JP2015106606A5 - - Google Patents

Description

本発明は、移動体を位置決めする位置決め装置であって、前記移動体の第１方向における位置を計測可能な第１計測手段及び第２計測手段と、前記移動体を前記第１方向に駆動可能な駆動手段と、前記第１計測手段または前記第２計測手段により計測された前記移動体の前記第１方向における位置を示す位置情報に基づいて、前記駆動手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記移動体の前記第１方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて前記駆動手段を駆動し、前記位置情報が、前記第１計測手段から得られた位置情報であるか前記第２計測手段から得られた位置情報であるかによって、前記制御パラメータの値が異なるようにすることを特徴とする。

ステージ制御部５２（制御手段）は、ＰＩＤ制御部５３と、制御パラメータ変更部（変更手段）５４と、切り替え部（切り替え手段）５５と、を備える。ステージ制御部５２は、主制御部５１から位置指令情報を取得し、干渉計２５ａ，２５ｂからトップステージ２７の位置情報（位置計測情報）を取得し、取得された位置指令情報と位置情報とにもとづいて、トップステージ２７の位置をフィードバック制御する。

図４は、トップステージ２７の位置制御を示す制御ブロック図である。位置指令情報Ｚｒに対して干渉計２５ａまたは２５ｂからの位置情報Ｚｍがフィードバックされ、制御偏差ｅｚがＰＩＤ制御部５３に入力される。ＰＩＤ制御部５３は、所定の値に設定可能な制御パラメータと、制御偏差ｅｚと、にもとづいて、リニアモータ４４を駆動するための制御入力ｕｚを生成する。制御対象は、ドライバ４３、リニアモータ４４、トップステージ２７、を含み、制御入力はドライバ４３に入力される。本実施形態において、制御パラメータは、制御偏差ｅｚに対する制御入力のｕｚの感度を示し、例えば、比例ゲインＫｐ、積分ゲインＫｉ、微分ゲインＫｄのいずれか、あるいは少なくとも２つの組み合わせである。なお、Ｚ軸方向以外の方向の位置制御についても、干渉計の切り替えがないことを除き同様のフィードバック制御が行われる。

Claims (18)

1. 移動体を位置決めする位置決め装置であって、
   前記移動体の第１方向における位置を計測可能な第１計測手段及び第２計測手段と、
   前記移動体を前記第１方向に駆動可能な駆動手段と、
   前記第１計測手段または前記第２計測手段により計測された前記移動体の前記第１方向における位置を示す位置情報に基づいて、前記駆動手段を制御する制御手段と、を有し、
   前記制御手段は、前記移動体の前記第１方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて前記駆動手段を駆動し、
   前記位置情報が、前記第１計測手段から得られた位置情報であるか前記第２計測手段から得られた位置情報であるかによって、前記制御パラメータの値が異なるようにすることを特徴とする位置決め装置。
2. 前記制御パラメータは、比例ゲインＫｐ、積分ゲインＫｉ、微分ゲインＫｄ、ノッチフィルタの周波数、およびローパスフィルタのカットオフ周波数のうち少なくとも１つであることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
3. 前記制御手段は、ＰＩＤ制御部を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の位置決め装置。
4. 前記第１計測手段および前記第２計測手段は、前記移動体の前記第１方向と交差する第２方向において互いに異なる位置に設けられている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の位置決め装置。
5. 前記制御手段は、前記移動体の前記第２方向における位置に関する情報に基づいて、前記第１計測手段から得られた位置情報から前記第２計測手段から得られた位置情報へ、前記駆動手段の駆動に用いられる位置情報の切り替えを行うことを特徴とする請求項４に記載の位置決め装置。
6. 前記制御手段は、前記駆動手段の駆動に用いられる位置情報の切り替えに応じて、前記制御パラメータの切り替えを行う請求項１乃至５のいずれか１項に記載の位置決め装置。
7. 第１の処理を行うための第１位置から第２の処理を行うための第２位置へ、前記移動体を前記第２方向にステップ移動させる際に、前記位置情報の切り替えと前記制御パラメータの値の切り替えとを行う請求項１乃至６のいずれか１項に記載の位置決め装置。
8. 前記第２処理の開始時よりも所定の時間以上早いタイミングで、前記制御パラメータの値の切り替えを行うことを特徴とする請求項７に記載の位置決め装置。
9. 前記第１の処理の終了後に、前記制御パラメータの値の切り替えを行う請求項８に記載の位置決め装置。
10. 前記第１計測手段および前記第２計測手段はそれぞれ干渉計である請求項１乃至９のいずれか１項に記載の位置決め装置。
11. リソグラフィ装置において、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の位置決め装置と、
    前記移動体に搭載された基板にパターンを形成するためのパターニング手段と、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
12. 前記リソグラフィ装置は、ステップ・アンド・スキャン型の露光装置、ステップ・アンド・リピート型の露光装置、インプリント装置、荷電粒子線描画装置から選択されるいずれかである請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
13. 物品の製造方法において、
    請求項１１または１２に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
    パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
    を備えることを特徴とする物品の製造方法。
14. 移動体の第１方向における位置を計測可能な第１計測手段および第２計測手段と、前記移動体を前記第１方向に駆動可能な駆動手段と、前記第１計測手段または前記第２計測手段により計測された前記移動体の第１方向における位置を示す位置情報に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、を有する位置決め装置の制御方法において、
    前記移動体の前記第１方向における位置指令情報と前記位置情報とに応じた制御偏差と、所定の値に設定された制御パラメータと、に基づいて、前記駆動手段を駆動するための制御入力を生成する工程と、
    生成された前記制御入力に基づいて前記駆動手段を制御する工程と、を含み、
    前記位置情報が前記第１計測手段から得られた位置情報である場合には、前記制御パラメータの値として第１の値を用い、前記位置情報が前記第２計測手段から得られた位置情報である場合には、前記制御パラメータの値として前記第１の値とは異なる第２の値を用いることを特徴とする制御方法。
15. 前記制御パラメータは、比例ゲインＫｐ、積分ゲインＫｉ、微分ゲインＫｄ、ノッチフィルタの周波数、およびローパスフィルタのカットオフ周波数のうち少なくとも１つであることを特徴とする請求項１４に記載の制御方法。
16. 前記制御する工程は、ＰＩＤ制御であることを特徴とする請求項１４または１５に記載の制御方法。
17. 前記第１計測手段および前記第２計測手段は、前記移動体の前記第１方向と交差する第２方向において互いに異なる位置に設けられており、
    前記移動体の前記第２方向における位置に関する情報に基づいて、前記第１計測手段から得られた位置情報から前記第２計測手段から得られた位置情報へ、前記制御入力の生成に用いられる位置情報の切り替えを行うことを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の制御方法。
18. 前記制御入力の生成に用いられる位置情報の切り替えに応じて、前記制御パラメータの値の切り替えを行う請求項１４乃至１７のいずれか１項に記載の制御方法。

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