JP2021089361A - ステージ駆動装置 - Google Patents

Abstract

【課題】計測される振動特性の変化を考慮して制御パラメータを変更することによってステージの駆動精度を向上させることができるステージ駆動装置を提供する。【解決手段】本発明に係るステージ駆動装置は、第１の方向に垂直であると共に、第１の方向に直交する第２の方向に延在する第１の計測面であって、第２の方向に沿って配列された複数の計測領域を有する第１の計測面が設けられたステージと、ステージを第１の方向及び第２の方向に移動させる駆動部と、第１の計測面の所定の計測領域に光を出射する光源を有し、第１の計測面から反射された光を受光することでステージの第１の方向における位置を計測する第１の計測部と、第１の計測部によって光が照射される計測領域の変更に伴って、第１の方向におけるステージの移動に関する駆動部の制御パラメータを変更するように駆動部を制御する制御部とを備える。【選択図】 図３

Description

本発明は、ステージ駆動装置に関する。

近年、露光装置においては、転写するパターンの微細化に伴って、ウェハ上における露光位置の高精度化、すなわちウェハが載置されるステージの駆動精度の向上が求められている。
特許文献１は、ステージの駆動精度を向上させるために、第１の位置計測手段及び第２の位置計測手段の間で切り替えを行う切り替え手段と、該切り替えに応じてステージ駆動の制御パラメータを変更する変更手段とを備えたステージ駆動装置を開示している。

特開２０１５−１０６６０６号公報

露光装置において用いられるステージは構造に依存した固有の振動特性を有しているため、ステージの移動に伴って位置計測手段によるステージ上の計測ポイントが変わると、計測される振動特性も変わってくる。
特許文献１では、投影系による光路の遮蔽を回避するために、ステージの移動に伴って位置計測手段を切り替えると共に制御パラメータの設定値を変更しているが、そのような計測される振動特性の変化については検討していない。
そこで本発明は、ステージの移動に伴って計測ポイントが変わる際に、計測される振動特性の変化を考慮して制御パラメータを変更することによってステージの駆動精度を向上させることができるステージ駆動装置を提供することを目的とする。

本発明に係るステージ駆動装置は、第１の方向に垂直であると共に、第１の方向に直交する第２の方向に延在する第１の計測面であって、第２の方向に沿って配列された複数の計測領域を有する第１の計測面が設けられたステージと、ステージを第１の方向及び第２の方向に移動させる駆動部と、第１の計測面の所定の計測領域に光を出射する光源を有し、第１の計測面から反射された光を受光することでステージの第１の方向における位置を計測する第１の計測部と、第１の計測部によって光が照射される計測領域の変更に伴って、第１の方向におけるステージの移動に関する駆動部の制御パラメータを変更するように駆動部を制御する制御部とを備えることを特徴とする。

本発明によれば、ステージの移動に伴って計測ポイントが変わる際に、計測される振動特性の変化を考慮して制御パラメータを変更することによってステージの駆動精度を向上させることができるステージ駆動装置を提供することができる。

第一実施形態に係るステージ駆動装置の模式的斜視図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置において計測される振動の変化を説明した図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置によるステージのフィードバック制御を示した図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置においてステージに設けられた各ミラー面における計測ポイントの配置を示した図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置においてステージに設けられたミラー面の各計測ポイントにおいて計測される振動特性のゲイン線図及び位相線図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置において算出したノッチフィルタを適用した際の計測される振動特性の変化を示したゲイン線図及び位相線図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置において算出したノッチフィルタを適用した際の計測される振動特性の変化を示したゲイン線図及び位相線図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置において算出した逆フィルタを適用した際の計測される振動特性の変化を示したゲイン線図及び位相線図。 第一実施形態に係るステージ駆動装置において算出した逆フィルタを適用した際の計測される振動特性の変化を示したゲイン線図及び位相線図。 第二実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置において用いられるウェハの模式的上面図。 第二実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置において各露光画角を露光する際のウェハステージの駆動の様子を示した図。 第二実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置においてパラメータの切り替えの様子を示した図。 第三実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置においてパラメータの切り替えの様子を示した図。 本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置を用いて半導体デバイスを製造する際のフローチャート。 本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置の要部模式図。

以下に、本実施形態に係るステージ駆動装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。

ＩＣやＬＳＩ等を含む半導体デバイス、液晶デバイス、ＣＣＤ等を含む撮像デバイス及び磁気ヘッド等は、フォトリソグラフィー技術を利用した露光装置を用いて製造される。
露光装置では、エキシマレーザや水銀ランプを含む露光光源から出射した露光光が、レチクル（原版）に描画されたマスクパターンに照射される。そして、マスクパターンを通過した露光光が基板（以降、ウェハと称する。）に所定の割合で縮小投影されることによって、ウェハ上に塗布されたレジストにパターンが転写される。

そして、精密駆動が可能なウェハステージ上にウェハが搭載されることによって、ステップアンドスキャンもしくはステップアンドリピート方式によってウェハ上の各露光画角に対して露光が行われる。
本実施形態は、上記のように各露光画角に対して露光を行う露光装置において、ウェハステージ（基板ステージ）をフィードバック制御するためのサーボシステムを構成するステージ駆動装置に関する。

［第一実施形態］
図１は、第一実施形態に係るステージ駆動装置５０の模式的斜視図を示している。
なお、以下では、ステージのウェハ載置面上の中心位置を原点とし、ステージに垂直な方向をＺ方向、ステージに平行な面内においてウェハを走査する方向をＹ方向（第２の方向）、Ｚ方向及びＹ方向に直交する方向をＸ方向（第１の方向）としている。

図１に示されているように、本実施形態に係るステージ駆動装置５０は、粗動部１及び微動部２から構成されるステージと、干渉計３、４、５及び６と、反射面１１、１２、１３、１４、１５及び１６とを備えている。

本実施形態に係るステージ駆動装置５０に設けられているステージは、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向それぞれにおいて移動可能である。そしてステージは、高推力のリニアモータ（駆動部）を備える粗動部１と、ボイルコイルモータ等の微小駆動に適したモータ（駆動部）を備える微動部２とから構成されている。
本実施形態に係るステージ駆動装置５０に設けられているステージは、この構成により、高速かつ高精度な駆動を行うことができる。
また、ステージにおいてｎｍオーダの精度で複数軸の位置制御を行うために、ステージの各軸方向の位置を検出するための計測機構としての干渉計３、４、５及び６が設けられている。なお、干渉計３、４、５及び６はそれぞれ、単一の光源を備えている。

具体的には、図１に示されているように、ステージの微動部２に干渉計３（第１の計測部）及び干渉計４（第２の計測部）それぞれからの検出光を反射させるためのミラー面７（第１の計測面）及びミラー面８（第２の計測面）を設けている。
そして、ミラー面７及び８におけるステージの移動による反射光の干渉縞の変化を干渉計３及び４内の受光部によって観測する。これにより、ステージのＸ方向及びＹ方向における位置を計測することができる。

また、ステージの中心位置近傍のＺ軸上には不図示の投影系レンズが設けられているため、ステージのＺ方向における位置を計測するために、Ｘ方向の正側及び負側それぞれの領域にＺ方向の位置を計測するための計測機構を設けている。なお、以降においては、Ｘ方向の正側及び負側をそれぞれＸ＋側及びＸ−側と称し、Ｙ方向の正側及び負側をそれぞれＹ＋側及びＹ−側と称する。
具体的には、図１に示されているように、ステージの微動部２のＸ＋側には、干渉計５（第１の計測部）からの検出光を反射させるためのミラー面９（第１の計測面）を設けられている。そして、干渉計５からの検出光をミラー面９に入射させるための反射面１１、１２及び１３が設けられている。
また、ステージの微動部２のＸ−側には、干渉計６（第１の計測部）からの検出光を反射させるためのミラー面１０（第１の計測面）を設けると共に、干渉計６からの検出光をミラー面１０に入射させるための反射面１４、１５及び１６が設けられている。

そして、反射面１１及び１４をステージのＸ方向における駆動に同期する不図示のリニアガイドに固定することにより、ステージのＸ方向における全ての駆動領域においてＺ方向の位置を計測することができる。
図１に示されているように、ミラー面７はＹ方向に連続して延在する長尺な面であり、ミラー面８はＸ方向に連続して延在する長尺な面であり、ミラー面９及び１０はそれぞれＹ方向に連続して延在する長尺な面である。

図２（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、本実施形態に係るステージ駆動装置５０のステージがＹ方向の中心位置及びＹ＋側端部にあるときの干渉計５によるＸ＋側のミラー面９上の計測ポイント１７及び１８を示している。
また、図２（ｃ）は、計測ポイント１７及び１８それぞれにおけるステージの振動の様子を示しており、図２（ｄ）は、計測ポイント１７及び１８それぞれにおけるＺ方向のサーボ制御のゲイン線図を示している。

図２（ａ）及び（ｂ）に示されているように、ミラー面９には、計測ポイント（計測領域）、すなわち計測ポイント１７及び１８を含む複数の計測ポイントがＹ方向に沿って配列されている。
また同様に、ミラー面７には複数の計測ポイントがＹ方向に沿って配列されており、ミラー面８には複数の計測ポイントがＸ方向に沿って配列されており、ミラー面１０には複数の計測ポイントがＹ方向に沿って配列されている。この複数の計測ポイントの配置については図４も参照されたい。
なお、各計測ポイントの間隔（各計測領域の大きさ、互いに隣接する計測領域の中心間の距離）は、ステージの固有振動の振幅及び位相それぞれの変化量の少なくとも一方に応じて決定される。

そして、本実施形態に係るステージ駆動装置５０においてステージがＹ方向の中心位置からＹ＋側端部に駆動されると、干渉計５によるミラー面９上の計測ポイントが中心に設けられた計測ポイント１７からＹ−側端部に設けられた計測ポイント１８に移動する。
また、ステージは構造に応じた固有の振動特性（固有振動）を有しており、具体的には、例えば図２（ｃ）に示されているような振動が観測される。
このとき、計測ポイント１７は、特定の周波数をもつ振動が制振して計測される節の箇所に対応し、一方で計測ポイント１８は、振動が増幅して計測される腹の部分に対応する。

このため、図２（ｄ）に示されているように、計測ポイント１７及び１８それぞれで互いに異なるゲイン特性が現れ、具体的には、計測ポイント１８では計測ポイント１７よりもゲインが増大する共振特性が現れる。
このような特性の変動はステージの位置決め精度を低下させることに加えて、フィードバック制御の安定余裕を超えることによる発振現象を引き起こす原因にもなる。

従って、ステージにおける上記に示した共振特性を考慮することによって、より高い位置決め性能、ひいてはより高い応答性、制振性及び安定性を達成することができる。
なお、上記ではＸ＋側のミラー面９を用いて説明したが、干渉計６に対応するＸ−側のミラー面１０や、干渉計３及び４それぞれに対応するミラー面７及び８においても、同様の共振特性が現れる。

図１５は、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置１００の要部模式図を示している。
なお、露光装置１００ではステップアンドスキャン方式を用いているが、本実施形態に係るステージ駆動装置はステップアンドリピート方式の露光装置にも適用可能である。

図１５に示されているように、露光装置１００は、露光光源部２１、露光制御コントローラ２２、ステージ制御コントローラ２３、ビーム成形光学系２４を備えている。また、露光装置１００は、ブレード２５、粗動部２７及び微動部２８から構成されるレチクルステージ、干渉計３０、投影系レンズ３２、ウェハステージ３５を備えている。

露光光源部２１は、ＡｒＦエキシマレーザやＫｒＦエキシマレーザ等のパルスレーザ光源を有している。
また、露光光源部２１では、光源の光量とパルスの発振周期とを変更することが可能であり、これらは露光制御コントローラ２２による露光量制御や、ステージ制御コントローラ２３によるステージ制御に応じて調整される。

露光光源部２１から照射された露光光は、ビーム成形光学系２４を通過し、照度ムラの補正や所定の角度分布をもつ露光光に成形され、成形された露光光は、ブレード２５を通過することによって露光領域以外の光が遮光される。
そして、遮光された露光光は、半導体デバイスを製造する際に必要な回路パターンが描写されたレチクル２６に入射する。

レチクル２６を保持するレチクルステージにおいて、粗動部２７には、リニアガイド３１と高推力が可能なアクチュエータ（不図示）とが設けられており、すなわち高推力なリニアモータが構成されている。
また、微動部２８には、精密駆動が可能なアクチュエータ（不図示）が設けられており、リニアモータやボイスコイルモータが構成されている。
そして、微動部２８にはミラー面２９が設けられており、干渉計３０からの光を反射することによってレチクル２６のスキャン方向（Ｙ方向）の位置が計測される。

そして、レチクル２６を通過した露光光は、投影系レンズ３２によって一定倍率に縮小され、縮小された露光光は、ウェハステージ３５のチャック３４によって吸着保持されているウェハ３３に入射し、レチクル２６のパターンがウェハ３３に結像される。

図１５に示されているように、ウェハステージ３５には、図１に示されている構成に加えて、Ｘ方向及びＹ方向それぞれの駆動において用いられるリニアガイド３６及び３７と、各方向において高推力のアクチュエータ（不図示）とが設けられている。

ウェハステージ３５及びリニアガイド３６乃至３７には、耐久性、低発塵及び制振性が求められるため、エアベアリング等の非接触構造が採用されている。
そして、ウェハステージ３５及びリニアガイド３６乃至３７は、定盤３８によって保持されており、ウェハステージ３５の駆動によって発生する振動を吸収するために、定盤３８と床３９との間にはダンパ構造４０が設けられている。

また、図１５に示されているように、レチクルステージと、干渉計３０が固定された支柱４４と、投影系レンズ３２と、ミラー１２、１３、１５及び１６とを保持するための構造体４２が設けられている。
また、構造体４２は、干渉計４が固定された支柱４３と、干渉計５及び６が固定された不図示の支柱とを保持している。
そして、構造体４２の振動を吸収するために、構造体４２と床３９との間にもダンパ構造４１が設けられている。

レチクルステージ及びウェハステージ３５は、ステージ制御コントローラ２３によって制御される。
具体的には、ステージ制御コントローラ２３にはＣＰＵやＤＳＰ等の演算回路が設けられており、各ステージの位置を一定周期でサンプリングすると共に、フィードバック制御による指令信号を生成する。
そして、生成された指令信号はドライバ４５に送信され、ドライバ４５は受信した指令信号に基づいて各ステージの駆動に必要な電力を供給する。

次に、ステージ制御コントローラ２３によるフィードバック制御について説明する。
図３は、露光装置１００に設けられた不図示の制御部によって行われるウェハステージ３５の微動部でのフィードバック制御を示している。

図３に示されているように、まずウェハステージ３５のＸ、Ｙ及びＺ軸の目標位置（ｔａｒｇｅｔ ｘ、ｔａｒｇｅｔ ｙ及びｔａｒｇｅｔ ｚ）と、干渉計によって計測されるＸ、Ｙ及びＺ軸の現在位置（ｘ、ｙ及びｚ）との差分をＰＩＤ制御の入力として与える。

なお、ＰＩＤ制御の連続時間系の表現は、ラプラス演算子ｓを用いて、以下の式（１）のように与えることができる。

式（１）に示されているように、ＰＩＤ制御は、比例項である第１項、積分項である第２項、及び微分項である第３項から構成され、各項のゲインパラメータがＫ_ｐ、Ｋ_ｉ及びＫ_ｄで表されている。
ここで、ゲインパラメータＫ_ｐ、Ｋ_ｉ及びＫ_ｄは、ウェハステージ３５のフィードバック制御における目標値に対する追従時間やオーバーシュート量などの動特性や、制御特性の変動下においてもサーボ制御が可能な安定性等を考慮して決定される。

また、連続時間系を離散時間系に変換するために一般的に用いられる双一次変換式は、以下の式（２）のように表される。

ここで、Ｔはサンプリング時間であり、ｚはＺ変換を示している。ＰＩＤ制御を含め、以降では全て連続時間系で説明を行うが、デジタル制御によるコントローラ上でパラメータを使用するためには、式（２）を用いて離散時間系への変換が行われる。

そして、図３に示されているように、各軸においてＰＩＤ制御からの出力は補償フィルタを介してドライバ、そしてモータに入力され、モータからの出力がウェハステージ３５の微動部に伝達される。

次に、露光装置１００におけるウェハステージ３５でのフィードバック制御における補償フィルタ（補償器）について説明する。

図４は、ウェハステージ３５に設けられたミラー面７、８及び９それぞれにおける計測ポイントの配置を示している。

具体的には、Ｙ方向に延在しているミラー面７上においては干渉計３による計測ポイントＹ（０）、Ｙ（１）、・・・、Ｙ（ｎ）が配置されているとする。また、Ｘ方向に延在しているミラー面８上においては干渉計４による計測ポイントＸ（０）、Ｘ（１）、・・・、Ｘ（ｎ）が配置されているとする。また、Ｙ方向に延在しているミラー面９上においては干渉計５による計測ポイントＹ（０）、Ｙ（１）、・・・、Ｙ（ｎ）が配置されているとする。
そして、上記に示したミラー面７、８及び９それぞれの計測ポイントにおいてＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向におけるステージの特性を計測し、これらの特性を補正するための制御パラメータを決定する。
なお、干渉計６によるミラー面１０上の計測ポイントにおける計測については、上記のミラー面９と同様であるため、説明を省略する。

そして、以下の式（３ａ）、（３ｂ）及び（３ｃ）はそれぞれ、ウェハステージ３５のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸における振動特性を連続時間系で表現した式を示している。

式（３ａ）乃至（３ｃ）に示されているように、ウェハステージ３５の振動特性は複数の共振特性及び反共振特性を有しており、これらは分子及び分母それぞれにおいて２次伝達関数を直列接続することによって表現することができる。
具体的には、式（３ａ）乃至（３ｃ）それぞれにおける分母のパラメータは振動が増幅する共振特性を周波数ｆ_ｘ，ｄ、ｆ_ｙ，ｄ及びｆ_ｚ，ｄ並びに減衰比φ_ｘ，ｄ、φ_ｙ，ｄ及びφ_ｚ，ｄを用いて示している。
また、式（３ａ）乃至（３ｃ）それぞれにおける分子のパラメータは振動が制振する反共振特性を周波数ｆ_ｘ，ｎ、ｆ_ｙ，ｎ及びｆ_ｚ，ｎ並びに減衰比φ_ｘ，ｎ、φ_ｙ，ｎ及びφ_ｚ，ｎを用いて示している。

ここで、例えば上記に示したように、ウェハステージ３５がＹ方向に移動することに伴って、干渉計５によるミラー面９上の計測ポイントの位置が変化することにより、計測されるステージの振動は変化する。
そのため、ウェハステージ３５のＺ軸の振動特性を表す式（３ｃ）における分子及び分母の各パラメータは、Ｙ軸の位置に依存して決定されるパラメータとなる。

同様に、ウェハステージ３５がＹ方向に移動することに伴って、干渉計３によるミラー面７上の計測ポイントの位置が変化することにより、計測されるステージの振動は変化する。
そのため、ウェハステージ３５のＸ軸の振動特性を表す式（３ａ）における分子及び分母の各パラメータは、Ｙ軸の位置に依存して決定されるパラメータとなる。
また、ウェハステージ３５がＸ方向に移動することに伴って、干渉計４によるミラー面８上の計測ポイントの位置が変化することにより、計測されるステージの振動は変化する。
そのため、ウェハステージ３５のＹ軸の振動特性を表す式（３ｂ）における分子及び分母の各パラメータは、Ｘ軸の位置に依存して決定されるパラメータとなる。

また、式（３ａ）乃至（３ｃ）におけるＮ_ｘ、Ｎ_ｙ及びＮ_ｚはそれぞれ、ウェハステージ３５のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸における振動特性の次数を示している。
ここで、次数Ｎ_ｘ、Ｎ_ｙ及びＮ_ｚの値については、高次になるにつれてパラメータの数が増加すると共に演算誤差が大きくなることによって、パラメータの調整が複雑になるため、制御に必要な特性を得るのに十分とされる最小の次数を設定する。

上記に示したようなウェハステージ３５の振動特性、具体的には共振特性や反共振特性のゲインを減少させるためには、以下に示すようなノッチフィルタや逆フィルタを用いることが考えられる。

以下の式（４ａ）、（４ｂ）及び（４ｃ）はそれぞれ、ウェハステージ３５のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸における振動特性に対するノッチフィルタを連続時間系で表現した式を示している。

ここで、δ_ｘ、δ_ｙ及びδ_ｚはフィルタ減衰量であり、共振に伴う急峻なゲインの変化を抑制すると同時にフィルタの位相遅れによるサーボ特性の悪化を最小限とするように値が決定される。

また、以下の式（５ａ）、（５ｂ）及び（５ｃ）はそれぞれ、ウェハステージ３５のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸における振動特性に対する逆フィルタを連続時間系で表現した式を示している。

すなわち、式（５ａ）乃至（５ｃ）に示されている逆フィルタを用いることで、ウェハステージ３５の振動特性に含まれる共振特性及び反共振特性を相殺し、共振特性による急峻なゲインピークと反共振特性による位相遅れとによる影響を改善することができる。
ウェハステージ３５の振動特性においてステージの制御帯域に近い低次の共振特性及び反共振特性が含まれている場合には、逆フィルタを用いることによる効果は大きい。
なお、逆フィルタを用いる場合には、フィードバック制御を安定に行うために、フィルタの極及び零点それぞれについて、実数が負の値である安定極及び安定零点を有することが条件となる。

以下の式（６ａ）、（６ｂ）及び（６ｃ）はそれぞれ、ウェハステージ３５のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸における振動特性に対する補償フィルタを示している。

ここで、パラメータｋ_ｘ，１、・・・、ｋ_ｘ，Ｎｘ、ｋ_ｙ，１、・・・、ｋ_ｙ，Ｎｙ、ｋ_ｚ，１、・・・、ｋ_ｚ，Ｎｚは以下の条件を満たす。

式（６ａ）乃至（６ｃ）に示されているように、補償フィルタでは、ウェハステージ３５の各々の次数の特性に対応したノッチフィルタ及び逆フィルタが直列接続される。

次に、計測されるステージの振動特性の計測ポイントに応じた変化、及びそれに対する補償フィルタによる効果について説明する。

図５は、露光装置１００におけるウェハステージ３５に設けられたミラー面９の計測ポイントＹ（０）及びＹ（１）それぞれにおいて計測されるＺ軸における振動特性のゲイン線図及び位相線図を示している。

図５に示されているように、ゲイン線図における縦軸はゲイン、横軸は周波数であり、位相線図における縦軸は位相、横軸は周波数である。
そして、計測ポイントＹ（０）及びＹ（１）それぞれにおいて計測される振動特性がＰ１及びＰ２で示されている。

なお、ここではＺ軸の振動特性の次数を２としており、計測ポイントＹ（０）及びＹ（１）それぞれにおける各次数の共振特性及び反共振特性はそれぞれ、固有の周波数ｆ及び減衰比φを有する。
すなわち、計測ポイントＹ（０）において計測されるＺ軸における振動特性Ｐ１のうち、１次の共振特性ａ（１）は周波数ｆ_ｄ（ｙ_０，１）及び減衰比φ_ｄ（ｙ_０，１）を有する。また、１次の反共振特性ｃ（１）は周波数ｆ_ｎ（ｙ_０，１）及び減衰比φ_ｎ（ｙ_０，１）を有する。
そして、計測ポイントＹ（０）において計測されるＺ軸における振動特性Ｐ１のうち、２次の共振特性ａ（２）は周波数ｆ_ｄ（ｙ_０，２）及び減衰比φ_ｄ（ｙ_０，２）を有する。また、２次の反共振特性ｃ（２）は周波数ｆ_ｎ（ｙ_０，２）及び減衰比φ_ｎ（ｙ_０，２）を有する。

また、計測ポイントＹ（１）において計測されるＺ軸における振動特性Ｐ２のうち、１次の共振特性ｂ（１）は周波数ｆ_ｄ（ｙ_１，１）及び減衰比φ_ｄ（ｙ_１，１）を有する。また、１次の反共振特性ｄ（１）は周波数ｆ_ｎ（ｙ_１，１）及び減衰比φ_ｎ（ｙ_１，１）を有する。
そして、計測ポイントＹ（１）において計測されるＺ軸における振動特性Ｐ２のうち、２次の共振特性ｂ（２）は周波数ｆ_ｄ（ｙ_１，２）及び減衰比φ_ｄ（ｙ_１，２）を有する。また、２次の反共振特性ｄ（２）は周波数ｆ_ｎ（ｙ_１，２）及び減衰比φ_ｎ（ｙ_１，２）を有する。

図６（ａ）は、振動特性Ｐ１における１次の共振特性ａ（１）及び２次の共振特性ａ（２）のパラメータを用いて算出したノッチフィルタのゲイン線図及び位相線図を示している。
また、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示されているノッチフィルタを図５に示されている振動特性Ｐ１に適用した場合に得られるゲイン線図及び位相線図を示している。
また、図６（ｃ）は、図６（ａ）に示されているノッチフィルタを図５に示されている振動特性Ｐ２に適用した場合に得られるゲイン線図及び位相線図を示している。

図６（ｂ）に示されているように、振動特性Ｐ１におけるパラメータから算出されたノッチフィルタを振動特性Ｐ１に適用するとＰ１’に変化し、すなわち、１次の共振特性ａ（１）はａ’（１）に変化し、２次の共振特性ａ（２）はａ’（２）に変化する。
これにより、振動特性Ｐ１における１次の共振特性ａ（１）及び２次の共振特性ａ（２）それぞれのピーク構造が抑制されていることがわかる。

一方、図６（ｃ）に示されているように、振動特性Ｐ１におけるパラメータから算出されたノッチフィルタを振動特性Ｐ２に適用するとＰ２’に変化し、すなわち、１次の共振特性ｂ（１）はｂ’（１）に変化し、２次の共振特性ｂ（２）はｂ’（２）に変化する。
この場合、振動特性Ｐ２においては図６（ａ）に示されているノッチフィルタを適用しても１次の共振特性ｂ（１）及び２次の共振特性ｂ（２）それぞれのピーク構造は残存しており、フィードバック制御を不安定にする原因となる。

次に、図７（ａ）は、振動特性Ｐ２における１次の共振特性ｂ（１）及び２次の共振特性ｂ（２）のパラメータを用いて算出したノッチフィルタのゲイン線図及び位相線図を示している。
また、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示されているノッチフィルタを図５に示されている振動特性Ｐ２に適用した場合に得られるゲイン線図及び位相線図を示している。

図７（ｂ）に示されているように、振動特性Ｐ２におけるパラメータから算出されたノッチフィルタを振動特性Ｐ２に適用するとＰ２’’に変化し、すなわち、１次の共振特性ｂ（１）はｂ’’（１）に変化し、２次の共振特性ｂ（２）はｂ’’（２）に変化する。
これにより、振動特性Ｐ２における１次の共振特性ｂ（１）及び２次の共振特性ｂ（２）それぞれのピーク構造が抑制されていることがわかる。

図８（ａ）は、振動特性Ｐ１における１次の共振特性ａ（１）、１次の反共振特性ｃ（１）、２次の共振特性ａ（２）及び２次の反共振特性ｃ（２）のパラメータを用いて算出した逆フィルタのゲイン線図及び位相線図を示している。
また、図８（ｂ）は、図８（ａ）に示されている逆フィルタを図５に示されている振動特性Ｐ１に適用した場合に得られるゲイン線図及び位相線図を示している。

図８（ｂ）に示されているように、振動特性Ｐ１におけるパラメータから算出された逆フィルタを振動特性Ｐ１に適用するとＰＮ１に変化する。すなわち、１次の共振特性ａ（１）はａ’（１）に変化し、１次の反共振特性ｃ（１）はｃ’（１）に変化し、２次の共振特性ａ（２）はａ’（２）に変化し、２次の反共振特性ｃ（２）はｃ’（２）に変化する。
これにより、振動特性Ｐ１における１次の共振特性ａ（１）、１次の反共振特性ｃ（１）、２次の共振特性ａ（２）及び２次の反共振特性ｃ（２）それぞれのピーク構造は、相殺されていることがわかる。

図９（ａ）は、振動特性Ｐ２における１次の共振特性ｂ（１）、１次の反共振特性ｄ（１）、２次の共振特性ｂ（２）及び２次の反共振特性ｄ（２）のパラメータを用いて算出した逆フィルタのゲイン線図及び位相線図を示している。
また、図９（ｂ）は、図９（ａ）に示されている逆フィルタを図５に示されている振動特性Ｐ２に適用した場合に得られるゲイン線図及び位相線図を示している。

図９（ｂ）に示されているように、振動特性Ｐ２におけるパラメータから算出された逆フィルタを振動特性Ｐ２に適用するとＰＮ２に変化する。すなわち、１次の共振特性ｂ（１）はｂ’（１）に変化し、１次の反共振特性ｄ（１）はｄ’（１）に変化し、２次の共振特性ｂ（２）はｂ’（２）に変化し、２次の反共振特性ｄ（２）はｄ’（２）に変化する。
これにより、振動特性Ｐ２における１次の共振特性ｂ（１）、１次の反共振特性ｄ（１）、２次の共振特性ｂ（２）及び２次の反共振特性ｄ（２）それぞれのピーク構造は、相殺されていることがわかる。

上記したように、ノッチフィルタを用いることによって共振特性におけるピーク構造を抑制することができる一方で、逆フィルタを用いた場合には共振特性及び反共振特性それぞれにおけるピーク構造を相殺することができる。
従って、補償フィルタとして逆フィルタを用いて全ての共振特性及び反共振特性を相殺することが理想的である。
しかしながら、実際には全ての共振特性及び反共振特性を相殺するように逆フィルタを導出することは困難であるため、相殺しきれない部分を補うためにノッチフィルタを用いることとなる。

以上に示したように、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置１００では、ウェハステージ３５に設けられた各ミラー面において計測される振動特性が計測ポイントに応じて変化する。
そのため、計測された振動特性に対応したパラメータを有するノッチフィルタや逆フィルタからなる補償フィルタを算出してフィードバック制御に適用する。

それにより、高い応答性、制振性及び安定性を有するステージ駆動装置を提供することができ、ひいては本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置１００ではスループット、解像度及びオーバーレイ精度を向上させることができる。

［第二実施形態］
図１０は、第二実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置において用いられるウェハ３３の模式的上面図を示している。
なお、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置は、第一実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

図１０に示されているように、ウェハ３３上には複数の露光画角４６（ショット領域）が配置されており、露光画角４６の各々にレチクル２６に形成されているパターンが転写される。
本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、各露光画角４６を露光する際に、以下に示すようなタイミングで補償フィルタのパラメータを変更しながら、ウェハステージ３５を駆動する。

図１１（ａ）は、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置においてウェハ３３上の各露光画角を露光する際のウェハステージ３５の駆動パターンを示している。
また、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示されているようにウェハステージ３５を駆動させる際のＹ方向の速度及び制御偏差の時間変化を示している。

図１１（ａ）に示されているように、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、ステップアンドスキャン方式によってウェハステージ３５を駆動させながらウェハ３３上の各露光画角を露光する。
具体的には、最初に、露光画角Ｄ１を露光するために、Ｘ方向に沿ったステップ動作（１）を行った後、Ｙ方向に沿ったスキャン動作（２）を行う。
次に、露光画角Ｄ２を露光するために、Ｘ方向に沿ったステップ動作（３）を行った後、Ｙ方向に沿ったスキャン動作（４）を行う。

そして、露光画角Ｄ３を露光するために、Ｘ方向に沿ったステップ動作（５）を行った後、Ｙ方向に沿ったスキャン動作（６）を行う。
次に、露光画角Ｄ４を露光するために、Ｘ方向に沿ったステップ動作（７）を行った後、Ｙ方向に沿ったスキャン動作（８）を行う。このようなステップアンドスキャンを以降の露光画角を露光する際にも行っていく。

すなわち、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、ウェハステージ３５がＸ方向に沿った第１の移動（ステップ動作）及びＹ方向に沿った第２の移動（スキャン動作）を行う。その後、ウェハステージ３５は、第１の移動と同じ向きの第３の移動（ステップ動作）及び第２の移動とは反対の向きの第４の移動（スキャン動作）を行う。
本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置は、このような第１乃至第４の移動からなるジグザグ移動を繰り返し行うステップアンドスキャン方式によって各露光画角を露光する。
なおここで、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、各ステップ動作によって各露光画角のＸ方向における中央位置に移動し、各スキャン動作によって各露光画角のＸ方向における中央位置においてＹ方向に露光走査を行う。

以上に示したステップアンドスキャン動作（１）乃至（８）におけるウェハステージ３５のＹ方向の速度及び制御偏差（目標位置と現在位置との差分）の時間変化が図１１（ｂ）に示されている。

図１１（ｂ）に示されているように、ステップ動作の際にウェハステージ３５は加速駆動若しくは減速駆動を行っているため、制御偏差は大きくなる。
一方、スキャン動作の際には露光が行われるため、露光精度を維持するようにウェハステージ３５は静定状態になる、すなわち加減速は行われない。

図１２（ａ）は、補償フィルタのパラメータが設定されているウェハステージ３５の各位置と各露光画角との間の位置関係を示している。

図１２（ａ）に示されているように、ウェハステージ３５のＸ方向及びＹ方向それぞれの位置に応じて補償フィルタのパラメータが設定されている。すなわち、補償フィルタのパラメータは、（Ｘ（０），Ｘ（１），Ｘ（２），・・・）×（Ｙ（０），Ｙ（１），Ｙ（２），・・・）の格子状に設定される。換言すると、補償フィルタのパラメータは、Ｘ方向及びＹ方向それぞれに以下に示すような間隔ｐｘ及びｐｙで配置される格子点にそれぞれ設定される。

そして、上記の位置を中心としてＸ方向については−ｐｘ／２以上且つ＋ｐｘ／２未満、Ｙ方向については−ｐｙ／２以上且つ＋ｐｙ／２未満の面積を有するパラメータ使用領域においてその位置の補償フィルタのパラメータを用いることとする。
ここで、ｐｘ及びｐｙはそれぞれ、図１２（ａ）に示されている補償フィルタのパラメータが設定されている格子におけるＸ方向及びＹ方向の単位長さ（格子点の間隔）である。

すなわち、例えば図１２（ａ）に示されているパラメータ使用領域６０は、格子点（Ｘ（０），Ｙ（２））を中心としたＸ方向については−ｐｘ／２以上且つ＋ｐｘ／２未満、Ｙ方向については−ｐｙ／２以上且つ＋ｐｙ／２未満の領域である。
そして、ウェハステージ３５のウェハ載置面上の中心位置（露光中心）がステップ動作もしくはスキャン動作においてこのパラメータ使用領域６０内を移動する際には、格子点（Ｘ（０），Ｙ（２））のパラメータが用いられる。

本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、図１１（ａ）に示されているようにウェハステージ３５を駆動させる際に、以下のようにウェハステージ３５の各位置に対応するパラメータ使用領域におけるパラメータを用いる。

図１２（ｂ）は、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置において図１１（ａ）に示されているようにウェハステージ３５を駆動させる際のＹ方向の速度及びパラメータの切り替えの時間変化を示している。

具体的には、まず、ステップ動作（１）では、位置（Ｘ（０），Ｙ（２））のパラメータが用いられた後、位置（Ｘ（１），Ｙ（２））のパラメータに切り替わる。
次に、スキャン動作（２）では、位置（Ｘ（１），Ｙ（２））のパラメータが用いられた後、位置（Ｘ（１），Ｙ（１））のパラメータに切り替わる。

次に、ステップ動作（３）では、最初に位置（Ｘ（１），Ｙ（１））のパラメータが用いられる。その後、位置（Ｘ（２），Ｙ（１））のパラメータ、位置（Ｘ（２），Ｙ（０））のパラメータ、位置（Ｘ（３），Ｙ（０））のパラメータ、位置（Ｘ（３），Ｙ（１））のパラメータと切り替わる。
そして、スキャン動作（４）では、位置（Ｘ（３），Ｙ（１））のパラメータが用いられた後、位置（Ｘ（３），Ｙ（２））のパラメータに切り替わる。

次に、ステップ動作（５）では、位置（Ｘ（３），Ｙ（２））のパラメータが用いられた後、位置（Ｘ（４），Ｙ（２））のパラメータに切り替わる。
そして、スキャン動作（６）では、位置（Ｘ（４），Ｙ（２））のパラメータが用いられた後、位置（Ｘ（４），Ｙ（１））のパラメータに切り替わる。

次に、ステップ動作（７）では、最初に位置（Ｘ（４），Ｙ（１））のパラメータが用いられる。その後、位置（Ｘ（５），Ｙ（１））のパラメータ、位置（Ｘ（５），Ｙ（０））のパラメータ、位置（Ｘ（６），Ｙ（０））のパラメータ、位置（Ｘ（６），Ｙ（１））のパラメータと切り替わる。
そして、スキャン動作（８）では、位置（Ｘ（６），Ｙ（１））のパラメータが用いられた後、位置（Ｘ（６），Ｙ（２））のパラメータに切り替わる。

本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、ウェハ３３上の各露光画角を露光する際に、上記に示したように補償フィルタのパラメータを変化させる。
それにより、計測ポイントに応じて変化する振動特性の計測結果に対応するようにウェハステージ３５を駆動させることができるため、ステージの振動特性を考慮してフィードバック制御を行うことができる。
そのため、高い応答性、制振性及び安定性を有するステージ駆動装置を提供することができ、ひいては本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置ではスループット、解像度及びオーバーレイ精度を向上させることができる。

［第三実施形態］
図１３は、第三実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置での図１１（ａ）に示されているようにウェハステージ３５を駆動させる際のＹ方向の速度及びパラメータの切り替えの時間変化を示している。
なお、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置は、第一実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置１００と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

第二実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置でのパラメータの切り替えは、ウェハステージ３５の位置のみに応じて決定している。そのため、パラメータの切り替えがスキャン動作の途中や開始直前に発生し、パラメータの切り替えに伴う制御偏差が露光精度に影響を与える可能性がある。

そこで、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、ウェハステージ３５の位置に加えて、以下に示すように各露光画角を露光する際のステップアンドスキャン動作も考慮して、補償フィルタのパラメータの切り替えを行う。

図１３に示されているように、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、各ステップ動作を開始するときに、続くスキャン動作において露光される露光画角の中心位置に最も近い位置のパラメータに切り替えている。
換言すると、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、ステップ動作を開始する際に、ウェハステージ３５における続くスキャン動作の開始位置と終了位置との中点に最も近い格子点の制御パラメータを用いる。

すなわち、まず、ステップ動作（１）の開始時に位置（Ｘ（１），Ｙ（１））のパラメータに切り替えた後、スキャン動作（２）が行われる。
次に、ステップ動作（３）の開始時に位置（Ｘ（３），Ｙ（１））のパラメータに切り替えた後、スキャン動作（４）が行われる。

次に、ステップ動作（５）の開始時に位置（Ｘ（４），Ｙ（１））のパラメータに切り替えた後、スキャン動作（６）が行われる。
そして、ステップ動作（７）の開始時に位置（Ｘ（６），Ｙ（１））のパラメータに切り替えた後、スキャン動作（８）が行われる。

以上に示したように、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置では、ステップ動作の開始時に補償フィルタのパラメータを切り替えることで、パラメータの切り替えに伴う制御偏差をステップ動作の駆動中に収束させることができる。
それにより、パラメータの切り替えに伴う制御偏差がスキャン動作中における露光精度に影響しないようにステージの振動特性を考慮してフィードバック制御を行うことができる。
そのため、高い応答性、制振性及び安定性を有するステージ駆動装置を提供することができ、ひいては本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置ではスループット、解像度及びオーバーレイ精度を向上させることができる。

［物品の製造方法］
次に、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置を利用した物品の製造方法について説明する。
ここで物品とは、半導体デバイス、液晶表示デバイス、これらのデバイスを製造する際に用いられるレチクル及びマスク、微細構造体等、露光装置を用いて製造することができるものを意味する。

図１４は、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置を用いて半導体デバイスを製造する際のフローチャートを示している。

物品としての半導体デバイスは、ウェハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウェハ上の集積回路チップを加工して製品として完成させる後工程とを経ることによって製造される。

前工程は、ウェハに感光剤を塗布する工程（ステップＳ１）と、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置を用いて感光剤が塗布されたウェハを露光する工程（ステップＳ２）とを含む。また、前工程は、露光されたウェハを現像する工程（ステップＳ３）と、現像されたウェハをエッチングする工程（ステップＳ４）とを含む。
なお、ステップＳ４ではエッチング工程の代わりにドーピング工程を行う場合もあり、ウェハを現像した後には、いくつかの処理形態がある。

また、後工程は、エッチングされたウェハに対してダイシングやボンディングを行うアッセンブリ工程（ステップＳ５）、及び封入するパッケージング工程（ステップＳ６）を含む。

また、物品としての液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることによって製造される。
ここで、透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置を用いて感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、露光されたガラス基板を現像する工程とを含む。

本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置を用いることによって、露光工程における露光精度を向上させることができ、それにより、高品質な物品を製造することが可能となる。

以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

例えば図１５に示されているように、本実施形態に係るステージ駆動装置を備える露光装置１００では、ウェハステージ３５上にミラー面が設けられており、外部の構造体に干渉計が固定されている。
しかしながら、これに限らず、ウェハステージ３５上に干渉計が設けられている一方で、外部の構造体にミラー面が固定されている構成を有する露光装置にも本実施形態を適用することができる。
この場合、ミラー面が固定された外部の構造体の振動特性に応じて補償フィルタのパラメータを決定することになる。

また、本実施形態は、上記で説明した三軸のステージ駆動装置に限らず、三軸以上の多軸制御のステージ駆動装置においても適用することができる。また、本実施形態は、露光装置に限らず他の装置にも適用することができる。

１ 粗動部（ステージ）
２ 微動部（ステージ）
３、４、５、６ 干渉計（第１の計測部）
７、８、９、１０ ミラー面（第１の計測面）
５０ ステージ駆動装置

Claims (15)

1. 第１の方向に垂直であると共に、前記第１の方向に直交する第２の方向に延在する第１の計測面であって、前記第２の方向に沿って配列された複数の計測領域を有する第１の計測面が設けられたステージと、
   前記ステージを前記第１の方向及び前記第２の方向に移動させる駆動部と、
   前記第１の計測面の所定の前記計測領域に光を出射する光源を有し、前記第１の計測面から反射された光を受光することで前記ステージの前記第１の方向における位置を計測する第１の計測部と、
   前記第１の計測部によって光が照射される前記計測領域の変更に伴って、前記第１の方向における前記ステージの移動に関する前記駆動部の制御パラメータを変更するように前記駆動部を制御する制御部と、
   を備えることを特徴とするステージ駆動装置。
2. 前記第１の計測部によって光が照射される前記計測領域は、前記第２の方向における前記ステージの移動に応じて変更されることを特徴とする請求項１に記載のステージ駆動装置。
3. 前記複数の計測領域の各々の大きさは、前記ステージの固有振動の振幅及び位相それぞれの前記第２の方向における変化量の少なくとも一方に応じて決定されることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ駆動装置。
4. 前記制御は、ＰＩＤ制御であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のステージ駆動装置。
5. 前記制御部は、補償器を有しており、
   前記制御パラメータは、前記補償器が有するノッチフィルタ及び逆フィルタの少なくとも一方のパラメータであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のステージ駆動装置。
6. 前記ステージには、前記第２の方向に垂直であると共に、前記第１の方向に延在する第２の計測面であって、前記第１の方向に沿って配列された複数の計測領域を有する第２の計測面が設けられており、
   前記ステージ駆動装置は、前記第２の計測面の所定の前記計測領域に光を出射する光源を有し、該所定の計測領域から反射された光を受光することで前記ステージの前記第２の方向における位置を計測する第２の計測部を備え、
   前記制御部は、前記第１の方向における前記ステージの移動に応じた前記第２の計測部が光を出射する前記計測領域の変更に伴って、前記第２の方向における前記ステージの移動に関する前記制御パラメータを変更することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のステージ駆動装置。
7. 前記第１の計測面の互いに隣接する前記計測領域の中心間の前記第２の方向における距離をｐｙ、前記第２の計測面の互いに隣接する前記計測領域の中心間の前記第１の方向における距離をｐｘとしたとき、前記制御パラメータは、前記第１の方向及び前記第２の方向それぞれに間隔ｐｘ及びｐｙで配置される格子点それぞれに設定されることを特徴とする請求項６に記載のステージ駆動装置。
8. 前記制御部は、前記第１の方向及び前記第２の方向に平行な面内において、所定の前記格子点を中心として前記第１の方向に−ｐｘ／２以上且つ＋ｐｘ／２未満、及び前記第２の方向に−ｐｙ／２以上且つ＋ｐｙ／２未満の面積を有する領域内に前記ステージの所定の位置が配置されているときに、前記所定の格子点の前記制御パラメータに変更することを特徴とする請求項７に記載のステージ駆動装置。
9. 前記制御部は、前記ステージが前記第１の方向に沿った第１の移動、前記第２の方向に沿った第２の移動、前記第１の移動と同じ向きの第３の移動、前記第２の移動とは反対の向きの第４の移動からなるジグザグ移動を行うように前記駆動部を制御し、
   前記制御部は、前記第１の移動を開始する際に、前記第２の移動における前記ステージの開始位置と終了位置との中点に最も近い前記格子点の前記制御パラメータに変更することを特徴とする請求項７に記載のステージ駆動装置。
10. 前記制御部は、前記第３の移動を開始する際に、前記第４の移動における前記ステージの開始位置と終了位置との中点に最も近い前記格子点の前記制御パラメータに変更すると共に、前記第２の移動及び前記第４の移動の際には前記制御パラメータを変更しないことを特徴とする請求項９に記載のステージ駆動装置。
11. 前記第１の計測面は、前記第２の方向に長尺であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のステージ駆動装置。
12. 前記第１の計測部は、単一の光源を有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のステージ駆動装置。
13. 原版に描画されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、
    前記基板が載置される基板ステージの位置決めを行う請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のステージ駆動装置を備えることを特徴とする露光装置。
14. 前記制御部は、露光画角の配置を考慮して前記制御パラメータを変更することを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
15. 請求項１３または１４に記載の露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、
    露光された前記基板を現像する工程と、
    現像された前記基板を加工して物品を得る工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。

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