JP6184578B1 - 無電解銅メッキをする方法、及び無電解銅メッキのための触媒溶液を製造する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
プリディップ工程での基板酸化防止の効果実験
実施形態1−1ないし1−4と、比較例1−1ないし1−4に対して実験を行った。同一銅試片に対して、それぞれプリディップ工程まで処理を施し、各段階の具体的な工程手順は、以下の表1ないし表2の通りである。実施形態1−1、実施形態1−2、比較例1−1、比較例1−2に対しては、表1の正常条件(normal condition)で、実施形態1−3、実施形態1−4、比較例1−3、比較例1−4に対しては、悪条件(unfavorable condition)で実験した。脱脂及びソフトエッジング溶液は、全ての場合において同一のものを使用した。そして、銅試片は、一般的にPCB資材で使用されるEMC会社で制作販売するHalogen Free銅箔積層原板を使用した。
以下の表3は、前記実施形態1−1のプリディップ溶液、及び前記比較例1−1のプリディップ溶液のそれぞれの表面張力を測定した結果である。
図7は、前記実施形態1−1のプリディップ溶液と、前記比較例1−1のプリディップ溶液とを触媒溶液として投入させた際、異物発生を観察した結果である。図7を参照すると、同一条件で実験した際、比較例1−1のプリディップが触媒溶液として流入された場合、泡及び異物が過度に発生した。そして、発生した泡及び異物除去のために、一時間以上かかり、泡除去がほぼ不可能であった。一方、実施形態1−1のプリディップが触媒溶液に流入された場合には、泡及び異物発生がほとんど観察されず、微量発生した泡はスプレイオフ処理の際に直ちに除去できた。
実施形態2に係る触媒溶液製造方法、及び比較例2に係る触媒溶液製造方法による触媒溶液をそれぞれ製造し、製造された触媒溶液で実験を行った。
パラジウムイオンリガンドの種類変更による効果を調べるために、実施形態3−1、実施形態3−2及び比較例3に係る触媒溶液を表4の条件を従って実験を行った。
カップリング剤の種類変更による効果を知るために、実施形態4−1、実施形態4−2及び比較例4による触媒溶液を表5の条件を基に実験を行った。実験においてエポキシ試片はEMC社で制作販売するHalogen Free資材を使用した。
1.試片を上記表4のように、還元工程まで処理した後乾燥する。
2.300mLビーカーにメスシリンダやTipを用いて5mL、30mL、50mLの目盛り線を引く。
3.塩酸と硝酸とを3:1の割合で30mLになるように用意する(塩酸:22.5mL、硝酸:7.5mL)。
4.試料をビーカーに入れて前処理液に浸かるようにし、加熱器の温度を約80〜90℃に設定して加熱する(i.e.Acid Digestion)。加熱の際、必ずフード設備内で進め、前処理液が沸騰しないように観察しつつ、必要に応じて加熱温度を適切に調節する。
5.前処理液が5mLになると加熱を中断する。加熱が終了するまで当該試片は必ず前処理液に浸かる状態であるべきである。
6.当該ビーカーを加熱器から分離し、前処理液が常温になるように放置した後、超純水(分析用)を用いて最終的に体積が丁度50mLになるようにする。
7.当該前処理液をよく撹拌した後、ICP機器分析を進める。
パラジウム吸着量(μg/cm2)=分析結果(μg/mL)×前処理最終体積(mL)÷処理試片面積(cm2)
Claims (6)
- 導体層と不導体層とが積層された印刷回路基板のスルーホール(Through−hole)を無電解銅メッキ(electroless copper plating)する方法において、
硫酸のナトリウム塩から選択されるマイナスイオン付与剤を含む塩基性プリディップ溶液を用いて前記スルーホールをマイナスイオン化させるステップと、
ピリジン(Pyridine)または3−ピリジンメタノール(3−pyridinemethanol)から選択されるパラジウムイオンリガンド及びパラジウムイオンからなる錯化合物を含む触媒溶液を用いて前記スルーホールを触媒処理するステップと、
前記スルーホールの表面を無電解銅メッキするステップと、を含む無電解銅メッキをする方法。 - 前記マイナスイオン付与剤は、
硫酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウム及び亜硫酸水素ナトリウムのうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項1に記載の無電解銅メッキをする方法。 - 無電解銅メッキのための触媒溶液を製造する方法において、
パラジウム化合物が溶解された溶液を用意するステップと、
前記溶液にピリジン(Pyridine)または3−ピリジンメタノール(3−pyridinemethanol)から選択されるパラジウムイオンリガンドを添加するステップと、
チラー(Chiller)で前記溶液を冷却させるステップと、を含む無電解銅メッキのための触媒溶液を製造する方法。 - 前記パラジウムイオンリガンドを添加するステップは、
前記パラジウムイオンリガンドを前記溶液に予め設定された時間間隔をおいて段階的に添加することを特徴とする請求項3に記載の無電解銅メッキのための触媒溶液を製造する方法。 - 非金属材質のインペラを用いて前記パラジウムイオンリガンドの添加された溶液を撹拌するステップを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の無電解銅メッキのための触媒溶液を製造する方法。
- 前記パラジウム化合物は、
塩化パラジウム、フッ化パラジウム、ブロム化パラジウム、ヨウ素化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウムまたは硫化パラジウムであることを特徴とする請求項3に記載の無電解銅メッキのための触媒溶液を製造する方法。
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