JP6147168B2 - 成膜装置 - Google Patents

成膜装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6147168B2
JP6147168B2 JP2013237859A JP2013237859A JP6147168B2 JP 6147168 B2 JP6147168 B2 JP 6147168B2 JP 2013237859 A JP2013237859 A JP 2013237859A JP 2013237859 A JP2013237859 A JP 2013237859A JP 6147168 B2 JP6147168 B2 JP 6147168B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rotating body
workpiece
unit
planetary gear
gear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013237859A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015098618A (ja
Inventor
藤井 博文
博文 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP2013237859A priority Critical patent/JP6147168B2/ja
Priority to US14/521,589 priority patent/US20150136029A1/en
Priority to KR1020140157909A priority patent/KR101665197B1/ko
Priority to DE102014223354.2A priority patent/DE102014223354A1/de
Priority to CN201410656005.XA priority patent/CN104651794B/zh
Publication of JP2015098618A publication Critical patent/JP2015098618A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6147168B2 publication Critical patent/JP6147168B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering

Description

本発明は、ターゲットから出る粒子によってワークを成膜処理する成膜装置に関する。
従来、真空チャンバの内部で真空アーク放電またはスパッタリング等を行なってターゲットの材料を蒸発させ、ターゲット表面から飛び出す粒子によって、回転テーブルの上に載置されたワークの表面に硬質皮膜を形成する成膜装置が知られている。
ここで、成膜時において成膜速度および膜厚分布を一定に維持するためには、ターゲットとワーク表面との距離が一定であることが好ましい。すなわち、これらの距離が遠くなれば成膜速度が低下し、一方、距離が近くなれば膜厚分布の均一性が低下するという問題が生じるので、それらの点を考慮して上記の距離が一定であることが好ましい。
そのため、成膜処理されるワークの大きさが異なる場合、通常、ワークの大きさに応じた専用の回転テーブルを用意して、ターゲットとワーク表面との距離が一定になるようにしている。
しかし、ワークの大きさごとに専用の回転テーブルを準備すれば、設備費用ならびに複数台の回転テーブルを保管するためのスペースが必要になる。
そこで、これらの問題を解決するために、特許文献1に記載されているように、一台の回転テーブルによって、異なる大きさのワークとターゲットとの距離を一定に維持することが可能なワーク保持装置が提案されている。
このワーク保持装置は、回転不能に固定された中央ギアと、該中央ギアの径方向外側を取り囲む円環状のガイド部を有するとともに該中央ギアと同心に配置された回転テーブルと、中央ギアとガイド部との間に配置されたギアユニットと、ギアユニットにそれぞれ着脱自在に設けられ、異なる幅を有する複数のスペーサと、ギアユニットに設けられ、ワークを載置する複数の載置台とを備えている。
このギアユニットは、中央ギアに噛合する第1遊星ギアと、第1遊星ギアを回転自在に支持する回転軸と、回転軸に揺動自在に支持された支持部材と、第1遊星ギアに噛み合う第2遊星ギアと、当該第2遊星ギアに連結された支持軸とを有する。回転軸は、回転テーブルの上面に固定されている。支持軸は、支持部材によって回転自在に支持されている。そのため、第2遊星ギアおよび支持軸は、支持部材を介して、第1遊星ギアの回転軸の回りに揺動自在に支持されている。
第2遊星ギアに連結された支持軸の上端には、載置台が連結されている。この載置台は、第2遊星ギアとともに自転することが可能である。さらに、支持軸には、スペーサが着脱自在に装着されている。
スペーサは、回転テーブルのガイド部に当接することによって、回転テーブルの径方向への移動が規制されている。また、隣接するスペーサ同士が当接することによって、回転テーブルの周方向への移動が規制されている。このように、スペーサは、回転テーブルのガイド部に当接して回転テーブルの径方向への移動が規制されているので、スペーサが装着された支持軸およびそれに連結された載置台の公転軌道(すなわち、回転テーブルの回転中心を中心とする公転軌道)は、スペーサの大きさによって規定される。
上記の構成を有するワーク保持装置では、回転テーブルを回転させることによって、固定ギアに噛合する第1遊星ギアは自転しながら回転テーブルの回転中心回りに公転し、それとともに第1遊星ギアに噛合する第2遊星ギアおよび当該第2遊星ギアに対して支持軸を介して連結された載置台も自転しながら公転する。その結果、載置台に載置されたワークを自転させながら回転テーブルの回転中心回りに公転させることが可能である。これによりワークの公転軌道の外部に設置されたターゲットから出る粒子によってワークの成膜処理を行なうことが可能である。
また、ワークの大きさに応じてそれに対応する大きさの載置台およびスペーサに変更することにより、複数の載置台に載置されたワークの公転軌道の半径を一定に維持することが可能である。それによって、ターゲットとワークとの距離を一定に維持することが可能である。
特許4234652号公報
上記のような特許文献1記載のワーク保持装置は、ワークを載置する載置台およびそれを支持する支持軸の公転軌道を一定に維持するための複数のスペーサを備えており、これらスペーサは、回転テーブルのガイド部に当接するとともに隣接するスペーサ同士とも当接している。
ここで、成膜処理を行なう間、ターゲット表面から飛び出す粒子が高いエネルギーを有するので、成膜装置の真空チャンバ内部は非常に高温になる。そのため、これらのスペーサは熱膨張する。しかし、上記のようにスペーサが回転テーブルのガイド部に当接するとともに隣接するスペーサ同士とも当接していれば、スペーサの熱膨張による寸法変化分を吸収できず、それによってギアユニットが正常に動作できなくなるおそれがある。そのため、ワークを載置する載置台が自転および公転することが困難になるおそれがある。
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、ワークの自転および公転を達成しながら異なる大きさのワークとターゲットとの距離を一定に維持することが可能な成膜装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するためのものとして、本発明の成膜装置は、ワークをターゲットから出る粒子によって成膜処理する成膜装置であって、前記ターゲットを有するチャンバと、前記チャンバ内部に収納された回転体ユニットとを備えており、前記回転体ユニットは、回転体と、前記回転体を回転駆動する駆動部と、前記ワークが載置されるワーク載置部、および当該ワーク載置部を回転可能に支持する支持部を有する複数の交換ユニットと、を有しており、前記支持部は、前記ワーク載置部を回転可能に支持する部分と、前記複数の交換ユニットが前記回転体の周方向に互いに離間して保持されて当該回転体と一体に回転できるように、当該回転体に着脱自在に固定される部分とを有することを特徴とする。
かかる構成によれば、交換ユニットは、回転体に着脱自在に取り付けられるので、種々の寸法の交換ユニットを選定して回転体に取り付けることが可能である。したがって、ワーク載置部に載置されるワークの大きさに対応する長さの支持部を有する交換ユニットを選定して、当該交換ユニットを回転体に着脱自在に取り付けることによって、異なる大きさのワークとターゲットとの距離を一定に維持することが可能になる。
しかも、複数の交換ユニットが回転体に着脱自在に取り付けられるときには、回転体の周方向に互いに離間して並ぶように取り付けられるので、交換ユニット同士は当接していない。そのため、成膜処理の間にこれらの交換ユニットが熱膨張しても個々の交換ユニットで熱膨張による寸法変化分を吸収できるので、ワークの自転および公転に影響を与えない。
前記複数の交換ユニットは、第1の直径を有する前記ワークが載置される第1ワーク載置部、および当該第1ワーク載置部を回転可能に支持する第1支持部を有し、前記回転体の周方向に互いに離間して並ぶように当該回転体に着脱自在に取り付けられる複数の第1交換ユニットと、前記第1の直径よりも大きい第2の直径を有するワークが載置される第2ワーク載置部、および当該第2ワーク載置部を回転可能に支持する第2支持部を有し、前記回転体の周方向に互いに離間して並ぶように当該回転体に着脱自在に取り付けられる複数の第2交換ユニットとを含み、前記第1交換ユニットおよび前記第2交換ユニットのうち少なくとも一方が選択されて、前記回転体に取り付けられるのが好ましい。
かかる構成によれば、異なる大きさのワークに対応するワーク載置部、すなわち第1ワーク載置部および第2ワーク載置部をそれぞれ有する第1交換ユニットおよび第2交換ユニットを有しているので、ワークの大きさに応じて第1および第2交換ユニットの交換が可能である。これら第1および第2交換ユニットのうち、いずれか一方を選択して、回転体に着脱自在に取り付けることにより、異なる大きさのワークとターゲットとの距離を一定に維持することが可能になる。
前記第1支持部および前記第2支持部の長さは、前記第1ワーク載置部にそれぞれ載置されたワークにおける前記ターゲットの粒子が出る出射面に対向する位置と前記回転体の回転中心との距離が、前記第2ワーク載置部にそれぞれ載置されたワークにおける前記出射面に対向する位置と前記回転中心との距離と同じになるような長さに、設定されているのが好ましい。
かかる構成によれば、ターゲットと複数の第1交換ユニットの第1ワーク載置部にそれぞれ載置されたワークとの距離と、当該ターゲットと複数の第2交換ユニットの第2ワーク載置部にそれぞれ載置されたワークとの距離とが一定になるため、異なる大きさのワークとターゲットとの距離を一定に維持することが可能になる。
また、前記ターゲットは、前記回転体の径方向外側に配置され、前記回転体の周方向に並ぶ複数の前記第1ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向外側で接する外接円の半径が、当該回転体の周方向に並ぶ複数の前記第2ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向外側で接する外接円の半径と同じになるように設定されているのが好ましい。
ターゲットが回転体の径方向外側に配置されている場合において、回転体の回転中心からターゲットの距離は一定である。そこで、上記のように、第1ワーク載置部および第2ワーク載置部に載置された複数のワークの外接円の半径を互いに同じになるように設定することにより、回転体の回転中心からターゲットの距離からこれら外接円の半径を減じた距離、すなわち、ターゲットと第1交換ユニットおよび第2交換ユニットのそれぞれのワーク載置部に載置されたワークとの距離とが一定になる。
また、前記ターゲットは、前記回転体の中心軸上に配置され、前記回転体の周方向に並ぶ複数の前記第1ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向内側で接する内接円の半径が、当該回転体の周方向に並ぶ複数の前記第2ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向内側で接する内接円の半径と同じになるように設定されているのが好ましい。
ターゲットが回転体の径方向内側の回転中心に配置されている場合において、回転体の回転中心からターゲットの出射面までの距離は一定である。そこで、そこで、上記のように、第1ワーク載置部および第2ワーク載置部に載置された複数のワークの内接円の半径を互いに同じになるように設定されることにより、これら内接円の半径から回転体の回転中心からターゲットの出射面までの距離を減じた距離、すなわち、ターゲットと第1交換ユニットおよび第2交換ユニットのそれぞれのワーク載置部に載置されたワークとの距離とが一定になる。
また、前記回転体は、複数の前記第1交換ユニットが取り付けられる複数の第1取付部と、複数の前記第2交換ユニットが取り付けられる複数の第2取付部と、を有し、前記複数の第1取付部は、前記第1交換ユニットの数に対応する数を有し、かつ、前記回転体の周方向に並ぶように等間隔に配置され、前記複数の第2取付部は、前記第2交換ユニットの数に対応する数を有し、かつ、前記回転体の周方向に並ぶように等間隔に配置されているのが好ましい。
かかる構成によれば、第1交換ユニットおよび第2交換ユニットの数が異なる場合であっても、第1交換ユニットおよび第2交換ユニットをそれぞれに対応する回転体の第1取付部および第2取付部に取り付けることによって、回転体の周方向に並ぶように等間隔に容易に配置することが可能である。
また、前記複数の第1取付部と前記複数の第2取付部の一部が共通しているのが好ましい。
かかる構成によれば、第1取付部および第2取付部の総数を削減することが可能になり、回転体表面における第1取付部および第2取付部ならびにその周辺部材の配置自由度の向上が可能である。
また、前記回転体ユニットは、前記回転体を回転自在に支持する台座と、前記台座に対して固定された固定ギアと、をさらに有し、前記第1交換ユニットは、前記第1ワーク載置部と同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する第1遊星ギアをさらに有し、前記第2交換ユニットは、前記第2ワーク載置部と同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する第2遊星ギアをさらに有し、前記第1支持部は、前記第1ワーク載置部および前記第1遊星ギアを回転自在に支持する回転支持部および前記回転体と着脱自在に連結する第1連結部を有し、前記回転体とともに前記回転体の回転中心回りに公転する第1アームであり、前記第2支持部は、前記第2ワーク載置部および前記第2遊星ギアを回転自在に支持する回転支持部および前記回転体と着脱自在に連結する第2連結部を有し、前記回転体とともに前記回転中心回りに公転する第2アームであるのが好ましい。
かかる構成によれば、第1交換ユニットおよび第2交換ユニットのうちのいずれか一方が回転体に取り付けられた場合には、これらの第1(および第2)交換ユニットの第1(および第2)ワーク載置部は第1(および第2)アームに支持された状態で回転体の回転中心回りに公転する。それとともに、第1(および第2)遊星ギアが固定ギアに噛み合って自転することにより、これら第1(および第2)ワーク載置部は自転する。したがって、回転体を回転させる駆動力を利用して第1(および第2)ワーク載置部は自転することが可能である。
また、前記回転体ユニットは、前記回転体を回転自在に支持する台座と、前記台座に対して固定された固定ギアと、をさらに有し、第1交換ユニットは、複数の前記第1ワーク載置部を有するとともに、当該複数の第1ワーク載置部のそれぞれと同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する複数の第1遊星ギアをさらに有しており、第2交換ユニットは、複数の前記第2ワーク載置部を有するとともに、当該複数の第2ワーク載置部のそれぞれと同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する複数の第2遊星ギアをさらに有しており、前記第1支持部は、複数の前記第1ワーク載置部および複数の前記第1遊星ギアを回転自在に支持する複数の回転支持部、および前記回転体と連結する第1連結部を有し、前記回転体とともに前記回転体の回転中心回りに公転する第1取付プレートであり、前記第2支持部は、複数の前記第2ワーク載置部および複数の前記第2遊星ギアを回転自在に支持する複数の回転支持部、および前記回転体と連結する第2連結部を有し、前記回転体とともに前記回転中心回りに公転する第2取付プレートであるのが好ましい。
かかる構成によれば、第1交換ユニットおよび第2交換ユニットは、複数のワーク載置部および複数の遊星ギアを回転自在に支持する複数の回転支持部を有する取付プレートそれぞれ有しているので、必要な数のワーク載置部を確保しながら交換ユニットの数を削減することが可能である。したがって、交換ユニットの取付けおよび取外しの作業工数が低減し、しかも、交換ユニットの管理が容易になる。
また、前記固定ギアは、内周側に歯を有する内歯ギアであり、前記固定ギアは、前記第1遊星ギアおよび前記第2遊星ギアよりも前記回転体の径方向外側に位置して、前記第1遊星ギアおよび前記第2遊星ギアと噛み合うのが好ましい。
かかる構成によれば、固定ギアを回転体から径方向外側へ離間して配置することが可能になり、回転体の回転中心周辺の空間を確保することが可能になる。そのため、回転体ユニットの設計および製造が容易になる。
また、前記第1遊星ギアおよび前記第2遊星ギアの直径は、前記第1ワーク載置部および前記第2ワーク載置部の直径に基づいて設定されているのが好ましい。
本発明は、第1交換ユニットにおける第1ワーク載置部の直径と第2交換ユニットにおける第2ワーク載置部の第2ワーク載置部の直径が異なっている構成を前提としており、そのような場合、第1ワーク載置部およびそれと同軸上に連結された第1遊星ギアの回転中心と固定ギアの歯との距離は、第2ワーク載置部およびそれと同軸上に連結された第2遊星ギアの回転中心と固定ギアの歯との距離と異なる。そこで、上記のように、第1遊星ギアおよび第2遊星ギアの直径が第1ワーク載置部および第2ワーク載置部の直径に基づいて設定されることにより、上記のように回転中心と固定ギアの歯との距離が異なる場合でも、第1遊星ギアおよび第2遊星ギアは固定ギアに確実に噛み合うことが可能な寸法に設定することが可能である。
以上説明したように、本発明の成膜装置によれば、ワークの自転および公転を達成しながら異なる大きさのワークとターゲットとの距離を一定に維持することが可能である。
本発明の実施形態に係る成膜装置において12個の第1交換ユニットを取り付けた場合のチャンバ内部の構成を示す平面図である。 図1の成膜装置の縦断面図である。 図1の回転体の平面図である。 図1の成膜装置において9個の第2交換ユニットを取り付けた場合のチャンバ内部の構成を示す平面図である。 図4の成膜装置の縦断面図である。 本発明の変形例である4個のワーク載置部をそれぞれ有する3個の第1交換ユニットを回転体に取り付けた状態の平面図である。 本発明の変形例である3個のワーク載置部をそれぞれ有する3個の第2交換ユニットを回転体に取り付けた状態の平面図である。 本発明の他の変形例である固定ギアが内歯ギアである場合において、(a)12個の第1交換ユニットを取り付けた状態の平面図、(b)は9個の第2交換ユニットを取り付けた状態の平面図である。ただし、いずれも支持部(アーム)は省略している。 本発明のさらに他の変形例であるターゲットが回転体の径方向内側の回転中心に配置されている場合において、(a)12個の第1交換ユニットを取り付けた状態の平面図、(b)は9個の第2交換ユニットを取り付けた状態の平面図である。ただし、いずれも支持部(アーム)は省略している。 本発明の比較例として、(a)は12個のワーク載置部を有する基準テーブルユニットとターゲットとの位置関係を示す平面図、(b)は(a)の基準テーブルユニットのワーク載置部の1個おきに大きい直径を有するワークを載置した状態を示す平面図、(c)は大きい直径を有するワークを載置するための専用のテーブルユニットとターゲットとの位置関係を示す平面図である。
以下、図面を参照しながら本発明の成膜装置1の実施形態についてさらに詳細に説明する。
図1〜5に示される成膜装置1は、2種類の交換ユニット4、30を取り替えることによって、異なる直径を有するワークW1、W2を自転および公転させながらターゲットT1から出る粒子によって成膜処理することが可能な装置である。
ワークW1、W2としては、種々の形状のものが用いられるが、本実施形態では、発明の理解を容易にするために円筒状の部材が採用されている。なお、ワークW1、W2は、後述する第1および第2ワーク載置部22、32に載置可能な形状および大きさであればよく、1つのワーク載置部に1本の円筒状の部材を配置するだけでなく、ドリルなどの線状の部材を複数本立てて配置されたものや、小型の工具用部品を多数配置されたものも本発明のワークに含まれる。
この成膜装置1は、チャンバ2と、チャンバ2内部に収納された回転テーブルユニット3とを備えている。
チャンバ2は、中空の筐体からなり、4枚の側壁2bと、底壁2cと、底壁2cの上方において対向する天壁(図示せず)とを有しており、これらの壁によってワークW1、W2が収納されて当該ワークの成膜処理が行なわれる空間2eを形成する。
また、チャンバ2は、ターゲットT1を保持するターゲット保持部2eを有する。ターゲット保持部2eは、側壁2bの内面に取り付けられ、回転テーブル10の径方向外側に配置されている。
チャンバ2の側壁2bのいずれか一つは、開閉自在であり、回転テーブルユニット3をチャンバ2に出し入れすることが可能である。
回転テーブルユニット3は、回転テーブル10を有する回転テーブルユニット本体7と、当該回転テーブル10に着脱自在に取り付けられる2種類の交換ユニット、すなわち、複数(12個)の第1交換ユニット4および複数(9個)の第2交換ユニット30とを備えている。図1〜2に示される第1交換ユニット4および図4〜5に示される第2交換ユニット30のうちいずれか一方が選択されて、回転テーブル10に取り付けられる。
回転テーブルユニット本体7は、回転体である回転テーブル10、公転ギア11、およびこれらを連結する回転軸12と、これら回転体の回転軸12を回転自在に支持する台車部8(台座)と、前記台車部8に固定された固定ギア9と、を有する。
台車部8は、テーブルベース8aと、当該テーブルベース8aの下部に取り付けられた複数の車輪8bとを備えている。この台車部8によって、回転テーブルユニット3をチャンバ2の内部と外部との間を自由に移動させることが可能である。
テーブルベース8aの上面には、環状の固定台15を介して水平方向に延びる固定ギア9が固定されている。固定ギア9は、その外周面に多数の歯9aを有する外歯ギアである。
回転テーブル10は、その下面の中心に上下方向に延びる回転軸12が連結されている。回転軸12は、テーブルベース8aの上面に設けられた固定筒13内部のベアリング14によって回転自在に支持されている。また、回転軸12の下端部は、テーブルベース8aを貫通してテーブルベース8aの下方に延び、公転ギア11の回転中心に連結されている。これにより、回転テーブル10および公転ギア11は、回転軸12の回転中心O回りに回転することが可能になる。
また、回転テーブルユニット3がチャンバ2内部の所定の位置に配置された状態では、公転ギア11は、チャンバ2の底壁2cの上側に配置された駆動ギア6に噛み合う。駆動ギア6は、チャンバ2の底壁2cの下方に設置された駆動モータ5の回転軸に連結されている。これら公転ギア11、駆動ギア6および駆動モータ5によって、回転テーブル10を回転駆動する駆動部を構成する。
回転テーブル10は、図1〜5に示されるように、第1交換ユニット4が取り付けられる第1交換ユニット専用の貫通孔10aと、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30のいずれかが選択されて取り付けられる第1および第2交換ユニット共通の貫通孔10bと、第2交換ユニット30が取り付けられる第2交換ユニット専用の貫通孔10cとを有する。
図3に示されるように、第1および第2交換ユニット共通の貫通孔10bは、回転テーブル10の回転中心Oの周方向に120度ごとに離間した3箇所に2個づつ形成されている。一方、貫通孔10aは、120度間隔の貫通孔10b同士のそれぞれの間において、回転中心Oの周方向に30度間隔で形成され、合計9箇所に2個づつ形成されている。さらに、貫通孔10cは、120度間隔の貫通孔10b同士のそれぞれの間において、回転中心Oの周方向に40度間隔で形成され、合計6箇所に2個づつ形成されている。
したがって、9箇所の貫通孔10aと3箇所の貫通孔10bとによって、複数(12個)の第1交換ユニット4が取り付けられる複数(12箇所)の第1取付部が構成される。言い換えれば、複数の第1取付部(すなわち、貫通孔10a、10b)は、第1交換ユニット4の数(12個)に対応する数を有し、かつ、回転テーブル10の周方向に並ぶように等間隔に配置されている。
また、3箇所の貫通孔10bと6箇所の貫通孔10cとによって、複数(9個)の第2交換ユニット30が取り付けられる複数(9箇所)の第2取付部が構成される。したがって、複数の第2取付部(すなわち、貫通孔10b、10c)は、第2交換ユニット30の数(9個)に対応する数を有し、かつ、回転テーブル10の周方向に並ぶように等間隔に配置されている。
上記のように、複数の第1取付部(貫通孔10a、10b)および複数の第2取付部(貫通孔10b、10c)は、貫通孔10bを共有している。
12個の第1交換ユニット4は、図1〜2に示されるように、回転テーブル10の周方向に互いに離間して等間隔に並ぶように当該回転テーブル10の第1取付部(貫通孔10a、10b)に着脱自在に取り付けられる。
各第1交換ユニット4は、回転体である第1ワーク載置部22、第1遊星ギア23、およびこれらを一体に連結する回転軸24と、これら回転体の回転軸24を回転(自転)可能に支持する第1支持部である第1アーム21とを有する。
第1ワーク載置部22は、ワークW1と同じ直径D1を有する円板状の部材であり、第1の直径D1を有するワークW1が載置される。本実施形態では、第1ワーク載置部22の外周面は、ワークW1の外周面と一致しているが、必ずしも一致していなくてもよい。
第1ワーク載置部22は、第1アーム21の端部の貫通孔21bの上方に配置されている。第1ワーク載置部22は、その下面の中心に上下方向に延びる回転軸24が連結されている。回転軸24は、第1アーム21の貫通孔21bを通って第1アーム21の下部に延び、後述される回転支持部21cによって回転自在に支持されている。また、回転軸24の下端部は、第1遊星ギア23の回転中心に連結されている。これにより、第1ワーク載置部22および第1遊星ギア23は、回転軸24の回転中心P1回りに自転することが可能である。各交換ユニット4における回転軸24の回転中心P1は、図1に示される仮想円C11上に等間隔に並んで配置される。
第1遊星ギア23は、第1アーム21の貫通孔21bの下方に配置され、上記の回転軸24によって第1ワーク載置部22と同軸上に連結されている。第1遊星ギア23は、固定ギア9に噛み合っている。
第1アーム21は、一方の端部には、回転テーブル10と着脱自在に連結するための2個の貫通孔21a(第1連結部)が形成され、他方の端部には、上記の第1ワーク載置部22と第1遊星ギア23とを連結する回転軸24が貫通する貫通孔21bが形成されている。
第1アーム21の貫通孔21aは、第1取付部を構成する貫通孔10a、10bの上に重ね合わされ、これら貫通孔21aおよび貫通孔10a、10bを上下方向に貫通するボルト28が挿入される。ボルト28の端部にナット29が締結されることにより、第1交換ユニット4は、回転テーブル10の第1取付部(すなわち、貫通孔10a、10b)に着脱自在に取り付けられ、回転テーブル10とともに回転中心O回りに公転することが可能である。
貫通孔21bには、上記の回転軸24が貫通することが可能である。さらに、第1アーム21は、その下面側の貫通孔21bの周辺部において、第1ワーク載置部22および第1遊星ギア23を回転自在に支持する回転支持部21cを有する。
回転支持部21cは、第1アーム21の他方の端部に固定された固定筒26と、固定筒26内部に配置され、第1ワーク載置部22と第1遊星ギア23との間を連結する回転軸24を回転自在に支持するベアリング25とを有する。
一方、9個の第2交換ユニット30は、図4〜5に示されるように、回転テーブル10の周方向に互いに離間して等間隔に並ぶように当該回転テーブル10の第2取付部(貫通孔10b、10c)に着脱自在に取り付けられる。
各第2交換ユニット30は、上記の第1交換ユニット4と同様に、回転体である第2ワーク載置部32、第2遊星ギア33、およびこれらを一体に連結する回転軸34と、これら回転体の回転軸34を回転(自転)可能に支持する第2支持部である第2アーム31とを有する。
第2ワーク載置部32は、第1ワーク載置部22よりも大きい直径D2を有し、かつ、第1の直径D1よりも大きい第2の直径D2を有するワークW2が載置される円板状の部材である。第2ワーク載置部32の外周面は、ワークW2の外周面と一致している。第2ワーク載置部32は、第2アーム31の端部の貫通孔31bの上方に配置されている。第2ワーク載置部32は、その下面の中心に上下方向に延びる回転軸34が連結されている。回転軸34は、第2アーム31の貫通孔31bを通って第2アーム31の下部に延び、後述される回転支持部31cによって回転自在に支持されている。また、回転軸34の下端部は、第2遊星ギア33の回転中心に連結されている。これにより、第2ワーク載置部32および第2遊星ギア33は、回転軸34の回転中心P2回りに自転することが可能である。各交換ユニット30における回転軸34の回転中心P2は、図4に示される仮想円C12上に等間隔に並んで配置される。
第2遊星ギア33は、第2アーム31の貫通孔31bの下方に配置され、上記の回転軸34によって第2ワーク載置部32と同軸上に連結されている。第2遊星ギア33は、固定ギア9に噛み合って自転することが可能である。
第2アーム31は、一方の端部には、回転テーブル10と着脱自在に連結するための2個の貫通孔31a(第2連結部)が形成され、他方の端部には、上記の第2ワーク載置部32と第2遊星ギア33とを連結する回転軸34が貫通する貫通孔31bが形成されている。
第2アーム31の貫通孔31aは、第2取付部を構成する貫通孔10b、10cの上に重ね合わされ、これら貫通孔31aおよび貫通孔10b、10cを上下方向に貫通するボルト28が挿入される。ボルト28の端部にナット29が締結されることにより、第2交換ユニット30は、回転テーブル10の第2取付部(すなわち、貫通孔10b、10c)に着脱自在に取り付けられ、回転テーブル10とともに回転中心O回りに公転することが可能である。
貫通孔31bには、上記の回転軸34が貫通することが可能である。さらに、第2アーム31は、その下面側の貫通孔31bの周辺部において、第2ワーク載置部32および第2遊星ギア33を回転自在に支持する回転支持部31cを有する。
回転支持部31cは、第2アーム31の他方の端部に固定された固定筒36と、固定筒36内部に配置され、第2ワーク載置部32と第2遊星ギア33との間を連結する回転軸34を回転自在に支持するベアリング35とを有する。
図1及び図4に示されるように、第1アーム21および第2アーム31の長さ(とくに、これら両端部に形成された貫通孔間(すなわち、貫通孔21a、21b間、及び貫通孔31a、31b間)の間隔g1、g2)は、ワークW1、W2とターゲットT1間の距離が同じS1になるように設定される。
すなわち、第1アーム21および第2アーム31の長さは、回転テーブル10の回転中心Oを通って前記ターゲットT1における粒子が出る出射面T1aに直交する直線L1上において、第1ワーク載置部22にそれぞれ載置されたワークW1における出射面T1aに対向する位置W1aと出射面T1aとの距離(図1〜2のS1)が、第2ワーク載置部32にそれぞれ載置されたワークW2における出射面T1aに対向する位置W2aと出射面T1aとの距離(図4〜5のS1)と同じになるような長さに、設定されている。
言い換えれば、図1〜2および図4〜5に示されるように、ターゲットT1が回転テーブル10の径方向外側に配置されている上記の構成では、回転テーブル10の周方向に並ぶ複数の第1ワーク載置部22にそれぞれ載置された複数のワークW1がそれぞれ回転テーブル10の径方向外側で接する外接円C1aの半径(図1のR1)が、当該回転テーブル10の周方向に並ぶ複数の第2ワーク載置部32にそれぞれ載置された複数のワークW2がそれぞれ回転テーブル10の径方向外側で接する外接円C1bの半径(図4のR1)と同じになるように設定されている。
これにより、図1〜2および図4〜5に示されるように、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30を交換することによって、異なる大きさのワークW1、W2であっても、ターゲットT1とワークW1、W2との距離S1を一定に維持することが可能である。
ここで、図2および図5に示されるように、第1ワーク載置部22の直径D1と第2ワーク載置部32の直径D2とは大きさが異なるので、ターゲットT1とワークW1、W2との距離S1を一定に維持する場合、これらワーク載置部22、32の回転軸24、34の回転中心P1、P2と固定ギア9の外周面との距離X1、X2は異なる。それに伴って、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33の直径D11、D12の直径も設定する必要がある。
そこで、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33の直径D11、D12は、第1ワーク載置部22および第2ワーク載置部32の直径D1、D2に基づいて設定される。
例えば、図1〜2に示されるように、ターゲットT1が回転テーブル10の径方向外側に位置し、かつ、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33が外歯ギアである固定ギア9に噛み合う場合には、第1交換ユニット4における第1ワーク載置部22および第1遊星ギア23の回転中心P1と固定ギア9(厳密には、固定ギア9のピッチ円。以下同じ)との距離X1は、以下のような式で表される。
X1=R1―R11―(D1/2) (式1)
ここで、
R1:上記の複数のワークW1がそれぞれ回転テーブル10の径方向外側で接する外接円C1aの半径、
R11:固定ギア9の半径、
D1:第1ワーク載置部22の直径
である。
上記の距離X1は、第1遊星ギア23の半径と同じであるので、第1遊星ギア23の直径D11は、
D11=2×X1=2×(R1―R11―(D1/2)) (式2)
のように求められる。
同様に、図4〜5に示される第2交換ユニット30における第2ワーク載置部32および第2遊星ギア33の回転中心P2と固定ギア9との距離X2は、以下のような式で表される。
X2=R1―R11―(D2/2) (式3)
ここで、D2は、第2ワーク載置部32の直径である。
よって、第2遊星ギア33の直径D12は、
D12=2×X2=2×(R1―R11―(D2/2)) (式4)
のように求められる。
このようにして、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33の直径D11、D12は、第1ワーク載置部22および第2ワーク載置部32の直径D1、D12を用いて設定することが可能である。
以下、本発明の比較例として、図10(a)〜(c)に示されるワークW11、W12とターゲットT11との距離が一定でない例について説明する。
本発明の比較例の一例として図10(a)に示される成膜装置101では、所定の直径のワークW11が12個のワーク載置部122のそれぞれに載置されている。ターゲットT11は、固定ギア109およびそれと同軸上に配置された回転テーブル(図示せず)の径方向外側のチャンバ102の側壁に配置されている。遊星ギア123は、ワーク載置部122と同軸に連結されている。この遊星ギア123は、固定ギア109の外周の歯109aに噛み合っている。図10(a)に示される12個のワークW11の配置では、ワークW11とターゲットT11との距離はS11である。
一方、図10(b)に示されるように、図10(a)に示されるワークW11よりも大きいワークW12を上記の図10(a)に示されるワーク載置部122の位置に対応するワーク載置部132に載置する場合には、12個の遊星ギア123の1個おきに配置されたワーク載置部132に大きいワークW12を載置することが考えられる。しかし、この場合、大きいワークW12に変更することに伴って、ワークW12とターゲットT11との距離S12は、上記のワークW11とターゲットT11との距離S11よりも小さくなり、その結果、膜厚分布の均一性が低下する。また、大きいワークW12をワーク載置部122の1個おきに載置した場合、ワークW12間の隙間が大きくなって生産効率が低下するという問題もある。
また、図10(c)に示されるように、遊星ギア123の数を減らして大きいワークW12専用のワーク載置部132を各遊星ギア123と同軸に連結して配置することにより、ワークW12間の隙間を小さくことは可能である。しかし、ワークW12とターゲットT11との距離S12が上記のワークW11とターゲットT11との距離S11よりも小さいことについては変わらないので、膜厚分布の均一性が低下するという問題は解消されない。
それに対して、図1〜5に示される上記実施形態の成膜装置1では、交換ユニット4、30を取り替えることによって、1台の回転テーブル10およびそれを含む回転テーブルユニット本体7を変更することなく、異なる大きさのワークW1、W2であってもワークW1、W2とターゲットT11との距離S1を一定に維持することが可能である。
(特徴)
(1)
本実施形態の成膜装置1では、第1および第2交換ユニット4、30は、回転テーブル10に着脱自在に取り付けられるので、種々の寸法の交換ユニットを選定して回転テーブル10に取り付けることが可能である。したがって、ワーク載置部に載置されるワークの大きさに対応する長さの第1および第2アーム(支持部)21、31を有する第1および第2交換ユニット4、30を選定して、当該交換ユニットを回転テーブル10に着脱自在に取り付けることによって、異なる大きさのワークW1、W2とターゲットTとの距離を一定に維持することが可能になる。
具体的には、本実施形態の成膜装置1では、異なる大きさのワークW1、W2に対応するワーク載置部、すなわち第1ワーク載置部22および第2ワーク載置部32をそれぞれ有する第1交換ユニット4および第2交換ユニット30を有しているので、ワークの大きさに応じて第1および第2交換ユニット4,30の交換が可能である。これら第1および第2交換ユニット4、30のうち、いずれか一方が選択されて回転テーブル10に着脱自在に取り付けられることにより、異なる大きさのワークW1、W2とターゲットTとの距離を一定に維持することが可能になる。
しかも、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30のうちいずれか一方が選択されて、回転テーブル10に着脱自在に取り付けられるときには、回転テーブル10の周方向に互いに離間して並ぶように取り付けられるので、第1交換ユニット4同士または第2交換ユニット30同士は当接していない。そのため、成膜処理の間にこれらの交換ユニット4、30が熱膨張しても個々の交換ユニット4、30で熱膨張による寸法変化分を吸収できるので、ワークW1、W2の自転および公転に影響を与えない。
(2)
本実施形態の成膜装置1では、第1ワーク載置部22および第2ワーク載置部32を支持する支持部である第1アーム21および第2アーム31の長さは、回転テーブル10の回転中心Oを通ってターゲットT1における粒子が出る出射面T1aに直交する直線L1上において、第1ワーク載置部22にそれぞれ載置されたワークW1における出射面T1aに対向する位置W1aと出射面T1aとの距離(S1)が、第2ワーク載置部32にそれぞれ載置されたワークW2における出射面T1aに対向する位置W2aと出射面T1aとの距離(S1)と同じになるような長さに設定されている。このため、異なる大きさのワークW1、W2とターゲットT1との距離を一定に維持することが可能になる。
(3)
本実施形態の成膜装置1では、回転テーブル10の径方向外側においてターゲットT1がターゲット保持部2eに保持されている。この構成において、回転テーブル10の回転中心OからターゲットT1の距離は一定である。そこで、回転テーブル10の周方向に並ぶ複数の第1ワーク載置部22にそれぞれ載置された複数のワークW1がそれぞれ回転テーブル10の径方向外側で接する外接円C1aの半径(図1のR1)が、当該回転テーブル10の周方向に並ぶ複数の第2ワーク載置部32にそれぞれ載置された複数のワークW2がそれぞれ回転テーブル10の径方向外側で接する外接円C1bの半径(図4のR1)と同じになるように設定することにより、回転テーブル10の回転中心OからターゲットT1の距離からこれら外接円C1a、C1bの半径R1を減じた距離、すなわち、ターゲットT1と第1交換ユニット4および第2交換ユニット30のそれぞれのワーク載置部22、32に載置されたワークW1、W2との距離とがそれぞれS1になり、一定になる。
(4)
本実施形態の成膜装置1では、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30の数が異なる場合であっても、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30をそれぞれに対応する回転テーブル10の第1取付部(すなわち、貫通孔10a、10b)および第2取付部(すなわち、貫通孔10b、10c)に取り付けることによって、回転テーブル10の周方向に並ぶように等間隔に容易に配置することが可能である。
(5)
本実施形態の成膜装置1では、複数の第1取付部(すなわち、貫通孔10a、10b)と複数の第2取付部(すなわち、貫通孔10b、10c)とが、貫通孔10bを共有している。これにより、第1取付部および第2取付部の総数(すなわち、貫通孔10a、10b、10cの総数)を削減することが可能になり、回転テーブル10表面における第1取付部および第2取付部ならびにその周辺部材の配置自由度の向上が可能である。
(6)
本実施形態の成膜装置1では、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30のうちのいずれか一方が回転テーブル10に取り付けられた場合には、これらの第1および第2)交換ユニット4、30の第1および第2ワーク載置部22、32は第1および第2アーム21、31に支持された状態で回転テーブル10の回転中心O回りに公転する。それとともに、第1および第2遊星ギア23、33が固定ギア9に噛み合って自転することにより、これら第1および第2ワーク載置部22、32は自転する。したがって、回転テーブル10を回転させる駆動力を利用して第1および第2ワーク載置部22、32は自転することが可能である。
(7)
本実施形態の成膜装置1は、第1交換ユニット4における第1ワーク載置部22の直径D1と第2交換ユニット30における第2ワーク載置部32の第2ワーク載置部32の直径D2が異なっている構成を有している。このような構成では、第1ワーク載置部22およびそれと同軸上に連結された第1遊星ギア23の回転中心P1と固定ギア9の歯との距離X1(図2参照)は、第2ワーク載置部32およびそれと同軸上に連結された第2遊星ギア33の回転中心P2と固定ギア9の歯との距離X2(図5参照)と異なる。そこで、上記のように、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33の直径D11、D12が第1ワーク載置部22および第2ワーク載置部32の直径D1、D2に基づいて設定されることにより、上記のように回転中心Oと固定ギア9の歯9aとの距離X1、X2が異なる場合でも、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33は固定ギア9に確実に噛み合うことが可能な寸法に設定することが可能である。
(変形例)
(A)
上記実施形態では、第1交換ユニット4および第2交換ユニット30のそれぞれが、1個のワーク載置部と、1個の遊星ギアと、1本のアームとを備えている構成が示されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、図6〜7に示されるように、複数のワーク載置部および複数の遊星ギアをまとめて1つの取付プレートに取り付けた構成であってもよい。
すなわち、図6に示される回転テーブルユニット3は、12個のワークW1を載置するために、3個の第1交換ユニット40を有している。
第1交換ユニット40のそれぞれは、ワークW1を載置する4個の第1ワーク載置部42と、4個の第1遊星ギア43と、これら第1ワーク載置部42および遊星ギア43を一体に連結する回転軸44と、回転軸44を回転自在に支持する第1支持部である1枚の第1取付プレート41とを有する。
第1遊星ギア43は、回転軸44によって第1ワーク載置部42のそれぞれと同軸上に連結されている。第1遊星ギア43は、固定ギア9に噛み合って自転する。
第1取付プレート41は、扇型形状の平板状の部材である。第1取付プレート41の内側の円弧状の端部には、回転テーブル10の周方向に互いに離間して複数個所に配置された貫通孔41aが形成されている。貫通孔41aは、回転テーブル10の貫通孔10a、10b、10cに重ね合わされ、これら貫通孔41aおよび貫通孔10a〜10cにボルト28が挿入される。ボルト28の端部にナット29(図2参照)が締結されることにより、第1交換ユニット40は回転テーブル10に着脱自在に取り付けられる。
また、第1取付プレート41の外側の円弧状の端部には、貫通孔41bが形成されている。貫通孔41bには、第1ワーク載置部42と第1遊星ギア43とを連結する回転軸44が貫通している。回転軸44は、第1取付プレート41の貫通孔41b周辺に設けられたベアリングを含む回転支持部(図示せず)によって回転自在に支持されている。
図6に示されるワークW1専用の第1交換ユニット40と同様に、図7に示されるように、回転テーブルユニット3は、ワークW1よりも大きい直径を有するワークW2を9個載置するために、3個の第2交換ユニット50を有している。
この第2交換ユニット50のそれぞれは、ワークW2を載置する3個の第2ワーク載置部52と、3個の第1遊星ギア53と、これら第1ワーク載置部52および遊星ギア53を一体に連結する回転軸54と、回転軸54を回転自在に支持する第2支持部である1枚の第2取付プレート51とを有する。
第2遊星ギア53は、回転軸54によって第2ワーク載置部52のそれぞれと同軸上に連結されている。第2遊星ギア53は、固定ギア9に噛み合って自転する。
第2取付プレート51は、扇型形状の平板状の部材である。第2取付プレート51の内側の円弧状の端部には、回転テーブル10の周方向に互いに離間して複数個所に配置された貫通孔51aが形成されている。貫通孔51aは、回転テーブル10の貫通孔10a、10b、10cに重ね合わされ、これら貫通孔51aおよび貫通孔10a〜10cにボルト28が挿入される。ボルト28の端部にナット29が締結されることにより、第2交換ユニット50は回転テーブル10に着脱自在に取り付けられる。
また、第2取付プレート51の外側の円弧状の端部には、貫通孔51bが形成されている。貫通孔51bには、第2ワーク載置部52と第2遊星ギア53とを連結する回転軸54が貫通している。回転軸54は、第2取付プレート51の貫通孔51b周辺に設けられたベアリングを含む回転支持部(図示せず)によって回転自在に支持されている。
上記のように構成された第1交換ユニット40および第2交換ユニット50のいずれか一方を選択して回転テーブル10に取り付けることが可能である。
上記のように図6〜7に示される変形例では、第1交換ユニット40および第2交換ユニット50は、複数のワーク載置部42、52および複数の遊星ギア43、53を回転自在に支持する複数の回転支持部(図示せず)を有する取付プレート41、51をそれぞれ有しているので、必要な数のワーク載置部42、52を確保しながら交換ユニット40、50の数を削減することが可能である。したがって、交換ユニット40、50の取付けおよび取外しの作業工数が低減し、しかも、交換ユニット40、50の管理が容易になる。
(B)
上記実施形態では、固定ギア9が外歯ギアである例が説明されているが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、図8(a)、(b)に示されるように、固定ギア60として内周側に歯60aを有する内歯ギアを採用してもよい。
その場合、第1交換ユニット4を回転テーブル10に取り付けた場合には、図9(a)に示されるように、ワークW1を載置する第1ワーク載置部22と同軸上に配置された第1遊星ギア23が固定ギア60の内周側に配置され、その内周側に突出する歯60aに噛み合う。同様に、第2交換ユニット30を回転テーブル10に取り付けた場合には、図9(b)に示されるように、ワークW2を載置する第2ワーク載置部22と同軸上に配置された第2遊星ギア33が固定ギア60の内周側に配置され、その内周側に突出する歯60aに噛み合う。
したがって、固定ギア60は、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33よりも回転テーブル10の径方向外側に位置して、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33と噛み合う。
このように、内周側に歯60aを有する内歯ギアからなる固定ギア60を用いた場合、固定ギア60は、第1遊星ギア23および第2遊星ギア33よりも回転テーブル10の径方向外側に位置しているので、固定ギア60を回転テーブル10から径方向外側へ離間して配置することが可能になり、回転テーブル10の回転中心O周辺の空間を確保することが可能になる。そのため、回転テーブルユニット3の設計および製造が容易になる。
ここで、この変形例(B)のように内歯ギアからなる固定ギア60を用いた構成では、図8(a)に示される第1交換ユニット4における第1ワーク載置部22に同軸上に連結された第1遊星ギア23の直径D13は、第1ワーク載置部22の直径D1に基づいて、以下の(式5)のようにして求めることが可能である。
D13=2×X3=2×(R12−(R1―(D1/2)))
=2×(R12−R1+(D1/2)) (式5)
ここで、
X3:回転軸24の中心を結ぶ仮想円C13と固定ギア60との距離、
R1:ワークW1の外接円C1aの半径、
R12:固定ギア60の半径
である。
同様に、図8(b)に示される第2交換ユニット30における第2ワーク載置部32に同軸上に連結された第2遊星ギア33の直径D14は、第2ワーク載置部32の直径D2に基づいて、以下の(式6)のようにして求めることが可能である。
D14=2×X4=2×(R12−(R1―(D2/2)))
=2×(R12−R1+(D2/2)) (式6)
(C)
上記実施形態の成膜装置1では、回転テーブル10の径方向外側においてターゲットT1がターゲット保持部2eに保持されている構成が示されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ターゲットが回転テーブル10の径方向内側に配置されてもよい。
その場合、図9(a)〜(b)に示されるように、ターゲット保持部2fは、回転テーブル10の中心軸O上に配置される。ターゲット保持部2fは、例えば、チャンバ2の天壁の下側に配置される。ターゲット保持部2fには、円柱状のターゲットT2が中心軸Oに沿って垂れ下がった状態で、回転テーブル10の上方に離間した位置に配置される。
このようにターゲットT2が回転テーブル10の中心軸O上に配置される場合には、図9(a)に示されるように回転テーブル10の周方向に並ぶ複数の第1ワーク載置部22にそれぞれ載置された複数のワークW1がそれぞれ回転テーブル10の径方向内側で接する内接円C2aの半径(図9(a)のR2)が、図9(b)に示されるように回転テーブル10の周方向に並ぶ複数の第2ワーク載置部32にそれぞれ載置されたワークW1よりも大きい直径を有する複数のワークW2がそれぞれ回転テーブル10の径方向内側で接する内接円C2bの半径(図9(b)のR2)と同じになるように設定されていれば、ワークおよび交換ユニットを取り替えても、ワークW1、W2とターゲットT2との距離を一定に維持することが可能である。
すなわち、このような構成では、回転テーブル10の回転中心OからターゲットT2の出射面T2aまでの距離は一定である。したがって、これらの内接円C2a、C2bの半径が同じR2になるように設定されることにより、これら内接円C2a、C2bの半径R2から回転テーブル10の回転中心OからターゲットT2の出射面T2aまでの距離を減じた距離、すなわち、回転テーブル10の径方向内側においてターゲット保持部2fに保持されたターゲットT2と第1交換ユニット4および第2交換ユニット30のそれぞれのワーク載置部22、32に載置されたワークW1、W2との距離とがそれぞれS2になり、一定になる。
ここで、この変形例(C)のようにターゲットT2が回転テーブル10の径方向内側の回転中心O上に配置されている構成では、図9(a)に示される第1交換ユニット4における第1ワーク載置部22に同軸上に連結された第1遊星ギア23の直径D15は、:第1ワーク載置部22の直径D1に基づいて、以下の(式7)のようにして求めることが可能である。
D15=2×X5=2×(R2+(D1/2)−R21) (式7)
ここで、
X5:回転軸24の中心を結ぶ仮想円C15と固定ギア9との距離、
R2:ワークW1の内接円C2aの半径、
R21:固定ギア9の半径
である。
同様に、図9(b)に示される第2交換ユニット30における第2ワーク載置部32に同軸上に連結された第2遊星ギア33の直径D16は、第2ワーク載置部32の直径D2に基づいて、以下の(式8)のようにして求めることが可能である。
D16=2×X6=2×(R2+(D2/2)−R21) (式8)
(D)
上記実施形態では、第1および第2交換ユニット4、30を回転テーブル10に取り付けるための第1取付部および第2取付部として、貫通孔10aおよび10bの組、および貫通孔10bおよび10cの組を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、着脱自在な構成であればその他の構成を有する第1取付部および第2取付部を採用してもよい。
(E)
上記実施形態では、第1および第2交換ユニット4、30が着脱自在に取り付けられる回転体の一例として、回転テーブル10を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、第1および第2交換ユニット4、30が取り付けられた状態で自転可能なものであれば、種々の形状および構造の回転体を採用してもよい。
(F)
上記実施形態では、2種類の交換ユニット4、30を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、3種類以上の交換ユニットを備えた成膜装置の構成であってもよい。
(G)
上記実施形態では、ターゲットTの出射面T1a(図1参照)に直交する直線L1が回転中心Oを通っているが、本発明はこれに限定されるものではなく、直線L1が回転中心Oを通らない位置関係であってもよい。
1 成膜装置
2 チャンバ
2e、2f ターゲット保持部
3 回転テーブルユニット
4 第1交換ユニット
5 モータ
7 回転テーブルユニット本体
8 台車部
9 固定ギア
10 回転テーブル
10a、10b、10c 貫通孔
21 第1アーム(第1支持部)
22 第1ワーク載置部
23 第1遊星ギア
24 回転軸
30 第2交換ユニット
31 第2アーム(第2支持部)
32 第2ワーク載置部
33 第2遊星ギア
34 回転軸
W1、W2 ワーク
T1、T2 ターゲット

Claims (11)

  1. ワークをターゲットから出る粒子によって成膜処理する成膜装置であって、
    前記ターゲットを有するチャンバと、
    前記チャンバ内部に収納された回転体ユニットと
    を備えており、
    前記回転体ユニットは、
    回転体と、
    前記回転体を回転駆動する駆動部と、
    前記ワークが載置されるワーク載置部、および当該ワーク載置部を回転可能に支持する支持部を有する複数の交換ユニットと、
    を有しており、
    前記支持部は、前記ワーク載置部を回転可能に支持する部分と、前記複数の交換ユニットが前記回転体の周方向に互いに離間して保持されて当該回転体と一体に回転できるように、当該回転体に着脱自在に固定される部分とを有する、
    成膜装置。
  2. 前記複数の交換ユニットは、
    第1の直径を有する前記ワークが載置される第1ワーク載置部、および当該第1ワーク載置部を回転可能に支持する第1支持部を有し、前記回転体の周方向に互いに離間して並ぶように当該回転体に着脱自在に取り付けられる複数の第1交換ユニットと、
    前記第1の直径よりも大きい第2の直径を有するワークが載置される第2ワーク載置部、および当該第2ワーク載置部を回転可能に支持する第2支持部を有し、前記回転体の周方向に互いに離間して並ぶように当該回転体に着脱自在に取り付けられる複数の第2交換ユニットと
    を含み、
    前記第1交換ユニットおよび前記第2交換ユニットのうち少なくとも一方が選択されて、前記回転体に取り付けられる、
    請求項1に記載の成膜装置。
  3. 前記第1支持部および前記第2支持部の長さは、前記第1ワーク載置部にそれぞれ載置されたワークにおける前記ターゲットの粒子が出る出射面に対向する位置と前記回転体の回転中心との距離が、前記第2ワーク載置部にそれぞれ載置されたワークにおける前記出射面に対向する位置と前記回転中心との距離と同じになるような長さに、設定されている、
    請求項2に記載の成膜装置。
  4. 前記ターゲットは、前記回転体の径方向外側に配置され、
    前記回転体の周方向に並ぶ複数の前記第1ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向外側で接する外接円の半径が、当該回転体の周方向に並ぶ複数の前記第2ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向外側で接する外接円の半径と同じになるように設定されている、
    請求項3に記載の成膜装置。
  5. 前記ターゲットは、前記回転体の中心軸上に配置され、
    前記回転体の周方向に並ぶ複数の前記第1ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向内側で接する内接円の半径が、当該回転体の周方向に並ぶ複数の前記第2ワーク載置部にそれぞれ載置された複数のワークがそれぞれ前記回転体の径方向内側で接する内接円の半径と同じになるように設定されている、
    請求項3に記載の成膜装置。
  6. 前記回転体は、
    複数の前記第1交換ユニットが取り付けられる複数の第1取付部と、
    複数の前記第2交換ユニットが取り付けられる複数の第2取付部と、
    を有し、
    前記複数の第1取付部は、前記第1交換ユニットの数に対応する数を有し、かつ、前記回転体の周方向に並ぶように等間隔に配置され、
    前記複数の第2取付部は、前記第2交換ユニットの数に対応する数を有し、かつ、前記回転体の周方向に並ぶように等間隔に配置されている、
    請求項2〜5のいずれかに記載の成膜装置。
  7. 前記複数の第1取付部と前記複数の第2取付部の一部が共通している、
    請求項6に記載の成膜装置。
  8. 前記回転体ユニットは、
    前記回転体を回転自在に支持する台座と、
    前記台座に対して固定された固定ギアと、
    をさらに有し、
    前記第1交換ユニットは、前記第1ワーク載置部と同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する第1遊星ギアをさらに有し、
    前記第2交換ユニットは、前記第2ワーク載置部と同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する第2遊星ギアをさらに有し、
    前記第1支持部は、前記第1ワーク載置部および前記第1遊星ギアを回転自在に支持する回転支持部および前記回転体と着脱自在に連結する第1連結部を有し、前記回転体とともに前記回転体の回転中心回りに公転する第1アームであり、
    前記第2支持部は、前記第2ワーク載置部および前記第2遊星ギアを回転自在に支持する回転支持部および前記回転体と着脱自在に連結する第2連結部を有し、前記回転体とともに前記回転中心回りに公転する第2アームである、
    請求項2〜7のいずれかに記載の成膜装置。
  9. 前記回転体ユニットは、
    前記回転体を回転自在に支持する台座と、
    前記台座に対して固定された固定ギアと、
    をさらに有し、
    第1交換ユニットは、複数の前記第1ワーク載置部を有するとともに、当該複数の第1ワーク載置部のそれぞれと同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する複数の第1遊星ギアをさらに有しており、
    第2交換ユニットは、複数の前記第2ワーク載置部を有するとともに、当該複数の第2ワーク載置部のそれぞれと同軸上に連結され、前記固定ギアに噛み合って自転する複数の第2遊星ギアをさらに有しており、
    前記第1支持部は、複数の前記第1ワーク載置部および複数の前記第1遊星ギアを回転自在に支持する複数の回転支持部、および前記回転体と連結する第1連結部を有し、前記回転体とともに前記回転体の回転中心回りに公転する第1取付プレートであり、
    前記第2支持部は、複数の前記第2ワーク載置部および複数の前記第2遊星ギアを回転自在に支持する複数の回転支持部、および前記回転体と連結する第2連結部を有し、前記回転体とともに前記回転中心回りに公転する第2取付プレートである、
    請求項2〜のいずれかに記載の成膜装置。
  10. 前記固定ギアは、内周側に歯を有する内歯ギアであり、
    前記固定ギアは、前記第1遊星ギアおよび前記第2遊星ギアよりも前記回転体の径方向外側に位置して、前記第1遊星ギアおよび前記第2遊星ギアと噛み合う、
    請求項8または9に記載の成膜装置。
  11. 前記第1遊星ギアおよび前記第2遊星ギアの直径は、前記第1ワーク載置部および前記第2ワーク載置部の直径に基づいて設定されている、
    請求項8〜10のいずれかに記載の成膜装置。
JP2013237859A 2013-11-18 2013-11-18 成膜装置 Expired - Fee Related JP6147168B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013237859A JP6147168B2 (ja) 2013-11-18 2013-11-18 成膜装置
US14/521,589 US20150136029A1 (en) 2013-11-18 2014-10-23 Film deposition system
KR1020140157909A KR101665197B1 (ko) 2013-11-18 2014-11-13 성막 장치
DE102014223354.2A DE102014223354A1 (de) 2013-11-18 2014-11-17 Schichtabscheidungssytem
CN201410656005.XA CN104651794B (zh) 2013-11-18 2014-11-18 成膜装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013237859A JP6147168B2 (ja) 2013-11-18 2013-11-18 成膜装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015098618A JP2015098618A (ja) 2015-05-28
JP6147168B2 true JP6147168B2 (ja) 2017-06-14

Family

ID=53171997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013237859A Expired - Fee Related JP6147168B2 (ja) 2013-11-18 2013-11-18 成膜装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20150136029A1 (ja)
JP (1) JP6147168B2 (ja)
KR (1) KR101665197B1 (ja)
CN (1) CN104651794B (ja)
DE (1) DE102014223354A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107022754B (zh) * 2016-02-02 2020-06-02 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
CN106756888B (zh) 2016-11-30 2018-07-13 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 一种纳米镀膜设备旋转货架装置
US11339477B2 (en) * 2016-11-30 2022-05-24 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD Plasma polymerization coating apparatus and process
DE102018126862A1 (de) * 2018-10-26 2020-04-30 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Werkstückträgereinrichtung und Beschichtungsanordnung
WO2021026886A1 (zh) * 2019-08-15 2021-02-18 常州机电职业技术学院 一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法
US20210193441A1 (en) * 2019-12-18 2021-06-24 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. Coating Apparatus and Coating Method
CN111809159B (zh) * 2020-06-05 2022-12-13 浙江锋源氢能科技有限公司 转架装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4222345A (en) * 1978-11-30 1980-09-16 Optical Coating Laboratory, Inc. Vacuum coating apparatus with rotary motion assembly
JPS5881970A (ja) * 1981-11-06 1983-05-17 Clarion Co Ltd スパツタ装置
US4485759A (en) * 1983-01-19 1984-12-04 Multi-Arc Vacuum Systems Inc. Planetary substrate support apparatus for vapor vacuum deposition coating
JPS62104438U (ja) * 1985-12-23 1987-07-03
JPH0689447B2 (ja) * 1986-10-07 1994-11-09 日本真空技術株式会社 自公転式基板ホルダ取付装置
US5308461A (en) * 1992-01-14 1994-05-03 Honeywell Inc. Method to deposit multilayer films
US7150792B2 (en) * 2002-10-15 2006-12-19 Kobe Steel, Ltd. Film deposition system and film deposition method using the same
JP4199062B2 (ja) * 2003-07-07 2008-12-17 株式会社神戸製鋼所 真空蒸着装置
TW200602888A (en) * 2004-07-09 2006-01-16 Quanta Comp Inc Server blade system
CN100398692C (zh) * 2004-07-30 2008-07-02 财团法人工业技术研究院 用于平板基材的镀膜装置
JP4234652B2 (ja) * 2004-08-26 2009-03-04 日本ピストンリング株式会社 皮膜形成用ワーク保持装置
US20070240982A1 (en) * 2005-10-17 2007-10-18 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Arc ion plating apparatus
EP2730677B1 (en) * 2011-07-06 2016-09-28 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Vacuum film formation device
CN102864434A (zh) * 2012-09-05 2013-01-09 常州大成绿色镀膜科技有限公司 一种立式镀膜机工件转架传动装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20150136029A1 (en) 2015-05-21
DE102014223354A1 (de) 2015-05-21
KR101665197B1 (ko) 2016-10-11
CN104651794A (zh) 2015-05-27
CN104651794B (zh) 2017-04-26
KR20150058005A (ko) 2015-05-28
JP2015098618A (ja) 2015-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6147168B2 (ja) 成膜装置
JP5122996B2 (ja) ラップ盤
JP6722691B2 (ja) コーティングシステムにおけるワークピースの装填装置及び方法
JP2004160642A (ja) 傾斜回動テーブル装置
RU2499080C2 (ru) Кассета для обрабатываемых деталей
JP2007083232A (ja) コンポーネントを製造するための方法および装置
JP6044987B2 (ja) スピニング加工装置
CN111809159B (zh) 转架装置
JP6300005B2 (ja) 遊星ローラ式変速機
JP2010192720A (ja) 半導体気相成長装置
JPH08252783A (ja) 異種ワーク対応型パレット
JP5727073B1 (ja) 可搬型回転装置及び成膜装置
TWI480403B (zh) 鍍膜裝置
JP5672308B2 (ja) ローラヘミング装置
JP6763802B2 (ja) ワーク回転装置およびそれを備えた成膜装置
US20120097103A1 (en) Physical vapor deposition device for coating workpiece
JP2016068211A (ja) 工作機械の工具交換方法及びツールマガジン
CN211497775U (zh) 一种用于卧式真空镀膜机的工件安装机构
JP3088990B2 (ja) 被回転体の駆動装置
JP2004052918A (ja) 分割型駆動ギヤ及びそれを用いたウォーキングビームの昇降装置
JP4234652B2 (ja) 皮膜形成用ワーク保持装置
CN219032345U (zh) 工件放置组件、转架及镀膜设备
CN218893733U (zh) 一种具有自转功能的挂具、转盘与挂具组合
CN215757585U (zh) 一种适用于多规格工件架的内置旋转轴座的大盘
JP5750470B2 (ja) 回転伝達装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150901

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161018

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170321

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170411

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170509

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170516

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6147168

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees