JP2014529570A - 戦略的にインプリントされたb側特徴を備えたガラス基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
0.5nm未満の表面粗さRa1を有する平面A側表面と、
前記平面A側表面の反対側の平面B側表面と、を有し、
前記B側表面は、
Ra2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2と、
前記B側表面から貫通することなく前記ガラス基板の厚みS内へ伸長する前記B側表面に形成された複数のテクスチャリング特徴と、を有し、
前記複数のテクスチャリング特徴は0.05μm≦H≦3.75μmの山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであることを特徴とする。
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、少なくとも前記A側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成され、固化後に前記平面A側表面が0.5nm未満の表面粗さRa1を有するステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面に形成するステップと、を含み、
前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸び、
前記複数のテクスチャリング特徴は、0.05μm≦H≦3.75μmとなるような山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであり、
前記B側表面はRa2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2を有する。
前記複数のテクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記ガラス基板を前記アイソパイプの根元から延びるランディング上に向けることによって形成され、前記ランディングに接触する前記溶融ガラスが前記ガラス基板のB側表面に前記テクスチャリング特徴を形成する。
前記複数のテクスチャリング特徴は、前記溶融ガラスが前記アイソパイプの前記第2の側面上に流れ且つ前記パターニング特徴が前記アイソパイプの前記第2の側面の上の溶融ガラスの流れを乱すとともに、前記ガラス基板の前記B側表面に形成される。
本発明の第3の態様はガラス基板を形成する方法に関連し、該ガラス基板を形成する方法は、
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、前記A側表面又は前記B側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成されるステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、少なくとも1つのレーザ光源の光ビームを前記ガラス基板の前記B側表面の上に向けるステップと、を含み、
前記少なくとも1つのレーザ光源の前記光ビームは、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面にインプリントして、前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸びる。
Claims (20)
- ガラス基板であって、
0.5nm未満の表面粗さRa1を有する平面A側表面と、
前記平面A側表面の反対側の平面B側表面と、を有し、
前記B側表面は、
Ra2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2と、
前記ガラス基板の厚みSを貫通することなく板前記B側表面から前記ガラス基板の厚みS内へ伸長する前記B側表面に形成された複数のテクスチャリング特徴と、を有し、
前記複数のテクスチャリング特徴は0.05μm≦H≦3.75μmの山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであることを特徴とするガラス基板。 - H≦0.04*Sであることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- 隣接する前記テクスチャリング特徴の間の前記中心間のピッチPは25mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- 前記ガラス基板の前記B側表面は、平面面積AとC≦0.5*Aである接触面面積Cとを有することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- 前記ガラス基板の前記B側表面は100μmより大きい欠陥サイズを有する表面欠陥を含まないことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。
- ガラス基板を形成する方法であって、
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、少なくとも前記A側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成され、固化後に前記平面A側表面が0.5nm未満の表面粗さRa1を有するステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面に形成するステップと、を含み、
前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸び、
前記複数のテクスチャリング特徴は、0.05μm≦H≦3.75μmとなるような山頂谷底間の高さHを有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmであり、
前記B側表面はRa2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2を有することを特徴とする方法。 - 前記複数のテクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記温度T1である間に第1のサイズD1を有し、前記ガラス基板が室温に冷却されるときD1>D2である第2のサイズD2を有することを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記テクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記ガラス基板の表面から選択的に熱を引き出すことによって形成されることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記テクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに少なくとも1つの圧縮ガスの流れを前記ガラス基板の前記B側表面上へ向けることによって前記ガラス基板の前記B側表面内に形成されることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記テクスチャリング特徴は、前記ガラス基板の前記B側表面をテクスチャリングローラに接触させることによって前記ガラス基板の前記B側表面内に形成され、前記テクスチャリングローラの接触面の少なくとも一部が前記B側表面上にインプリントされた前記テクスチャリング特徴に対応する複数のパターニング特徴を含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記テクスチャリングローラの温度T2はT2<T1となるように積極的に制御されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記テクスチャリングローラは静止しており、前記ガラス基板の前記B側表面は、前記テクスチャリングローラの前記接触面に接触するとき前記テクスチャリングローラの前記接触面に対して接線方向であることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記テクスチャリングローラは静止しており、前記ガラス基板の前記B側表面は、前記B側表面が約90°までの前記接触面との接触角を有するように、前記テクスチャリングローラの前記接触面上に向けられることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記テクスチャリングローラは、引き込みローラで前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに積極的に回転させられることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記ガラス基板は、アイソパイプの片側のみの上に前記溶融ガラスを流すことにより形成され、
前記複数のテクスチャリング特徴は、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記ガラス基板を前記アイソパイプの根元から延びるランディング上に向けることによって形成され、前記ランディングに接触する前記溶融ガラスが前記ガラス基板のB側表面に前記テクスチャリング特徴を形成することを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記ランディングの接触面の少なくとも一部は、前記B側表面にインプリントされた前記テクスチャリング特徴に対応する複数のパターニング特徴を含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記ガラス基板は前記溶融ガラスが前記アイソパイプの根元で再融合するようにアイソパイプの第1の側面及び前記アイソパイプの第2の側面上に前記溶融ガラスを流すことによって形成され、前記アイソパイプの前記第2の側面は前記ガラス基板の前記B側表面にインプリントされた前記テクスチャリング特徴に対応する複数のパターニング特徴を含み、
前記複数のテクスチャリング特徴は、前記溶融ガラスが前記アイソパイプの前記第2の側面上に流れ且つ前記パターニング特徴が前記アイソパイプの前記第2の側面の上の溶融ガラスの流れを乱すとともに、前記ガラス基板の前記B側表面に形成されることを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記複数のテクスチャリング特徴は、少なくとも1つのレーザ光源の光ビームを前記ガラス基板の前記B側表面の上に向けることによって前記ガラス基板の前記B側表面にて形成され、前記少なくとも1つのレーザ光源の前記光ビームは、前記ガラス基板からガラスを切除することなく、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面にインプリントすることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- ガラス基板を形成する方法であって、
ガラスバッチ材料を溶融して溶融ガラスを形成するステップと、
前記溶融ガラスをガラス基板に形成するステップであって、前記ガラス基板が平面A側表面及び前記平面A側表面の反対側の平面B側表面を有し、且つ前記ガラス基板が1013ポアズより大きい粘度に固化する前に、前記A側表面又は前記B側表面に機械的に接触することなく前記ガラス基板が形成されるステップと、
前記ガラス基板を下方向に引くステップと、
前記ガラス基板が600℃≦T1≦1200℃である温度T1である間に、少なくとも1つのレーザ光源の光ビームを前記ガラス基板の前記B側表面の上に向けるステップと、を含み、
前記少なくとも1つのレーザ光源の前記光ビームは、前記ガラス基板が前記下方向に引かれるとともに前記複数のテクスチャリング特徴を前記ガラス基板の前記B側表面にインプリントして、前記テクスチャリング特徴は、前記B側表面から前記ガラス基板の厚みのすべてに亘ることなく前記ガラス基板の前記厚みへ伸びることを特徴とする方法。 - 前記複数のテクスチャリング特徴は0.05μm≦H≦3.75μmの山頂谷底間の高さHを有し、
前記平面A側表面は0.5nm未満の表面粗さRa1を有し、
前記B側表面はRa2:Ra1の比が約1.5以上である表面粗さRa2を有し、
隣接する前記テクスチャリング特徴の間の中心間のピッチPは少なくとも一方向において少なくとも1.5mmを有することを特徴とする請求項19に記載の方法。
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