JP6135690B2 - 半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法 - Google Patents

半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6135690B2
JP6135690B2 JP2015022068A JP2015022068A JP6135690B2 JP 6135690 B2 JP6135690 B2 JP 6135690B2 JP 2015022068 A JP2015022068 A JP 2015022068A JP 2015022068 A JP2015022068 A JP 2015022068A JP 6135690 B2 JP6135690 B2 JP 6135690B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pad
wire
closed circuit
semiconductor chip
lead terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2015022068A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016145720A (ja
Inventor
太郎 梶山
太郎 梶山
一志 山中
一志 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
Priority to JP2015022068A priority Critical patent/JP6135690B2/ja
Priority to US15/016,596 priority patent/US9726709B2/en
Publication of JP2016145720A publication Critical patent/JP2016145720A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6135690B2 publication Critical patent/JP6135690B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2801Testing of printed circuits, backplanes, motherboards, hybrid circuits or carriers for multichip packages [MCP]
    • G01R31/2806Apparatus therefor, e.g. test stations, drivers, analysers, conveyors
    • G01R31/2808Holding, conveying or contacting devices, e.g. test adapters, edge connectors, extender boards
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2801Testing of printed circuits, backplanes, motherboards, hybrid circuits or carriers for multichip packages [MCP]
    • G01R31/2818Testing of printed circuits, backplanes, motherboards, hybrid circuits or carriers for multichip packages [MCP] using test structures on, or modifications of, the card under test, made for the purpose of testing, e.g. additional components or connectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2853Electrical testing of internal connections or -isolation, e.g. latch-up or chip-to-lead connections
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/2856Internal circuit aspects, e.g. built-in test features; Test chips; Measuring material aspects, e.g. electro migration [EM]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/50Testing of electric apparatus, lines, cables or components for short-circuits, continuity, leakage current or incorrect line connections
    • G01R31/66Testing of connections, e.g. of plugs or non-disconnectable joints
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/50Testing of electric apparatus, lines, cables or components for short-circuits, continuity, leakage current or incorrect line connections
    • G01R31/66Testing of connections, e.g. of plugs or non-disconnectable joints
    • G01R31/70Testing of connections between components and printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires

Description

本明細書に開示する技術は、半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法に関する。
半導体チップに設けられている電極パッドは、ワイヤを介してリード端子にワイヤボンディングされている。リード端子は、半導体チップ内に形成されている回路にワイヤを介して電源電圧を供給し、信号を入出力し、あるいは半導体チップ内の回路の出力電圧を受け入れる役割を果たす。
半導体チップに複数の電極パッドを設け、それぞれの電極パッドを同一のリード端子にワイヤボンディングする場合がある(いわゆるマルチボンディング)。これにより、例えば、当該リード端子から複数の電極パッドに電源電圧を印加でき、チップ内の回路により大きな電流を流すことができる(以下、電源電圧が印加される電極パッドを電源用電極パッドと称する)。
特許文献1に、マルチボンディングされているワイヤの断線を検出可能な半導体チップが開示されている。この半導体チップには、複数の電源用電極パッドと、チップ内の回路に信号を入力する入力信号用電極パッドが設けられている。入力信号用電極パッドは、電源用電極パッドに隣接して配置されている。複数の電源用電極パッドのそれぞれは、1個の電源用リード端子とマルチボンディングされている。入力信号用電極パッドは、電源用リード端子とは別の入力信号用リード端子とワイヤボンディングされている。複数の電源用電極パッドのそれぞれと入力信号用電極パッドとの間には、互いに異なる抵抗値を有する抵抗が接続された回路が構成されている。これにより、電源用リード端子に電源電圧を印加し、入力信号用リード端子から出力される電流を測定することで、マルチボンディングされているワイヤのうちどのワイヤが断線しているかを検出できる。
特開2013−225535号公報
特許文献1の技術では、マルチボンディングワイヤの断線を検出する際は、電圧を印加するテスタ(電圧印加モジュール)を電源用リード端子に接続し、電流を測定するテスタ(電流測定モジュール)を入力信号用リード端子に接続する。このように、特許文献1の技術では、ワイヤの断線を検出するために電源用リード端子と入力信号用リード端子にテスタを割り当てる必要がある。
本明細書では、同一のリード端子にワイヤボンディングされているワイヤの断線を検出するに際して、テスタの使用を低減できる技術を提供する。
本明細書が開示する半導体チップは、第1電極パッドと、第2電極パッドと、第1電流検出器と、第3電極パッドを備える。第1電極パッドは、第1リード端子にワイヤボンディングされる。第2電極パッドは、第1電極パッドがワイヤボンディングされる第1リード端子にワイヤボンディングされる。第1電流検出器は、第1電極パッドと第2電極パッドの間に接続されている。第3電極パッドは、第1リード端子とは別の第2リード端子にワイヤボンディングされる。第1電流検出器は、第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電したときに第1リード端子と第1電極パッドと第1電流検出器と第2電極パッドを巡る第1閉回路を流れる誘導電流が閾値を上回る場合と閾値を下回る場合で出力が異なるように構成されている。
上記の半導体装置では、第1電極パッドと第2電極パッドが第1リード端子にワイヤボンディングされると、第1リード端子と第1電極パッドと第1電流検出器と第2電極パッドを巡る第1閉回路が形成される。ここで、第1閉回路を構成するワイヤが断線していない場合は、第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電することにより第1閉回路を貫通する磁束が変化すると、電磁誘導により第1閉回路に誘導起電力が発生し、誘導電流が流れる。一方、第1閉回路を構成するワイヤが断線している場合は、第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電することにより第1閉回路を貫通する磁束が変化しても電磁誘導が生じない。このため、第1閉回路に誘導電流が流れない。第1電流検出器は、第1閉回路を流れる誘導電流が閾値を上回る場合と閾値以下の場合とで出力が異なるように構成されている。第1電流検出器の閾値を、第1閉回路を構成するワイヤが断線していないときに流れる誘導電流の値より小さくすることにより、第1電流検出器の出力によりワイヤの断線を検出することができる。このように、上記半導体チップは、第1閉回路を流れる誘導電流に基づいて、ワイヤの断線の有無を検出可能な構成を有する。このため、断線を検出するために第1リード端子と第2リード端子の両方にテスタを割り当てる必要がなくなり、テスタの使用を低減できる。また、テスタのうちの通電モジュールを利用してワイヤの断線を検出できるため、テスタに必要な機能が少なくて済む。なお、第1電流検出器を流れる電流が閾値と同じ場合は、第1電流検出器は、電流が閾値を上回る場合の出力を示してもよいし、電流が閾値を下回る場合の出力を示してもよい。また、本明細書では、説明の都合上、ワイヤが断線している場合も第1リード端子と第1電極パッドと第1電流検出器と第2電極パッドからなる回路を「第1閉回路」と称する。また、以下では、「閉回路を構成するワイヤの断線」を単に「ワイヤの断線」とも称する。
また、本明細書は、半導体チップのワイヤの新規な断線検出方法を開示する。この断線検出方法では、半導体チップに形成されている第1電極パッド及び第2電極パッドのそれぞれと第1リード端子とをワイヤボンディングしている2つのワイヤの断線を検出する。この断線検出方法では、第2リード端子から第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電し、誘導起電力発生電流通電時の第1電流検出器の出力を検出する。この断線検出方法によると、断線の有無を判定するのに必要な情報を、第2リード端子に電流を供給することで取得できる。テスタには通電機能さえあればよい。テスタの有効活用ができる。また、上記の断線検出方法は、第2リード端子に電流を供給する他の検査と同時に実施できる。この場合、断線を検出するためだけに第2リード端子に電流を供給する必要がなくなるため、専ら断線検出用のテスタが不要となり、検査時間を短縮化できる。
また、本明細書は、上記の断線検出方法とは別の、半導体チップのワイヤの新規な断線検出方法を開示する。この断線検出方法は、リード端子に第1ワイヤでワイヤボンディングされる第1電極パッドと、リード端子に第2ワイヤでワイヤボンディングされる第2電極パッドと、第1電極パッドと第2電極パッドの間に接続されている電流検出器と、を備える半導体チップの第1ワイヤと第2ワイヤの少なくとも一方の断線を検出する。この断線検出方法は、磁束印加工程と、断線検出工程を備える。磁束印加工程では、リード端子と第1ワイヤと第1電極パッドと電流検出器と第2電極パッドと第2ワイヤを巡る閉回路を貫く方向に磁束を印加する。断線検出工程では、磁束印加工程において電流検出器が出力する出力値に応じて第1ワイヤと第2ワイヤの少なくとも一方の断線を検出する。この断線検出方法では、磁束印加工程において様々な手段で閉回路に磁束を印加できるため、半導体チップの設計の自由度が向上する。
実施例1の半導体装置の平面図であり、スイッチSW2がオンのときを示す。 変形例1の半導体装置の平面図であり、スイッチSW2がオンのときを示す。 実施例2の半導体装置の平面図であり、スイッチSW2がオンのときを示す。
図1を参照して実施例1の半導体チップ100について説明する。半導体チップ100は、集積回路50が形成された直方体形状の電子部品である。半導体チップ100は、複数のリード端子と共に樹脂11によりパッケージングされており、これにより半導体装置110を構成している。図1では、複数のリード端子のうち2つのリード端子30、80を図示している。なお、図1では、リード端子30、80のうち、樹脂11の外部に突出している部分の図示を省略している。また、図1では、図を見易くするために、樹脂11の外形のみ図示し、半導体チップ100とリード端子30、80を覆う樹脂11の図示を省略している。
半導体チップ100は、電極パッド12a、12b、60と、配線14a、14b、66と、抵抗体16aと、比較器18aと、コントローラ24と、スイッチSW1、SW2、SW3を備える。電極パッド12a、12b、60は、半導体チップ100の上面(即ち、半導体チップ100がリードフレーム(図示省略)のダイパッド(図示省略)に載置される面と反対の面)の周縁部に、この順に隣接して設けられている。電極パッド12aは、ワイヤ40aによりリード端子30の一端にボンディングされている。電極パッド12bは、ワイヤ40bによりリード端子30の一端にボンディングされている。即ち、電極パッド12a、12bは、それぞれ同一のリード端子30にダブルボンディングされている。電極パッド60は、ワイヤ90によりリード端子80の一端にボンディングされている。なお、半導体チップ100の上面には複数の電極パッドが設けられているが、図1では電極パッド12a、12b、60のみを図示している。なお、電極パッド12a、12b、60は、それぞれ「第1電極パッド」、「第2電極パッド」、「第3電極パッド」の一例に相当し、リード端子30、80は、それぞれ「第1リード端子」、「第2リード端子」の一例に相当する。
配線14aは、電極パッド12aと集積回路50を接続している。配線14bは、電極パッド12bと集積回路50を接続している。これにより、リード端子30に電源電圧が印加されると、電極パッド12a、12bに電圧が印加され、配線14a、14bを介して集積回路50に電流が供給される。リード端子30が2つの電極パッド12a、12bにダブルボンディングされていることにより、集積回路50に大電流を供給することができる。配線14aと配線14bは点B1で合流して1つの配線となっている。本実施例では、点B3より集積回路50側の配線は、配線14aでもあり配線14bでもある。配線66は、電極パッド60と集積回路50を接続している。
抵抗体16aは、抵抗値R1を有する抵抗体であり、配線14aの点B2と配線14bの点B3の間に接続されている。比較器18aは、抵抗体16aの高電位側の電圧と低電位側の電圧を比較し、その結果をH(ハイ)又はL(ロー)の2値信号で出力する。具体的には、抵抗体16aの一端(図1における抵抗体16aの上側)が比較器18aの非反転入力端子Vin+に接続され、他端(図1における抵抗体16aの下側)が反転入力端子Vin−に接続されている。比較器18aの出力端子Voutは、半導体チップ100内部のレジスタ22aに接続されている。比較器18aは、閾値付き比較器である。非反転入力端子Vin+には抵抗体16aの両端にかかる電圧Vin1(以下では、「入力電圧Vin1」とも称する)が入力される。入力電圧Vin1が閾値を上回る場合は出力端子VoutはH信号を出力し、入力電圧Vin1が閾値を下回る場合は出力端子VoutはL信号を出力する。出力信号は、レジスタ22aに記憶される。レジスタ22aに記憶された出力信号は、外部から読み出し可能となっている。なお、抵抗体16aは「第1抵抗体」の一例に相当し、比較器18aは「第1比較器」の一例に相当する。
スイッチSW1は、配線14aの点B1と点B2の間に設けられている。スイッチSW2は、抵抗体16aに隣接して点B2と点B3の間に設けられている。スイッチSW3は、配線14bの点B1と点B3の間に設けられている。スイッチSW1〜SW3のオン・オフは、コントローラ24によって制御される。具体的には、コントローラ24は、スイッチSW2をオンするとスイッチSW1、SW3をオフし、逆に、スイッチSW1、SW3をオンするとスイッチSW2をオフする。スイッチSW2がオンのときは、リード端子30と電極パッド12aとスイッチSW2と抵抗体16aと電極パッド12bが、ワイヤ40a、40bと配線14a、14bにより接続された閉回路L1が形成される。このとき、スイッチSW1、SW3はオフであるため、電極パッド12a、12bは集積回路50から電気的に分離しており、非導通状態となっている。一方、スイッチSW2がオフのときは閉回路L1が形成されない。このとき、スイッチSW1、SW3はオンであるため、電極パッド12a、12bは集積回路50と接続しており、導通状態となっている。なお、閉回路L1は、「第1閉回路」の一例に相当する。
リード端子80の他端(即ち、リード端子80のうち樹脂11から突出している部分)には、電流源70が接続可能となっている。電流源70は検査用の電流源(テスタ)であり、リード端子80に電流I1を供給して半導体装置110(半導体チップ100)の良否を検査するために使用される。
ワイヤ40a、40b(即ち、ダブルボンディングされているワイヤ)の断線を検出する方法について説明する。この断線検出方法は、動作確認工程と同時に実施される。動作確認工程では、まず、コントローラ24が、スイッチSW2をオンし、スイッチSW1、SW3をオフする。これにより、閉回路L1が形成されると共に、電極パッド12a、12bが集積回路50から電気的に分離される。次に、リード端子80に電流源70を接続して電流I1を供給し、半導体装置110が正常に動作するか否か検査する。動作確認工程で実施される検査は、電流源70からリード端子80に電流I1を供給する検査であれば、どのような種類の検査であってもよい。リード端子80に供給された電流I1は、ワイヤ90を図1の右方向に向かって流れる。これにより、ワイヤ90の周囲には、電流の進行方向に対して時計回りの磁界が同心円状に発生する。閉回路L1は、電流の進行方向から見てワイヤ90の左側に位置しているため、発生した磁界は閉回路L1を半導体チップ100の下面から上面に向かう方向に貫通する。なお、電流I1は「誘導起電力発生電流」の一例に相当する。
ワイヤ40a、40bが断線していない場合は、ワイヤ90の周囲に発生した磁界が閉回路L1を貫通すると、閉回路L1を貫く磁束が変化するため、閉回路L1には電磁誘導により誘導起電力Ve1が発生する。誘導起電力Ve1は、磁束の時間的変化率に等しい。別言すれば、誘導起電力Ve1は、電流I1の時間的変化率と閉回路L1の面積に比例する。本実施例では、動作確認工程における所定の時間の間は、電流源70は一定の変化率で増加する電流I1を供給する。このため、誘導起電力Ve1は一定の値となる。
閉回路L1の抵抗体16aの抵抗値R1は、閉回路L1を構成する他の要素(即ち、ワイヤ40a、40bや配線14a、14bなど)の抵抗に比べて十分に大きいため、閉回路L1における電圧降下は抵抗体16aでのみ生じると考えて差し支えない。この場合、キルヒホッフの第2法則より、抵抗体16aにおける電圧降下(即ち、抵抗体16aの両端にかかる電圧)は、誘導起電力Ve1に等しい。このとき、閉回路L1には時計回り(図1の矢印参照)に誘導電流I2(=Ve1/R1)が流れる。従って、比較器18aの非反転入力端子Vin+には、誘導起電力Ve1と等しい値の入力電圧Vin1が入力される(即ち、Vin1=Ve1)。比較器18aの閾値は、0より大きく、Ve1より小さい値となるように予め設定されている。これにより、比較器18aの非反転入力端子Vin+に入力される入力電圧Vin1(=Ve1)は閾値を上回るため、出力端子VoutはH信号を出力する。出力信号はレジスタ22aに記憶される。
一方、ワイヤ40a、40bの少なくとも一方が断線している場合は、ワイヤ90の周囲に発生した磁界が閉回路L1を貫通しても閉回路L1には電磁誘導が起こらず、誘導起電力が発生しない。このため、抵抗体16aの両端には電位差が生じず、入力電圧Vin1は0[V]となる。従って、入力電圧Vin1が閾値を下回るため、出力端子VoutはL信号を出力する。出力信号はレジスタ22aに記憶される。
断線の有無は、レジスタ22aに記憶されている出力信号を読み出すことで検出できる。読み出し値がH信号の場合はワイヤ40a、40bが断線していないと判定し、L信号の場合はワイヤ40a、40bの少なくとも一方が断線していると判定する。このように、比較器18aを用いてワイヤ40a、40bの断線の有無を2値信号で出力する構成とすることにより、出力信号を読み出すことでワイヤ40a、40bの断線を容易に検出できる。なお、この断線検出検査は、半導体装置110が基板に実装される前に実施される。
断線検出検査において断線が検出されなかった半導体装置110は、その他の検査を経て良品と判定されると、基板に実装される。基板に実装後の半導体装置110を通常使用する場合は、まず、コントローラ24がスイッチSW1、SW3をオンし、スイッチSW2をオフする。次に、リード端子30に電源電圧を印加して、電極パッド12a、12bに電圧を印加する。これにより、リード端子30から、配線14a、14bを介して集積回路50に電流が供給される。このように、コントローラ24は、ワイヤ40a、40bの断線を検出する場合と、半導体装置110を通常使用する場合とで、スイッチSW1〜SW3を切替える。これにより、ワイヤ40a、40bの断線を検出する場合は閉回路L1を流れる誘導電流I2が集積回路50側に流れることを抑制でき、一方、半導体装置110を通常使用する場合はリード端子30から配線14a、14bを介して集積回路50に流れる電流が抵抗体16a側と比較器18a側に流れ込むことを抑制できる。このため、比較器18aの非反転入力端子Vin+には計算値に基づく入力電圧Vin1(即ち、誘導起電力Ve1)が入力されるため、出力端子Voutからは正確な出力信号が出力される。従って、ワイヤ40a、40bの断線検出の信頼性が向上する。
上記の半導体装置110では、リード端子80に電流を供給するだけで、ワイヤ40a、40bが断線していない場合は閉回路L1に電圧(誘導起電力)を発生させることができる。このため、断線を検出するためにリード端子30に電圧を印加する必要がないため、断線検出用のテスタ(電圧印加モジュール)が不要となり、当該テスタを他の検査のために使用することができる。テスタを有効活用できる。また、上記の半導体装置110の断線検出方法では、動作確認工程の段階で、断線の有無を判定可能な出力信号が比較器18aの出力端子Voutから出力される。このため、1度に2種類の検査を実施でき、半導体装置110の検査時間を短縮することができる。また、断線の有無は、比較器18aの出力端子Voutから出力されるため、電流測定用の電極パッド(いわゆる検査専用パッド)を設ける必要がなくなり、半導体チップのレイアウトの自由度が向上する。
(変形例1)
次に、図2を参照して変形例1の半導体チップ200について説明する。以下では、実施例1と相違する点について説明し、実施例1と同一の構成には同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。これは、実施例2についても同様である。半導体チップ200は、複数のリード端子と共に樹脂11によりパッケージングされており、これにより半導体装置210を構成している。変形例1では、半導体チップ200が電極パッド62と配線68を備えており、半導体装置210がリード端子82を備えている点で、実施例1の半導体装置110と異なっている。電極パッド62は、電極パッド12aに対して電極パッド12bと反対側(即ち、図2の上側)に、電極パッド12aに隣接して配置されている。同様に、リード端子82は、リード端子30に対してリード端子80と反対側(即ち、図2の上側)に、リード端子30に隣接して配置されている。電極パッド62は、ワイヤ92によりリード端子82の一端にボンディングされている。配線68は、電極パッド62と集積回路50を接続している。リード端子82の他端には、電流源72が接続可能となっている。電流源72は、動作確認工程において半導体装置210の良否を検査するための電流源である。電流源72は、電流源70と同じタイミングで、ワイヤ92に図2の左方向に向かう電流I3を供給する。動作確認工程における所定の時間の間は、電流源72は、一定の変化率で増加する電流I3を供給する。なお、電流I3は、「誘導起電力発生電流」の一例に相当する。
電流源72により電流I3がワイヤ92を左方向に流れると、ワイヤ92の周囲に発生した磁界が閉回路L1を半導体チップ200の下面から上面に向かう方向に貫通する。これにより、ワイヤ40a、40bが断線していない場合は、閉回路L1に電磁誘導により誘導起電力Ve2が発生する。ワイヤ92の周囲に発生した磁界が閉回路L1を貫通する方向は、電流I1によりワイヤ90の周囲に発生した磁界が閉回路L1を貫通する方向と同じである。このため、抵抗体16aの両端には、Ve1+Ve2の電圧がかかることになり、比較器18aの非反転入力端子Vin+には、Ve1+Ve2の入力電圧Vin1が入力される。
この構成によっても、実施例1と同様の作用効果を奏することができる。また、このように、閉回路L1の両隣に位置する2つのワイヤ90、92に電流を供給することにより、閉回路L1を貫通する磁束密度を増加させ、閉回路L1に発生する誘導起電力を増加させることができる。このため、1つのワイヤに流せる電流に制限があるなどの理由により閉回路L1に十分な誘導起電力を生じさせることができない場合であっても、2つのワイヤに電流を供給することにより、閉回路L1に十分な大きさの誘導起電力を生じさせることができ、比較器18aの出力端子Voutから正確な出力信号を得ることができる。なお、電流を供給するワイヤの数は2つに限られず、3つ以上であってもよい。
次に、図3を参照して実施例2の半導体チップ300について説明する。半導体チップ300は、複数のリード端子と共に樹脂11によりパッケージングされており、これにより半導体装置310を構成している。実施例2では、半導体チップ300が、半導体チップ100が備える各部材に加えて、電極パッド12cと、配線14cと、抵抗体16bと、比較器18bと、スイッチSW4、SW5を備える点で実施例1の半導体チップ100と異なっている。
電極パッド12cは、電極パッド12bと電極パッド60の間に配置されている。電極パッド12cは、ワイヤ40cによりリード端子30の一端にボンディングされている。即ち、電極パッド12a、12b、12cは、それぞれ同一のリード端子30にトリプルボンディングされている。配線14cは、電極パッド12cと集積回路50を接続している。これにより、リード端子30に電源電圧が印加されると、配線14a、14b、14cを介して集積回路50にダブルボンディング時よりもさらに大きな電流を供給することができる。配線14cは配線14aと点B1で合流して1つの配線となっている。なお、電極パッド12cは「第4電極パッド」の一例に相当する。
抵抗体16bは、抵抗値R2を有する抵抗体であり、配線14aの点B4と配線14cの点B5の間に接続されている。比較器18bは、閾値付き比較器であり、抵抗体16bの高電位側の電圧と低電位側の電圧を比較し、その結果を2値信号で出力する。抵抗体16bの一端が比較器18bの非反転入力端子Vin+に接続され、他端が反転入力端子Vin−に接続されている。比較器18bの出力端子Voutは、半導体チップ300内部のレジスタ22bに接続されている。非反転入力端子Vin+には抵抗体16bの両端にかかる電圧Vin2(以下では、「入力電圧Vin2」とも称する)が入力される。出力端子Voutは、入力電圧Vin2が閾値を上回る場合はH信号を出力し、閾値を下回る場合はL信号を出力する。出力信号は、レジスタ22bに記憶される。なお、抵抗体16bは「第2抵抗体」の一例に相当し、比較器18bは「第2比較器」の一例に相当する。
スイッチSW4は、抵抗体16bに隣接して点B4と点B5の間に設けられている。スイッチSW4がオンのときは、リード端子30と電極パッド12aと抵抗体16bとスイッチSW4と電極パッド12cが、ワイヤ40a、40cと配線14a、14cにより接続された閉回路L2が形成される。スイッチSW5は、配線14cの点B1と点B5の間に設けられている。また、本実施例では、配線14aにおいて、点B4は点B2よりも集積回路50側に位置している。この場合、スイッチSW1は、点B1と点B4の間に接続される。コントローラ24は、スイッチSW1〜SW3に加えて、スイッチSW4、SW5のオン・オフを制御する。具体的には、コントローラ24は、スイッチSW1〜SW5を制御して、次の3つのケースの回路のいずれかに切替える。即ち、ケース1では、スイッチSW2をオンし、スイッチSW1、SW3〜SW5をオフする。ケース2では、スイッチSW4をオンし、スイッチSW1〜SW3、SW5をオフする。ケース3では、スイッチSW1、SW3、SW5をオンし、スイッチSW2、SW4をオフする。これにより、ケース1では、閉回路L1が形成される一方で閉回路L2が形成されず、また、電極パッド12a〜12cが集積回路50から電気的に分離される。ケース2では、閉回路L2が形成される一方で閉回路L1が形成されず、また、電極パッド12a〜12cが集積回路50から電気的に分離される。ケース3では、閉回路L1、L2が形成されない一方で、電極パッド12a〜12cが集積回路50に接続される。なお、閉回路L2は、「第2閉回路」の一例に相当する。
ワイヤ40a〜40cの断線検出方法について説明する。動作確認工程において、コントローラ24が上記のケース1の回路に切替える場合は、実施例1においてコントローラ24がスイッチSW2をオンする場合と同様である。ケース1の回路を用いることで、ワイヤ40a、40bの断線を検出することができる。一方、コントローラ24が上記のケース2の回路に切替えると、電流源70がリード端子80に一定の変化率で増加する電流I1を供給する。
ワイヤ40a、40cが断線していない場合は、閉回路L2に電磁誘導により一定の値を有する誘導起電力Ve3が発生する。このため、閉回路L2には時計回りに誘導電流I4(=Ve3/R2)が流れる。閉回路L2の面積は閉回路L1の面積よりも大きいため、誘導起電力Ve3は誘導起電力Ve1よりも大きい。抵抗体16bの両端には誘導起電力Ve3と等しい電圧がかかるため、入力電圧Vin2は誘導起電力Ve3と等しい。比較器18bの閾値は、0より大きく、Ve3より小さい値となるように予め設定されている。これにより、入力電圧Vin2(=Ve3)が閾値を上回るため、比較器18bの出力端子VoutはH信号を出力する。出力信号はレジスタ22bに記憶される。一方、ワイヤ40a、40cの少なくとも一方が断線している場合は、閉回路L2には誘導起電力が発生しない。このため、抵抗体16bの両端には電位差が生じず、入力電圧Vin2は0[V]となる。従って、Vin2(=0)が閾値を下回るため、出力端子VoutはL信号を出力する。出力信号はレジスタ22bに記憶される。
断線の有無は、レジスタ22bに記憶されている出力信号を読み出すことで検出できる。読み出し値がH信号の場合はワイヤ40a、40cが断線していないと判定し、L信号の場合はワイヤ40a、40cの少なくとも一方が断線していると判定する。
断線検出検査において断線が検出されなかった半導体装置310は、その他の検査を経て良品と判定されると、基板に実装される。基板に実装後の半導体装置310を通常使用する場合は、まず、コントローラ24が上記のケース3の回路に切替える。次に、リード端子30に電源電圧を印加して、電極パッド12a〜12cに電圧を印加する。これにより、リード端子30から配線14a〜14cを介して集積回路50に電流が供給される。
上記の構成によっても、実施例1と同様の作用効果を奏することができる。また、コントローラ24は、スイッチSW2とスイッチSW4を同時にオンすることがないため、閉回路L1と閉回路L2が同時に形成されることがない。従って、電磁誘導により閉回路L1、L2の両方に誘導電流I2、I4がそれぞれ流れることによる相互干渉(例えば、ワイヤ40bを流れる誘導電流I2の周囲に発生する磁界が閉回路L2を貫通して新たな誘導起電力が生じる現象)を回避できる。このため、ワイヤ40a〜40cの断線を適切に検出できる。また、コントローラ24は、ワイヤ40a〜40cの断線を検出する場合(ケース1、2)と、半導体装置310を通常使用する場合(ケース3)とで、スイッチSW1〜SW5を切替える。これにより、ワイヤ40a〜40cの断線を検出する場合は閉回路L1又は閉回路L2を流れる誘導電流が集積回路50側に流れることを抑制でき、一方、半導体装置310を通常使用する場合はリード端子30から配線14a〜14cを介して集積回路50に流れる電流が抵抗体16a、16b側と比較器18a、18b側に流れ込むことを抑制できる。このため、比較器18a、18bの各出力端子Voutから正確な出力信号を出力でき、ワイヤ40a〜40cの断線検出の信頼性が向上する。
以上、本明細書が開示する技術の実施例について詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、本明細書が開示する半導体装置及びその製造方法は、上記の実施例を様々に変形、変更したものが含まれる。
例えば、上記の実施例及び変形例では、閉回路に隣接するリード端子に電流を供給して磁界を発生させたが、磁界を発生させる構成はこれに限られない。例えば、半導体装置の近傍に電線を配置し、その電線に電流を供給することで、閉回路に磁束を印加してもよい。また、半導体装置の近傍に磁石を配置することで、閉回路に磁束を印加してもよい。なお、上記の実施例、変形例において、電流を供給するリード端子は、磁界が閉回路を貫通する構成であれば、閉回路に隣接している必要はない。
また、上記の実施例及び変形例では、抵抗体と比較器を利用してワイヤの断線を検出したが、この構成に限られない。例えば、電流計を用いてワイヤの断線を検出してもよい。また、同一のリード端子にボンディングされるワイヤの数は4つ以上であってもよい。即ち、本明細書が開示する技術は、マルチボンディングされているワイヤの断線検出に利用することができる。また、半導体装置を基板に実装した後で断線検出検査を行ってもよい。また、半導体チップは、樹脂の代わりにセラミックでパッケージされていてもよい。
また、実施例2の半導体チップ300において、配線14bと配線14cの間に抵抗体を接続し、抵抗体の両端に、当該抵抗体の両端にかかる電圧を比較する閾値付きの比較器(以下、比較器18cと称する)を接続してもよい。抵抗体に隣接してスイッチ(以下、スイッチSW6と称する)を接続し、リード端子30と電極パッド12bとスイッチSW6と抵抗体と電極パッド12cがワイヤ40b、40cと配線14b、14cにより接続された閉回路(以下、閉回路L3と称する)を形成してもよい。コントローラ24が、スイッチSW1〜SW6を制御して、3つの閉回路L1〜L3のうち1つの閉回路が形成される場合は残り2つの閉回路を形成せず、また、電極パッド12a〜12cを集積回路50から電気的に分離してもよい。この構成によると、ワイヤ40a〜40cのどのワイヤが断線しているか特定することができる。例えば、閉回路L1を形成したときに比較器18aからL信号が出力され、閉回路L2を形成したときに比較器18bからL信号が出力され、閉回路L3を形成したときに比較器18cからH信号が出力された場合を考える。この場合、比較器18a、18bからの出力信号だけでは、ワイヤ40a、40b、40cのいずれかが断線していることは検出できるものの、どのワイヤが断線しているかまでは特定することはできない。しかしながら、比較器18cの出力信号がHであることから、ワイヤ40aのみが断線していることを特定できる。従来は、トリプルボンディングされているワイヤの中から断線しているワイヤを検出するためには、半導体チップをパッケージングしている樹脂を剥がして目視などにより直接調べていた。しかしながら、上記の構成によると、樹脂を剥がすことなく、断線している1つのワイヤを特定することができる。
本明細書が開示する半導体装置の構成を以下に列挙する。半導体チップは、少なくとも以下の(1)の状態と(2)の状態を切替えるように構成されているスイッチ群をさらに備えている。
(1)第1電極パッドと第2電極パッドを半導体チップ内の回路から電気的に分離し、第1閉回路を形成する状態。
(2)第1電極パッドと第2電極パッドを上記の回路に接続し、第1閉回路を形成しない状態。
この構成によると、スイッチ群は、第1閉回路を形成する場合は、第1電極パッドと第2電極パッドを半導体チップ内の回路から電気的に分離するため、電磁誘導により第1閉回路を流れる誘導電流が当該回路側に流れることを抑制できる。また、スイッチ群は、第1閉回路を形成しない場合は、第1電極パッドと第2電極パッドを半導体チップ内の回路に接続する。このため、第1リード端子に電源電圧を印加することで第1電極パッドと第2電極パッドのそれぞれを流れる電流が当該回路側に適切に供給され、第1電流検出器側に流れこむことを抑制することができる。このため、ワイヤの断線を適切に検出できる。
本明細書が開示する一例の半導体チップでは、第1電流検出器が、第1抵抗体と第1比較器を有する。第1抵抗体は、第1電極パッドと第2電極パッドの間に接続されている。第1比較器は、第1抵抗体の高電位側電圧と低電位側電圧を比較する。この構成によると、第1比較器の閾値を、0よりも大きく、かつ、第1閉回路に誘導起電力が発生するときに第1抵抗体にかかる電圧よりも小さい値に設定することにより、第1閉回路に誘導電流が流れる場合(即ち、ワイヤが断線していない場合)と流れない場合(即ち、ワイヤが断線している場合)とで、第1比較器が異なる出力を示す。このため、第1比較器の出力を調べることによりワイヤの断線を容易に検出することができる。
本明細書が開示する一例の半導体チップは、第4電極パッドと、第2電流検出器をさらに備える。第4電極パッドは、第1電極パッドと第2電極パッドがワイヤボンディングされる第1リード端子にワイヤボンディングされる。第2電流検出器は、第1電極パッドと第4電極パッドの間に接続されている。第2電流検出器は、第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電したときに第1リード端子と第1電極パッドと第2電流検出器と第4電極パッドを巡る第2閉回路を流れる誘導電流が閾値を上回る場合と閾値を下回る場合で出力が異なるように構成されている。上記の半導体チップでは、第4電極パッドが第1リード端子にワイヤボンディングされると、第1リード端子、第1電極パッド、第2電流検出器、第4電極パッドを巡る第2閉回路が形成される。このため、第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電して第2閉回路を貫通する磁束を変化させることにより、第2閉回路を構成するワイヤ(即ち、第1、第4電極パッドのそれぞれを第1リード端子とボンディングしているワイヤ)の断線を検出することができる。第1閉回路を構成するワイヤだけではなく、第2閉回路を構成するワイヤの断線も検出できる。
本明細書が開示する一例の半導体チップは、少なくとも以下の(1)の状態と(2)の状態と(3)の状態を切替えるように構成されているスイッチ群をさらに備える。
(1)第1電極パッドと第2電極パッドと第4電極パッドを半導体チップ内の回路から電気的に分離し、第1閉回路を形成するとともに第2閉回路を形成しない状態。
(2)第1電極パッドと第2電極パッドと第4電極パッドを上記の回路から電気的に分離し、第2閉回路を形成するとともに第1閉回路を形成しない状態。
(3)第1電極パッドと第2電極パッドと第4電極パッドを上記の回路に接続し、第1閉回路と第2閉回路を形成しない状態。
この構成によると、第1閉回路が形成されるときは第2閉回路が形成されず、逆に、第2閉回路が形成されるときは第1閉回路が形成されない。このため、電磁誘導が第1閉回路と第2閉回路の両方で同時に起こることがない。従って、第1閉回路と第2閉回路の両方を構成しているワイヤに、方向が互いに反対の2つの誘導電流が流れ込む事態を回避できる。また、第1閉回路と第2閉回路の両方に誘導電流が流れることで相互に干渉することを防止することができる。具体的には、一方の閉回路を流れる誘導電流により生じた磁界が他方の閉回路を貫通することで、新たな電磁誘導により他方の閉回路に新たな誘導電流が流れ、他方の閉回路を流れる誘導電流と干渉するといった事態を回避できる。このため、第1、第2閉回路のそれぞれのワイヤの断線を適切に検出できる。また、この構成によると、スイッチ群は、第1又は第2閉回路のいずれかが形成される場合は、第1、第2、及び第4電極パッドを半導体チップ内の回路から電気的に分離する。このため、第1又は第2閉回路のいずれかを流れる誘導電流が当該回路側に流れることを抑制できる。また、スイッチ群は、第1及び第2閉回路を形成しない場合は、第1、第2、及び第4電極パッドを半導体チップ内の回路に接続する。このため、第1リード端子に電源電圧を印加すると、第1、第2、及び第4電極パッドのそれぞれを流れる電流は、当該回路側に適切に供給され、第1及び第2電流検出器側に流れこむことを抑制することができる。
本明細書が開示する一例の半導体チップでは、第1電流検出器が、第1抵抗体と第1比較器を有する。第1抵抗体は、第1電極パッドと第2電極パッドの間に接続されている。第1比較器は、第1抵抗体の高電位側電圧と低電位側電圧を比較する。また、第2電流検出器は、第2抵抗体と第2比較器を有する。第2抵抗体は、第1電極パッドと第4電極パッドの間に接続されている。第2比較器は、第2抵抗体の高電位側電圧と低電位側電圧を比較する。この構成によると、第1比較器の閾値を0よりも大きく、かつ、第1閉回路に誘導起電力が発生するときに第1抵抗体にかかる電圧よりも小さい値に設定することにより、第1比較器は、第1閉回路に誘導電流が流れるか否かで異なる出力を示す。同様に、第2比較器の閾値を0よりも大きく、かつ、第2閉回路に誘導起電力が発生するときに第2抵抗体にかかる電圧よりも小さい値に設定することにより、第2比較器は、第2閉回路に誘導電流が流れるか否かで異なる出力を示す。このため、第1比較器と第2比較器のそれぞれの出力を調べることによりワイヤの断線を容易に検出することができる。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
12a、12b:電極パッド
14a、14b:配線
16a:抵抗体
18a:比較器
30:リード端子
50:集積回路
100:半導体チップ
110:半導体装置

Claims (8)

  1. 半導体チップであって、
    第1リード端子にワイヤボンディングされる第1電極パッドと、
    前記第1リード端子にワイヤボンディングされる第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと前記第2電極パッドの間に接続されている第1電流検出器と、
    前記第1リード端子とは別の第2リード端子にワイヤボンディングされる第3電極パッドと、を備え、
    前記第1電流検出器は、前記第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電したときに前記第1リード端子と前記第1電極パッドと前記第1電流検出器と前記第2電極パッドを巡る第1閉回路を流れる誘導電流が閾値を上回る場合と閾値を下回る場合で出力が異なるように構成されている、半導体チップ。
  2. 少なくとも以下の(1)の状態と(2)の状態を切替えるように構成されているスイッチ群をさらに備える、請求項1に記載の半導体チップ。
    (1)前記第1電極パッドと前記第2電極パッドを半導体チップ内の回路から電気的に分離し、前記第1閉回路を形成する状態。
    (2)前記第1電極パッドと前記第2電極パッドを前記回路に接続し、前記第1閉回路を形成しない状態。
  3. 前記第1電流検出器は、
    前記第1電極パッドと前記第2電極パッドの間に接続されている第1抵抗体と、
    前記第1抵抗体の高電位側電圧と低電位側電圧を比較する第1比較器と、を有する、請求項2に記載の半導体チップ。
  4. 前記第1リード端子にワイヤボンディングされる第4電極パッドと、
    前記第1電極パッドと前記第4電極パッドの間に接続されている第2電流検出器と、をさらに備え、
    前記第2電流検出器は、前記第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電したときに前記第1リード端子と前記第1電極パッドと前記第2電流検出器と前記第4電極パッドを巡る第2閉回路を流れる誘導電流が閾値を上回る場合と閾値を下回る場合で出力が異なるように構成されている、請求項1に記載の半導体チップ。
  5. 少なくとも以下の(1)の状態と(2)の状態と(3)の状態を切替えるように構成されているスイッチ群をさらに備える、請求項4に記載の半導体チップ。
    (1)前記第1電極パッドと前記第2電極パッドと前記第4電極パッドを半導体チップ内の回路から電気的に分離し、前記第1閉回路を形成するとともに前記第2閉回路を形成しない状態。
    (2)前記第1電極パッドと前記第2電極パッドと前記第4電極パッドを前記回路から電気的に分離し、前記第2閉回路を形成するとともに前記第1閉回路を形成しない状態。
    (3)前記第1電極パッドと前記第2電極パッドと前記第4電極パッドを前記回路に接続し、前記第1閉回路と前記第2閉回路を形成しない状態。
  6. 前記第1電流検出器は、
    前記第1電極パッドと前記第2電極パッドの間に接続されている第1抵抗体と、
    前記第1抵抗体の高電位側電圧と低電位側電圧を比較する第1比較器と、を有しており、
    前記第2電流検出器は、
    前記第1電極パッドと前記第4電極パッドの間に接続されている第2抵抗体と、
    前記第2抵抗体の高電位側電圧と低電位側電圧を比較する第2比較器と、を有する、請求項5に記載の半導体チップ。
  7. 請求項1に記載の半導体チップに形成されている前記第1電極パッド及び前記第2電極パッドのそれぞれと前記第1リード端子とをワイヤボンディングしている2つのワイヤの断線を検出する断線検出方法であって、
    前記第2リード端子から前記第3電極パッドに誘導起電力発生電流を通電し、前記誘導起電力発生電流通電時の前記第1電流検出器の出力を検出する、断線検出方法。
  8. リード端子に第1ワイヤでワイヤボンディングされる第1電極パッドと、
    前記リード端子に第2ワイヤでワイヤボンディングされる第2電極パッドと、
    前記第1電極パッドと前記第2電極パッドの間に接続されている電流検出器と、を備える半導体チップの第1ワイヤと第2ワイヤの少なくとも一方の断線を検出する断線検出方法であって、
    前記リード端子と前記第1ワイヤと前記第1電極パッドと前記電流検出器と前記第2電極パッドと前記第2ワイヤを巡る閉回路を貫く方向に磁束を印加する磁束印加工程と、
    前記磁束印加工程において前記電流検出器が出力する出力値に応じて第1ワイヤと第2ワイヤの少なくとも一方の断線を検出する断線検出工程と、を備える、断線検出方法。
JP2015022068A 2015-02-06 2015-02-06 半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法 Expired - Fee Related JP6135690B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015022068A JP6135690B2 (ja) 2015-02-06 2015-02-06 半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法
US15/016,596 US9726709B2 (en) 2015-02-06 2016-02-05 Semiconductor chip and method for detecting disconnection of wire bonded to semiconductor chip

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015022068A JP6135690B2 (ja) 2015-02-06 2015-02-06 半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016145720A JP2016145720A (ja) 2016-08-12
JP6135690B2 true JP6135690B2 (ja) 2017-05-31

Family

ID=56566717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015022068A Expired - Fee Related JP6135690B2 (ja) 2015-02-06 2015-02-06 半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9726709B2 (ja)
JP (1) JP6135690B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111630401B (zh) * 2018-01-26 2022-09-16 三菱电机株式会社 半导体装置以及电力变换装置
JP2020035804A (ja) 2018-08-28 2020-03-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置、電子回路および半導体装置の検査方法
WO2021111572A1 (ja) * 2019-12-05 2021-06-10 サンケン電気株式会社 半導体装置
JP7392533B2 (ja) 2020-03-18 2023-12-06 株式会社リコー 検査システム
JP2021196284A (ja) * 2020-06-16 2021-12-27 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
FR3117266B1 (fr) 2020-12-09 2023-10-27 St Microelectronics Crolles 2 Sas Dispositif électroniques comprenant des liaisons filaires

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09113566A (ja) * 1995-10-16 1997-05-02 Nissan Motor Co Ltd 半導体基板の接続状態検出装置
JP3011234B2 (ja) * 1997-10-07 2000-02-21 日本電気株式会社 半導体装置のワイヤオープン検出方法及び装置
JP3285568B2 (ja) * 1999-05-24 2002-05-27 日本電産リード株式会社 基板の配線検査装置および配線検査方法
JP2005277201A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Renesas Technology Corp 半導体装置、半導体設計装置および半導体装置の製造方法
JP2006071519A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Hioki Ee Corp 回路基板検査方法および回路基板検査装置
JP2006170878A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Sony Corp 電子回路デバイス、および、その測定方法
JP2009025044A (ja) * 2007-07-17 2009-02-05 Toshiba Corp 半導体装置
JP2009115719A (ja) * 2007-11-08 2009-05-28 Nidec-Read Corp 基板検査装置及び基板検査方法
JP2009158750A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Fujifilm Corp ワイヤボンディング方法及び半導体装置
JP5341717B2 (ja) * 2009-11-10 2013-11-13 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体パッケージ及びシステム
JP2013225535A (ja) 2012-04-19 2013-10-31 Yokogawa Electric Corp 半導体装置および半導体試験装置
JP6300488B2 (ja) * 2013-10-22 2018-03-28 キヤノン株式会社 撮像装置、固体撮像素子及びカメラ

Also Published As

Publication number Publication date
US9726709B2 (en) 2017-08-08
US20160231373A1 (en) 2016-08-11
JP2016145720A (ja) 2016-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6135690B2 (ja) 半導体チップと、その半導体チップにボンディングされるワイヤの断線検出方法
US11112467B2 (en) Magnetic field sensor circuit in package with means to add a signal from a coil
JP6467696B2 (ja) 電流測定装置
KR20120066008A (ko) 자기장 센서
TW201403077A (zh) 設於基板內之電子零件之端子判別方法及端子判別裝置
US20200326399A1 (en) Magnetic sensor module
JP2000503124A (ja) 集積回路を検査する方法
US5894224A (en) Method of testing a connection which includes a conductor in an integrated circuit
US9664728B2 (en) Detection of defective electrical connections
CN109997046B (zh) 电阻测量装置及电阻测量方法
US11243270B2 (en) Sensor chip and associated calibration lead frame
JP7344382B2 (ja) 制御装置用の給電線エラー検知のための監視装置
US20120025863A1 (en) Solder joint inspection
WO2005059926A1 (ja) 同軸ケーブル、より対線ケーブル、同軸ケーブルユニット、試験装置、及びcpuシステム
JP5326898B2 (ja) 集積回路における外部端子の開放/短絡検査方法及び集積回路における外部端子の開放/短絡検査装置
US10192798B2 (en) Integrated circuit die having a split solder pad
JP7392533B2 (ja) 検査システム
TW201843477A (zh) 磁性感測電路、磁性感測電路的檢查方法以及半導體裝置的製造方法
JP2019100951A (ja) 半導体装置の検査方法、及び検査装置
JP5811803B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2007234816A (ja) 半導体装置
JP2006170878A (ja) 電子回路デバイス、および、その測定方法
JP2004184328A (ja) 半導体試験装置及び半導体試験方法
JPH09113566A (ja) 半導体基板の接続状態検出装置
JP2884780B2 (ja) Tab型半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170328

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170329

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170410

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6135690

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees