JP6136861B2 - 断熱層の形成方法 - Google Patents
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- 238000009413 insulation Methods 0.000 title claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 147
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 55
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 42
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 15
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 12
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims description 12
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 62
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 14
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000010881 fly ash Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- HDNHWROHHSBKJG-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;furan-2-ylmethanol Chemical compound O=C.OCC1=CC=CO1 HDNHWROHHSBKJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
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- Thermal Insulation (AREA)
- Pistons, Piston Rings, And Cylinders (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
まず、本発明の実施形態に係る断熱層の構成について図1を参照しながら説明する。
以下に、断熱層における中空粒子の含有割合と、断熱層の熱伝導率及び体積比熱との関係について検討した結果について説明する。ここでは、断熱層における中空粒子の含有比率が0vol%から75vol%までの範囲で異なる断熱層を作製し、その中空粒子量の差による断熱層の熱伝導率及び体積比熱を比較した。具体的に、断熱層として、それぞれ中空粒子を0vol%、40vol%、60.7vol%、67.8vol%又は75vol%の体積比率で含む5種類の断熱層を作製した。このとき、フィラー材とガラス質材の含有比は、断熱層における中空粒子を除く残部において、体積比でフィラー材:ガラス質材=7:93で一定となるように調整した。また、作製した断熱層の厚みは80μmである。なお、含有させる中空粒子の体積比率は、粒子のみかけ密度とガラス質材との密度を測定し、続いてガラス質材に対して添加する中空粒子の質量から算出することができる。
次に、上記の断熱層を基材上に形成する方法について説明する。なお、以下では、基材としてエンジンのピストン本体の頂面に断熱層を形成する方法を説明するが、他の基材を用いた場合も、ピストン本体に断熱層を形成する場合と同様の方法で断熱層を形成することができる。
20 断熱層
21 中空粒子
22 フィラー
23 ガラス質材(ケイ酸ガラス)
Claims (4)
- アルミニウム合金製のピストン本体上に、該ピストン本体の熱伝導率よりも低い熱伝導率を有する断熱層を形成する方法であって、
前記ピストン本体上に、中空粒子を含むケイ酸ガラス前駆体溶液を塗布して塗布層を形成する工程と、
前記塗布層に対して減圧下で熱処理をすることにより、塗布層を硬化させて非粉末状態のケイ酸ガラス層を生成すると共に、該ケイ酸ガラス層に含まれる前記中空粒子内の空気を減圧膨張させる工程とを備え、
前記熱処理は、雰囲気圧力を253Torr以下とし、処理温度を120℃以上180℃以下とし、処理時間を30秒以上10分以下とする
ことを特徴とする断熱層の形成方法。 - 前記熱処理は、雰囲気圧力を76Torr以下とし、処理温度を150℃以上とすることを特徴とする請求項1に記載の断熱層の形成方法。
- 前記断熱層における前記中空粒子の含有割合は、体積比率で40vol%以上75vol%以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の断熱層の形成方法。
- 前記断熱層の熱伝導率は0.15W/m・K以上0.4W/m・K以下である、及び/又は、
前記断熱層の体積比熱は400kJ/m 3 ・K以上1300kJ/m 3 ・K以下であることを特徴とする請求項3に記載の断熱層の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013230360A JP6136861B2 (ja) | 2013-11-06 | 2013-11-06 | 断熱層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013230360A JP6136861B2 (ja) | 2013-11-06 | 2013-11-06 | 断熱層の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015089539A JP2015089539A (ja) | 2015-05-11 |
| JP6136861B2 true JP6136861B2 (ja) | 2017-05-31 |
Family
ID=53193325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013230360A Active JP6136861B2 (ja) | 2013-11-06 | 2013-11-06 | 断熱層の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6136861B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3043572B1 (fr) * | 2015-11-12 | 2020-05-15 | Pylote | Materiaux thermiquement isolants integrant des particules inorganiques spheriques et creuses |
| JP7025841B2 (ja) * | 2017-02-02 | 2022-02-25 | 大日本塗料株式会社 | 塗料組成物及び複層塗膜 |
| JP2019157193A (ja) * | 2018-03-12 | 2019-09-19 | 日本特殊陶業株式会社 | 遮熱膜 |
| JP7123827B2 (ja) * | 2019-02-19 | 2022-08-23 | 東ソ-・エスジ-エム株式会社 | 多層構造石英ガラス材およびその製造方法 |
| CZ308476B6 (cs) * | 2019-07-07 | 2020-09-09 | First Point a.s. | Nátěrová hmota a způsob jejího nanášení |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE463513B (sv) * | 1988-07-21 | 1990-12-03 | Eka Nobel Ab | Komposition foer beredning av en vaermeisolerande keramisk belaeggning paa en metall, foerfarande foer dess framstaellning, anvaendning av densamma samt avgasroer foersett med en belaeggning av en saadan komposition |
| JP2012228819A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toyota Central R&D Labs Inc | 中空封止体の製造方法および製造装置 |
| JP5839984B2 (ja) * | 2011-12-23 | 2016-01-06 | 日揮触媒化成株式会社 | 金属酸化物粒子の製造方法 |
-
2013
- 2013-11-06 JP JP2013230360A patent/JP6136861B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015089539A (ja) | 2015-05-11 |
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| Date | Code | Title | Description |
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