JP6121420B2 - 戦略的にインプリントされたb側特徴を備えたガラス基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
0.5nm未満の表面粗さRa1を有する平面A側表面と、
前記平面A側表面の反対側の平面B側表面と、を有し、
前記B側表面は、
Ra2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2と、
前記B側表面から貫通することなく前記ガラス基板の厚みS内へ伸長する前記B側表面に形成された複数のテクスチャリング特徴と、を有し、
前記複数のテクスチャリング特徴は0.05μm≦H≦3.75μmの山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであることを特徴とする。
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、少なくとも前記A側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成され、固化後に前記平面A側表面が0.5nm未満の表面粗さRa1を有するステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面に形成するステップと、を含み、
前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸び、
前記複数のテクスチャリング特徴は、0.05μm≦H≦3.75μmとなるような山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであり、
前記B側表面はRa2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2を有する。
前記複数のテクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記ガラス基板を前記アイソパイプの根元から延びるランディング上に向けることによって形成され、前記ランディングに接触する前記溶融ガラスが前記ガラス基板のB側表面に前記テクスチャリング特徴を形成する。
前記複数のテクスチャリング特徴は、前記溶融ガラスが前記アイソパイプの前記第2の側面上に流れ且つ前記パターニング特徴が前記アイソパイプの前記第2の側面の上の溶融ガラスの流れを乱すとともに、前記ガラス基板の前記B側表面に形成される。
本発明の第3の態様はガラス基板を形成する方法に関連し、該ガラス基板を形成する方法は、
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、前記A側表面又は前記B側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成されるステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、少なくとも1つのレーザ光源の光ビームを前記ガラス基板の前記B側表面の上に向けるステップと、を含み、
前記少なくとも1つのレーザ光源の前記光ビームは、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面にインプリントして、前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸びる。
Claims (8)
- ガラス基板であって、
0.5nm未満の表面粗さRa1を有する平面A側表面と、
前記平面A側表面の反対側の平面B側表面と、を有し、
前記B側表面は、
Ra2:Ra1の比が1.5以上である表面粗さRa2と、
前記ガラス基板の厚みSを貫通することなく板前記B側表面から前記ガラス基板の厚みS内へ伸長する前記B側表面に形成された複数のテクスチャリング特徴と、を有し、
前記複数のテクスチャリング特徴は0.05μm≦H≦3.75μmの山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであることを特徴とするガラス基板。 - H≦0.04*Sであることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- 隣接する前記テクスチャリング特徴の間の前記中心間のピッチPは25mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- 前記ガラス基板の前記B側表面は、平面面積AとC≦0.5*Aである接触面面積Cとを有することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- 前記ガラス基板の前記B側表面は100μmより大きい欠陥サイズを有する表面欠陥を含まないことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- ガラス基板を形成する方法であって、
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、少なくとも前記A側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成され、固化後に前記平面A側表面が0.5nm未満の表面粗さRa1を有するステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面に形成するステップと、を含み、
前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸び、
前記複数のテクスチャリング特徴は、0.05μm≦H≦3.75μmとなるような山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであり、
前記B側表面はRa2:Ra1の比が1.5以上である表面粗さRa2を有することを特徴とする方法。 - 前記複数のテクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記温度T1である間に第1のサイズD1を有し、前記ガラス基板が室温に冷却されるときD1>D2である第2のサイズD2を有することを特徴とする請求項6に記載の方法。
- ガラス基板を形成する方法であって、
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、前記A側表面又は前記B側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成されるステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、少なくとも1つのレーザ光源の光ビームを前記ガラス基板の前記B側表面の上に向けるステップと、を含み、
前記少なくとも1つのレーザ光源の前記光ビームは、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面にインプリントして、前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸びること、並びに
前記複数のテクスチャリング特徴は0.05μm≦H≦3.75μmの山頂谷底間の高さHを有し、
前記平面A側表面は0.5nm未満の表面粗さRa1を有し、
前記B側表面はRa2:Ra1の比が1.5以上である表面粗さRa2を有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmを有することを特徴とする方法。
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WO2017223034A1 (en) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | Corning Incorporated | Apparatus and method for glass delivery orientation |
US11691909B2 (en) * | 2016-11-30 | 2023-07-04 | Corning Incorporated | Textured glass for light extraction enhancement of OLED lighting |
EP4357298A2 (en) * | 2016-12-02 | 2024-04-24 | Molecular Imprints, Inc. | Configuring optical layers in imprint lithography processes |
TWI788338B (zh) * | 2017-04-04 | 2023-01-01 | 美商康寧公司 | 用於製造玻璃片的設備與方法及用於拉引玻璃帶的拉引設備 |
US20180312421A1 (en) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Corning Incorporated | Systems and methods for display formation using a mechanically pressed pattern |
CN211367401U (zh) * | 2017-05-12 | 2020-08-28 | Agc株式会社 | 弯曲基材及支承构件 |
WO2019089525A1 (en) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | Corning Incorporated | Methods of manufacturing glass ribbon |
US10964767B2 (en) * | 2018-04-11 | 2021-03-30 | Sakai Display Products Corporation | Organic EL display device and manufacturing method for organic EL display device |
US11402669B2 (en) | 2018-04-27 | 2022-08-02 | Apple Inc. | Housing surface with tactile friction features |
US11112827B2 (en) | 2018-07-20 | 2021-09-07 | Apple Inc. | Electronic device with glass housing member |
US11691912B2 (en) | 2018-12-18 | 2023-07-04 | Apple Inc. | Chemically strengthened and textured glass housing member |
US11372137B2 (en) | 2019-05-29 | 2022-06-28 | Apple Inc. | Textured cover assemblies for display applications |
CN112045314B (zh) * | 2019-06-05 | 2023-05-23 | 苹果公司 | 包括激光纹理化玻璃盖构件的电子设备 |
US10827635B1 (en) | 2019-06-05 | 2020-11-03 | Apple Inc. | Electronic device enclosure having a textured glass component |
US11109500B2 (en) | 2019-06-05 | 2021-08-31 | Apple Inc. | Textured glass component for an electronic device enclosure |
TW202138330A (zh) * | 2020-01-27 | 2021-10-16 | 美商康寧公司 | 玻璃之雷射刻紋 |
CN113798680B (zh) * | 2020-06-15 | 2023-06-23 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 激光拉丝方法及激光拉丝装置 |
US11897809B2 (en) | 2020-09-02 | 2024-02-13 | Apple Inc. | Electronic devices with textured glass and glass ceramic components |
WO2022072257A1 (en) * | 2020-10-02 | 2022-04-07 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for manufacturing a glass ribbon |
KR20220092664A (ko) * | 2020-12-24 | 2022-07-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 윈도우 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2999013A (en) | 1959-11-03 | 1961-09-05 | Meth Max | Method of making glass non-reflective |
US3554725A (en) | 1965-06-24 | 1971-01-12 | Libbey Owens Ford Co | Patterned glass sheet apparatus |
DE1903756B1 (de) | 1969-01-25 | 1970-06-04 | Floatglas Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Flachglasbandes |
US3951633A (en) | 1974-12-23 | 1976-04-20 | Combustion Engineering, Inc. | Method for producing patterned glass on a float ribbon |
JPS61108176A (ja) | 1984-11-01 | 1986-05-26 | Fuji Electric Co Ltd | 粗面化方法 |
US5119258A (en) | 1990-02-06 | 1992-06-02 | Hmt Technology Corporation | Magnetic disc with low-friction glass substrate |
JP2937569B2 (ja) | 1991-08-30 | 1999-08-23 | セントラル硝子株式会社 | 基材表面への微細凹凸形成法 |
US5493123A (en) | 1994-04-28 | 1996-02-20 | Particle Measuring Systems, Inc. | Surface defect inspection system and method |
US5792327A (en) | 1994-07-19 | 1998-08-11 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
KR20000036175A (ko) | 1996-09-17 | 2000-06-26 | 알프레드 엘. 미첼슨 | 텍스처화된 표면 및 이의 제조방법 |
AUPP699798A0 (en) | 1998-11-06 | 1998-12-03 | Pacific Solar Pty Limited | Thin films with light trapping |
JP2000268348A (ja) | 1999-03-18 | 2000-09-29 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
US6796146B2 (en) | 2000-06-02 | 2004-09-28 | Guardian Industries Corp. | Method for manufacturing patterned glass products |
JP2002072922A (ja) | 2000-06-13 | 2002-03-12 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ用ガラス基板およびその選別方法 |
JP2004012544A (ja) | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Sharp Corp | アクティブマトリクス基板及びその製造方法、並びにそのアクティブマトリクス基板を用いた表示装置 |
US6997018B2 (en) | 2003-06-02 | 2006-02-14 | Ferro Corporation | Method of micro and nano texturing glass |
JP4582498B2 (ja) | 2004-03-12 | 2010-11-17 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板 |
JP4752725B2 (ja) | 2005-11-17 | 2011-08-17 | 株式会社ニコン | ガラス基板およびその製造方法 |
FR2893610B1 (fr) | 2005-11-23 | 2008-07-18 | Saint Gobain | Procede de structuration de surface d'un produit verrier, produit verrier a surface structuree et utilisations |
US7685840B2 (en) | 2006-03-24 | 2010-03-30 | Corning Incorporated | Method of minimizing distortion in a sheet of glass |
US7818980B2 (en) | 2006-11-30 | 2010-10-26 | Corning Incorporated | Forming glass sheets with improved shape stability |
US7666508B2 (en) | 2007-05-22 | 2010-02-23 | Corning Incorporated | Glass article having a laser melted surface |
DE102008063554A1 (de) | 2008-12-05 | 2010-06-10 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Flachglas mit variierender Dicke |
US20100279067A1 (en) * | 2009-04-30 | 2010-11-04 | Robert Sabia | Glass sheet having enhanced edge strength |
US20100279068A1 (en) | 2009-05-04 | 2010-11-04 | Glen Bennett Cook | Embossed glass articles for anti-fingerprinting applications and methods of making |
US20100285272A1 (en) | 2009-05-06 | 2010-11-11 | Shari Elizabeth Koval | Multi-length scale textured glass substrates for anti-fingerprinting |
CN102414140B (zh) * | 2009-05-07 | 2015-07-08 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃基板及其制造方法 |
EP2258665A1 (en) | 2009-06-04 | 2010-12-08 | Corning Incorporated | In line glass patterning during fusion draw process |
EP2258664A1 (en) | 2009-06-04 | 2010-12-08 | Corning Incorporated | Vertical rolling apparatus and method for producing a textured glass sheet |
JPWO2011048979A1 (ja) | 2009-10-20 | 2013-03-14 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体及びその製造方法、並びに表示パネルの製造方法及びその製造方法により得られる表示パネル |
JP4891445B1 (ja) * | 2011-03-17 | 2012-03-07 | パナソニック電工株式会社 | 超精密複合加工装置および超精密複合加工方法 |
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