JP6040074B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
明する。
成膜装置101への基板の搬入は、以下のステップs1〜s9を含む処理で実現できる。
成膜装置101からの被積層体の搬出とベーパールブ成膜装置102への被積層体の搬入は、以下のステップs11〜s18を含む処理で実現できる。
図1の製造装置を用いて磁気記録媒体を製造した。まず、洗浄済みのガラス基板(コニカミノルタ社製、外形2.5インチ)を、図1に示す製造装置のエアロックチャンバ12に収容し、その後、真空ロボット111を用いてキャリア925に載置し、この基板表面に積層膜を形成した。なお、成膜チャンバ内の到達真空度(ベースプレッシャ)は1×10−5Paであった。
比較例1は、上記実施例1と同様に製造した磁気記録媒体であるが、第2の潤滑剤は塗布せずに、第1の潤滑剤のみで潤滑層を形成した。潤滑層の層厚は17Åであった。
比較例2は、上記実施例1と同様に製造した磁気記録媒体であるが、第1の潤滑剤は塗布せずに、第2の潤滑剤のみで潤滑層を形成した。潤滑層の層厚は17Åであった。
上記実施例1及び上記比較例1,2の磁気記録媒体について、ボンデッドレシオを測定した。ボンデッドレシオは、潤滑層を形成後の磁気記録媒体を、フロロカーボン溶媒に5分間浸漬し、同一媒体の同一位置における浸漬前後の1270cm−1付近の吸光度をESCAで測定し、その比の百分率((浸漬後吸光度/浸漬前吸光度)×100)として測定した。フロロカーボン溶媒には、バートレルXF(商品名、三井デュポンフロロケミカル社製)を使用した。
上記実施例1及び比較例1,2の磁気記録媒体について、耐環境性を以下に示す方法により評価した。以下に示す耐環境性の評価は、高温環境下において汚染物質を生成させる環境物質による磁気記録媒体の汚染を調べる評価手法の一つである。以下に示す耐環境性の評価では、高温環境下における汚染物質を生成させる環境物質としてSiイオンを用い、環境物質によって生成された磁気記録媒体を汚染する汚染物質の量としてSi吸着量を測定した。
100 基板
101 成膜装置
110 密着層
111,112,940,942,946 ロボット
120 軟磁性下地層
130 配向制御層
140 非磁性下地層
150 垂直記録層
160 保護層
170 潤滑層
600 塗布装置
903 基板装脱着用チャンバ
904,907,914,917 コーナーチャンバ
905,906,908〜913,915,916,918〜920 処理チャンバ
921 予備チャンバ
G,G1〜G10 ゲートバルブ
Claims (6)
- 被積層体上に、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順で形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記潤滑層の形成は、前記保護層を形成した後の前記被積層体を大気に触れさせることなくベーパールブ成膜方法を用いて第1の潤滑剤を前記被積層体に塗布し、その後、有機溶媒に溶解した第2の潤滑剤を用いて前記被積層体に潤滑剤を塗布し、
前記第1の潤滑剤に含まれる化合物の分子量は、前記第2の潤滑剤に含まれる化合物の分子量より高く、
前記第1の潤滑剤に含まれる化合物の極性は、前記第2の潤滑剤に含まれる化合物の極性より低いことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記第2の潤滑剤を前記被積層体に塗布する工程は、前記被積層体に塗布された前記第1の潤滑剤の一部または全部を前記第2の潤滑剤に置換する工程であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記第1の潤滑剤は、分子量が1500〜5000の範囲内のジオールを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記第2の潤滑剤は、分子量が500〜2000の範囲内のテトラオールを含むことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記第2の潤滑剤は、複数の化合物を含むことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記保護層と前記潤滑層とのボンデッドレシオを60%〜99%の範囲内とすることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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JP4529925B2 (ja) * | 2006-03-15 | 2010-08-25 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | コンタクト磁気記録方式用の磁気ディスク媒体およびそれを用いた固定磁気記録装置 |
US20070248749A1 (en) * | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Hitachi Global Storge Technologies Netherlands, B.V. | Reducing pad burnish damages on magnetic recording media with mixed low molecular weight free lubricant |
JP2008052833A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2009248274A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Showa Denko Packaging Co Ltd | 孔あけ加工用当て板及び孔あけ加工方法 |
JP2009277275A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP2010168450A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-08-05 | Toshiba Storage Device Corp | 潤滑剤および磁気記憶装置 |
JP2010218659A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の検査方法、磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 |
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