JP6086281B2 - サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1に示すように、サスペンション用基板1は、基板本体領域2と、基板本体領域2の両側方に配置された一対の接続構造領域3であって、ピエゾ素子44に導電性接着剤(例えば、銀ペースト)を介して接続される一対の接続構造領域3と、を有している。このうち、基板本体領域2は、ヘッドスライダ52(図7参照)が実装されるヘッド部2aと、FPC基板71(図7参照)が接続されるテール部2bと、を含んでいる。ヘッド部2aには、ヘッドスライダ52に接続される複数のヘッド端子5が設けられ、テール部2bには、FPC基板71に接続される複数のテール端子(外部接続基板端子)6が設けられており、ヘッド端子5とテール端子6とが、後述する複数の信号配線13を介してそれぞれ接続されている。各接続構造領域3は、連結領域4を介して基板本体領域2に連結されている。
なお、上述した本実施の形態においては、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより外方に位置している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図10(a)、(b)に示すように、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより内方(半径方向内側)に位置して、金属支持層開口部32の上端部における直径を、絶縁層開口部33の下端部における直径よりも小さくしても良い。この場合、導電接続部30の下面30aの一部が、金属枠体部17の絶縁枠体部18の側の面(上面17b)に接して、当該導電接続部30が金属枠体部17に電気的に接続される。
次に、図11および図12により、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション用基板について説明する。
なお、上述した本実施の形態においては、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより外方に位置している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図14に示すように、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより内方(半径方向内側)に位置して、金属支持層開口部32の上端部における直径を、絶縁層開口部33の下端部における直径よりも小さくしても良い。この場合、第3金めっき層38の下面38aの一部が、金属支持層11の金属枠体部17の上面17bに接して、当該第3金めっき層38が金属枠体部17に電気的に接続される。
また、上述した本実施の形態においては、導電接続部30の接続本体部分31がニッケルにより形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図15(a)に示すように、導電接続部30の接続本体部分31は、配線層12の配線接続部16と同一の材料により一体に形成されていても良い。より具体的には、絶縁層開口部33内に配線接続部16と同一の材料により形成された接続本体部分31が設けられ、この接続本体部分31が配線接続部16と一体に形成されている。言い換えると、配線接続部16の一部が絶縁層開口部33内に埋設されて、絶縁層開口部33内に埋設された部分が接続本体部分31を構成している。この場合、配線接続部16に配線層開口部34は形成されていない。なお、図15(a)に示す形態では、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bは、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより外方(半径方向外側)に位置している。
なお、図15(a)に示す形態では、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより外方に位置している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図15(b)に示すように、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより内方(半径方向内側)に位置して、金属支持層開口部32の上端部における直径を、絶縁層開口部33の下端部における直径よりも小さくしても良い。この場合、第3金めっき層38の下面38aの一部が、金属支持層11の金属枠体部17の上面17bに接して、当該第3金めっき層38が金属枠体部17に電気的に接続される。なお、図15(b)に示す形態においては、金属枠体部17の下面17aには、図10、図14に示す形態と同様な第1金めっき層36が設けられていることが好ましい。
また、図17(a)に示すように、導電接続部30の全体は、金めっきにより形成されていても良い。このような導電接続部30は、例えば、図12(e)に示す第3金めっき層38を形成する工程を省略し(すなわち、ヘッド端子5およびテール端子6に金めっきを施すが、第3金めっき層38は形成しない)、図12(f)に示す導電接続部30を形成する工程において、絶縁層開口部33、配線層開口部34および保護層開口部35に、金めっきを施すことにより形成することができる。なお、図17(a)に示す形態では、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bは、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより外方(半径方向外側)に位置している。
なお、図17(a)に示す形態では、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより外方に位置している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図17(b)に示すように、金属支持層開口部32の外縁32aの上端部32bが、絶縁層開口部33の外縁33aの下端部33bより内方(半径方向内側)に位置して、金属支持層開口部32の上端部における直径を、絶縁層開口部33の下端部における直径よりも小さくしても良い。この場合、導電接続部30の下面30aの一部が、金属支持層11の金属枠体部17の上面17bに接して、当該導電接続部30が金属枠体部17に電気的に接続される。なお、図17(b)に示す形態においては、金属枠体部17の下面17aには、図10、図14、図15(b)に示す形態と同様な第1金めっき層36が設けられていることが好ましい。
3 接続構造領域
10 絶縁層
11 金属支持層
11a 下面
11b 上面
11c 圧延筋
12 配線層
16 配線接続部
17 金属枠体部
17a 下面
17b 上面
18 絶縁枠体部
18a 下面
20 保護層
28 第1積層体
29 第2積層体
30 導電接続部
30a 下面
30b 上面
31 接続本体部分
32 金属支持層開口部
32a 外縁
32b 上端部
33 絶縁層開口部
33a 外縁
33b 下端部
34 配線層開口部
35 保護層開口部
36 第1金めっき層
37 第2金めっき層
38 第3金めっき層
38a 下面
38b 凹凸形状
41 サスペンション
42 ベースプレート
43 ロードビーム
44 ピエゾ素子
51 ヘッド付サスペンション
52 ヘッドスライダ
61 ハードディスクドライブ
Claims (18)
- 金属支持層に絶縁層を介して配線層が積層され、前記金属支持層に対して前記絶縁層側とは反対側に配置されるアクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
前記接続構造領域に設けられ、前記絶縁層を貫通する絶縁層開口部と、
前記絶縁層開口部に設けられ、ニッケルにより形成されるとともに前記配線層に接続された導電接続部と、
前記接続構造領域に設けられ、前記金属支持層を貫通し、前記導電接続部の前記金属支持層側の面を外方に露出させる金属支持層開口部と、を備え、
前記導電接続部の前記金属支持層側の面は、凹状に湾曲するとともに、前記絶縁層の前記金属支持層側の面よりも前記金属支持層側とは反対側に位置し、
前記金属支持層開口部の外縁の絶縁層側端部は、前記絶縁層開口部の外縁の金属支持層側端部より内方に位置し、
前記導電接続部は、前記接続構造領域における前記金属支持層に電気的に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板。 - 金属支持層に絶縁層を介して配線層が積層され、前記金属支持層に対して前記絶縁層側とは反対側に配置されるアクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
前記接続構造領域に設けられ、前記絶縁層を貫通する絶縁層開口部と、
前記絶縁層開口部に設けられ、ニッケルにより形成されるとともに前記配線層に接続された導電接続部と、
前記接続構造領域に設けられ、前記金属支持層を貫通し、前記導電接続部の前記金属支持層側の面を外方に露出させる金属支持層開口部と、を備え、
前記金属支持層開口部の外縁の絶縁層側端部は、前記絶縁層開口部の外縁の金属支持層側端部より内方に位置し、
前記導電接続部は、前記接続構造領域における前記金属支持層に電気的に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板。 - 前記接続構造領域において、前記金属支持層の前記絶縁層側とは反対側の面に、金めっき層が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載のサスペンション用基板。
- 前記接続構造領域において、前記配線層を貫通する配線層開口部が設けられ、
前記導電接続部は、前記配線層開口部内に延び、
前記導電接続部の前記金属支持層側とは反対側の面は、外方に露出されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のサスペンション用基板。 - 金属支持層に絶縁層を介して配線層が積層され、前記金属支持層に対して前記絶縁層側とは反対側に配置されるアクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
前記接続構造領域に設けられ、前記絶縁層を貫通する絶縁層開口部と、
前記絶縁層開口部に設けられ、ニッケルにより形成されるとともに前記配線層に接続された導電接続部と、
前記接続構造領域に設けられ、前記金属支持層を貫通し、前記導電接続部の前記金属支持層側の面を外方に露出させる金属支持層開口部と、を備え、
前記接続構造領域において、前記配線層を貫通する配線層開口部が設けられ、
前記導電接続部は、前記配線層開口部内に延び、
前記導電接続部の前記金属支持層側とは反対側の面は、外方に露出されていることを特徴とするサスペンション用基板。 - 金属支持層に絶縁層を介して配線層が積層され、前記金属支持層に対して前記絶縁層側とは反対側に配置されるアクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
前記接続構造領域に設けられ、前記絶縁層を貫通する絶縁層開口部と、
前記絶縁層開口部に設けられ、前記配線層に接続された導電接続部と、
前記接続構造領域に設けられ、前記金属支持層を貫通する金属支持層開口部と、を備え、
前記導電接続部は、当該導電接続部の前記金属支持層側の部分に設けられた金めっき部分を有し、
前記金めっき部分の前記金属支持層側の面は、前記金属支持層開口部を介して外方に露出されるとともに、前記絶縁層の前記金属支持層側の面と同一平面上に位置していることを特徴とするサスペンション用基板。 - 前記金属支持層開口部の外縁の絶縁層側端部は、前記絶縁層開口部の外縁の金属支持層側端部より内方に位置し、
前記金めっき部分は、前記接続構造領域における前記金属支持層に電気的に接続されていることを特徴とする請求項6に記載のサスペンション用基板。 - 前記接続構造領域において、前記金属支持層の前記絶縁層側とは反対側の面に、金めっき層が設けられていることを特徴とする請求項7に記載のサスペンション用基板。
- 前記接続構造領域において、前記配線層を貫通する配線層開口部が設けられ、
前記導電接続部は、前記配線層開口部内に延び、
前記導電接続部の前記金属支持層側とは反対側の面は、外方に露出されていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載のサスペンション用基板。 - 前記導電接続部は、前記金めっき部分の前記金属支持層側とは反対側に設けられた接続本体部分を有し、
前記接続本体部分は、ニッケルにより形成されていることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載のサスペンション用基板。 - 前記導電接続部は、前記金めっき部分の前記金属支持層側とは反対側に設けられた接続本体部分を有し、
前記接続本体部分は、前記配線層と同一の材料により一体に形成されていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載のサスペンション用基板。 - 前記導電接続部全体が、金めっきにより形成されていることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載のサスペンション用基板。
- 前記金属支持層の前記絶縁層側の面に、圧延筋が形成され、
前記金めっき部分の前記金属支持層側の面に、前記圧延筋に対応する形状を有する凹凸形状が形成されていることを特徴とする請求項6乃至12のいずれかに記載のサスペンション用基板。 - ベースプレートと、
前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項1乃至13のいずれかに記載の前記サスペンション用基板と、
前記ベースプレートおよび前記ロードビームの少なくとも一方に接合されると共に、前記サスペンション用基板の前記接続構造領域に前記導電性接着剤を介して接続された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンション。 - 請求項14に記載の前記サスペンションと、
前記サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンション。 - 請求項15に記載の前記ヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブ。
- 金属支持層に絶縁層を介して配線層が積層され、前記金属支持層に対して前記絶縁層側とは反対側に配置されるアクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、
前記絶縁層と前記金属支持層と前記配線層とを有する積層体であって、前記接続構造領域において、前記絶縁層を貫通する絶縁層開口部が設けられ、前記絶縁層開口部に、ニッケルにより形成されて前記配線層に接続された導電接続部が設けられた、前記積層体を準備する工程と、
前記積層体を準備する工程の後、前記接続構造領域において、前記金属支持層を貫通する金属支持層開口部であって、前記導電接続部の前記金属支持層側の面を露出させる前記金属支持層開口部をエッチングにより形成する工程と、を備え、
前記金属支持層開口部をエッチングにより形成する工程において、前記導電接続部の前記金属支持層側の面は、凹状に湾曲するとともに、前記絶縁層の前記金属支持層側の面よりも前記金属支持層側とは反対側に位置するように形成され、
前記金属支持層開口部の外縁の絶縁層側端部は、前記絶縁層開口部の外縁の金属支持層側端部より内方に位置し、
前記導電接続部は、前記接続構造領域における前記金属支持層に電気的に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。 - 金属支持層に絶縁層を介して配線層が積層され、前記金属支持層に対して前記絶縁層側とは反対側に配置されるアクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、
前記絶縁層と前記金属支持層と前記配線層とを有する積層体であって、前記接続構造領域において、前記絶縁層を貫通する絶縁層開口部が設けられ、前記絶縁層開口部に、前記金属支持層側の部分に設けられた金めっき部分を有するとともに前記配線層に接続された導電接続部が形成された、前記積層体を準備する工程と、
前記積層体を準備する工程の後、前記接続構造領域において、前記金属支持層を貫通する金属支持層開口部であって、前記金めっき部分の前記金属支持層側の面を露出させる前記金属支持層開口部をエッチングにより形成する工程と、を備え、
前記積層体を準備する工程において、前記導電接続部の前記金めっき部分は、前記金属支持層の前記絶縁層側の面のうち前記絶縁層開口部により露出された部分に形成されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
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