KR20150058005A - 성막 장치 - Google Patents

성막 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20150058005A
KR20150058005A KR1020140157909A KR20140157909A KR20150058005A KR 20150058005 A KR20150058005 A KR 20150058005A KR 1020140157909 A KR1020140157909 A KR 1020140157909A KR 20140157909 A KR20140157909 A KR 20140157909A KR 20150058005 A KR20150058005 A KR 20150058005A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
rotating body
workpiece
planetary gear
work
portions
Prior art date
Application number
KR1020140157909A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101665197B1 (ko
Inventor
히로후미 후지이
Original Assignee
가부시키가이샤 고베 세이코쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 filed Critical 가부시키가이샤 고베 세이코쇼
Publication of KR20150058005A publication Critical patent/KR20150058005A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101665197B1 publication Critical patent/KR101665197B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명의 성막 장치의 회전 테이블 유닛은, 회전 테이블과, 회전 테이블에 착탈 가능하게 설치되는 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛을 구비한다. 제2 교환 유닛에 적재되는 워크의 직경은, 제1 교환 유닛에 적재되는 워크의 직경과는 상이하다. 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하기 위해서, 제1 교환 유닛에 적재되는 워크에 있어서의 타깃 출사면에 대향하는 위치와 회전 테이블의 회전 중심의 거리가, 제2 교환 유닛에 적재되는 워크에 있어서의 타깃 출사면에 대향하는 위치와 상기 회전 중심의 거리가 동일하게 되도록 설정되어 있다.

Description

성막 장치 {FILM DEPOSITION SYSTEM}
본 발명은 타깃으로부터 나오는 입자에 의해 워크를 성막 처리하는 성막 장치에 관한 것이다.
종래, 진공 챔버의 내부에서 진공 아크 방전 또는 스퍼터링 등을 행하여 타깃의 재료를 증발시키고, 타깃 표면으로부터 튀어나오는 입자에 의해, 회전 테이블 상에 적재된 워크의 표면에 경질 피막을 형성하는 성막 장치가 알려져 있다.
여기서, 성막 시에 있어서 성막 속도 및 막 두께 분포를 일정하게 유지하기 위해서는, 타깃과 워크 표면의 거리가 일정한 것이 바람직하다. 즉, 이들 거리가 멀어지면 성막 속도가 저하되고, 한편, 거리가 가까워지면 막 두께 분포의 균일성이 저하된다는 문제가 발생하므로, 그들의 점을 고려하여 상기의 거리가 일정한 것이 바람직하다.
그 때문에, 성막 처리되는 워크의 크기가 상이한 경우, 통상, 워크의 크기에 따른 전용의 회전 테이블을 준비하여, 타깃과 워크 표면의 거리가 일정해지도록 하고 있다.
그러나, 워크의 크기마다 전용의 회전 테이블을 준비하면, 설비 비용 및 복수대의 회전 테이블을 보관하기 위한 스페이스가 필요해진다.
따라서, 이들 문제를 해결하기 위해서, 일본 특허 제4234652호에 기재되어 있는 바와 같이, 1대의 회전 테이블의 사용임에도 불구하고, 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능한 워크 보유 지지 장치가 제안되어 있다.
이 워크 보유 지지 장치는, 회전 불가능하게 고정된 중앙 기어와, 상기 중앙 기어의 직경 방향 외측을 둘러싸는 원환상의 가이드부를 가짐과 함께 상기 중앙 기어와 동심으로 배치된 회전 테이블과, 중앙 기어와 가이드부 사이에 배치된 기어 유닛과, 기어 유닛에 각각 착탈 가능하게 설치되며, 상이한 폭을 갖는 복수의 스페이서와, 기어 유닛에 설치되며, 워크를 적재하는 복수의 적재대를 구비하고 있다.
이 기어 유닛은, 중앙 기어에 맞물리는 제1 유성 기어와, 제1 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 회전축과, 회전축에 요동 가능하게 지지된 지지 부재와, 제1 유성 기어에 맞물리는 제2 유성 기어와, 당해 제2 유성 기어에 연결된 지지축을 갖는다. 회전축은 회전 테이블의 상면에 고정되어 있다. 지지축은 지지 부재에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다. 그 때문에, 제2 유성 기어 및 지지축은, 지지 부재를 통하여, 제1 유성 기어의 회전축의 주위로 요동 가능하게 지지되어 있다.
제2 유성 기어에 연결된 지지축의 상단부에는 적재대가 연결되어 있다. 이 적재대는 제2 유성 기어와 함께 자전하는 것이 가능하다. 또한, 지지축에는 스페이서가 착탈 가능하게 장착되어 있다.
스페이서는 회전 테이블의 가이드부에 접촉함으로써, 회전 테이블의 직경 방향으로의 이동이 규제되어 있다. 또한, 인접하는 스페이서끼리가 접촉함으로써, 회전 테이블의 둘레 방향으로의 이동이 규제되어 있다. 이와 같이, 스페이서는 회전 테이블의 가이드부에 접촉하여 회전 테이블의 직경 방향으로의 이동이 규제되어 있으므로, 스페이서가 장착된 지지축 및 그것에 연결된 적재대의 공전 궤도(즉, 회전 테이블의 회전 중심을 중심으로 하는 공전 궤도)는 스페이서의 크기에 의해 규정된다.
상기의 구성을 갖는 워크 보유 지지 장치에서는, 회전 테이블을 회전시킴으로써, 고정 기어에 맞물리는 제1 유성 기어는 자전하면서 회전 테이블의 회전 중심 주위로 공전하고, 그와 함께 제1 유성 기어에 맞물리는 제2 유성 기어 및 당해 제2 유성 기어에 대하여 지지축을 통하여 연결된 적재대도 자전하면서 공전한다. 그 결과, 적재대에 적재된 워크를 자전시키면서 회전 테이블의 회전 중심 주위로 공전시키는 것이 가능하다. 이에 의해 워크의 공전 궤도의 외부에 설치된 타깃으로부터 나오는 입자에 의해 워크의 성막 처리를 행하는 것이 가능하다.
또한, 워크의 크기에 따라서 그것에 대응하는 크기의 적재대 및 스페이서로 변경함으로써, 복수의 적재대에 적재된 워크의 공전 궤도의 반경을 일정하게 유지하는 것이 가능하다. 그것에 의해, 타깃과 워크의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능하다.
일본 특허 제4234652호의 워크 보유 지지 장치는, 워크를 적재하는 적재대 및 그것을 지지하는 지지축의 공전 궤도를 일정하게 유지하기 위한 복수의 스페이서를 구비하고 있고, 이들 스페이서는 회전 테이블의 가이드부에 접촉함과 함께 인접하는 스페이서끼리와도 접촉하고 있다.
여기서, 성막 처리를 행하는 동안, 타깃 표면으로부터 튀어나오는 입자가 높은 에너지를 가지므로, 성막 장치의 진공 챔버 내부는 매우 고온으로 된다. 그 때문에, 이들 스페이서는 열팽창한다. 그러나, 상기와 같이 어느 하나의 스페이서가 회전 테이블의 가이드부에 접촉함과 함께 인접하는 어느 하나의 스페이서가 서로 접촉하고 있으면, 스페이서의 열팽창에 의한 치수 변화분을 흡수할 수 없고, 그것에 의해 기어 유닛이 정상적으로 동작할 수 없게 될 우려가 있다. 그 때문에, 워크를 적재하는 적재대가 자전 및 공전하는 것이 곤란해질 우려가 있다.
본 발명은 상기와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 워크의 자전 및 공전을 달성하면서 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능한 성막 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 성막 장치는, 워크를 타깃으로부터 나오는 입자에 의해 성막 처리하는 성막 장치이며, 상기 타깃을 갖는 챔버와, 상기 챔버 내부에 수납된 회전체 유닛을 구비하고 있고, 상기 회전체 유닛은 회전체와, 상기 회전체를 회전 구동하는 구동부와, 상기 워크가 적재되는 워크 적재부 및 상기 워크 적재부를 회전 가능하게 지지하는 지지부를 갖는 복수의 교환 유닛을 갖는다. 복수의 상기 교환 유닛은 상기 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 상기 회전체에 착탈 가능하게 설치되는 것이 가능하다.
이러한 구성에 의하면, 교환 유닛은 회전체에 착탈 가능하게 설치되므로, 다양한 치수의 교환 유닛을 선정하여 회전체에 설치하는 것이 가능하다. 따라서, 워크 적재부에 적재되는 워크의 크기에 대응하는 길이의 지지부를 갖는 교환 유닛을 선정하여, 당해 교환 유닛을 회전체에 착탈 가능하게 설치함으로써, 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능해진다.
게다가, 복수의 교환 유닛이 회전체에 착탈 가능하게 설치될 때에는, 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 설치되므로, 교환 유닛끼리는 접촉하고 있지 않다. 그 때문에, 성막 처리 동안에 이들의 교환 유닛이 열팽창해도 개개의 교환 유닛에서 열팽창에 의한 치수 변화분을 흡수할 수 있으므로, 워크의 자전 및 공전에 영향을 주지 않는다.
상기 복수의 교환 유닛은, 제1 직경을 갖는 상기 워크가 적재되는 제1 워크 적재부 및 당해 제1 워크 적재부를 회전 가능하게 지지하는 제1 지지부를 갖고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 당해 회전체에 착탈 가능하게 설치되는 복수의 제1 교환 유닛과, 상기 제1 직경보다도 큰 제2 직경을 갖는 워크가 적재되는 제2 워크 적재부 및 당해 제2 워크 적재부를 회전 가능하게 지지하는 제2 지지부를 갖고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 당해 회전체에 착탈 가능하게 설치되는 복수의 제2 교환 유닛을 포함하고, 상기 제1 교환 유닛 및 상기 제2 교환 유닛 중 적어도 한쪽이 선택되어, 상기 회전체에 설치되는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 상이한 크기의 워크에 대응하는 워크 적재부, 즉 제1 워크 적재부 및 제2 워크 적재부를 각각 갖는 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛을 갖고 있으므로, 워크의 크기에 따라서 제1 및 제2 교환 유닛의 교환이 가능하다. 이들 제1 및 제2 교환 유닛 중, 어느 한쪽을 선택하여, 회전체에 착탈 가능하게 설치함으로써, 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능해진다.
상기 제1 워크 적재부에 각각 적재된 워크에 있어서의 상기 타깃의 입자가 나오는 출사면에 대향하는 위치와 상기 회전체의 회전 중심의 거리가, 상기 제2 워크 적재부에 각각 적재된 워크에 있어서의 상기 출사면에 대향하는 위치와 상기 회전체의 회전 중심의 거리와 동일하게 되도록 설정되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 타깃과 복수의 제1 교환 유닛의 제1 워크 적재부에 각각 적재된 워크의 거리와, 당해 타깃과 복수의 제2 교환 유닛의 제2 워크 적재부에 각각 적재된 워크의 거리가 일정해지기 때문에, 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능해진다.
또한, 상기 타깃은 상기 회전체의 직경 방향 외측에 배치되고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 상기 제1 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원의 반경이, 당해 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 상기 제2 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원의 반경과 동일하게 되도록 설정되어 있는 것이 바람직하다.
타깃이 회전체의 직경 방향 외측에 배치되어 있는 경우에 있어서, 회전체의 회전 중심으로부터 타깃의 거리는 일정하다. 따라서, 상기한 바와 같이, 제1 워크 적재부 및 제2 워크 적재부에 적재된 복수의 워크의 외접원의 반경을 서로 동일하게 되도록 설정함으로써, 회전체의 회전 중심으로부터 타깃의 거리로부터 이들 외접원의 반경을 뺀 거리, 즉, 타깃과 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛의 각각의 워크 적재부에 적재된 워크의 거리가 일정해진다.
또한, 상기 타깃은 상기 회전체의 중심축 상에 배치되고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 상기 제1 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 내측에서 접하는 내접원의 반경이, 당해 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 상기 제2 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 내측에서 접하는 내접원의 반경과 동일하게 되도록 설정되어 있는 것이 바람직하다.
타깃이 회전체의 직경 방향 내측의 회전 중심에 배치되어 있는 경우에 있어서, 회전체의 회전 중심으로부터 타깃의 출사면까지의 거리는 일정하다. 따라서, 상기한 바와 같이 제1 워크 적재부 및 제2 워크 적재부에 적재된 복수의 워크의 내접원의 반경이 서로 동일하게 되도록 설정됨으로써, 이들 내접원의 반경으로부터 회전체의 회전 중심으로부터 타깃의 출사면까지의 거리를 뺀 거리, 즉, 타깃과 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛의 각각의 워크 적재부에 적재된 워크의 거리가 일정해진다.
또한, 상기 회전체는, 복수의 상기 제1 교환 유닛이 설치되는 복수의 제1 설치부와, 복수의 상기 제2 교환 유닛이 설치되는 복수의 제2 설치부를 갖고, 상기 복수의 제1 설치부는, 상기 제1 교환 유닛의, 설치 가능 최대수에 대응하는 수를 갖고, 또한, 상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 배치되고, 상기 복수의 제2 설치부는, 상기 제2 교환 유닛의, 설치 가능 최대수에 대응하는 수를 갖고, 또한, 상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 배치되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛의 수가 상이한 경우라도, 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛을 각각에 대응하는 회전체의 제1 설치부 및 제2 설치부에 설치함으로써, 회전체의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 용이하게 배치하는 것이 가능하다.
또한, 상기 복수의 제1 설치부와 상기 복수의 제2 설치부의 일부가 공통되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 제1 설치부 및 제2 설치부의 총수를 삭감하는 것이 가능해져, 회전체 표면에 있어서의 제1 설치부 및 제2 설치부 및 그 주변 부재의 배치 자유도의 향상이 가능하다.
또한, 상기 회전체 유닛은, 상기 회전체를 회전 가능하게 지지하는 받침대와, 상기 받침대에 대하여 고정된 고정 기어를 더 갖고, 상기 제1 교환 유닛은, 상기 제1 워크 적재부와 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 제1 유성 기어를 더 갖고, 상기 제2 교환 유닛은, 상기 제2 워크 적재부와 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 제2 유성 기어를 더 갖고, 상기 제1 지지부는, 상기 제1 워크 적재부 및 상기 제1 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부 및 상기 회전체와 착탈 가능하게 연결하는 제1 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제1 아암이고, 상기 제2 지지부는, 상기 제2 워크 적재부 및 상기 제2 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부 및 상기 회전체와 착탈 가능하게 연결하는 제2 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제2 아암인 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛 중 어느 한쪽이 회전체에 설치된 경우에는, 이 제1(또는 제2) 교환 유닛의 제1(또는 제2) 워크 적재부는 제1(또는 제2) 아암에 지지된 상태에서 회전체의 회전 중심 주위로 공전한다. 그와 함께, 제1(또는 제2) 유성 기어가 고정 기어에 맞물려 자전함으로써, 이들 제1(또는 제2) 워크 적재부는 자전한다. 따라서, 회전체를 회전시키는 구동력을 이용하여 제1(또는 제2) 워크 적재부는 자전하는 것이 가능하다.
또한, 상기 회전체 유닛은, 상기 회전체를 회전 가능하게 지지하는 받침대와, 상기 받침대에 대하여 고정된 고정 기어를 더 갖고, 제1 교환 유닛은 복수의 상기 제1 워크 적재부를 가짐과 함께, 당해 복수의 제1 워크 적재부의 각각과 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 복수의 제1 유성 기어를 더 갖고 있고, 제2 교환 유닛은 복수의 상기 제2 워크 적재부를 가짐과 함께, 당해 복수의 제2 워크 적재부의 각각과 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 복수의 제2 유성 기어를 더 갖고 있고, 상기 제1 지지부는, 복수의 상기 제1 워크 적재부 및 복수의 상기 제1 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 복수의 회전 지지부 및 상기 회전체와 연결하는 제1 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제1 설치 플레이트이고, 상기 제2 지지부는, 복수의 상기 제2 워크 적재부 및 복수의 상기 제2 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 복수의 회전 지지부 및 상기 회전체와 연결하는 제2 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제2 설치 플레이트인 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 제1 교환 유닛 및 제2 교환 유닛은, 복수의 워크 적재부 및 복수의 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 복수의 회전 지지부를 갖는 설치 플레이트를 각각 갖고 있으므로, 필요한 수의 워크 적재부를 확보하면서 교환 유닛의 수를 삭감하는 것이 가능하다. 따라서, 교환 유닛의 설치 및 제거의 작업 공정수가 저감되고, 게다가, 교환 유닛의 관리가 용이해진다.
또한, 상기 고정 기어는 내주측에 이를 갖는 내치 기어이고, 상기 고정 기어는 상기 제1 유성 기어 및 상기 제2 유성 기어보다도 상기 회전체의 직경 방향 외측에 위치하여, 상기 제1 유성 기어 및 상기 제2 유성 기어와 맞물리는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의하면, 고정 기어를 회전체로부터 직경 방향 외측으로 이격하여 배치하는 것이 가능해져, 회전체의 회전 중심 주변의 공간을 확보하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 회전체 유닛의 설계 및 제조가 용이해진다.
또한, 상기 제1 유성 기어 및 상기 제2 유성 기어의 직경은 상기 제1 워크 적재부 및 상기 제2 워크 적재부의 직경에 기초하여 설정되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명은, 제1 교환 유닛에 있어서의 제1 워크 적재부의 직경과 제2 교환 유닛에 있어서의 제2 워크 적재부의 제2 워크 적재부의 직경이 상이한 구성을 전제로 하고 있고, 그와 같은 경우, 제1 워크 적재부 및 그것과 동축상에 연결된 제1 유성 기어의 회전 중심과 고정 기어의 이의 거리는, 제2 워크 적재부 및 그것과 동축상에 연결된 제2 유성 기어의 회전 중심과 고정 기어의 이의 거리와 상이하다. 따라서, 상기한 바와 같이, 제1 유성 기어 및 제2 유성 기어의 직경이 제1 워크 적재부 및 제2 워크 적재부의 직경에 기초하여 설정됨으로써, 상기와 같이 회전 중심과 고정 기어의 이의 거리가 상이한 경우라도, 제1 유성 기어 및 제2 유성 기어는 고정 기어에 확실하게 맞물리는 것이 가능한 치수로 설정하는 것이 가능하다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 성막 장치에 의하면, 워크의 자전 및 공전을 달성하면서 상이한 크기의 워크와 타깃의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능하다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 관한 성막 장치에 있어서 12개의 제1 교환 유닛을 설치한 경우의 챔버 내부의 구성을 도시하는 평면도.
도 2는 도 1의 성막 장치의 종단면도.
도 3은 도 1의 회전체의 평면도.
도 4는 도 1의 성막 장치에 있어서 9개의 제2 교환 유닛을 설치한 경우의 챔버 내부의 구성을 도시하는 평면도.
도 5는 도 4의 성막 장치의 종단면도.
도 6은 본 발명의 실시 형태의 변형예인 4개의 워크 적재부를 각각 갖는 3개의 제1 교환 유닛을 회전체에 설치한 상태의 평면도.
도 7은 본 발명의 실시 형태의 변형예인 3개의 워크 적재부를 각각 갖는 3개의 제2 교환 유닛을 회전체에 설치한 상태의 평면도.
도 8은 본 발명의 실시 형태의 다른 변형예인 고정 기어가 내치 기어인 경우에 있어서, (a) 12개의 제1 교환 유닛을 설치한 상태의 평면도, (b)는 9개의 제2 교환 유닛을 설치한 상태의 평면도이며, 단, 모두 지지부(아암)는 생략하고 있는 도면.
도 9는 본 발명의 실시 형태의 또 다른 변형예인 타깃이 회전체의 직경 방향 내측의 회전 중심에 배치되어 있는 경우에 있어서, (a) 12개의 제1 교환 유닛을 설치한 상태의 평면도, (b)는 9개의 제2 교환 유닛을 설치한 상태의 평면도이며, 단, 모두 지지부(아암)는 생략하고 있는 도면.
도 10은 본 발명의 비교예로서, (a)는 12개의 워크 적재부를 갖는 기준 테이블 유닛과 타깃의 위치 관계를 도시하는 평면도, (b)는 (a)의 기준 테이블 유닛의 워크 적재부의 1개 건너 큰 직경을 갖는 워크를 적재한 상태를 도시하는 평면도, (c)는 큰 직경을 갖는 워크를 적재하기 위한 전용의 테이블 유닛과 타깃의 위치 관계를 도시하는 평면도.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 성막 장치(1)의 실시 형태에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
도 1 내지 도 5에 도시된 성막 장치(1)는 2종류의 교환 유닛(4, 30)을 교환함으로써, 상이한 직경을 갖는 워크 W1, W2를 자전 및 공전시키면서 타깃 T1로부터 나오는 입자에 의해 성막 처리하는 것이 가능한 장치이다.
워크 W1, W2로서는 다양한 형상의 것이 사용되지만, 본 실시 형태에서는, 발명의 이해를 용이하게 하기 위해서 원통 형상의 부재가 채용되고 있다. 또한, 워크 W1, W2는, 후술하는 제1 및 제2 워크 적재부(22, 32)에 적재 가능한 형상 및 크기이면 되고, 하나의 워크 적재부에 하나의 원통 형상의 부재를 배치할 뿐만 아니라, 드릴 등의 선 형상의 부재를 복수개 세워 배치한 것이나, 소형의 공구용 부품을 다수 배치한 것도 본 발명의 워크에 포함된다.
이 성막 장치(1)는 챔버(2)와, 챔버(2) 내부에 수납된 회전 테이블 유닛(3)을 구비하고 있다.
챔버(2)는 중공의 하우징을 포함하고, 4매의 측벽(2b)과, 저벽(2c)과, 저벽(2c)의 상방에 있어서 대향하는 천장벽(도시 생략)을 갖고 있고, 이들 벽에 의해 워크 W1, W2가 수납되어 당해 워크의 성막 처리가 행해지는 공간(2a)을 형성한다.
또한, 챔버(2)는 타깃 T1을 보유 지지하는 타깃 보유 지지부(2e)를 갖는다. 타깃 보유 지지부(2e)는 측벽(2b) 중 하나의 측벽의 내면에 설치되고, 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 배치되어 있다.
챔버(2)의 측벽(2b) 중 어느 하나는 개폐 가능하여, 회전 테이블 유닛(3)을 챔버(2)에 출납하는 것이 가능하다.
회전 테이블 유닛(3)은, 회전 테이블(10)을 갖는 회전 테이블 유닛 본체(7)와, 당해 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치되는 2종류의 교환 유닛, 즉, 복수(12개)의 제1 교환 유닛(4) 및 복수(9개)의 제2 교환 유닛(30)을 구비하고 있다. 도 1 내지 도 2에 도시된 제1 교환 유닛(4) 및 도 4 내지 도 5에 도시된 제2 교환 유닛(30) 중 어느 한쪽이 선택되어, 회전 테이블(10)에 설치된다.
회전 테이블 유닛 본체(7)는 회전체인 회전 테이블(10), 공전 기어(11) 및 이들을 연결하는 회전축(12)과, 이 회전체의 회전축(12)을 회전 가능하게 지지하는 대차부(8)(받침대)와, 상기 대차부(8)에 고정된 고정 기어(9)를 갖는다.
대차부(8)는 테이블 베이스(8a)와, 당해 테이블 베이스(8a)의 하부에 설치된 복수의 차륜(8b)을 구비하고 있다. 이 대차부(8)에 의해, 회전 테이블 유닛(3)을 챔버(2)의 내부와 외부 사이를 자유롭게 이동시키는 것이 가능하다.
테이블 베이스(8a)의 상면에는 환상의 고정대(15)를 통하여 수평 방향으로 연장되는 고정 기어(9)가 고정되어 있다. 고정 기어(9)는 그 외주면에 다수의 이(9a)를 갖는 외치 기어이다.
회전 테이블(10)은 그 하면의 중심에 상하 방향으로 연장되는 회전축(12)이 연결되어 있다. 회전축(12)은 테이블 베이스(8a)의 상면에 설치된 고정통(13) 내부의 베어링(14)에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다. 또한, 회전축(12)의 하단부는 테이블 베이스(8a)를 관통하여 테이블 베이스(8a)의 하방으로 연장되어, 공전 기어(11)의 회전 중심에 연결되어 있다. 이에 의해, 회전 테이블(10) 및 공전 기어(11)는 회전축(12)의 회전 중심 O 주위로 회전하는 것이 가능해진다.
또한, 회전 테이블 유닛(3)이 챔버(2) 내부의 소정의 위치에 배치된 상태에서는, 공전 기어(11)는 챔버(2)의 저벽(2c)의 상측에 배치된 구동 기어(6)에 맞물린다. 구동 기어(6)는 챔버(2)의 저벽(2c)의 하방에 설치된 구동 모터(5)의 회전축에 연결되어 있다. 이들 공전 기어(11), 구동 기어(6) 및 구동 모터(5)에 의해, 회전 테이블(10)을 회전 구동하는 구동부를 구성한다.
회전 테이블(10)은, 도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 교환 유닛(4)의 설치를 가능하게 하는 제1 교환 유닛 전용의 관통 구멍(10a)과, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30) 중 어느 하나가 선택되어 설치를 가능하게 하는 제1 및 제2 교환 유닛 공통의 관통 구멍(10b)과, 제2 교환 유닛(30)의 설치를 가능하게 하는 제2 교환 유닛 전용의 관통 구멍(10c)을 갖는다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 교환 유닛 공통의 관통 구멍(10b)은, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O의 주위에 둘레 방향으로 120도마다 이격한 3개소에 2개씩 형성되어 있다. 한편, 관통 구멍(10a)은 120도 간격의 관통 구멍(10b)끼리의 각각의 사이에 있어서, 회전 중심 O의 주위에 둘레 방향으로 30도 간격으로 형성되고, 합계 9개소에 2개씩 형성되어 있다. 또한, 관통 구멍(10c)은 120도 간격의 관통 구멍(10b)끼리의 각각의 사이에 있어서, 회전 중심 O의 주위에 둘레 방향으로 40도 간격으로 형성되고, 합계 6개소에 2개씩 형성되어 있다.
따라서, 9개소의 관통 구멍(10a)과 3개소의 관통 구멍(10b)에 의해, 복수(12개)의 제1 교환 유닛(4)이 설치되는 복수(12개소)의 제1 설치부가 구성된다. 바꿔 말하면, 복수의 제1 설치부[즉, 관통 구멍(10a, 10b)]는 제1 교환 유닛(4)의 수(12개)에 대응하는 수를 갖고, 또한, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 배치되어 있다.
또한, 3개소의 관통 구멍(10b)과 6개소의 관통 구멍(10c)에 의해, 복수(9개)의 제2 교환 유닛(30)이 설치되는 복수(9개소)의 제2 설치부가 구성된다. 따라서, 복수의 제2 설치부[즉, 관통 구멍(10b, 10c)]는 제2 교환 유닛(30)의 수(9개)에 대응하는 수를 갖고, 또한, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 배치되어 있다.
상기한 바와 같이, 복수의 제1 설치부[관통 구멍(10a, 10b)] 및 복수의 제2 설치부[관통 구멍(10b, 10c)]는 관통 구멍(10b)을 공유하고 있다.
12개의 제1 교환 유닛(4)은, 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 서로 이격하여 등간격으로 배열되도록 당해 회전 테이블(10)의 제1 설치부[관통 구멍(10a, 10b)]에 착탈 가능하게 설치된다.
각 제1 교환 유닛(4)은 회전체인 제1 워크 적재부(22), 제1 유성 기어(23) 및 이들을 일체로 연결하는 회전축(24)과, 이들 회전체의 회전축(24)을 회전(자전) 가능하게 지지하는 제1 지지부인 제1 아암(21)을 갖는다.
제1 워크 적재부(22)는 워크 W1과 동일한 직경 D1을 갖는 원판 형상의 부재이며, 제1 직경 D1을 갖는 워크 W1이 적재된다. 본 실시 형태에서는, 제1 워크 적재부(22)의 외주면은 워크 W1의 외주면과 일치하고 있지만, 반드시 일치하지는 않아도 된다. 제1 워크 적재부(22)는 제1 아암(21)의 단부의 관통 구멍(21b)의 상방에 배치되어 있다. 제1 워크 적재부(22)는 그 하면의 중심에 상하 방향으로 연장되는 회전축(24)이 연결되어 있다. 회전축(24)은 제1 아암(21)의 관통 구멍(21b)을 통과하여 제1 아암(21)의 하부로 연장되고, 후술되는 회전 지지부(21c)에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다. 또한, 회전축(24)의 하단부는 제1 유성 기어(23)의 회전 중심에 연결되어 있다. 이에 의해, 제1 워크 적재부(22) 및 제1 유성 기어(23)는 회전축(24)의 회전 중심 P1 주위로 자전하는 것이 가능하다. 각 제1 교환 유닛(4)에 있어서의 회전축(24)의 회전 중심 P1은, 도 1에 도시된 가상원 C11 상에 등간격으로 나란히 배치된다.
제1 유성 기어(23)는 제1 아암(21)의 관통 구멍(21b)의 하방에 배치되며, 상기의 회전축(24)에 의해 제1 워크 적재부(22)와 동축상에 연결되어 있다. 제1 유성 기어(23)는 고정 기어(9)에 맞물려 있다.
제1 아암(21)은, 한쪽의 단부에는 회전 테이블(10)과 착탈 가능하게 연결하기 위한 2개의 관통 구멍(21a)(제1 연결부)이 형성되고, 다른 쪽의 단부에는 상기의 제1 워크 적재부(22)와 제1 유성 기어(23)를 연결하는 회전축(24)이 관통하는 관통 구멍(21b)이 형성되어 있다.
제1 아암(21)의 관통 구멍(21a)은 제1 설치부를 구성하는 관통 구멍(10a, 10b) 상에 중첩되고, 이들 관통 구멍(21a) 및 관통 구멍(10a, 10b)을 상하 방향으로 관통하는 볼트(28)가 삽입된다. 볼트(28)의 단부에 너트(29)가 체결됨으로써, 제1 교환 유닛(4)은 회전 테이블(10)의 제1 설치부[즉, 관통 구멍(10a, 10b)]에 착탈 가능하게 설치되며, 회전 테이블(10)과 함께 회전 중심 O 주위로 공전하는 것이 가능하다.
관통 구멍(21b)에는 상기의 회전축(24)이 관통하는 것이 가능하다. 또한, 제1 아암(21)은 그 하면측의 관통 구멍(21b)의 주변부에 있어서, 제1 워크 적재부(22) 및 제1 유성 기어(23)를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부(21c)를 갖는다.
회전 지지부(21c)는 제1 아암(21)의 다른 쪽의 단부에 고정된 고정통(26)과, 고정통(26) 내부에 배치되며, 제1 워크 적재부(22)와 제1 유성 기어(23) 사이를 연결하는 회전축(24)을 회전 가능하게 지지하는 베어링(25)을 갖는다.
한편, 9개의 제2 교환 유닛(30)은, 도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 서로 이격하여 등간격으로 배열되도록 당해 회전 테이블(10)의 제2 설치부[관통 구멍(10b, 10c)]에 착탈 가능하게 설치된다.
각 제2 교환 유닛(30)은, 상기의 제1 교환 유닛(4)과 마찬가지로, 회전체인 제2 워크 적재부(32), 제2 유성 기어(33) 및 이들을 일체로 연결하는 회전축(34)과, 이들 회전체의 회전축(34)을 회전(자전) 가능하게 지지하는 제2 지지부인 제2 아암(31)을 갖는다.
제2 워크 적재부(32)는 제1 워크 적재부(22)보다도 큰 직경 D2를 갖고, 또한, 제1 직경 D1보다도 큰 제2 직경 D2를 갖는 워크 W2가 적재되는 원판 형상의 부재이다. 제2 워크 적재부(32)의 외주면은 워크 W2의 외주면과 일치하고 있다. 제2 워크 적재부(32)는 제2 아암(31)의 단부의 관통 구멍(31b)의 상방에 배치되어 있다. 제2 워크 적재부(32)는 그 하면의 중심에 상하 방향으로 연장되는 회전축(34)이 연결되어 있다. 회전축(34)은 제2 아암(31)의 관통 구멍(31b)을 통과하여 제2 아암(31)의 하부로 연장되고, 후술되는 회전 지지부(31c)에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다. 또한, 회전축(34)의 하단부는 제2 유성 기어(33)의 회전 중심에 연결되어 있다. 이에 의해, 제2 워크 적재부(32) 및 제2 유성 기어(33)는 회전축(34)의 회전 중심 P2 주위로 자전하는 것이 가능하다. 각 교환 유닛(30)에 있어서의 회전축(34)의 회전 중심 P2는, 도 4에 도시된 가상원 C12 상에 등간격으로 나란히 배치된다.
제2 유성 기어(33)는 제2 아암(31)의 관통 구멍(31b)의 하방에 배치되고, 상기의 회전축(34)에 의해 제2 워크 적재부(32)와 동축상에 연결되어 있다. 제2 유성 기어(33)는 고정 기어(9)에 맞물려 자전하는 것이 가능하다.
제2 아암(31)은, 한쪽의 단부에는 회전 테이블(10)과 착탈 가능하게 연결하기 위한 2개의 관통 구멍(31a)(제2 연결부)이 형성되고, 다른 쪽의 단부에는 상기의 제2 워크 적재부(32)와 제2 유성 기어(33)를 연결하는 회전축(34)이 관통하는 관통 구멍(31b)이 형성되어 있다.
제2 아암(31)의 관통 구멍(31a)은 제2 설치부를 구성하는 관통 구멍(10b, 10c) 상에 중첩되고, 이들 관통 구멍(31a) 및 관통 구멍(10b, 10c)을 상하 방향으로 관통하는 볼트(28)가 삽입된다. 볼트(28)의 단부에 너트(29)가 체결됨으로써, 제2 교환 유닛(30)은 회전 테이블(10)의 제2 설치부[즉, 관통 구멍(10b, 10c)]에 착탈 가능하게 설치되며, 회전 테이블(10)과 함께 회전 중심 O 주위로 공전하는 것이 가능하다.
관통 구멍(31b)에는 상기의 회전축(34)이 관통하는 것이 가능하다. 또한, 제2 아암(31)은, 그 하면측의 관통 구멍(31b)의 주변부에 있어서, 제2 워크 적재부(32) 및 제2 유성 기어(33)를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부(31c)를 갖는다.
회전 지지부(31c)는 제2 아암(31)의 다른 쪽의 단부에 고정된 고정통(36)과, 고정통(36) 내부에 배치되며, 제2 워크 적재부(32)와 제2 유성 기어(33) 사이를 연결하는 회전축(34)을 회전 가능하게 지지하는 베어링(35)을 갖는다.
도 1 및 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 아암(21) 및 제2 아암(31)의 길이{특히, 이들 양단부에 형성된 관통 구멍간[즉, 직경 방향 외측의 관통 구멍(21a), 관통 구멍(21b)간 및 직경 방향 외측의 관통 구멍(31a), 관통 구멍(31b)간]의 간격g1, g2}는 워크 W1, W2와 타깃 T1간의 거리가 동일한 S1로 되도록 설정된다.
즉, 제1 아암(21) 및 제2 아암(31)의 길이는, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O를 통과하여 상기 타깃 T1에 있어서의 입자가 나오는 출사면 T1a에 직교하는 직선 L1 상에 있어서, 제1 워크 적재부(22)에 각각 적재된 워크 W1에 있어서의 출사면 T1a에 대향하는 위치 W1a와 출사면 T1a의 거리(도 1 내지 도 2의 S1)가, 제2 워크 적재부(32)에 각각 적재된 워크 W2에 있어서의 출사면 T1a에 대향하는 위치 W2a와 출사면 T1a의 거리(도 4 내지 도 5의 S1)와 동일하게 되도록 설정되어 있다.
바꿔 말하면, 도 1 내지 도 2 및 도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 타깃 T1이 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 배치되어 있는 상기의 구성에서는, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 제1 워크 적재부(22)에 각각 적재된 복수의 워크 W1이 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원 C1a의 반경(도 1의 R1)이, 당해 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 제2 워크 적재부(32)에 각각 적재된 복수의 워크 W2가 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원 C1b의 반경(도 4의 R1)과 동일하게 되도록 설정되어 있다.
이에 의해, 도 1 내지 도 2 및 도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)을 교환함으로써, 상이한 크기의 워크 W1, W2라도, 타깃 T1과 워크 W1, W2의 거리 S1을 일정하게 유지하는 것이 가능하다.
여기서, 도 2 및 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 워크 적재부(22)의 직경 D1과 제2 워크 적재부(32)의 직경 D2는 크기가 상이하므로, 타깃 T1과 워크 W1, W2의 거리 S1을 일정하게 유지하는 경우, 이들 워크 적재부(22, 32)의 회전축(24, 34)의 회전 중심 P1, P2와 고정 기어(9)의 외주면의 거리 X1, X2는 상이하다. 그것에 수반하여, 제1 유성 기어(23) 및 제2 유성 기어(33)의 직경 D11, D12도 설정할 필요가 있다.
따라서, 제1 유성 기어(23) 및 제2 유성 기어(33)의 직경 D11, D12는 제1 워크 적재부(22) 및 제2 워크 적재부(32)의 직경 D1, D2에 기초하여 설정된다.
예를 들면, 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 타깃 T1이 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 위치하고, 또한, 제1 유성 기어(23)가 외치 기어인 고정 기어(9)에 맞물리는 경우에는, 제1 교환 유닛(4)에 있어서의 제1 워크 적재부(22) 및 제1 유성 기어(23)의 회전 중심 P1과 고정 기어(9)[엄밀하게는 고정 기어(9)의 피치원. 이하 동일함]의 거리 X1은 이하와 같은 식으로 표현된다.
Figure pat00001
여기서,
R1 : 상기의 복수의 워크 W1이 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원 C1a의 반경,
R11 : 고정 기어(9)의 반경,
D1 : 제1 워크 적재부(22)의 직경이다.
상기의 거리 X1은 제1 유성 기어(23)의 반경과 동일하므로, 제1 유성 기어(23)의 직경 D11은,
Figure pat00002
와 같이 구해진다.
마찬가지로, 도 4 내지 도 5에 도시된 제2 교환 유닛(30)에 있어서의 제2 워크 적재부(32) 및 제2 유성 기어(33)의 회전 중심 P2와 고정 기어(9)의 거리 X2는 이하와 같은 식으로 표현된다.
Figure pat00003
여기서, D2는 제2 워크 적재부(32)의 직경이다.
따라서, 제2 유성 기어(33)의 직경 D12는,
Figure pat00004
와 같이 구해진다.
이와 같이 하여, 제1 유성 기어(23) 및 제2 유성 기어(33)의 직경 D11, D12는 제1 워크 적재부(22) 및 제2 워크 적재부(32)의 직경 D1, D12를 사용하여 설정하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명의 비교예로서, 도 10의 (a) 내지 (c)에 도시된 워크 W11, W12와 타깃 T11의 거리가 일정하지 않은 예에 대하여 설명한다.
본 발명의 비교예의 일례로서 도 10의 (a)에 도시된 성막 장치(101)에서는, 소정의 직경의 워크 W11이 12개의 워크 적재부(122)의 각각에 적재되어 있다. 타깃 T11은 고정 기어(109) 및 그것과 동축상에 배치된 회전 테이블(도시 생략)의 직경 방향 외측의 챔버(102)의 측벽에 배치되어 있다. 유성 기어(123)는 워크 적재부(122)와 동축으로 연결되어 있다. 이 유성 기어(123)는 고정 기어(109)의 외주 이(109a)에 맞물려 있다. 도 10의 (a)에 도시된 12개의 워크 W11의 배치에서는 워크 W11과 타깃 T11의 거리는 S11이다.
한편, 도 10의 (b)에 도시된 바와 같이, 도 10의 (a)에 도시된 워크 W11보다도 큰 워크 W12를 상기의 도 10의 (a)에 도시된 워크 적재부(122)의 위치에 대응하는 워크 적재부(132)에 적재하는 경우에는, 12개의 유성 기어(123)의 1개 건너 배치된 워크 적재부(132)에 큰 워크 W12를 적재하는 것이 생각된다. 그러나, 이 경우, 큰 워크 W12로 변경하는 것에 수반하여, 워크 W12와 타깃 T11의 거리 S12는 상기의 워크 W11과 타깃 T11의 거리 S11보다도 작아지고, 그 결과, 막 두께 분포의 균일성이 저하된다. 또한, 큰 워크 W12를 워크 적재부(122)의 1개 건너 적재한 경우, 워크 W12간의 간극이 커져 생산 효율이 저하된다는 문제도 있다.
또한, 도 10의 (c)에 도시된 바와 같이, 유성 기어(123)의 수를 줄여 큰 워크 W12 전용의 워크 적재부(132)를 각 유성 기어(123)와 동축으로 연결하여 배치함으로써, 워크 W12간의 간극을 작게 하는 것은 가능하다. 그러나, 워크 W12와 타깃 T11의 거리 S12가 상기의 워크 W11과 타깃 T11의 거리 S11보다도 작은 것에 대해서는 변함이 없으므로, 막 두께 분포의 균일성이 저하된다는 문제는 해소되지 않는다.
그것에 반해, 도 1 내지 도 5에 도시된 상기 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 교환 유닛(4, 30)을 교환함으로써, 1대의 회전 테이블(10) 및 그것을 포함하는 회전 테이블 유닛 본체(7)를 변경하지 않고, 상이한 크기의 워크 W1, W2라도 워크 W1, W2와 타깃 T11의 거리 S1을 일정하게 유지하는 것이 가능하다.
(특징)
(1)
본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30)은 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치되므로, 상이한 치수의 교환 유닛을 선정하여 회전 테이블(10)에 설치하는 것이 가능하다. 따라서, 워크 적재부에 적재되는 워크의 크기에 대응하는 길이의 제1 또는 제2 아암(지지부)(21, 31)을 갖는 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30)을 선정하여, 당해 교환 유닛을 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치함으로써, 상이한 크기의 워크 W1, W2와 타깃 T1의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능해진다.
구체적으로는, 본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 상이한 크기의 워크 W1, W2에 대응하는 워크 적재부, 즉 제1 워크 적재부(22) 및 제2 워크 적재부(32)를 각각 갖는 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)을 갖고 있으므로, 워크의 크기에 따라서 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30)의 교환이 가능하다. 이들 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30) 중, 어느 한쪽이 선택되어 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치됨으로써, 상이한 크기의 워크 W1, W2와 타깃 T1의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능해진다.
게다가, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30) 중 어느 한쪽이 선택되어, 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치될 때에는, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 설치되므로, 제1 교환 유닛(4)끼리 또는 제2 교환 유닛(30)끼리는 접촉하고 있지 않다. 그 때문에, 성막 처리의 동안에 이들 교환 유닛(4, 30)이 열팽창해도 개개의 교환 유닛(4, 30)에서 열팽창에 의한 치수 변화분을 흡수할 수 있으므로, 워크 W1, W2의 자전 및 공전에 영향을 주지 않는다.
(2)
본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 제1 워크 적재부(22) 및 제2 워크 적재부(32)를 지지하는 지지부인 제1 아암(21) 및 제2 아암(31)의 길이는, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O를 통과하여 타깃 T1에 있어서의 입자가 나오는 출사면 T1a에 직교하는 직선 L1 상에 있어서, 제1 워크 적재부(22)에 각각 적재된 워크 W1에 있어서의 출사면 T1a에 대향하는 위치 W1a와 출사면 T1a의 거리(S1)가, 제2 워크 적재부(32)에 각각 적재된 워크 W2에 있어서의 출사면 T1a에 대향하는 위치 W2a와 출사면 T1a의 거리(S1)와 동일하게 되도록 설정되어 있다. 이 때문에, 상이한 크기의 워크 W1, W2와 타깃 T1의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능해진다.
(3)
본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 있어서 타깃 T1이 타깃 보유 지지부(2e)에 보유 지지되어 있다. 이 구성에 있어서, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O로부터 타깃 T1의 거리는 일정하다. 따라서, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 제1 워크 적재부(22)에 각각 적재된 복수의 워크 W1이 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원 C1a의 반경(도 1의 R1)이, 당해 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 제2 워크 적재부(32)에 각각 적재된 복수의 워크 W2가 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원 C1b의 반경(도 4의 R1)과 동일하게 되도록 설정함으로써, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O로부터 타깃 T1의 거리로부터 이들 외접원 C1a, C1b의 반경 R1을 뺀 거리, 즉, 타깃 T1과 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)의 각각의 워크 적재부(22, 32)에 적재된 워크 W1, W2의 거리가 각각 S1로 되어 일정해진다.
(4)
본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)의 수가 상이한 경우이지만, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)을 각각에 대응하는 회전 테이블(10)의 제1 설치부[즉, 관통 구멍(10a, 10b)] 및 제2 설치부[즉, 관통 구멍(10b, 10c)]에 설치함으로써, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 용이하게 배치하는 것이 가능하다.
(5)
본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 복수의 제1 설치부[즉, 관통 구멍(10a, 10b)]와 복수의 제2 설치부[즉, 관통 구멍(10b, 10c)]가 관통 구멍(10b)을 공유하고 있다. 이에 의해, 제1 설치부 및 제2 설치부의 총수[즉, 관통 구멍(10a, 10b, 10c)의 총수]를 삭감하는 것이 가능해져, 회전 테이블(10) 표면에 있어서의 제1 설치부 및 제2 설치부 및 그 주변 부재의 배치 자유도의 향상이 가능하다.
(6)
본 실시 형태의 성막 장치(1)에서는, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30) 중 어느 하나가 회전 테이블(10)에 설치된 경우에는, 이들 제1 또는 제2 교환 유닛(4, 30)의 제1 및 제2 워크 적재부(22, 32)는 제1 또는 제2 아암(21, 31)에 지지된 상태에서 회전 테이블(10)의 회전 중심 O 주위로 공전한다. 그와 함께, 제1 및 제2 유성 기어(23, 33)가 고정 기어(9)에 맞물려 자전함으로써, 이들 제1 및 제2 워크 적재부(22, 32)는 자전한다. 따라서, 회전 테이블(10)을 회전시키는 구동력을 이용하여 제1 및 제2 워크 적재부(22, 32)는 자전하는 것이 가능하다.
(7)
본 실시 형태의 성막 장치(1)는, 제1 교환 유닛(4)에 있어서의 제1 워크 적재부(22)의 직경 D1과 제2 교환 유닛(30)에 있어서의 제2 워크 적재부(32)의 직경 D2가 상이한 구성을 갖고 있다. 이와 같은 구성에서는, 제1 워크 적재부(22) 및 그것과 동축상에 연결된 제1 유성 기어(23)의 회전 중심 P1과 고정 기어(9)의 이의 거리 X1(도 2 참조)은, 제2 워크 적재부(32) 및 그것과 동축상에 연결된 제2 유성 기어(33)의 회전 중심 P2와 고정 기어(9)의 이의 거리 X2(도 5 참조)와 상이하다. 따라서, 상기한 바와 같이 제1 유성 기어(23) 및 제2 유성 기어(33)의 직경 D11, D12가 제1 워크 적재부(22) 및 제2 워크 적재부(32)의 직경 D1, D2에 기초하여 설정됨으로써, 상기와 같이 회전 중심 O와 고정 기어(9)의 이(9a)의 거리 X1, X2가 상이한 경우라도, 제1 유성 기어(23) 및 제2 유성 기어(33)는 고정 기어(9)에 확실하게 맞물리는 것이 가능한 치수로 설정하는 것이 가능하다.
(변형예)
(A)
상기 실시 형태에서는, 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)의 각각이, 1개의 워크 적재부와, 1개의 유성 기어와, 1개의 아암을 구비하고 있는 구성이 설명되어 있지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 도 6 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 복수의 워크 적재부 및 복수의 유성 기어를 통합하여 하나의 설치 플레이트에 설치한 구성이어도 된다.
즉, 도 6에 도시된 회전 테이블 유닛(3)은 12개의 워크 W1을 적재하기 위해서, 3개의 제1 교환 유닛(40)을 갖고 있다.
제1 교환 유닛(40)의 각각은 워크 W1을 적재하는 4개의 제1 워크 적재부(42)와, 4개의 제1 유성 기어(43)와, 이들 제1 워크 적재부(42) 및 유성 기어(43)를 일체로 연결하는 회전축(44)과, 회전축(44)을 회전 가능하게 지지하는 제1 지지부인 1매의 제1 설치 플레이트(41)를 갖는다.
제1 유성 기어(43)는 회전축(44)에 의해 제1 워크 적재부(42)의 각각과 동축상에 연결되어 있다. 제1 유성 기어(43)는 고정 기어(9)에 맞물려 자전한다.
제1 설치 플레이트(41)는 부채형 형상의 평판 형상의 부재이다. 제1 설치 플레이트(41)의 내측의 원호 형상의 테두리부에는, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 서로 이격하여 복수 개소에 배치된 관통 구멍(41a)이 형성되어 있다. 관통 구멍(41a)은 회전 테이블(10)의 관통 구멍(10a, 10b, 10c)에 중첩되고, 이들 관통 구멍(41a) 및 관통 구멍(10a 내지 10c)에 볼트(28)가 삽입된다. 볼트(28)의 테두리부에 너트(29)(도 2 참조)가 체결됨으로써, 제1 교환 유닛(40)은 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치된다.
또한, 제1 설치 플레이트(41)의 외측의 원호 형상의 단부에는 관통 구멍(41b)이 형성되어 있다. 관통 구멍(41b)에는 제1 워크 적재부(42)와 제1 유성 기어(43)를 연결하는 회전축(44)이 관통하고 있다. 회전축(44)은 제1 설치 플레이트(41)의 관통 구멍(41b) 주변에 설치된 베어링을 포함하는 회전 지지부(도시 생략)에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다.
도 6에 도시된 워크 W1 전용의 제1 교환 유닛(40)과 마찬가지로, 도 7에 도시된 바와 같이, 회전 테이블 유닛(3)은 워크 W1보다도 큰 직경을 갖는 워크 W2를 9개 적재하기 위해서, 3개의 제2 교환 유닛(50)을 갖고 있다.
이 제2 교환 유닛(50)의 각각은, 워크 W2를 적재하는 3개의 제2 워크 적재부(52)와, 3개의 제1 유성 기어(53)와, 이들 제2 워크 적재부(52) 및 유성 기어(53)를 일체로 연결하는 회전축(54)과, 회전축(54)을 회전 가능하게 지지하는 제2 지지부인 1매의 제2 설치 플레이트(51)를 갖는다.
제2 유성 기어(53)는 회전축(54)에 의해 제2 워크 적재부(52)의 각각과 동축상에 연결되어 있다. 제2 유성 기어(53)는 고정 기어(9)에 맞물려 자전한다.
제2 설치 플레이트(51)는 부채형 형상의 평판 형상의 부재이다. 제2 설치 플레이트(51)의 내측의 원호 형상의 테두리부에는, 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 서로 이격하여 복수 개소에 배치된 관통 구멍(51a)이 형성되어 있다. 관통 구멍(51a)은 회전 테이블(10)의 관통 구멍(10a, 10b, 10c)에 중첩되고, 이들 관통 구멍(51a) 및 관통 구멍(10a 내지 10c)에 볼트(28)가 삽입된다. 볼트(28)의 단부에 너트(29)가 체결됨으로써, 제2 교환 유닛(50)은 회전 테이블(10)에 착탈 가능하게 설치된다.
또한, 제2 설치 플레이트(51)의 외측의 원호 형상의 테두리부에는 관통 구멍(51b)이 형성되어 있다. 관통 구멍(51b)에는 제2 워크 적재부(52)와 제2 유성 기어(53)를 연결하는 회전축(54)이 관통하고 있다. 회전축(54)은 제2 설치 플레이트(51)의 관통 구멍(51b) 주변에 설치된 베어링을 포함하는 회전 지지부(도시 생략)에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다.
상기와 같이 구성된 제1 교환 유닛(40) 및 제2 교환 유닛(50) 중 어느 하나를 선택하여 회전 테이블(10)에 설치하는 것이 가능하다.
상기와 같이 도 6 내지 도 7에 도시된 변형예에서는, 제1 교환 유닛(40) 및 제2 교환 유닛(50)은 복수의 워크 적재부(42, 52) 및 복수의 유성 기어(43, 53)를 회전 가능하게 지지하는 복수의 회전 지지부(도시 생략)를 갖는 설치 플레이트(41, 51)를 각각 갖고 있으므로, 필요한 수의 워크 적재부(42, 52)를 확보하면서 교환 유닛(40, 50)의 수를 삭감하는 것이 가능하다. 따라서, 교환 유닛(40, 50)의 설치 및 제거의 작업 공정수가 저감되고, 게다가, 교환 유닛(40, 50)의 관리가 용이해진다.
(B)
상기 실시 형태에서는, 고정 기어(9)가 외치 기어인 예가 설명되어 있지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 도 8의 (a), (b)에 도시된 바와 같이, 고정 기어(60)로서 내주측에 이(60a)를 갖는 내치 기어를 채용해도 된다.
그 경우, 제1 교환 유닛(4)을 회전 테이블(10)에 설치한 경우에는, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 워크 W1을 적재하는 제1 워크 적재부(22)와 동축상에 배치된 제1 유성 기어(23)가 고정 기어(60)의 내측에 배치되고, 그 내주측으로 돌출되는 이(60a)에 맞물린다. 마찬가지로, 제2 교환 유닛(30)을 회전 테이블(10)에 설치한 경우에는, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 워크 W2를 적재하는 제2 워크 적재부(22)와 동축상에 배치된 제2 유성 기어(33)가 고정 기어(60)의 내주측에 배치되고, 그 내측으로 돌출되는 이(60a)에 맞물린다.
따라서, 고정 기어(60)는 제1 유성 기어(23) 또는 제2 유성 기어(33)보다도 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 위치하여, 제1 유성 기어(23) 또는 제2 유성 기어(33)와 맞물린다.
이와 같이, 내주측에 이(60a)를 갖는 내치 기어를 포함하는 고정 기어(60)를 사용한 경우, 고정 기어(60)는 제1 유성 기어(23) 및 제2 유성 기어(33)보다도 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 위치하고 있으므로, 고정 기어(60)를 회전 테이블(10)로부터 직경 방향 외측으로 이격하여 배치하는 것이 가능해져, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O 주변의 공간을 확보하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 회전 테이블 유닛(3)의 설계 및 제조가 용이해진다.
여기서, 이 변형예 (B)와 같이 내치 기어를 포함하는 고정 기어(60)를 사용한 구성에서는, 도 8의 (a)에 도시된 제1 교환 유닛(4)에 있어서의 제1 워크 적재부(22)에 동축상에 연결된 제1 유성 기어(23)의 직경 D13은, 제1 워크 적재부(22)의 직경 D1에 기초하여, 이하의 수학식 5와 같이 하여 구하는 것이 가능하다.
Figure pat00005
여기서,
X3 : 회전축(24)의 중심을 연결하는 가상원 C13과 고정 기어(60)의 거리,
R1 : 워크 W1의 외접원 C1a의 반경,
R12 : 고정 기어(60)의 반경이다.
마찬가지로, 도 8의 (b)에 도시된 제2 교환 유닛(30)에 있어서의 제2 워크 적재부(32)에 동축상에 연결된 제2 유성 기어(33)의 직경 D14는, 제2 워크 적재부(32)의 직경 D2에 기초하여, 이하의 수학식 6과 같이 하여 구하는 것이 가능하다.
Figure pat00006
(C)
상기 실시 형태의 성막 장치(1)에서는 회전 테이블(10)의 직경 방향 외측에 있어서 타깃 T1이 타깃 보유 지지부(2e)에 보유 지지되어 있는 구성이 도시되어 있지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 타깃이 회전 테이블(10)의 직경 방향 내측에 배치되어도 된다.
그 경우, 도 9의 (a) 내지 (b)에 도시된 바와 같이, 타깃 보유 지지부(2f)는 회전 테이블(10)의 중심축 O 상에 배치된다. 타깃 보유 지지부(2f)는 예를 들면 챔버(2)의 천장벽의 하측에 배치된다. 타깃 보유 지지부(2f)에는 원기둥 형상의 타깃 T2가 중심축 O를 따라서 수직 하강된 상태에서, 회전 테이블(10)의 상방으로 이격한 위치에 배치된다.
이와 같이 타깃 T2가 회전 테이블(10)의 중심축 O 상에 배치되는 경우에는, 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 제1 워크 적재부(22)에 각각 적재된 복수의 워크 W1이 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 내측에서 접하는 내접원 C2a의 반경[도 9의 (a)의 R2]이, 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이 회전 테이블(10)의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 제2 워크 적재부(32)에 각각 적재된 워크 W1보다도 큰 직경을 갖는 복수의 워크 W2가 각각 회전 테이블(10)의 직경 방향 내측에서 접하는 내접원 C2b의 반경[도 9의 (b)의 R2]과 동일하게 되도록 설정되어 있으면, 워크 및 교환 유닛을 교환해도, 워크 W1, W2와 타깃 T2의 거리를 일정하게 유지하는 것이 가능하다.
즉, 이와 같은 구성에서는, 회전 테이블(10)의 회전 중심 O로부터 타깃 T2의 출사면 T2a까지의 거리는 일정하다. 따라서, 이들 내접원 C2a, C2b의 반경이 동일한 R2로 되도록 설정됨으로써, 이들 내접원 C2a, C2b의 반경 R2로부터 회전 테이블(10)의 회전 중심 O로부터 타깃 T2의 출사면 T2a까지의 거리를 뺀 거리, 즉, 회전 테이블(10)의 직경 방향 내측에 있어서 타깃 보유 지지부(2f)에 보유 지지된 타깃 T2와 제1 교환 유닛(4) 및 제2 교환 유닛(30)의 각각의 워크 적재부(22, 32)에 적재된 워크 W1, W2의 거리가 각각 S2로 되어 일정해진다.
여기서, 이 변형예 (C)와 같이 타깃 T2가 회전 테이블(10)의 직경 방향 내측의 회전 중심 O 상에 배치되어 있는 구성에서는, 도 9의 (a)에 도시된 제1 교환 유닛(4)에 있어서의 제1 워크 적재부(22)에 동축상에 연결된 제1 유성 기어(23)의 직경 D15는, 제1 워크 적재부(22)의 직경 D1에 기초하여, 이하의 수학식 7과 같이 하여 구하는 것이 가능하다.
Figure pat00007
여기서,
X5 : 회전축(24)의 중심을 연결하는 가상원 C15와 고정 기어(9)의 거리,
R2 : 워크 W1의 내접원 C2a의 반경,
R21 : 고정 기어(9)의 반경이다.
마찬가지로, 도 9의 (b)에 도시된 제2 교환 유닛(30)에 있어서의 제2 워크 적재부(32)에 동축상에 연결된 제2 유성 기어(33)의 직경 D16은, 제2 워크 적재부(32)의 직경 D2에 기초하여, 이하의 수학식 8과 같이 하여 구하는 것이 가능하다.
Figure pat00008
(D)
상기 실시 형태에서는, 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30)을 회전 테이블(10)에 설치하기 위한 제1 설치부 및 제2 설치부로서, 관통 구멍(10a, 10b)의 조 및 관통 구멍(10b, 10c)의 조를 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 착탈 가능한 구성이면 그 밖의 구성을 갖는 제1 설치부 및 제2 설치부를 채용해도 된다.
(E)
상기 실시 형태에서는, 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30)이 착탈 가능하게 설치되는 회전체의 일례로서, 회전 테이블(10)을 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 제1 및 제2 교환 유닛(4, 30)이 설치된 상태에서 자전 가능한 것이면, 다양한 형상 및 구조의 회전체를 채용해도 된다.
(F)
상기 실시 형태에서는, 2종류의 교환 유닛(4, 30)을 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 3종류 이상의 교환 유닛을 구비한 성막 장치의 구성이어도 된다.
(G)
상기 실시 형태에서는, 타깃 T1의 출사면 T1a(도 1 참조)에 직교하는 직선 L1이 회전 중심 O를 통과하고 있지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 직선 L1이 회전 중심 O를 통과하지 않는 위치 관계이어도 된다.
(H)
상기 실시 형태에서는, 제1 교환 유닛(4)과 제2 교환 유닛(30) 중 어느 하나만이 회전체에 설치되어 있은 상태를 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 제1 교환 유닛(4)과 제2 교환 유닛(30)이 혼재되는 형태로 회전체에 설치되어도 된다.

Claims (11)

  1. 워크를 타깃으로부터 나오는 입자에 의해 성막 처리하는 성막 장치이며,
    상기 타깃을 갖는 챔버와,
    상기 챔버 내부에 수납된 회전체 유닛을 구비하고 있고,
    상기 회전체 유닛은,
    회전체와,
    상기 회전체를 회전 중심 주위로 회전 구동하는 구동부와,
    상기 워크가 적재되는 워크 적재부 및 상기 워크 적재부를 회전 가능하게 지지하는 지지부를 갖고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 상기 회전체에 착탈 가능하게 설치되는 복수의 교환 유닛을 갖는, 성막 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 교환 유닛은,
    제1 직경을 갖는 복수의 워크가 적재되는 제1 워크 적재부 및 당해 제1 워크 적재부를 회전 가능하게 지지하는 제1 지지부를 갖고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 당해 회전체에 착탈 가능하게 설치되는 복수의 제1 교환 유닛과,
    상기 제1 직경보다도 큰 제2 직경을 갖는 복수의 워크가 적재되는 제2 워크 적재부 및 당해 제2 워크 적재부를 회전 가능하게 지지하는 제2 지지부를 갖고, 상기 회전체의 둘레 방향으로 서로 이격하여 배열되도록 당해 회전체에 착탈 가능하게 설치되는 복수의 제2 교환 유닛을 포함하고,
    상기 제1 교환 유닛 및 상기 제2 교환 유닛 중 적어도 한쪽이 선택되어, 상기 회전체에 설치되는, 성막 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 워크 적재부에 각각 적재된 워크에 있어서의 상기 타깃의 입자가 나오는 출사면에 대향하는 위치와 상기 회전체의 상기 회전 중심의 거리가, 상기 제2 워크 적재부에 각각 적재된 워크에 있어서의 상기 출사면에 대향하는 위치와 상기 회전체의 회전 중심의 거리와 동일하게 되도록 설정되어 있는, 성막 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 타깃은 상기 회전체의 직경 방향 외측에 배치되고,
    상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 상기 복수의 제1 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원의 반경이, 당해 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 상기 복수의 제2 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 외측에서 접하는 외접원의 반경과 동일하게 되도록 설정되어 있는, 성막 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 타깃은 상기 회전체의 중심축 상에 배치되고,
    상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 상기 제1 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 내측에서 접하는 내접원의 반경이, 당해 회전체의 둘레 방향으로 배열되는 복수의 상기 제2 워크 적재부에 각각 적재된 복수의 워크가 각각 상기 회전체의 직경 방향 내측에서 접하는 내접원의 반경과 동일하게 되도록 설정되어 있는, 성막 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 회전체는,
    복수의 상기 제1 교환 유닛이 설치되는 복수의 제1 설치부와,
    복수의 상기 제2 교환 유닛이 설치되는 복수의 제2 설치부를 갖고,
    상기 복수의 제1 설치부는, 상기 제1 교환 유닛의, 설치 가능 최대수에 대응하는 수를 갖고, 또한, 상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 배치되고,
    상기 복수의 제2 설치부는, 상기 제2 교환 유닛의, 설치 가능 최대수에 대응하는 수를 갖고, 또한, 상기 회전체의 둘레 방향으로 배열되도록 등간격으로 배치되어 있는, 성막 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 복수의 제1 설치부와 상기 복수의 제2 설치부의 일부가 공통되어 있는, 성막 장치.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 회전체 유닛은,
    상기 회전체를 회전 가능하게 지지하는 받침대와,
    상기 받침대에 대하여 고정된 고정 기어를 더 갖고,
    상기 제1 교환 유닛은, 상기 제1 워크 적재부와 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 제1 유성 기어를 더 갖고,
    상기 제2 교환 유닛은, 상기 제2 워크 적재부와 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 제2 유성 기어를 더 갖고,
    상기 제1 지지부는, 상기 제1 워크 적재부 및 상기 제1 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부 및 상기 회전체와 착탈 가능하게 연결하는 제1 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제1 아암이고,
    상기 제2 지지부는, 상기 제2 워크 적재부 및 상기 제2 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부 및 상기 회전체와 착탈 가능하게 연결하는 제2 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제2 아암인, 성막 장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 회전체 유닛은,
    상기 회전체를 회전 가능하게 지지하는 받침대와,
    상기 받침대에 대하여 고정된 고정 기어를 더 갖고,
    제1 교환 유닛은, 복수의 상기 제1 워크 적재부를 가짐과 함께, 당해 복수의 제1 워크 적재부의 각각과 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 복수의 제1 유성 기어를 더 갖고 있고,
    제2 교환 유닛은, 복수의 상기 제2 워크 적재부를 가짐과 함께, 당해 복수의 제2 워크 적재부의 각각과 동축상에 연결되며, 상기 고정 기어에 맞물려 자전하는 복수의 제2 유성 기어를 더 갖고 있고,
    상기 제1 지지부는, 복수의 상기 제1 워크 적재부 및 복수의 상기 제1 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 복수의 회전 지지부 및 상기 회전체와 연결하는 제1 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제1 설치 플레이트이고,
    상기 제2 지지부는, 복수의 상기 제2 워크 적재부 및 복수의 상기 제2 유성 기어를 회전 가능하게 지지하는 복수의 회전 지지부 및 상기 회전체와 연결하는 제2 연결부를 갖고, 상기 회전체와 함께 상기 회전 중심 주위로 공전하는 제2 설치 플레이트인, 성막 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 고정 기어는 내주측에 이를 갖는 내치 기어이고,
    상기 고정 기어는 상기 제1 유성 기어 및 상기 제2 유성 기어보다도 상기 회전체의 직경 방향 외측에 위치하여, 상기 제1 유성 기어 및 상기 제2 유성 기어와 맞물리는, 성막 장치.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 제1 유성 기어 및 상기 제2 유성 기어의 직경은 상기 제1 워크 적재부 및 상기 제2 워크 적재부의 직경에 기초하여 설정되어 있는, 성막 장치.
KR1020140157909A 2013-11-18 2014-11-13 성막 장치 KR101665197B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013237859A JP6147168B2 (ja) 2013-11-18 2013-11-18 成膜装置
JPJP-P-2013-237859 2013-11-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150058005A true KR20150058005A (ko) 2015-05-28
KR101665197B1 KR101665197B1 (ko) 2016-10-11

Family

ID=53171997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140157909A KR101665197B1 (ko) 2013-11-18 2014-11-13 성막 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20150136029A1 (ko)
JP (1) JP6147168B2 (ko)
KR (1) KR101665197B1 (ko)
CN (1) CN104651794B (ko)
DE (1) DE102014223354A1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107022754B (zh) * 2016-02-02 2020-06-02 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
US11339477B2 (en) * 2016-11-30 2022-05-24 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD Plasma polymerization coating apparatus and process
CN106756888B (zh) 2016-11-30 2018-07-13 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 一种纳米镀膜设备旋转货架装置
DE102018126862A1 (de) * 2018-10-26 2020-04-30 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Werkstückträgereinrichtung und Beschichtungsanordnung
WO2021026886A1 (zh) * 2019-08-15 2021-02-18 常州机电职业技术学院 一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法
US20210193441A1 (en) * 2019-12-18 2021-06-24 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. Coating Apparatus and Coating Method
CN111809159B (zh) * 2020-06-05 2022-12-13 浙江锋源氢能科技有限公司 转架装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040034432A (ko) * 2002-10-15 2004-04-28 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 성막 시스템 및 이를 이용한 성막 방법
KR20050005801A (ko) * 2003-07-07 2005-01-14 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 진공 증착 장치
JP2006063391A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Nippon Piston Ring Co Ltd 皮膜形成用ワーク保持装置
WO2013005435A1 (ja) * 2011-07-06 2013-01-10 株式会社神戸製鋼所 真空成膜装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4222345A (en) * 1978-11-30 1980-09-16 Optical Coating Laboratory, Inc. Vacuum coating apparatus with rotary motion assembly
JPS5881970A (ja) * 1981-11-06 1983-05-17 Clarion Co Ltd スパツタ装置
US4485759A (en) * 1983-01-19 1984-12-04 Multi-Arc Vacuum Systems Inc. Planetary substrate support apparatus for vapor vacuum deposition coating
JPS62104438U (ko) * 1985-12-23 1987-07-03
JPH0689447B2 (ja) * 1986-10-07 1994-11-09 日本真空技術株式会社 自公転式基板ホルダ取付装置
US5308461A (en) * 1992-01-14 1994-05-03 Honeywell Inc. Method to deposit multilayer films
TW200602888A (en) * 2004-07-09 2006-01-16 Quanta Comp Inc Server blade system
CN100398692C (zh) * 2004-07-30 2008-07-02 财团法人工业技术研究院 用于平板基材的镀膜装置
US20070240982A1 (en) * 2005-10-17 2007-10-18 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Arc ion plating apparatus
CN102864434A (zh) * 2012-09-05 2013-01-09 常州大成绿色镀膜科技有限公司 一种立式镀膜机工件转架传动装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040034432A (ko) * 2002-10-15 2004-04-28 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 성막 시스템 및 이를 이용한 성막 방법
KR20050005801A (ko) * 2003-07-07 2005-01-14 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 진공 증착 장치
JP2006063391A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Nippon Piston Ring Co Ltd 皮膜形成用ワーク保持装置
WO2013005435A1 (ja) * 2011-07-06 2013-01-10 株式会社神戸製鋼所 真空成膜装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20150136029A1 (en) 2015-05-21
JP2015098618A (ja) 2015-05-28
DE102014223354A1 (de) 2015-05-21
CN104651794B (zh) 2017-04-26
CN104651794A (zh) 2015-05-27
KR101665197B1 (ko) 2016-10-11
JP6147168B2 (ja) 2017-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101665197B1 (ko) 성막 장치
US8535496B2 (en) Sputter-coating apparatus
JP2007083232A (ja) コンポーネントを製造するための方法および装置
CN102642171B (zh) 包括用于工件的机械表面加工的器件的珩磨机器
RU2499080C2 (ru) Кассета для обрабатываемых деталей
JP2007243060A (ja) 気相成長装置
JP2004160642A (ja) 傾斜回動テーブル装置
CN111809159B (zh) 转架装置
JP2010192720A (ja) 半導体気相成長装置
JP2012224878A (ja) 蒸着装置用ワーク移動機構とこれを用いた蒸着方法
JP4321785B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
TW201546386A (zh) 可搬型旋轉裝置及成膜裝置
CN113699500A (zh) 一种真空镀膜单体机工件架
CN217265994U (zh) 一种行星镀膜系统
EP1373907B1 (en) Rotary incubation station for immunoassay systems
KR20140105388A (ko) 유성 기어용 유성 바퀴 캐리어
KR100734109B1 (ko) 지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치
JPH0428860A (ja) イオンプレーティング装置用回転テーブル
CN211522312U (zh) 镀膜置物架及镀膜机构
CN211227325U (zh) 一种高温轴承钢切料刀板的真空镀膜工装结构
JP2004142046A (ja) 3面イケール
JP6685459B2 (ja) モジュール軸受及びそれを備える動力伝達装置
CN110904422A (zh) 镀膜置物架及镀膜机构
CN219709570U (zh) 双旋转模式的离子镀旋转装置
CN109737142B (zh) 一种固体润滑轴承内圈保护装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant