JP6109049B2 - 処理装置、位置決め装置の制御方法、物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、半導体露光装置100を示す図である。図2は、図1におけるウエハステージ
10の周辺を示す斜視図である。本実施例では、ステップ・アンド・スキャン型の露光装
置(処理装置)を説明する。
更を同時に行ってしまうと、ショット領域SBの露光(第2ショット領域の処理)開始時に制御偏差が十分に小さくなっていない可能性がある。そこで、本実施例では、露光開始時tSよりも時間T1以上早いタイミングt3(露光開始時tsよりもT1早いタイミングt2よりも前)で制御パラメータを変更する。つまり、制御パラメータ変更部54は、ショット領域SBの露光開始(処理の開始)のタイミングに関する(相関のある)情報を取得し、この情報にもとづいて、制御パラメータの変更を行う。
つぎに、リソグラフィ装置を利用した物品の製造方法について説明する。本明細書において、本明細書において「物品」は半導体デバイス、液晶表示デバイス、これらのデバイスを製造する時に使用するレチクル(マスク)、微細構造体など、リソグラフィのパターニングにより形成可能なものを意味する。
Claims (20)
- 移動体を位置決めする位置決め装置を有し、前記移動体上に配置された基板の第1領域に対して処理を行い、前記第1領域に対する処理のあと前記位置決め装置が前記移動体を移動させてから前記基板の第2領域に対して処理を行う処理装置であって、
前記位置決め装置は、
前記移動体の第1方向における位置を計測可能な第1計測手段及び第2計測手段と、
前記移動体を前記第1方向に駆動可能な駆動手段と、
前記第1計測手段または前記第2計測手段により計測された前記移動体の前記第1方向における位置を示す位置情報に基づいて、前記駆動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記移動体の前記第1方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて前記駆動手段を制御し、
前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報を、前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報へ切り替える場合、前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報の切り替えとは異なるタイミングで、かつ、前記第1領域に対する処理を終えた後の前記第2領域に対する処理の開始時よりも所定の時間以上早いタイミングで、前記制御パラメータの前記所定の値を変更することを特徴とする処理装置。 - 前記第1領域に対する処理を終えた後、かつ、前記第2領域に対する処理の開始前に、前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報を前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報に切り替えることを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
- 移動体を位置決めする位置決め装置を有し、前記移動体上に配置された基板の第1領域に対して処理を行い、前記第1領域に対する処理のあと前記位置決め装置が前記移動体を移動させてから前記基板の第2領域に対して処理を行う処理装置であって、
前記位置決め装置は、
前記移動体の第1方向における位置を計測可能な第1計測手段及び第2計測手段と、前記移動体を前記第1方向に駆動可能な駆動手段と、
前記第1計測手段または前記第2計測手段により計測された前記移動体の前記第1方向における位置を示す位置情報に基づいて、前記駆動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記移動体の前記第1方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて前記駆動手段を制御し、
前記第1領域に対する処理を終えた後かつ前記第2領域に対する処理を開始するまでの間において、
前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報を前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報へ切り替えることと、前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報の切り替えよりも早いタイミングで前記制御パラメータの前記所定の値を変更することと、を行うことを特徴とする処理装置。 - 前記制御パラメータは、比例ゲインKp、積分ゲインKi、微分ゲインKd、ノッチフィルタの周波数、およびローパスフィルタのカットオフ周波数のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記制御手段は、前記駆動手段の制御を行うためのPID制御部を備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記第1方向は高さ方向であって、前記第1計測手段および前記第2計測手段は、前記第1方向と交差する第2方向において互いに異なる位置に設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記制御手段は、前記移動体の前記第2方向における位置に関する情報に基づいて、前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報へ、前記駆動手段の制御に用いる位置情報の切り替えを行うことを特徴とする請求項6に記載の処理装置。
- 前記第1領域に対する処理を行うための第1位置から前記第2領域に対する処理を行うための第2位置へ、前記移動体を前記第2方向にステップ移動させることを特徴とする請求項6又は7に記載の処理装置。
- 前記第1計測手段および前記第2計測手段はそれぞれ干渉計であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記第1計測手段および前記第2計測手段はそれぞれ干渉計であって、
前記第1計測手段は前記移動体に設けられた第1ミラーの前記第1方向の位置の計測により前記位置情報を得、
前記第2計測手段は前記移動体に設けられた第2ミラーの前記第1方向の位置の計測により前記位置情報を得、
前記第2ミラーは、前記基板の配置される部分から見て前記第1ミラーとは反対側且つ前記第1ミラーから前記第2方向側に離れて配置されていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の処理装置。 - 前記処理装置はリソグラフィ装置であって、前記処理として前記基板にパターンを形成する処理を行うためのパターニング手段を備えることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の処理装置。
- 前記リソグラフィ装置は、ステップ・アンド・スキャン型の露光装置、ステップ・アンド・リピート型の露光装置、インプリント装置、荷電粒子線描画装置から選択されるいずれかであることを特徴とする請求項11に記載の処理装置。
- 物品の製造方法において、
請求項11または12に記載の処理装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された前記基板を処理する工程とを有し、該処理した基板を用いて物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 - 移動体上に配置された基板の第1領域に対して処理を行い、前記第1領域に対する処理のあと前記移動体を移動させてから前記基板の第2領域に対して処理を行う処理装置に用いられる位置決め装置であって、前記移動体の第1方向における位置を計測可能な第1計測手段および第2計測手段と、前記移動体を前記第1方向に駆動可能な駆動手段と、前記第1計測手段または前記第2計測手段により計測された前記移動体の第1方向における位置を示す位置情報に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、を有する位置決め装置の制御方法において、
前記移動体の前記第1方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて、前記駆動手段を制御する工程を含み、
前記駆動手段の制御に用いる位置情報を前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報へ切り替える場合、前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報の切り替えとは異なるタイミングで、かつ、前記第1領域に対する処理を終えた後の前記第2領域に対する処理の開始時よりも所定の時間以上早いタイミングで前記制御パラメータの前記所定の値を変更することを特徴とする制御方法。 - 前記第1領域に対する処理を終えた後、かつ、前記第2領域に対する処理の開始前に、前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報を前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報に切り替えることを特徴とする請求項14に記載の制御方法。
- 移動体上に配置された基板の第1領域に対して処理を行い、前記第1領域に対する処理のあと前記移動体を移動させてから前記基板の第2領域に対して処理を行う処理装置に用いられる位置決め装置であって、前記移動体の第1方向における位置を計測可能な第1計測手段および第2計測手段と、前記移動体を前記第1方向に駆動可能な駆動手段と、前記第1計測手段または前記第2計測手段により計測された前記移動体の第1方向における位置を示す位置情報に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、を有する位置決め装置の制御方法において、
前記移動体の前記第1方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて、前記駆動手段を制御する工程を含み、
前記第1領域に対する処理を終えた後かつ前記第2領域に対する処理を開始するまでの間において、前記駆動手段の制御に用いる前記位置情報を前記第1計測手段の計測により得られた位置情報から前記第2計測手段の計測により得られた位置情報へ切り替えることと、前記駆動手段の制御に用いられる位置情報の切り替えよりも早いタイミングで前記制御パラメータの前記所定の値を変更することを行うことを特徴とする制御方法。 - 前記制御パラメータは、比例ゲインKp、積分ゲインKi、微分ゲインKd、ノッチフィルタの周波数、およびローパスフィルタのカットオフ周波数のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項14乃至16のいずれか1項に記載の制御方法。
- 前記制御手段は、前記駆動手段に対してPID制御を行うことを特徴とする請求項14乃至17のいずれか1項に記載の制御方法。
- 前記第1方向は高さ方向であって、前記第1計測手段および前記第2計測手段は、前記移動体の前記第1方向と交差する第2方向において互いに異なる位置に設けられており、
前記移動体の前記第2方向における位置に関する情報に基づいて、前記第1計測手段から得られた位置情報から前記第2計測手段から得られた位置情報へ、前記駆動手段の制御に用いる位置情報の切り替えを行うことを特徴とする請求項15乃至18のいずれか1項に記載の制御方法。 - 前記第1計測手段および前記第2計測手段はそれぞれ干渉計であって、
前記第1計測手段は前記移動体に設けられた第1ミラーの前記第1方向の位置の計測により前記位置情報を得、
前記第2計測手段は前記移動体に設けられた第2ミラーの前記第1方向の位置の計測により前記位置情報を得、
前記第2ミラーは、前記基板の配置される部分から見て前記第1ミラーとは反対側且つ前記第1ミラーから前記第2方向側に離れて配置されていることを特徴とする請求項19に記載の制御方法。
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