JP6175265B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
磁気記録媒体の製造方法の各実施形態では、ベーパールブ成膜方法による第1の潤滑剤を被積層体に塗布する第1の処理室と、第2の潤滑剤を被積層体に塗布する第2の処理室を設け、第1の処理室と第2の処理室との間に被積層体を搬送する搬送領域を設け、第1の処理室におけるプロセスガス圧をA、第2の処理室におけるプロセスガス圧をB、搬送領域におけるプロセスガス圧をCとした場合、C>A、且つ、C>Bなる関係を満足することが好ましい。
成膜装置101への基板の搬入は、以下のステップs1〜s9を含む処理で実現できる。
成膜装置101からの被積層体の搬出とベーパールブ成膜装置102への被積層体の搬入は、以下のステップs11〜s18を含む処理で実現できる。
各実施形態では、ベーパールブプロセスチャンバ(以下、第1の処理室とも言う)944aにおけるプロセスガス圧をA、ベーパールブプロセスチャンバ(以下、第2の処理室とも言う)944cにおけるプロセスガス圧をB、搬送領域における分離チャンバ944bのガス圧をCとした場合、C>A、且つ、C>Bなる関係を満足することが好ましい。このような構成とすることで、第1の処理室944aにおけるプロセスガスと、第2の処理室944cにおけるプロセスガスが混合することを防止し、第1の処理室944aでは第1の潤滑剤のみによる保護層の被覆率が高く強固に結合した第1の潤滑層を形成し、その後、第2の処理室944cでは第2の潤滑剤のみを塗布するため、ボンド層とフリー層を適度に含む潤滑層を形成することができる。
各実施形態では、搬送領域、すなわち、分離チャンバ944bに流すガスとして、不活性ガスを用いることが好ましい。不活性ガスは、本発明者の検討によると、第1の処理室944aにおけるプロセスガスや第2の処理室944cにおけるプロセスガスに混入しても、形成される潤滑層にほとんど影響がでないことが確認された。
図1の製造装置を用いて磁気記録媒体を製造した。まず、洗浄済みのガラス基板(コニカミノルタ社製、外形2.5インチ)を、図1に示す製造装置のエアロックチャンバ12に収容し、その後、真空ロボット111を用いてキャリア925に載置し、この基板表面に積層膜を形成した。なお、成膜チャンバ内の到達真空度(ベースプレッシャ)は1×10−5Paであった。
比較例1は、上記実施例1と同様に製造した磁気記録媒体であるが、第2の潤滑剤は塗布せずに、第1の潤滑剤のみで潤滑層を形成した。潤滑層の層厚は17Åであった。
比較例2は、上記実施例1と同様に製造した磁気記録媒体であるが、第1の潤滑剤は塗布せずに、第2の潤滑剤のみで潤滑層を形成した。潤滑層の層厚は17Åであった。
実施例2では、炭素保護層を形成後、第1の潤滑剤を塗布する前に、炭素保護層に窒素イオンを注入し、炭素保護層表面を窒化した。具体的には、イオンビームは、窒素ガス40sccm、ネオン20sccmの混合ガスを用いて発生させた。イオンの量は5.5×1015原子/cm2、正電極の電圧は+1500V、負電極の電圧は−1500Vとし、照射時間を10秒、保護層への注入深さを1.5nmとした。なお、炭素保護層表面の窒素原子濃度は約15原子%とした。
(実施例3)
実施例3では、上記実施例2と同様に磁気記録媒体を製造したが、第1の潤滑剤としてジオール(分子量:3000)を使用し、第2の潤滑剤として下記一般式(9)のテトラオール(分子量:1800)とA20H−DD(分子量:1800)との1:1(質量)の混合物を用いた。
上記実施例1〜3及び比較例1,2の磁気記録媒体においてボンデッドレシオを測定した。ボンデッドレシオは、潤滑層を形成後の磁気記録媒体を、フロロカーボン溶媒に5分間浸漬し、同一媒体の同一位置における浸漬前後の1270cm−1付近の吸光度をESCAで測定し、その比の百分率((浸漬後吸光度/浸漬前吸光度)×100)として測定した。フロロカーボン溶媒には、バートレルXF(商品名、三井デュポンフロロケミカル社製)を使用した。ボンデッドレシオの評価結果を表1に示す。
上記実施例1〜3及び比較例1,2の磁気記録媒体において、潤滑層の被覆率を以下に示す方法により評価した。以下に説明する被覆率の評価は、高温環境下において汚染物質を生成させる環境物質による磁気記録媒体の汚染を調べることで、間接的に磁気記録媒体表面での潤滑層の被覆率を評価するものである。すなわち、磁気記録媒体表面での潤滑層の被覆率が高ければ、磁気記録媒体は環境物質によって汚染されにくくなる。
上記実施例1〜3及び比較例1,2の磁気記録媒体において、ルブピックアップを評価した。ルブピックアップの評価は、磁気記録媒体表面をヘッドスライダで長時間シークし、ヘッドスライダに付着する潤滑剤の有無を光学顕微鏡で確認することで行った。具体的には、磁気記録媒体を通常より低速の1000rpmで回転させ、磁気記録媒体の表面上でヘッドスライダをシークさせた。シーク速度は2Hz、シーク時間は24時間とした。ヘッドスライダに付着する潤滑剤の有無の確認は、600倍の微分干渉型光学顕微鏡で行った。ルブピックアップの評価結果を表1に示す。
100 基板
101 成膜装置
110 密着層
111,112,940,942,946 ロボット
120 軟磁性下地層
130 配向制御層
140 非磁性下地層
150 垂直記録層
160 保護層
170 潤滑層
903 基板装脱着用チャンバ
904,907,914,917 コーナーチャンバ
905,906,908〜913,915,916,918〜920 処理チャンバ
921 予備チャンバ
944a 第1のベーパールブプロセスチャンバ
944b 分離チャンバ
944c 第2のベーパールブプロセスチャンバ
G,G1〜G12 ゲートバルブ
Claims (7)
- 被積層体上に、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順で形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記潤滑層の形成は、
前記保護層を形成後の被積層体を大気に触れさせることなくベーパールブ成膜方法を用いて第1の潤滑剤を前記被積層体に塗布し、
前記第1の潤滑剤を塗布後、前記被積層体を大気に触れさせることなくベーパールブ成膜方法を用いて第2の潤滑剤を前記被積層体に塗布し、
前記第1の潤滑剤の分子量は前記第2の潤滑剤の分子量より高く、
前記第1の潤滑剤の極性は前記第2の潤滑剤の極性より低く、
前記第2の潤滑剤を前記被積層体に塗布する工程は、前記被積層体に塗布された前記第1の潤滑剤の一部または全部を前記第2の潤滑剤に置換する工程である
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記第1の潤滑剤は、分子量が1500〜5000の範囲内のジオールを含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記第2の潤滑剤は、分子量が500〜2000の範囲内のテトラオールを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記保護層を形成後で前記第1の潤滑剤を塗布する前に、前記保護層の表面を窒化または酸化することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記保護層、または、前記保護層を形成後の表層部が、窒化炭素または酸化炭素であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 第1の処理室内で前記第1の潤滑剤を前記被積層体に塗布し、
前記被積層体を前記第1の処理室から搬送領域を介して第2の処理室へ搬送し、
前記第2の処理室内で前記第2の潤滑剤を前記被積層体に塗布し、
前記第1の処理室におけるプロセスガス圧をA、前記第2の処理室におけるプロセスガス圧をB、前記搬送領域におけるガス圧をCとした場合、C>A、且つ、C>Bなる関係を満足することを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 前記搬送領域に流すガスに不活性ガスを用いることを特徴とする請求項6に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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