JP6099225B2 - 硬質潤滑被膜および硬質潤滑被膜被覆工具 - Google Patents

硬質潤滑被膜および硬質潤滑被膜被覆工具 Download PDF

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Description

本発明は、母材の表面に被覆して設けられる硬質潤滑被膜およびその硬質潤滑被膜が被覆された硬質潤滑被膜被覆工具に関し、特に、硬質及び耐摩耗性を共に向上させるための改良に関する。
炭素鋼、ステンレス、および軟鋼などの材料を切削加工するドリルやタップ等の切削用工具には、被削材を切削するに必要な硬度や工具寿命を長くすることつながる耐摩耗性などの性質が求められる。そのため、切削工具の母材表面には、耐摩耗性を向上させるために硬質被膜が被覆して設けられる。この切削工具用硬質被膜としては、TiN系、CrN系およびTiAlN系などのコーティングが広く用いられており、その性能を更に向上させるために改良が図られている。例えば、特許文献1および特許文献2に記載された硬質積層被膜がそれである。
たとえば特許文献1においては、TiaCrbAlcMo1-a-b-cの窒化物又は炭窒化物から成る第1被膜層と、TidCreAl1-d-eの窒化物又は炭窒化物から成る第2被膜層とが、交互に2層以上積層された多層膜から構成される硬質積層被膜が、また特許文献2においては、TiaCrbAlcMo1-a-b-cの窒化物又は炭窒化物から成る単層膜から構成される硬質積層被膜がそれぞれ提案されている。
特開2012−115924 特開2012−115923
しかし、前述したような従来の技術により硬質積層被膜が形成された母材では、潤滑性や耐摩耗性が依然として十分ではなく、それ故に欠損や摩耗により母材から構成される切削工具は早期寿命に至る場合があるという問題があった。したがって、硬質且つ耐摩耗性を有する硬質積層被膜の開発が求められていた。
本発明は、以上の事情を背景として為されたものであり、その目的とするところは、硬質且つ耐摩耗性を有する硬質潤滑被膜および硬質潤滑被膜被覆工具を提供することにある。
本発明者等は、以上の事情を背景として鋭意研究するうち、チタン(Ti)は酸化しやすいため、被膜を構成する元素としてTiを含めないことを意図して、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、バナジウム(V)およびホウ素(B)をA層、またケイ素(Si)をB層の構成元素とし、さらにA層に酸素を導入すると、Cr、Mo、WおよびVの酸炭化物、酸窒化物又は酸炭窒化物から成る結晶の微細組織が形成されるため、高硬度でありながら一層高潤滑性が得られるという事実を見出した。また、B層中のケイ素(Si)により、被膜の耐熱性が向上するという事実も見出した。本発明はこのような知見に基づいて為されたものである。A層の上記結晶はB層との積層構造において層の厚みにより結晶成長が抑制されて被膜の硬度を高める微細な結晶構造が生成されるとともに、上記Cr、Mo、WおよびVの酸炭化物、酸窒化物又は酸炭窒化物の結晶は、モリブデン硫化物或いは窒化物と類似した固体潤滑構造を有しているために被膜の潤滑性が高められると推定される。
すなわち、第1発明の要旨とするところは、母材の表面に被覆される硬質潤滑被膜であって、(CrMo1−x−y−zの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成るA層と、Si(1−f)から成るB層とが、交互に2層以上積層された硬質潤滑被膜であって、前記A層に係る原子比aは0.2≦a≦0.7、bは0.05≦b≦0.6、cは0≦c≦0.3、dは0≦d≦0.05、e=1−a−b−c−dは0≦e≦0.05、xは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.6、zは0<z≦0.2、x+y+zは0.3≦x+y+z≦0.6であり、前記B層に係る原子比fは0.3≦f≦0.6であり、且つ、前記A層の膜厚は2nm以上500nm以下、前記B層の膜厚は1nm以上20nm以下、総膜厚は0.1μm以上10.0μm以下の範囲内であることを特徴とする硬質潤滑被膜および硬質潤滑被膜が被覆された硬質潤滑被膜被覆工具にある。
また、第2発明の要旨とするところは、第1発明の硬質潤滑被膜において、前記A層は結晶相とアモルファス相とが混在した複相組織であることを特徴とする。
また、第3発明の要旨とするところは、第1または第2発明の硬質潤滑被膜において、前記A層が前記母材の表面にはじめに被覆されることを特徴とする。
また、第4発明の要旨とするところは、第1ないし第3発明のいずれか1の硬質潤滑被膜において、前記B層はアモルファス相から構成されることを特徴とする。
第1発明の硬質潤滑被膜は、上述のように、(CrMo1−x−y−zの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成るA層と、Si(1−f)から成るB層とが、交互に2層以上積層されて形成されたものであることから、積層されたA層にはMo、WおよびVの酸化物、酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成る微細組織が形成されることにより被膜の硬度が高められ、且つMo、WおよびVの酸化物、酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物は固体潤滑性を有していることにより被膜の潤滑性が高められるので、硬質且つ耐摩耗性を有する硬質潤滑被膜および硬質潤滑被膜被覆工具を得ることができる。
第2発明の硬質潤滑被膜によれば、A層は結晶相とアモルファス相とが混在した複相組織である。このように、Mo、WおよびVの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成る微細なNaCl構造の結晶相(δ−(Cr、Mo、W、V)Nおよびγ−MoNなど)とアモルファス相との複相組織が形成されることにより、硬質且つ耐摩耗性を有する硬質潤滑被膜および硬質潤滑被膜被覆工具を得ることができる。
第3発明の硬質潤滑被膜によれば、前記母材の表面にはじめに被覆されるのが前記A層であるため、主にアモルファス相から構成されるB層よりも膜が硬いA層が母材の表面に被覆されることから、硬質潤滑被膜の母材に対しての接着強度を大きくすることができる。
第4発明の硬質潤滑被膜によれば、前記B層はアモルファス相から構成されるため、摩耗によるケイ素(Si)酸化物の形成が促進されることから耐熱性が向上される。ひいては、硬質潤滑被膜により被覆された硬質潤滑被膜被覆工具の工具寿命を延ばすことができる。
本発明の硬質被膜が設けられたドリルを示す図で、(a)は正面図、(b)は先端側から見た拡大底面図である。 図1のドリルにおけるボデーの表面部分の積層構造を説明するための概念的な断面図である。 図1のドリルを形成するためのプロセスチャートである。 図1のドリルを形成する際に好適に用いられるスパッタリング装置を説明する概略構成図である。 硬質被膜の膜の硬さH(GPa)と硬質被膜が被覆されたドリルの切削試験により得られた摩耗幅(mm)を試験品1〜40および比較品1〜6ごとに示したグラフである。 切削試験における加工穴数の増加に伴う摩耗幅の推移を示すグラフである。 試験品1の硬質被膜におけるA層の透過型電子顕微鏡(TEM)により撮影した写真である。
以下、本発明の硬質潤滑被膜の一実施例について図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明の硬質被膜10が設けられたドリル12を示す図で、(a)は軸心Oと直角な方向から見た正面図、(b)は切れ刃14が設けられた先端側から見た拡大底面図である。このドリル12は、2枚刃のツイストドリルで、シャンク16およびボデー18を軸方向に一体に備えており、ボデー18には軸心Oの右まわりにねじれた一対の溝20が形成されている。ボデー18の先端には、溝20に対応して一対の切れ刃14が設けられており、シャンク16側から見て軸心Oの右まわりに回転駆動されることにより切れ刃14によって穴を切削加工するとともに、切屑が溝20を通ってシャンク16側へ排出される。なお、硬質被膜10は本発明の硬質潤滑被膜に、またドリル12は本発明の硬質潤滑被膜被覆工具にそれぞれ相当する。
図2は、図1のドリル12におけるボデー18の表面部分の積層構造を説明するための概念的な断面図である。図2に示されるように、ドリル12の基材である超硬合金製の工具母材22の表面には、その表面を被覆する硬質被膜10がコーティングされている。図1の斜線部は、ドリル12においてこの硬質被膜10が設けられた部分が示されており、硬質被膜10は、好適には、ドリル12におけるボデー18に対応する工具母材22の表面に被覆して設けられる。なお、工具母材22は本発明の母材に相当する。
図2から明らかなように、本実施例の硬質被膜10は、酸素元素を含むA層24とケイ素(Si)を含むB層25とが交互に2層以上積層された多層膜であり、斯かるA層24及びB層25は、以下に示す化学組成を満足する材料から構成される。すなわち、A層24は、(CrMo1−x−y−zの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物であって、原子比aは0.2≦a≦0.7、bは0.05≦b≦0.6、cは0≦c≦0.3、dは0≦d≦0.05、e=1−a−b−c−dは0≦e≦0.05、xは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.6、zは0<z≦0.2、x+y+zは0.3≦x+y+z≦0.6である。硬質被膜10におけるA層24において、モリブデン硫化物或いは窒化物と類似した固体潤滑構造を有するMo、WおよびVの酸化物、酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成る微細組織が形成される。A層24としては、たとえば(Cr0.4Mo0.60.510.390.1などが好適に例示される。また、B層25は、Si(1−f)であって、原子比fは0.3≦f≦0.6である。また、B層25はおおよそアモルファス相から構成され、たとえばSi0.700.30などが好適に例示される。
また、硬質被膜10において、A層24の膜厚D1は2nm以上500nm以下の範囲内、B層25の膜厚D2は1nm以上20nm以下の範囲内、硬質被膜10の総膜厚Dは0.1μm以上10.0μm以下の範囲内とされる。B層25が20nmよりも大きな膜厚で積層された場合、B層25のほとんどがアモルファス相から構成されるため、硬度が小さいことから、それにより構成される硬質被膜10において、所望の硬度が得られなくなり、逆にB層25が1nmよりも小さな膜厚で積層される場合、B層25の存在により得られる耐摩耗性や耐熱性などの効果が十分に得られなくなる。A層24及びB層25の積層数は、硬質被膜10の総膜厚D及び各被膜層24、25の膜厚D1、D2に係る上記数値範囲を逸脱しない限りにおいて適宜定められるが、単層よりも多層から構成される方がより硬度が上がるため、少なくともA層24およびB層25を1層ずつ有する多層膜とされる。また、硬質被膜10における複数のA層24の膜厚D1はすべて等しいものであってもよいし、上記数値範囲内で相互に異なるものであってもよい。同様に、硬質被膜10における複数のB層25の膜厚D2はすべて等しいものであってもよいし、上記数値範囲内で相互に異なるものであってもよい。
また、硬質被膜10において、A層24及びB層25の積層順は、好適には、図2に示すように工具母材22側からA層24、B層25、・・・、A層24、B層25の順で積層されたものであり、硬質被膜10の基層(工具母材22と接する最下層)はA層24とされる。B層25はほとんどがアモルファス相から構成されるため硬度がA層24よりも小さく、それ故にB層25よりも硬度の大きいA層24を上記基層とすることにより、硬質被膜10が工具母材22の表面により強固に被覆される。
次に、工具母材22のボデー18に対応する部分が硬質被膜10により被膜されたドリル12を形成する工程を図3および図4を参照して詳細に説明する。図3は図1のドリル12を形成するためのプロセスチャートであり、図4は図1のドリル12を形成する際に好適に用いられるスパッタリング装置26を説明する概略構成図(模式図)である。
図3における母材の研削工程P1では、工具母材22の基材である超硬合金に対して研削が施されて工具母材22が得られる。たとえば、先ず工具母材22の大まかな形すなわち軸心を有するシャンク16およびボデー18となる円柱状の形状を形成するために超硬合金に対して円筒研が施される。次に、円柱状形状のボデー18に相当する長手方向の一端部側の外周側面に軸心Oの右回りにねじれた溝20などを形成する溝研が施される。最後に、被削材を切削するための切れ刃14が形成されるように上記長手方向の一端に対して刃研が施される。次に、洗浄工程P2では、硬質被膜10の被覆に先立って工具母材22の表面が洗浄される。エッチング工程P3では、スパッタリング装置26により前処理として工具母材22の表面が粗面化される。被膜10の成膜工程P4では、スパッタリング装置26により工具母材22のボデー18に対して硬質被膜10が被覆されてドリル12が形成される。検査工程P5では、硬質被膜10が被覆されたドリル12が切削工具としての使用基準を満たしているか否かの判定をするための検査が行われる。
次に、スパッタリング装置26により行われる上記エッチング工程P3および上記被膜の成膜工程P4に関して図4を参照してさらに詳細に説明する。スパッタリング装置26はチャンバー28とチャンバー28の底面の略中心の貫通穴を通じて貫通される回転軸と回転軸のチャンバー28内部側の一端部に固設された円盤状の基台30とを備えている。先ず、円盤状の基台30上には、基台30の中心から等間隔の位置にある円周上において周方向に互いに等間隔で研削工程P1で得られた複数本の工具母材22が基台30に自転可能に設置される。図示しないヒーターにより工具母材22が約500℃まで昇温され、チャンバー28内が所定の圧力以下の真空度に保たれつつチャンバー28内にアルゴン(Ar)ガスが導入される。この状態でバイアス電源32により工具母材22にたとえば−200〜−500Vのバイアス電圧がかけられ、Arガス中で発生したグロー放電により生じたArイオンによる工具母材22の表面のエッチング処理が行われる。エッチング処理終了後、チャンバー28内からArガスが排気される。上記のようにしてエッチング工程P3が終了した後、引き続き被膜の成膜工程P4が行われる。すなわち、硬質被膜10を構成するCr、Mo、Si等のターゲット34、35に電源36により一定のカソード電圧(たとえば−100〜−500V程度)を印加するとともに、バイアス電源32により前記工具母材22に一定の負のバイアス電圧(例えば−100V程度)を印加することにより、アルゴンイオンAr+を上記ターゲット34、35に衝突させてCr、Mo、Si等の構成物質を叩き出しイオン化させる。上記電源36及びバイアス電源32により印加される電圧はコントローラ38により制御される。チャンバー28内には、アルゴンガスの他に窒素ガス(N2)、炭化水素ガス(CH4、C22)あるいは酸素ガス(O)の反応ガスが所定の流量、圧力で選択的に導入され、その窒素原子(N)、炭素原子(C)あるいは酸素原子(O)がターゲット34、35から叩き出されたCr、Mo、Siなどと結合してA層24としてたとえば(Cr0.4Mo0.60.510.390.1のような酸窒化物、(Cr0.50Mo0.50.550.40.05のような酸炭化物が形成され、B層25としてたとえばSi0.700.30が形成される。そして、工具母材22は、チャンバー28に対して回転させられる基台30上においてさらに基台30に対して回転させられるため、それらは工具母材22の表面に均質な硬質被膜10として被覆させられる。ここで、Cr、Mo、W、VおよびBに係る組成比の制御および成膜時の各種反応ガスの制御により、あるいは成膜時の各種反応ガスの制御のみで、A層24およびB層25の被覆が成膜される。たとえば、B層25の被覆の際には反応ガスとしての炭化水素ガス(CH4、C22)および酸素(O)ガスは不要なため、炭化水素ガス(CH4、C22)および酸素(O)ガスのチャンバー28内への導入がオフとされることによりB層25が形成される。そして、反応ガスの切替えおよびターゲット34、35の選択に応じてA層24とB層25との工具母材22への交互の被覆が繰り返されて、最終的に硬質被膜10が被覆された超硬合金製のドリル12が形成される。
このようにドリル12に被覆された硬質被膜10は、(CrMo1−x−y−zの酸窒化物、酸炭化物または酸炭窒化物であるA層24とSi(1−f)であるB層25とが交互に積層されて成る、すなわちA層24の薄膜界面にB層25が挿入されて成るものであるため、A層24およびB層25を構成する被膜粒子の粒径がさらに小さくなり微細組織構造が形成されることから耐摩耗性に優れ、ひいてはドリル12の工具寿命の向上に帰結する。また、摩耗された際にMo、W、V酸化物の自己形成により固体潤滑粒子が生成するため、低摩耗性および耐溶着性に優れるとともに、同様に摩耗によりSi酸化物が形成されるため、耐熱性にも優れることから、結果としてドリル12の工具寿命を延ばすことができる。
続いて、硬質被膜10が被覆されたドリル12すなわち本発明の効果を検証するために本発明者等が行った試験について図5ないし図7、表1および表2に基づいて詳細に説明する。
先ず、表1に示されるA層24とB層25の薄膜組成および表2に示されるA層24とB層25の各膜厚D1、D2および総膜厚Dを有する被膜すなわち硬質被膜10に要求される条件を満たす被膜が図3の前記洗浄工程P2、前記エッチング工程P3および前記成膜工程P4を経て工具径6mmφの超硬ドリルに被覆され、試験品1〜40のドリル12が形成された。また、比較のため、硬質被膜10の条件を満たさない被膜が、同様に工程P2、P3およびP4を経て工具径6mmφの超硬ドリルに被覆され、比較品1〜6のドリルが形成された。
表2における膜の硬さH(GPa)は以下のようにして求めた。試験品1〜40および比較品1〜6についてナノインデンテーション法にしたがってそれぞれの膜の硬さを測定した。すなわち、先端がダイヤモンドチップから成る三角錐型(バーコビッチ型)の圧子を硬質被膜が被覆された試験品1〜40および比較品1〜6の表面に荷重Pで押し込み、圧子の下の射影面積Aを算出した。荷重Pを面積Aで割ることで膜の硬さH(GPa)が算出される。なお、ナノインデンテーション法において、硬さは15〜20GPaで柔らかい、30GPa以上で硬い、50〜60GPaで脆いと評価される。
また、表2における5000穴加工後摩耗幅(mm)は、試験品1〜40のドリル12および比較品1〜6のドリルについて以下の切削条件で切削試験を行うことで求めた。
[切削条件]
・試験品および比較品:超硬ドリル 工具径6(mmφ)
・被削材:S50C
・切削方法:穴加工
・切削速度:100(m/min)
・送り速度:955(mm/min)
・加工深さ:30mm止まり
・切削油:水溶性
上記切削試験において、表2に示される5000穴加工後摩耗幅は、上記切削条件で5000穴加工後の試験品1〜40のドリル12および比較品1〜6のドリルにおける切れ刃14の外周部(コーナ部)の周方向の摩耗幅(mm)であり、摩耗幅が0.2mm以下の場合、合格と判定し、摩耗幅が0.2mmよりも大きい場合、不合格と判定した。また、表2の備考において継続可能とは、5000穴加工後のドリルにおいて、以後の切削が可能である場合であり、以後の切削が不可能な場合、切削試験に供されたドリルの状態を評価した。
Figure 0006099225
Figure 0006099225
図5はナノインデンテーション法により得られた膜の硬さH(GPa)と切削試験により得られた5000穴加工後摩耗幅(mm)を試験品1〜40および比較品1〜6ごとに示したグラフである。すなわち、図5は表2の膜の硬さH(GPa)および5000穴加工後摩耗幅(mm)をグラフ化したものである。なお、図5の横軸は試験品1〜40および比較品1〜6の番号を、左軸は試験品1〜40および比較品1〜6の膜の硬さH(GPa)を、右軸は試験品1〜40および比較品1〜6の5000穴加工後摩耗幅(mm)をそれぞれ示す。表2および図5に示されるように、硬質被膜10の要件を満たす被膜が被覆された試験品1〜40の全てのドリル12において、その膜の硬さH(GPa)は28.0GPa以上、5000穴加工後摩耗幅(mm)は0.199mm以下であり切削試験において合格と評価された。なお、試験品1〜40の全ては5000穴加工後においても、摩耗幅が小さいため以後の切削も継続可能であった。
また、図6は切削試験における加工穴数の増加に伴う摩耗幅の推移を示すグラフであり、試験品18、25および29、比較品3および5がそれぞれ試験品1〜40および比較品1〜6を代表してプロットされている。図6に示されるように、試験品18、25および29は加工穴数の増加に伴い、なだらかに摩耗幅(mm)が増加し、5000穴加工後の摩耗幅は0.1mm程度に収まった。
すなわち、上記の結果から、(CrMo1−x−y−zの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成るA層24と、Si(1−f)から成るB層25とが、交互に2層以上積層されて成るものであり、A層24に係る原子比aは0.2≦a≦0.7、bは0.05≦b≦0.6、cは0≦c≦0.3、dは0≦d≦0.05、e=1−a−b−c−dは0≦e≦0.05、xは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.6、zは0<z≦0.2、x+y+zは0.3≦x+y+z≦0.6であり、B層25に係る原子比fは0.3≦f≦0.6であり、且つ、A層24の膜厚D1は2nm以上500nm以下、B層25の膜厚D2は1nm以上20nm以下、総膜厚Dは0.1μm以上10.0μm以下の範囲内である硬質被膜10が被覆された試験品1〜40のドリル12はその膜の硬さHが28.0GPa以上、且つその5000穴加工後摩耗幅(mm)は0.199mm以下であり、良好な値を示した。
それに対して、比較品1は(Ti0.5Mo0.50.490.260.25から成る膜厚12500nmのA層の単層膜が被覆されたドリルであり、A層においてチタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)が含有されておらず、酸素の原子比zが0.25であるため、硬質被膜10のA層24に係る薄膜組成とは異なる元素チタン(Ti)が含有されており、且つクロム(Cr)の原子比aの0.2≦a≦0.7、酸素(O)の原子比zの0<z≦0.2をそれぞれ逸脱し、B層がA層の薄膜界面に挿入形成されていないため、硬質被膜10のA層24とB層25とが交互に積層されて成るという要件から逸脱し、A層の膜厚および総膜厚が硬質被膜10に係るA層24の膜厚D1の2nm以上500nm以下、総膜厚Dの0.1μm以上10.0μm以下の範囲を逸脱するものである。そのため、比較品1のドリルの膜の硬さHは18.0GPaと試験品と比較して小さく、5000穴加工後摩耗幅は0.445mmであり、試験品と比較して大きな値であり不合格と判定された。なお、切削試験において、3059穴加工後にドリルのコーナー部が折損し、継続使用は不可能となった。この結果から特に、A層24に係るクロム(Cr)の原子比aは0.2以上、酸素(O)の原子比zは0.2以下、A層に係る膜厚D1は500nm以下、総膜厚Dは10.0μm以下とすべきであり、またB層25はA層24の薄膜界面に挿入形成され、A層24とB層25とが交互に積層されるべきであることが検証され、本発明に係る硬質被膜10に求められる要件の意義が確かめられた。
また、比較品2はMo0.60.4から成る膜厚800nmのA層の単層膜が被覆されたドリルであり、A層において、クロム(Cr)および酸素(O)が含有されておらず、モリブデン(Mo)の原子比bが1.0であるため、硬質被膜10のA層24に係るクロム(Cr)の原子比aの0.2≦a≦0.7、モリブデン(Mo)の原子比bの0.05≦b≦0.6、酸素(O)の原子比zの0<z≦0.2をそれぞれ逸脱し、B層がA層の薄膜界面に挿入形成されていないため、硬質被膜10のA層24とB層25とが交互に積層されて成るという要件から逸脱し、A層の膜厚が硬質被膜10に係るA層24の膜厚D1の2nm以上500nm以下の範囲を逸脱するものである。そのため、比較品2のドリルの膜の硬さHは24.0GPaと試験品と比較して小さく、5000穴加工後摩耗幅は0.340mmであり、試験品と比較して大きな値であり不合格と判定された。なお、切削試験において、4000穴加工後にドリルのコーナー部の摩耗幅が大きくなりすぎ、継続使用は不可能となった。この結果から特に、A層24に係るクロム(Cr)の原子比aは0.2以上、モリブデン(Mo)の原子比bは0.6以下、酸素(O)の原子比zは0よりも大きく、A層24に係る膜厚D1は500nm以下とすべきであり、またB層25はA層24の薄膜界面に挿入形成され、A層24とB層25とが交互に積層されるべきであることが検証され、本発明に係る硬質被膜10に求められる要件の意義が確かめられた。
また、比較品3は(Ti0.3Mo0.60.350.250.10.3から成る膜厚6000nmのA層の単層膜が被覆されたドリルであり、A層において、チタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)が含有されておらず、酸素(O)の原子比zが0.3、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zが0.65であるため、硬質被膜10のA層24に係る薄膜組成とは異なる元素チタン(Ti)が含有されており、且つクロム(Cr)の原子比aの0.2≦a≦0.7、酸素(O)の原子比zの0<z≦0.2、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zの0≦x+y+z≦0.65をそれぞれ逸脱し、B層がA層の薄膜界面に挿入形成されていないため、硬質被膜10のA層24とB層25とが交互に積層されて成るという要件から逸脱し、A層の膜厚が硬質被膜10に係るA層24の膜厚D1の2nm以上500nm以下の範囲を逸脱するものである。そのため、比較品3のドリルの膜の硬さHは17.5GPaと試験品と比較して小さく、5000穴加工後摩耗幅は0.589mmであり、試験品と比較して大きな値であり不合格と判定された。なお、図6に示されるように、比較品3は加工穴数の増加に伴いその摩耗幅(mm)は急激に大きくなり、500穴加工後の摩耗幅は0.4mm弱まで達し、1200穴加工後にドリルのコーナー部が折損したことから、継続使用は不可能となった。この結果から特に、A層24に係るクロム(Cr)の原子比aは0.2以上、酸素(O)の原子比zは0.2以下、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zは0.65以下、A層24に係る膜厚D1は500nm以下とすべきであり、またB層25はA層24の薄膜界面に挿入形成され、A層24とB層25とが交互に積層されるべきであることが検証され、本発明に係る硬質被膜10に求められる要件の意義が確かめられた。
また、比較品4はTi0.750.10.10.05から成る膜厚600nmのA層と、Si0.90.1から成る膜厚25nmのB層とが、交互に2層以上積層されて形成された総膜厚12.25μmの多層膜が被覆されたドリルであり、A層においてチタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)およびモリブデン(Mo)が含有されておらず、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zが0.25であるため、硬質被膜10のA層24に係る薄膜組成とは異なる元素チタン(Ti)が含有されており、且つクロム(Cr)の原子比aの0.2≦a≦0.7、モリブデン(Mo)の原子比bの0.05≦b≦0.6、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zの0.3≦x+y+z≦0.6を逸脱し、B層において窒素(N)の原子比fが0.1であるため、硬質被膜10のB層25に係る窒素(N)の原子比fの0.3≦f≦0.6の範囲を逸脱し、A層およびB層の膜厚と総膜厚が硬質被膜10に係るA層24の膜厚D1の2nm以上500nm以下、B層25の膜厚D2の1nm以上20nm以下、総膜厚Dの0.1μm以上10.0μm以下の範囲を逸脱するものである。そのため、比較品4のドリルの膜の硬さHは22.0GPaと試験品と比較して小さな値となり、5000穴加工後摩耗幅(mm)は0.591mmであり、試験品と比較して大きな値であり不合格と判定された。なお、切削試験において、3500穴加工後にドリルのコーナー部の摩耗幅が大きくなりすぎ、継続使用は不可能となった。この結果から特に、A層24に係るクロム(Cr)の原子比aは0.2以上、モリブデン(Mo)の原子比bは0.05以上、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zは0.3以上、B層25に係る窒素(N)の原子比fは0.3以上、A層24に係る膜厚D1は500nm以下、B層25に係る膜厚D2は20nm以下、総膜厚Dは10.0μm以下とすべきことが検証され、本発明に係る数値範囲の意義が確かめられた。
また、比較品5は(Ti0.15Cr0.1Mo0.750.530.320.15から成る膜厚850nmのA層と、Si0.70.3から成る膜厚30nmのB層とが、交互に2層以上積層して形成された総膜厚6.92μmの多層膜が被覆されたドリルであり、A層においてチタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)の原子比aは0.1であり、モリブデン(Mo)の原子比bは0.75であるため、硬質被膜10のA層24に係る薄膜組成とは異なる元素チタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)の原子比aの0.2≦a≦0.7、モリブデン(Mo)の原子比bの0.05≦b≦0.6を逸脱し、A層およびB層に係る膜厚が硬質被膜10のA層24に係る膜厚D1の2nm以上500nm以下、B層25に係る膜厚D2の1nm以上20nm以下の範囲を逸脱するものである。そのため、比較品5のドリルの膜の硬さHは23.0であり試験品と比較して小さな値となり、5000穴加工後摩耗幅(mm)は0.320mmであり、試験品と比較して大きな値であり不合格と判定された。なお、図6に示されるように、比較品5は500穴加工後にはその摩耗幅(mm)は0.1mmに達し、その後も摩耗は漸増し、4100穴加工後にドリルのコーナー部が折損し、継続使用は不可能となった。この結果から特に、A層24に係るクロム(Cr)の原子比aは0.2以上、モリブデン(Mo)の原子比bは0.6以下、A層24に係る膜厚D1は500nm以下、B層25に係る膜厚D2は20nm以下とすべきことが検証され、本発明に係る数値範囲の意義が確かめられた。
また、比較品6は(Ti0.15Cr0.1Mo0.70.050.350.10.150.4から成る膜厚1nmのA層と、Si0.450.55から成る膜厚25nmのB層とが、交互に2層以上積層されて形成された総膜厚5.20μmの多層膜が被覆されたドリルであり、A層においてチタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)の原子比aは0.1であり、モリブデン(Mo)の原子比bは0.7であり、酸素(O)の原子比zは0.4であり、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zは0.65であるため、硬質被膜10のA層24に係る薄膜組成とは異なる元素チタン(Ti)が含有されており、クロム(Cr)の原子比aの0.2≦a≦0.7、モリブデン(Mo)の原子比bの0.05≦b≦0.6、酸素(O)の原子比zの0<z≦0.2、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zの0.3≦x+y+z≦0.6を逸脱し、A層およびB層に係る膜厚が硬質被膜10のA層24に係る膜厚D1の2nm以上500nm以下、B層25に係る膜厚D2の1nm以上20nm以下の範囲を逸脱するものである。そのため、比較品6のドリルの膜の硬さHは12.0GPaであり試験品と比較して小さな値となり、5000穴加工後摩耗幅(mm)は0.778mmであり、試験品と比較して大きな値であり不合格と判定された。なお、切削試験において、1000穴加工後にドリルのコーナー部が折損し、継続使用は不可能となった。この結果から特に、A層24に係るクロム(Cr)の原子比aは0.2以上、モリブデン(Mo)の原子比bは0.6以下、酸素(O)の原子比zは0.2以下、炭素(C)と窒素(N)と酸素(O)の原子比の総和x+y+zは0.6以下、A層24に係る膜厚D1は500nm以下、B層25に係る膜厚D2は20nm以下とすべきことが検証され、本発明に係る数値範囲の意義が確かめられた。
前記膜の硬さ試験および前記切削試験の結果から、表2に示された試験品1〜40のドリル12は、膜の硬さHにおいて大きい値且つ5000穴加工後摩耗幅(mm)において小さな値が得られ、高硬度且つ良好な耐摩耗性を有することが示された。一方、硬質被膜10に要求される薄膜組成、各元素の原子比、各膜厚および総膜厚の範囲を逸脱する比較品1〜6のドリルは、上記複相組織が形成されないため、試験品1〜40のドリル12と比較して膜の硬さHが小さく、5000穴加工後摩耗幅(mm)が大きな値であり、硬質および耐摩耗性が十分ではないことが示された。
次に、高硬度且つ耐摩耗性に優れる試験品1〜40のそれぞれの硬質被膜10におけるA層24およびB層25について、透過型電子顕微鏡(TEM)により観察を行った。図7は試験品1の硬質被膜10におけるA層24の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)により撮影した写真である。その結果、A層24においては、図7における格子縞が観察される領域である微細な結晶粒から成る結晶(δ−(Cr、Mo、W、V)Nおよびγ−MoNなど)40と、それ以外の領域である酸素(O)を含むアモルファス相42との複相組織が形成されていた。また、図示しないが、B層25はそのほとんどの範囲においてアモルファス相から構成されていることが観察された。このようなA層24とB層25が積層されて成る硬質被膜10が被覆されたドリル12は、微細な結晶粒から成る結晶40が存在するため膜の硬さHが30.5GPaと高硬度であると共に、A層24において酸素(O)を含むアモルファス相42が存在するため、摩耗によるモリブデン(Mo)、タングステン(W)およびバナジウム(V)酸化物の形成が促進されることから低摩耗性および耐溶着性に優れ、また、ケイ素(Si)を含むアモルファス相から構成されているB層25においても同様に摩耗によりSi酸化物が形成されることから耐熱性に優れ、ひいては5000穴加工後摩耗幅が0.150mmと良好な耐摩耗性を有する。
上述のように、本実施例の試験品1〜40のドリル12に被覆された硬質被膜10によれば、工具母材22の表面に設けられ、(CrMo1−x−y−zの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成るA層24と、Si(1−f)から成るB層25とが、交互に2層以上積層されて形成されるものであり、A層24に係る原子比aは0.2≦a≦0.7、bは0.05≦b≦0.6、cは0≦c≦0.3、dは0≦d≦0.05、e=1−a−b−c−dは0≦e≦0.05、xは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.6、zは0<z≦0.2、x+y+zは0.3≦x+y+z≦0.6であり、B層25に係る原子比fは0.3≦f≦0.6であり、且つ、A層24の膜厚D1は2nm以上500nm以下、B層25の膜厚D2は1nm以上20nm以下、総膜厚Dは0.1μm以上10.0μm以下の範囲内であるため、積層されたA層24にはMo、WおよびVの酸化物、酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成る微細組織が形成されることにより被膜の硬度が高められ、且つMo、WおよびVの酸化物、酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物は固体潤滑性を有していることにより被膜の潤滑性が高められるので、硬質且つ耐摩耗性を有する硬質被膜10およびドリル12を得ることができる。
また、本実施例の試験品1〜40のドリル12に被覆された硬質被膜10によれば、A層24は結晶相40とアモルファス相42とが混在した複相組織である。このように、Mo、WおよびVの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成る微細なNaCl構造の結晶相(δ−(Cr、Mo、W、V)Nおよびγ−MoNなど)40とアモルファス相42との複相組織が形成されることにより、硬質且つ耐摩耗性を有する硬質被膜10およびドリル12を得ることができる。
また、本実施例の試験品1〜40のドリル12に被覆された硬質被膜10によれば、工具母材22の表面にはじめに被覆されるのがA層24であるため、主にアモルファス相から構成されるB層25よりも膜が硬いA層24が工具母材22の表面に被覆されることから、硬質被膜10の工具母材22に対しての接着強度を大きくすることができる。
また、本実施例の試験品1〜40のドリル12に被覆された硬質被膜10によれば、B層25はアモルファス相から構成されるため、摩耗によるケイ素(Si)酸化物の形成が促進されることから耐熱性が向上される。ひいては、硬質被膜10により被覆されたドリル12の工具寿命を延ばすことができる。
以上、本発明を表及び図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。
たとえば、前述の実施例では、硬質被膜10におけるA層24及びB層25の積層順は、図2に示すように工具母材22側からA層24、B層25、・・・、A層24、B層25の順で積層されたものである。すなわち、硬質被膜10の基層(工具母材22と接する最下層)はA層24とされ、表層(硬質被膜10の最上層)はB層25とされたものであるが、上記基層がA層24とされるに限り必ずしも斯かる構成には限定されず、上記表層がA層24とされたものであっても本発明の一応の効果を奏する。
また、前述の実施例では、硬質被膜10はドリル12に被覆されたものであったが、これに限定されるものではなく、たとえばエンドミル、タップ、ダイスなど切削工具や、打ち抜き、曲げなどの金属加工用金型などの金属加工工具に被覆されるものであってもよい。
また、前述の実施例では、ドリル12の形成に際し、硬質被膜10はスパッタリング装置26により被覆されるものであったが、これに限定されるものではなく、たとえば、アークイオンプレーティング法などの他の物理蒸着法(PVD法)や、プラズマCVD法、熱CVD法などの化学蒸着法(CVD法)を用いて硬質被膜10が被覆されてもよい。
10:硬質被膜(硬質潤滑被膜)
12:ドリル(硬質潤滑被膜被覆工具)
24:A層
25:B層

Claims (5)

  1. 母材の表面に被覆される硬質潤滑被膜であって、
    (CrMo1−x−y−zの酸炭化物、酸窒化物または酸炭窒化物から成るA層と、Si(1−f)から成るB層とが、交互に2層以上積層された硬質潤滑被膜であって、
    前記A層に係る原子比aは0.2≦a≦0.7、bは0.05≦b≦0.6、cは0≦c≦0.3、dは0≦d≦0.05、e=1−a−b−c−dは0≦e≦0.05、xは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.6、zは0<z≦0.2、x+y+zは0.3≦x+y+z≦0.6であり、
    前記B層に係る原子比fは0.3≦f≦0.6であり、
    且つ、前記A層の膜厚は2nm以上500nm以下、前記B層の膜厚は1nm以上20nm以下、総膜厚は0.1μm以上10.0μm以下の範囲内であることを特徴とする硬質潤滑被膜。
  2. 前記A層は結晶相とアモルファス相とが混在した複相組織であることを特徴とする請求項1に記載の硬質潤滑被膜。
  3. 前記A層は、前記母材の表面にはじめに被覆されることを特徴とする請求項1または2に記載の硬質潤滑被膜。
  4. 前記B層は、アモルファス相から構成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1に記載の硬質潤滑被膜。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1に記載の硬質潤滑被膜により被覆されたことを特徴とする硬質潤滑被膜被覆工具。
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