JP2000222719A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JP2000222719A JP2000222719A JP11021087A JP2108799A JP2000222719A JP 2000222719 A JP2000222719 A JP 2000222719A JP 11021087 A JP11021087 A JP 11021087A JP 2108799 A JP2108799 A JP 2108799A JP 2000222719 A JP2000222719 A JP 2000222719A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気ヘッドとの摺動耐久性に優れ、しかも、磁
気ヘッドの吸着障害の低減された、高記録密度で耐久性
の良い磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。 【解決手段】磁気記録媒体の磁気ヘッド摺動部とデータ
記録部の潤滑膜を別々に形成する方法を採り、磁気ヘッ
ド摺動部に潤滑性に優れた潤滑剤を塗布して潤滑膜を成
膜し、データ記録部に下地の保護層との結合度が大きい
潤滑剤を塗布してボンデッド率が７０％以上と高い潤滑
膜を成膜する。
気ヘッドの吸着障害の低減された、高記録密度で耐久性
の良い磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。 【解決手段】磁気記録媒体の磁気ヘッド摺動部とデータ
記録部の潤滑膜を別々に形成する方法を採り、磁気ヘッ
ド摺動部に潤滑性に優れた潤滑剤を塗布して潤滑膜を成
膜し、データ記録部に下地の保護層との結合度が大きい
潤滑剤を塗布してボンデッド率が７０％以上と高い潤滑
膜を成膜する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、コンピュータな
どの情報処理機器の情報記憶装置（特にハードディスク
装置）に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に
関する。
どの情報処理機器の情報記憶装置（特にハードディスク
装置）に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータなどの情報処理機器
の取り扱う情報量の増加や機器の小型化に伴い、情報記
憶装置の記憶容量の増大が図られ、情報記憶装置に使用
される磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）の記
録容量は増加の一途をたどっている。
の取り扱う情報量の増加や機器の小型化に伴い、情報記
憶装置の記憶容量の増大が図られ、情報記憶装置に使用
される磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）の記
録容量は増加の一途をたどっている。
【０００３】情報記憶装置（以下、単に装置とも称す
る）においては、通常、ＣＳＳ方式が採られる。媒体と
対向して磁気ヘッドが配置され、装置稼働時には高速で
回転する媒体のデータ記録部上を浮上走行する磁気ヘッ
ドにより媒体への情報信号の書き込み・読み取り・消去
が行われ、停止時には磁気ヘッドは媒体表面の磁気ヘッ
ド摺動部に接触停止している。媒体の高記録密度化には
磁性層と磁気ヘッドとの距離を接近させることが有効で
あり、そのため磁性層の上に設けられる保護層は数百Å
まで薄層化され、磁気ヘッドの浮上高さは数μインチま
で低下してきている。さらに、信号処理技術の高度化に
より記録信号の周波数が上がり、それに伴って媒体の回
転数も７，０００ｒｐｍから１０，０００ｒｐｍ程度に
まで高めることによって、記録信号の転送速度と記録密
度の向上を図っている。
る）においては、通常、ＣＳＳ方式が採られる。媒体と
対向して磁気ヘッドが配置され、装置稼働時には高速で
回転する媒体のデータ記録部上を浮上走行する磁気ヘッ
ドにより媒体への情報信号の書き込み・読み取り・消去
が行われ、停止時には磁気ヘッドは媒体表面の磁気ヘッ
ド摺動部に接触停止している。媒体の高記録密度化には
磁性層と磁気ヘッドとの距離を接近させることが有効で
あり、そのため磁性層の上に設けられる保護層は数百Å
まで薄層化され、磁気ヘッドの浮上高さは数μインチま
で低下してきている。さらに、信号処理技術の高度化に
より記録信号の周波数が上がり、それに伴って媒体の回
転数も７，０００ｒｐｍから１０，０００ｒｐｍ程度に
まで高めることによって、記録信号の転送速度と記録密
度の向上を図っている。
【０００４】ＣＳＳ方式が採られる装置おいては、稼働
開始時および稼働中止時には過渡的に磁気ヘッドは媒体
表面の磁気ヘッド摺動部で摺動する。そのため、上述の
ような媒体の保護層の薄層化と高速回転化は、対磁気ヘ
ッド摺動耐久性（以下、単に摺動耐久性とも称する）に
関してはより過酷な方向に働くが、保護層上に潤滑剤を
塗布して適当な厚さの潤滑膜を形成することによって摺
動耐久性が悪化するのを防いでいる。
開始時および稼働中止時には過渡的に磁気ヘッドは媒体
表面の磁気ヘッド摺動部で摺動する。そのため、上述の
ような媒体の保護層の薄層化と高速回転化は、対磁気ヘ
ッド摺動耐久性（以下、単に摺動耐久性とも称する）に
関してはより過酷な方向に働くが、保護層上に潤滑剤を
塗布して適当な厚さの潤滑膜を形成することによって摺
動耐久性が悪化するのを防いでいる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】保護層上に形成される
潤滑膜は、摺動耐久性向上が主たる目的であるため、そ
の保護層との結合度を示すボンデッド率は通常磁気ヘッ
ドに対する摺動耐久性が最適になる値で設計されてお
り、媒体表面全領域同一条件で形成されている。ところ
が、これらの設計値は装置稼働時磁気ヘッドが浮上し高
速でシーク動作をするデータ記録部に対しては必ずしも
最適な浮上環境を保証しているわけではない。特に、近
年の磁気ヘッドの低浮上化，媒体の高速回転化により、
磁気ヘッドがデータ記録部を浮上走行中に潤滑膜中の対
保護層結合力の弱い潤滑剤をかき集め、磁気ヘッドの摺
動面に潤滑剤が付着する現象が起こり、装置停止時磁気
ヘッドが磁気ヘッド摺動部で停止して数日放置後に吸着
障害を起こす事例が発生している。これらの現象は、さ
らに媒体が高速回転になるほど遠心力で媒体の内周側か
ら外周側に流動する対保護層結合度の弱い潤滑剤によっ
て加速される。特に、ネットワークサーバーのような年
中電源がＯＮされているようなコンピュータで使用され
ている装置（磁気ヘッドがデータ記録部上を浮上してい
る）においては、電源がＯＦＦした後に上述のような問
題が発生する可能性が高く、信頼性に多大の影響を与え
る。
潤滑膜は、摺動耐久性向上が主たる目的であるため、そ
の保護層との結合度を示すボンデッド率は通常磁気ヘッ
ドに対する摺動耐久性が最適になる値で設計されてお
り、媒体表面全領域同一条件で形成されている。ところ
が、これらの設計値は装置稼働時磁気ヘッドが浮上し高
速でシーク動作をするデータ記録部に対しては必ずしも
最適な浮上環境を保証しているわけではない。特に、近
年の磁気ヘッドの低浮上化，媒体の高速回転化により、
磁気ヘッドがデータ記録部を浮上走行中に潤滑膜中の対
保護層結合力の弱い潤滑剤をかき集め、磁気ヘッドの摺
動面に潤滑剤が付着する現象が起こり、装置停止時磁気
ヘッドが磁気ヘッド摺動部で停止して数日放置後に吸着
障害を起こす事例が発生している。これらの現象は、さ
らに媒体が高速回転になるほど遠心力で媒体の内周側か
ら外周側に流動する対保護層結合度の弱い潤滑剤によっ
て加速される。特に、ネットワークサーバーのような年
中電源がＯＮされているようなコンピュータで使用され
ている装置（磁気ヘッドがデータ記録部上を浮上してい
る）においては、電源がＯＦＦした後に上述のような問
題が発生する可能性が高く、信頼性に多大の影響を与え
る。
【０００６】従来は、このような不具合に対して潤滑膜
の下地である保護層とのボンデッド率を極力上げる方法
で対処してきた。しかし、ボンデッド率を上げる程潤滑
特性が低下し摺動耐久性が低下するという問題があり、
ボンデッド率は上げても５０％から６０％が限度であっ
た。
の下地である保護層とのボンデッド率を極力上げる方法
で対処してきた。しかし、ボンデッド率を上げる程潤滑
特性が低下し摺動耐久性が低下するという問題があり、
ボンデッド率は上げても５０％から６０％が限度であっ
た。
【０００７】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、磁気ヘッドとの摺動耐久性に優れ、しか
も、磁気ヘッドの吸着障害の低減された、高記録密度で
耐久性の優れた媒体およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
のであって、磁気ヘッドとの摺動耐久性に優れ、しか
も、磁気ヘッドの吸着障害の低減された、高記録密度で
耐久性の優れた媒体およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、磁性層上に保護層および潤滑膜が順次設けら
れ、磁気ヘッドが摺動する磁気ヘッド摺動部と前記磁気
ヘッドが浮上走行してデータを読み書きするデータ記録
部とを表面に有する磁気記録媒体において、磁気ヘッド
摺動部とデータ記録部にそれぞれ機能の異なる潤滑膜を
設け、データ記録部の潤滑膜の下地保護層に対する結合
度を示すボンデッド率を磁気ヘッド摺動部のそれに比し
て大きいものとすることによって解決される。
によれば、磁性層上に保護層および潤滑膜が順次設けら
れ、磁気ヘッドが摺動する磁気ヘッド摺動部と前記磁気
ヘッドが浮上走行してデータを読み書きするデータ記録
部とを表面に有する磁気記録媒体において、磁気ヘッド
摺動部とデータ記録部にそれぞれ機能の異なる潤滑膜を
設け、データ記録部の潤滑膜の下地保護層に対する結合
度を示すボンデッド率を磁気ヘッド摺動部のそれに比し
て大きいものとすることによって解決される。
【０００９】データ記録部の潤滑膜のボンデッド率を高
めることより、装置稼働時に回転する媒体の遠心力によ
る潤滑剤の流動・飛散が低減される。さらに、磁気ヘッ
ドがデータ記録部上を浮上走行中に磁気ヘッドに付着す
る潤滑剤の量を低減することかでき、装置停止時の媒体
表面への磁気ヘッドの吸着障害を低減することができ
る。磁気ヘッド摺動部の潤滑膜はデータ記録部の潤滑膜
よりも摺動耐久性に優れた潤滑膜とし、少なくとも従来
の摺動耐久性を維持することはできる。かくして、磁気
ヘッドとの摺動耐久性に優れ、しかも、磁気ヘッドの吸
着障害の低減された媒体を得ることができる。
めることより、装置稼働時に回転する媒体の遠心力によ
る潤滑剤の流動・飛散が低減される。さらに、磁気ヘッ
ドがデータ記録部上を浮上走行中に磁気ヘッドに付着す
る潤滑剤の量を低減することかでき、装置停止時の媒体
表面への磁気ヘッドの吸着障害を低減することができ
る。磁気ヘッド摺動部の潤滑膜はデータ記録部の潤滑膜
よりも摺動耐久性に優れた潤滑膜とし、少なくとも従来
の摺動耐久性を維持することはできる。かくして、磁気
ヘッドとの摺動耐久性に優れ、しかも、磁気ヘッドの吸
着障害の低減された媒体を得ることができる。
【００１０】前記保護層が窒素化カーボンからなる場合
は、データ記録部の潤滑膜はアミン構造を含む末端基を
有するパーフルオロポリエーテルを含有する潤滑膜とす
ると保護層とのボンデッド率が高く好適である。また、
磁気ヘッド摺動部の潤滑膜は末端に水酸基を有するパー
フルオロポリエーテルを含有し、前記データ記録部の潤
滑膜は末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル
とアミン構造を含む末端基を有するパーフルオロポリエ
ーテルとを含有する潤滑膜とすると、磁気ヘッド摺動部
の摺動耐久性を良好に保ちながら、データ記録部の潤滑
膜の保護膜に対するボンデッド率は、データ記録部の潤
滑膜の比率を変えることにより、適宜選データ記録部の
潤滑膜のボンデッド率は、７０％以上とすると好適であ
る。
は、データ記録部の潤滑膜はアミン構造を含む末端基を
有するパーフルオロポリエーテルを含有する潤滑膜とす
ると保護層とのボンデッド率が高く好適である。また、
磁気ヘッド摺動部の潤滑膜は末端に水酸基を有するパー
フルオロポリエーテルを含有し、前記データ記録部の潤
滑膜は末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル
とアミン構造を含む末端基を有するパーフルオロポリエ
ーテルとを含有する潤滑膜とすると、磁気ヘッド摺動部
の摺動耐久性を良好に保ちながら、データ記録部の潤滑
膜の保護膜に対するボンデッド率は、データ記録部の潤
滑膜の比率を変えることにより、適宜選データ記録部の
潤滑膜のボンデッド率は、７０％以上とすると好適であ
る。
【００１１】このような磁気記録媒体は、複数の潤滑剤
吐出ノズルを有するスピンコート式潤滑剤塗布装置を用
いて、磁気ヘッド摺動部とデータ記録部のそれぞれの保
護層上にそれぞれ異なる潤滑剤をスピンコートして潤滑
膜を形成する方法により好適に製造される。なお、保護
層は磁性層上にスパッタリング法またはＣＶＤ法により
形成されるとよい。
吐出ノズルを有するスピンコート式潤滑剤塗布装置を用
いて、磁気ヘッド摺動部とデータ記録部のそれぞれの保
護層上にそれぞれ異なる潤滑剤をスピンコートして潤滑
膜を形成する方法により好適に製造される。なお、保護
層は磁性層上にスパッタリング法またはＣＶＤ法により
形成されるとよい。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１に、この発明に係わる媒体の
模式的断面図を示す。非磁性基板１上にＮｉ−Ｐ層２が
形成され、その上に非磁性金属下地層３，磁性層４，保
護層５，潤滑膜６が順次設けられている。
模式的断面図を示す。非磁性基板１上にＮｉ−Ｐ層２が
形成され、その上に非磁性金属下地層３，磁性層４，保
護層５，潤滑膜６が順次設けられている。
【００１３】この発明においては、保護層５までは従来
の製造方法で作製される。例えば、非磁性基板としてデ
ィスク状アルミニウム合金基板を用い、その上に無電解
めっき法でＮｉ−Ｐ層を形成し、その表面に円周方向に
テクスチャー加工を施した後、ＤＣマグネトロンスパッ
タリング法でＣｒ合金下地層，Ｃｏ合金磁性層を形成
し、その上にＤＣマグネトロンスパッタリング法または
ＣＶＤ法でカーボン系保護層を成膜する。
の製造方法で作製される。例えば、非磁性基板としてデ
ィスク状アルミニウム合金基板を用い、その上に無電解
めっき法でＮｉ−Ｐ層を形成し、その表面に円周方向に
テクスチャー加工を施した後、ＤＣマグネトロンスパッ
タリング法でＣｒ合金下地層，Ｃｏ合金磁性層を形成
し、その上にＤＣマグネトロンスパッタリング法または
ＣＶＤ法でカーボン系保護層を成膜する。
【００１４】この保護層上に潤滑膜を形成するにあたっ
て、媒体の磁気ヘッド摺動部とデータ記録部とで機能の
異なる潤滑膜を成膜する。磁気ヘッド摺動部には摺動耐
久性に優れた潤滑剤を塗布して潤滑膜を成膜し、データ
記録部には下地である保護層とのボンデッド率の高い潤
滑剤を塗布して潤滑膜を成膜する。潤滑剤の塗布には、
例えば、潤滑剤吐出ノズルを２個有するスピンコート式
潤滑剤塗布装置が好適に用いられる。
て、媒体の磁気ヘッド摺動部とデータ記録部とで機能の
異なる潤滑膜を成膜する。磁気ヘッド摺動部には摺動耐
久性に優れた潤滑剤を塗布して潤滑膜を成膜し、データ
記録部には下地である保護層とのボンデッド率の高い潤
滑剤を塗布して潤滑膜を成膜する。潤滑剤の塗布には、
例えば、潤滑剤吐出ノズルを２個有するスピンコート式
潤滑剤塗布装置が好適に用いられる。
【００１５】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する。 実施例 ３．５インチ媒体用のディスク状アルミニウム合金基板
に無電解めっき法でＮｉ−Ｐ層を形成し、その表面を円
周方向にテクスチャー加工を施した後、その上にＣｒ合
金下地層，Ｃｏ合金磁性層，カーボン保護層をＤＣマグ
ネトロンスパッタリング法で順次成膜する。ここで、保
護層は窒素を１０％含む窒素化カーボン層とした。
に無電解めっき法でＮｉ−Ｐ層を形成し、その表面を円
周方向にテクスチャー加工を施した後、その上にＣｒ合
金下地層，Ｃｏ合金磁性層，カーボン保護層をＤＣマグ
ネトロンスパッタリング法で順次成膜する。ここで、保
護層は窒素を１０％含む窒素化カーボン層とした。
【００１６】この保護層上に、スピンコート法で潤滑剤
を塗布して潤滑膜を形成する。使用したスピンコート式
潤滑剤塗布装置は複数の潤滑剤吐出ノズルを有し、ディ
スク状基板の半径方向の位置に対して任意に使用ノズル
を選択できる。吐出ノズルは回転する基板の内周から外
周方向に移動し、半径１２．５ｍｍから半径２０ｍｍま
での周面の磁気ヘッド摺動部には、潤滑性のよい末端に
水酸基を持つ分子量（ＭＷ）３０００のパーフルオロポ
リエーテルを１６Åの厚さに塗布し、半径２０ｍｍから
半径４７．５ｍｍの最外周までの周面のデータ記録部に
は窒素化カーボン保護層に対して結合性の強いアミン構
造を含む末端基を持つパーフルオロポリエーテルと前記
の磁気ヘッド摺動部に使用した末端に水酸基を持つ分子
量（ＭＷ）３０００のパーフルオロポリエーテルとを混
合した潤滑剤を１６Åの厚さに塗布する。このときの混
合比を適宜変えることにより、様々なボンデッド率の潤
滑膜を形成する。磁気ヘッド摺動部のボンデッド率を温
度１３０℃の加熱処理により５０％になるように調整し
たときに、データ記録部のボンデッド率が５０％から１
００％の範囲内になるように前記の二種類の潤滑剤の混
合比を選択してデータ記録部の潤滑膜を形成した。
を塗布して潤滑膜を形成する。使用したスピンコート式
潤滑剤塗布装置は複数の潤滑剤吐出ノズルを有し、ディ
スク状基板の半径方向の位置に対して任意に使用ノズル
を選択できる。吐出ノズルは回転する基板の内周から外
周方向に移動し、半径１２．５ｍｍから半径２０ｍｍま
での周面の磁気ヘッド摺動部には、潤滑性のよい末端に
水酸基を持つ分子量（ＭＷ）３０００のパーフルオロポ
リエーテルを１６Åの厚さに塗布し、半径２０ｍｍから
半径４７．５ｍｍの最外周までの周面のデータ記録部に
は窒素化カーボン保護層に対して結合性の強いアミン構
造を含む末端基を持つパーフルオロポリエーテルと前記
の磁気ヘッド摺動部に使用した末端に水酸基を持つ分子
量（ＭＷ）３０００のパーフルオロポリエーテルとを混
合した潤滑剤を１６Åの厚さに塗布する。このときの混
合比を適宜変えることにより、様々なボンデッド率の潤
滑膜を形成する。磁気ヘッド摺動部のボンデッド率を温
度１３０℃の加熱処理により５０％になるように調整し
たときに、データ記録部のボンデッド率が５０％から１
００％の範囲内になるように前記の二種類の潤滑剤の混
合比を選択してデータ記録部の潤滑膜を形成した。
【００１７】潤滑膜の膜厚の測定にはＦＴ−ＩＲを用い
た。吸光スペクトルをベースライン補正処理した後の１
２７０ｃｍ-1付近の吸光度を膜厚値（ＥＳＣＡ値）に換
算する。ボンデッド率は、媒体をフロロカーボン溶媒に
５分間超音波を加えながら浸漬し、同一媒体の同一位置
における浸漬前後の１２７０ｃｍ-1付近の吸光度を測定
し、その比（浸漬後吸光度／浸漬前吸光度）として定義
される。
た。吸光スペクトルをベースライン補正処理した後の１
２７０ｃｍ-1付近の吸光度を膜厚値（ＥＳＣＡ値）に換
算する。ボンデッド率は、媒体をフロロカーボン溶媒に
５分間超音波を加えながら浸漬し、同一媒体の同一位置
における浸漬前後の１２７０ｃｍ-1付近の吸光度を測定
し、その比（浸漬後吸光度／浸漬前吸光度）として定義
される。
【００１８】図２の線図に、上述のようにして作製され
た各媒体を、温度８０℃，相対湿度８０％の環境下で、
１０，０００ｒｐｍの回転数で２０日間連続回転させた
ときの潤滑膜の流動・飛散の度合いを比較した結果をボ
ンデッド率をパラメータとして示す。縦軸は試験実施前
後の潤滑膜膜厚の比を示してある。図２より、ボンデッ
ド率が７０％以上になると潤滑剤の流動が抑制されるこ
とが判る。
た各媒体を、温度８０℃，相対湿度８０％の環境下で、
１０，０００ｒｐｍの回転数で２０日間連続回転させた
ときの潤滑膜の流動・飛散の度合いを比較した結果をボ
ンデッド率をパラメータとして示す。縦軸は試験実施前
後の潤滑膜膜厚の比を示してある。図２より、ボンデッ
ド率が７０％以上になると潤滑剤の流動が抑制されるこ
とが判る。
【００１９】図３の線図に、温度２５℃，相対湿度４０
％の環境下で磁気ヘッドの放置吸着試験を行った結果を
示す。試験は、磁気ヘッド摺動部で初期の吸着力を測定
した後、媒体を７２００ｒｐｍの一定速度で回転させ、
磁気ヘッドを媒体のデータ記録部の半径４６ｍｍの位置
で２日間連続して浮上走行させる。その後磁気ヘッド位
置を摺動部に移動させると同時に媒体の回転を停止さ
せ、磁気ヘッドが媒体表面に接触した状態で１日放置し
た後、その摺動部で吸着力を測定する。図３の縦軸は試
験実施前後の吸着力の比率を示す。図３より、ボンデッ
ド率が７０％以上になると放置吸着の改善に効果が得ら
れることが判る。
％の環境下で磁気ヘッドの放置吸着試験を行った結果を
示す。試験は、磁気ヘッド摺動部で初期の吸着力を測定
した後、媒体を７２００ｒｐｍの一定速度で回転させ、
磁気ヘッドを媒体のデータ記録部の半径４６ｍｍの位置
で２日間連続して浮上走行させる。その後磁気ヘッド位
置を摺動部に移動させると同時に媒体の回転を停止さ
せ、磁気ヘッドが媒体表面に接触した状態で１日放置し
た後、その摺動部で吸着力を測定する。図３の縦軸は試
験実施前後の吸着力の比率を示す。図３より、ボンデッ
ド率が７０％以上になると放置吸着の改善に効果が得ら
れることが判る。
【００２０】
【発明の効果】この発明によれば、媒体の磁気ヘッド摺
動部とデータ記録部の潤滑膜を別々に形成する。そうし
て、磁気ヘッド摺動部に潤滑性に優れた潤滑膜を成膜
し、データ記録部にボンデッド率が７０％以上と高い潤
滑膜を成膜することにより、磁気ヘッドとの摺動耐久性
に優れ、しかも、磁気ヘッドの吸着障害が低減され、高
記録密度で耐久性に優れた媒体を得ることができる。
動部とデータ記録部の潤滑膜を別々に形成する。そうし
て、磁気ヘッド摺動部に潤滑性に優れた潤滑膜を成膜
し、データ記録部にボンデッド率が７０％以上と高い潤
滑膜を成膜することにより、磁気ヘッドとの摺動耐久性
に優れ、しかも、磁気ヘッドの吸着障害が低減され、高
記録密度で耐久性に優れた媒体を得ることができる。
【図１】この発明に係わる媒体の模式的断面図
【図２】潤滑剤流動の潤滑剤ボンデッド率依存性を示す
線図
線図
【図３】放置吸着力のデータ記録部潤滑剤ボンデッド率
依存性を示す線図
依存性を示す線図
１ 非磁性基板 ２ Ｎｉ−Ｐ層 ３ 非磁性金属下地層 ４ 磁性層 ５ 保護層 ６ 潤滑膜
フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D006 AA01 AA02 AA05 AA06 DA03 FA02 5D112 AA07 AA11 AA24 BC02 BC05 CC05 CC08 FA04 FA09
Claims (6)
- 【請求項１】磁性層上に保護層および潤滑膜が順次設け
られ、磁気ヘッドが摺動する磁気ヘッド摺動部と前記磁
気ヘッドが浮上走行してデータを読み書きするデータ記
録部とを表面に有する磁気記録媒体において、前記デー
タ記録部の潤滑膜は、前記磁気ヘッド摺動部のそれに比
して大きい前記保護層に対するボンデッド率を有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記保護層は窒素化カーボンからなり、前
記データ記録部の潤滑膜はアミン構造を含む末端基を有
するパーフルオロポリエーテルを含有するものであるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】前記磁気ヘッド摺動部の潤滑膜は末端に水
酸基を有するパーフルオロポリエーテルを含有し、前記
データ記録部の潤滑膜は末端に水酸基を有するパーフル
オロポリエーテルとアミン構造を含む末端基を有するパ
ーフルオロポリエーテルとを含有するものであることを
特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】前記データ記録部の潤滑膜のボンデッド率
が７０％以上であることを特徴とする請求項１ないし３
のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】磁性層上に保護層および潤滑膜が順次設け
られ、磁気ヘッドが摺動する磁気ヘッド摺動部と前記磁
気ヘッドが浮上走行してデータを読み書きするデータ記
録部とを表面に有する磁気記録媒体の製造方法におい
て、複数の潤滑剤吐出ノズルを有するスピンコート式潤
滑剤塗布装置を用いて、前記磁気ヘッド摺動部と前記デ
ータ記録部とに異なる潤滑剤をスピンコートすることに
より前記潤滑膜を形成することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項６】前記保護層をスパッタリング法またはＣＶ
Ｄ法により形成することを特徴とする請求項５記載の磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11021087A JP2000222719A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11021087A JP2000222719A (ja) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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-
1999
- 1999-01-29 JP JP11021087A patent/JP2000222719A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9177587B2 (en) | 2013-01-29 | 2015-11-03 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium fabrication method and apparatus |
| US9646643B2 (en) | 2013-02-25 | 2017-05-09 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium fabrication method and apparatus |
| US9147422B2 (en) | 2013-04-02 | 2015-09-29 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium fabrication method |
| US9449634B2 (en) | 2013-04-02 | 2016-09-20 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium fabrication method |
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