（富士フイルムファインケミカルズ（株）製）７．２１ｇ、メタクリル酸メチル（和光純薬工業（株）製）３．００ｇ、アクリロニトリル（東京化成工業（株）製）２．１２ｇ、Ｎ，Ｎ’－ジメチルホルムアミド（和光純薬工業（株）製）２３．０ｇ、アソビスイソブチロニトリル（和光純薬工業（株）製）０．３２４ｇを秤量し、溶解させ、２時間かけてフラスコに滴下した。更に６５℃で３時間撹拌した。反応液を純水０．５Ｌ、メタノール０．５Ｌの混合液に滴下し、ポリマーを析出させた。これをろ取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量５３，０００の特定高分子化合物（ＣＰ－３）１１．２ｇを得た。目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。ＣＰ－３の構造は下記に記載した。なお、下記化学式中、各構成単位の括弧の右下の数字はモル比を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　表３の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、非画像部現像時間が短く、また、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができた。
（実施例２４～４６、比較例４～６）
＜支持体の作製＞
　実施例１～２３と同様にして、支持体Ａ～Ｆを作製した。
＜中間層の形成＞
　実施例１～２３と同様にして、中間層を有する支持体Ａ－１～Ｆ－１を作製した。
＜画像記録層の形成＞
　得られた支持体Ａ－１～Ｆ－１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（III）を、ワイヤーバーで塗布したのち、１５０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥して塗布量を１．０ｇ／ｍ2となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（IV）をワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後１５０℃、４０秒間の乾燥を行い、下層と上層を合わせた塗布量が１．２ｇ／ｍ2となる平版印刷版原版を得た。
（下層形成用塗布液組成物（III））
　・Ｎ－（ｐ－アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／メタクリル酸メチル／アクリロニトリル＝３５／３５／３０（モル比）の共重合体（重量平均分子量６．５万）：３．５部
　・ｍ，ｐ－クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量６，０００）：０．６部
　・赤外線吸収剤（上記ＩＲ色素（１））：０．２部
　・４，４’－ビスヒドロキシフェニルスルホン：０．３部
　・テトラヒドロフタル酸：０．４部
　・ｐ－トルエンスルホン酸：０．０２部
　・３－メトキシ－４－ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート：０．０６部
　・エチルバイオレットの対イオンを６－ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの：０．１５部
　・フッソ系界面活性剤（メガファックＦ－７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０７部
　・メチルエチルケトン：３０部
　・１－メトキシ－２－ブチロラクトン：１５部
　・γ－ブチロラクトン：１５部
（上層形成用塗布液組成物（IV））
　・表４に記載の特定高分子化合物：０．３部
　・ノボラック樹脂（ｍ－クレゾール／ｐ－クレゾール／フェノール＝３／２／５、Ｍｗ８，０００）：０．４部
　・赤外線吸収剤（上記ＩＲ色素（１））：０．０４５部
　・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ－７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０３部
　・メチルエチルケトン：１５．０部
　・１－メトキシ－２－プロパノール：３０．０部
　・１－（４－メチルベンジル）－１－フェニルピペリジニウムの５－ベンゾイル－４－ヒドロキシ－２－メトキシベンゼンスルホン酸塩：０．０１部
　得られた各平版印刷版原版に対して、実施例１と同様の条件で評価を行った結果を下記表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
　表４の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、非画像部現像時間が短く、また、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができた。
（実施例４７～６９、比較例７～９）
＜支持体の作製＞
　実施例１～２３と同様にして、支持体Ａ～Ｆを作製した。
＜中間層の形成＞
　上述の様に作製された支持体Ａ～Ｆ上に、以下に示す中間層塗布液２を塗布した後、８０℃で１５秒間乾燥し、中間層を設けて支持体Ａ－１～Ｆ－１とした。乾燥後の被覆量は、１５ｍｇ／ｍ2であった。
（中間層塗布液２）
　・β－アラニン：０．５部
　・メタノール：９５部
　・水：５部
＜画像記録層の形成＞
　得られた支持体Ａ－１～Ｆ－１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（V）を、塗布量が１．５ｇ／ｍ2となるようワイヤーバーで塗布したのち、１６０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥し、直ちに１７～２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（VI）を塗布量が０．５ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布したのち、１３０℃で４０秒間乾燥し、更に２０～２６℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。
（下層形成用塗布液組成物（V））
　・表５に記載の特定高分子化合物：０．８部
　・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：上記構造）：０．０１７部
　・クリスタルヴァイオレット（保土ヶ谷化学（株）製）：０．０１７部
　・メガファックＦ－１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０１５部
　・γ－ブチロラクトン：１０部
　・メチルエチルケトン：１０部
　・１－メトキシ－２－プロパノール：８部
（上層形成用塗布液組成物（VI））
　・スチレン／アクリロニトリル／メタクリル酸コポリマー（組成比６９ｍｏｌ％／２５ｍｏｌ％／６ｍｏｌ％、重量平均分子量　４５，０００）：２０部
　・アルカリ可溶性樹脂：下記ポリウレタン１：１０部
　・エチルバイオレット：０．０３部
　・メガファックＦ－１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０５部
　・３－ペンタノン：６０部
　・プロピレングリコールモノメチルエーテルー２－アセテート：８部
（ポリウレタン１）
　下記式で表されるジイソシアネート化合物とジオール化合物とを１：１のモル比となるように重合させた（重量平均分子量３６，０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　得られた平版印刷版原版に対して、現像処理に下記特定現像液Ａを用いた以外は実施例１と同様の条件で評価を行った。結果を下記表５に示す。
（特定現像液Ａの組成）
　・水：７９６部
　・炭酸ナトリウム：１２．８部
　・炭酸水素原子ナトリウム：７．０部
　・グルコン酸ナトリウム：１５．５部
　・ソフタゾリンＬＰＢ－Ｒ（３０％水溶液）：１５４．０部
　・ソフタゾリンＬＡＯ（３０％水溶液）：３８．０部
　・エチレンジアミンジサクシネート：６．７部
　ｐＨ９．８５
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
　表５の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、非画像部現像時間が短く、また、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができた。
（実施例７０～９２、比較例１０～１２）
＜支持体の作製＞
　実施例１～２３と同様にして、支持体Ａ～Ｆを作製した。
＜中間層の形成＞
　実施例１～２３と同様にして、中間層を有する支持体Ａ－１～Ｆ－１を作製した。
＜画像記録層の形成＞
　得られた支持体Ａ－１～Ｆ－１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（VII）を、塗布量が１．５ｇ／ｍ2となるようワイヤーバーで塗布したのち、１６０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥し、直ちに１７～２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（VIII）を塗布量が０．５ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布したのち、１３０℃で４０秒間乾燥し、更に２０～２６℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。
（下層形成用塗布液組成物（VII））
　・Ｎ－フェニルマレイミド／メタクリル酸／メタクリルアミドコポリマー
（共重合比６０ｍｏｌ％／１５ｍｏｌ％／２５ｍｏｌ％、重量平均分子量＝５０，０００）：０．８部
　・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：上記構造）：０．０１７部
　・クリスタルヴァイオレット（保土ヶ谷化学（株）製）：０．０１７部
　・メガファックＦ－１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０１５部
　・γ－ブチロラクトン：１０部
　・メチルエチルケトン：１０部
　・１－メトキシ－２－プロパノール：８部
（上層形成用塗布液組成物（VIII））
　・表６に記載の特定高分子化合物：２０部
　・アルカリ可溶性樹脂：上記ポリウレタン１：１０部
　・エチルバイオレット：０．０３部
　・メガファックＦ－１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０５部
　・３－ペンタノン：６０部
　・プロピレングリコールモノメチルエーテルー２－アセテート：８部
　得られた各平版印刷版原版に対して、実施例１と同様の条件で評価を行った。結果を下記表６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
　表６の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、非画像部現像時間が短く、また、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができた。
（実施例９３～１１５、比較例１３～１５）
＜支持体の作製＞
　実施例１～２３と同様にして、支持体Ａ～Ｈを作製した。
＜中間層の形成＞
　実施例１～２３と同様にして、中間層を有する支持体Ａ－１～Ｈ－１を作製した。
＜画像記録層の形成＞
　得られた支持体Ａ－１～Ｆ－１に、下記組成の塗布液組成物（IX）を、ワイヤーバーで塗布したのち、１４０℃の乾燥オーブンで５０秒間乾燥して塗布量が１．０ｇ／ｍ2となる平版印刷版原版を得た。
（塗布液組成物（IX））
　・ｍ，ｐ－クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量５，０００）：０．４７４部
　・表７に記載の特定高分子化合物：２．３７部
　・赤外線吸収剤（上記ＩＲ色素（１））：０．１５５部
　・２－メトキシ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート：０．０３部
　・テトラヒドロ無水フタル酸：０．１９部
　・エチルバイオレット対イオンを６－ヒドロキシ－β－ナフタレンスルホン酸にしたもの：０．１１部
　・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ－７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０７部
　・ｐ－トルエンスルホン酸：０．００８部
　・ビス－ｐ－ヒドロキシフェニルスルホン：０．１３部
　・３，３’－チオジプロピオン酸ジミリスチル：０．０４部
　・ラウリルステアレート：０．０２部
　・γ－ブチルラクトン：１３部
　・メチルエチルケトン：２４部
　・１－メトキシ－２－プロパノール：１１部
　得られた平版印刷版原版に対して、現像処理に富士フイルム（株）製現像液ＬＨ－ＤＳを用いた以外は実施例１と同様の条件で評価を行った結果を下記表７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
　表７の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、非画像部現像時間が短く、また、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができた。

Claims (13)

  1. 　成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、
    　成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する
    　感光性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　式１中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ1は－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｙ1は酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｗは１～４の整数を表し、ｎは０～３の整数を表す。
  2. 　式１中、Ｘ１が－ＮＲ－であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 　式１中、Ｘ１がアルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 　成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    　式２中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ2及びＸ3はそれぞれ独立に、－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｚ1はアルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、又は、単結合を表し、Ｗ２は１～４の整数を表し、ｎ２は０～３の整数を表し、Ｗ３は１～４の整数を表し、ｎ３は０～３の整数を表す。
  5. 　ポジ型感光性樹脂組成物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
  6. 　支持体上に、画像記録層を有し、
    　前記画像記録層が、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する
    　平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    　式１中、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ1は－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｙ1は酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｗは１～４の整数を表し、ｎは０～３の整数を表す。
  7. 　式１中、Ｘ１が－ＮＲ－であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、請求項６に記載の平版印刷版原版。
  8. 　式１中、Ｘ１がアルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基であり、かつ、Ｙ1が酸素原子である、請求項６に記載の平版印刷版原版。
  9. 　成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、請求項６に記載の平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    　式２中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アシル基を表し、Ｘ2及びＸ3はそれぞれ独立に、－ＮＲ－、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレンオキシ基を表し、Ｚ1はアルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、又は、単結合を表し、Ｗ２は１～４の整数を表し、ｎ２は０～３の整数を表し、Ｗ３は１～４の整数を表し、ｎ３は０～３の整数を表す。
  10. 　ポジ型平版印刷版原版である、請求項６～９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  11. 　前記画像記録層が、下層及び上層の２層構造であり、前記下層及び前記上層の少なくとも１層に成分Ａ及び成分Ｂを含有する、請求項６～１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  12. 　前記支持体と前記画像記録層との間に、中間層を有する、請求項６～１１のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  13. 　請求項６～１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、
    　露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５～１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む
    　平版印刷版の製版方法。
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