JP6077242B2 - 偏光板及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、偏光板及びその製造方法に関する。

近年の技術進歩により、液晶表示装置は大型化、高精細化、及び多様化（例えば、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＦＦＳ方式など）して来ている。しかしながら、液晶表示装置を構成し、光の透過および遮蔽機能を有する偏光板は、従来通り、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムを一軸延伸し、ヨウ素などの二色性染料で染色することで製造される偏光膜と、その両面に貼り合わされるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系フィルム等の偏光膜保護フィルムとから構成されている。

このＰＶＡからなる偏光膜は傷つき易い上に、傷が付くと光の位相制御が乱れる。また、外部環境からの吸湿によって延伸の緩和が生じ、その偏光度が低下する。偏光膜だけでは耐熱性が不十分であり、かつ膜強度を保つことができないなどの課題があり、実際には、偏光膜の表面に対し、それを保護できるＴＡＣフィルムなどの偏光膜保護フィルムを貼り付け、耐傷性の向上、ある程度の耐熱性と、強度を付与した偏光板として使用されている。

一般に偏光板は、ＰＶＡからなる偏光膜とＴＡＣなどの偏光膜保護フィルムとを水系接着剤で貼合の後、乾燥させて得られるものが主流である（特許文献１）。

その際、ＴＡＣ系偏光膜保護フィルムを用いる場合には、その膜表面をアルカリ処理することで水系接着剤との接着性を改良することが知られている（特許文献１）。また、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）系偏光膜保護フィルムを用いる場合には、コロナ放電処理、プラズマ放電処理などの表面処理を施して水系接着剤との接着性を改良していることが知られている（特許文献２）。

しかしながら、貼合に用いる水系接着剤との接着性改良のために行われる表面処理（前処理）は、偏光板製造プロセス効率化の阻害要因となっており、近年では、表面処理の必要のないＵＶ接着法（特許文献３、特許文献４）などの技術革新が求められるようになって来ているが、未だに実現されていない。

特開２００６−３３５８００号公報 国際公開２００６−１１２３０４号公報 特開２００７−１６９５８０号公報 特開２００７−１７７１６９号公報

偏光板メーカーにとって、ＵＶ接着法などの接着技術を新たに確立し、さらにＵＶ接着設備を新規に導入することは容易ではない。

そこで本発明は、従来の偏光板製造ラインをそのまま活用して製造できる偏光板であって、表面処理なし（すなわち、前処理なし）でも水系接着剤との接着性が良好な偏光膜保護フィルムを用いた偏光板、及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のアクリル系樹脂を含有するフィルムが、前処理としての表面処理を施すことなく、従来用いられてきた偏光膜と偏光膜保護フィルムとを接着する水系接着剤に対し良好な接着性を示すという驚くべき事実を見出し、本発明を成すにいたった。

すなわち、本発明は、以下に関する。
［１］偏光膜と接着層と保護フィルムとがこの順で積層された構造を備え、保護フィルムが、接着層側の表面において水酸基を有しない、偏光板。
［２］偏光膜と接着層と保護フィルムとがこの順で積層された構造を備え、保護フィルムが、接着層側の面に表面処理を施されていない、偏光板。
［３］保護フィルムが、アクリル系樹脂を含有し、アクリル系樹脂が、その総量基準で、下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％と、を有する、［１］又は［２］に記載の偏光板。

［式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］

［式中、Ｒ^２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］

［式中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］
［４］偏光膜が、ポリビニルアルコールを含有する、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光板。
［５］偏光膜と保護フィルムとを接着剤を用いて接合する工程を備え、保護フィルムを、偏光膜と接合される側の面に表面処理を施さずに上記工程に供する、偏光板の製造方法。
［６］保護フィルムが、アクリル系樹脂を含有し、アクリル系樹脂が、その総量基準で、下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％と、を有する、［５］に記載の製造方法。

［式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］

［式中、Ｒ^２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］

［式中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］
［７］偏光膜が、ポリビニルアルコールを含有する、［５］又は［６］に記載の製造方法。

本発明によれば、従来の偏光板製造ラインをそのまま活用して製造できる偏光板であって、表面処理なし（すなわち、前処理なし）でも水系接着剤との接着性が良好な偏光膜保護フィルムを用いた偏光板、及びその製造方法を提供することができる。また、本発明で得られる偏光板は、耐熱性、耐湿性、耐傷性、機械的な強度及び光学等方性に優れ、液晶表示装置の良好な視認性と信頼性とを実現できる。

本発明に係る偏光板の一態様を示す模式断面図である。 従来の偏光板の一例を示す模式断面図である。 偏光板の製造工程を説明するための模式図である。 保護フィルムの製造工程を説明するための模式図である。

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。

１．偏光板の構成
本実施形態に係る偏光板は、偏光膜と保護フィルムとが接着剤を含む接着層で接合された構成を有する。図１は、本発明に係る偏光板の一態様を示す模式断面図であり、図２は、従来の偏光板の一例を示す模式断面図である。

図１に示す偏光板１００は、偏光膜１０と、偏光膜１０の第一の面上に第一の接着層１２を介して貼合された第一の保護フィルム１４と、偏光膜の１０の第二の面上に第二の接着層１６を介して貼合された第二の保護フィルム１８と、を備える。

また、偏光板１００には、第一の保護フィルム１４上にハードコート層２０及び低屈折率層２２が設けら得ており、第二の保護フィルム１８上に粘着層８０を介して液晶パネル９０が設置されている。

偏光板１００において、偏光膜１０は、入射光を互いに直交する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他方を吸収又は分散させる働きを有する。

偏光板１００は、第一の保護フィルム１４及び第二の保護フィルム１８のうち少なくとも一方が、紫外線吸収剤を含んでいることが好ましい。このような偏光板１００によれば、液晶デバイス（例えば液晶パネル９０）に対する紫外線の影響を低減させることができる。また、偏光板１００は、偏光膜１０に対する紫外線の影響を低減させることができる観点から、第一の保護フィルム１４が紫外線吸収剤を含んでいることがより好ましい。

第二の保護フィルム１８は、偏光膜１０を保護する機能のほか、液晶層（例えば液晶パネル９０）の着色による補償や視野角による位相差変化の補償等の位相差フィルムとしての機能を兼ねることができる。すなわち、第二の保護フィルム１８としては、ポリマーフィルムを延伸することにより得られた複屈折性のフィルムを用いることができ、これにより、液晶層の複屈折を補償し、着色を除去することができる。

ハードコート層２０は、液晶セル９０への漏電を防止し、偏光板１００の機械的強度を高めることを目的として設置することができる。例えば、ハードコート層２０に帯電防止剤を添加することにより、帯電防止機能を備えることができる。

低屈折率層２２によれば、低屈折率化が可能となり、偏光板１００に反射防止機能を備えることができる。

偏光板１００においては、第一の保護フィルム１４及び第二の保護フィルム１８を、第一の接着層１２及び第二の接着層１６を介して偏光膜１０に接合することにより、高温及び高湿度の雰囲気下においても、保護フィルムと偏光膜との強固な接着を長時間維持することができる。

また、偏光板１００は、第一の保護フィルム１４及び第二の保護フィルム１８を備えることで、耐熱性、耐薬品性等の特性に優れており、長期使用においても剥離、変形、位相差変化などが生じ難く、高い信頼性を有し、耐久性にも優れ、液晶画像表示装置（ＬＣＤ）などに好適に用いることができる。

一方、図２に示す従来の偏光板２００は、貼合される保護フィルム１４及び１８において、接着層１２又は１６に面する側に、接着力を改良するための表面処理が施されている。当該表面処理により、保護フィルム１４及び１８には、表面処理層１９ａ及び１９ｂが形成されている。一般に、表面処理層１９ａ及び１９ｂの厚みは、数ｎｍ〜数μｍ程度である。

２．偏光板の製造方法
本実施形態に係る偏光板の製造方法は、偏光膜と保護フィルムとを接着剤を用いて接合する工程を備え、保護フィルムを、偏光膜と接合される側の面に表面処理（例えば、「ケン化処理」や「コロナ放電処理」などの前処理）を施さずに当該工程に供することを特徴とする。

本実施形態に係る製造方法の一態様は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を含む。
（ａ）偏光膜と第一の保護フィルムとを接合するための第一の接着剤組成物、及び、偏光膜と第二の保護フィルムとを接合するための第二の接着剤組成物を供給する工程
（ｂ）第一の保護フィルムを第一の接着剤組成物を介して偏光膜の一方面上に貼合し、第二の保護フィルムを第二の接着剤組成物を介して偏光膜の他方面上に貼合する工程
（ｃ）第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物を反応させて、第一の接着層及び第二の接着層を形成する工程

以下、本実施形態に係る偏光板の製造方法について、その一態様を図面を用いて具体的に説明する。図３は、偏光板の製造工程を説明するための模式図である。

工程（ａ）では、偏光膜１０と第一の保護フィルム１４との間に、第一の接着剤供給部６０から、第一の接着剤組成物を供給する。また、偏光膜１０と第二の保護フィルム１８との間に、第二の接着剤供給部６２から、第二の接着剤組成物を供給する。

なお、図３では、第一の保護フィルム１４及び第二の保護フィルム１８の偏光膜１０と接合される面上に第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物が供給されているが、第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物は、それぞれ第一の保護フィルム１４及び第二の保護フィルム１８と接合される偏光膜１０の各面上に供給することもできる。

工程（ｂ）では、偏光膜１０と第一の保護フィルム１４と第二の保護フィルム１８とを、１対のロール（貼合ロール３０及び３２）により圧着し、貼合する。

工程（ｃ）では、圧着された貼合積層体（第一の保護フィルム１４、第一の接着剤組成物からなる層、偏光膜１０、第二の接着剤組成物からなる層及び第二の保護フィルム１８がこの順で積層された積層体）における第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物を反応させて、第一の接着層及び第二の接着層を形成する。第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物を反応させる方法としては、例えば、常温又は加熱条件下に保持する、貼合積層体に光照射する、等の方法が挙げられる。

まず、（ａ）工程について詳細に説明する。
第一の接着剤供給部６０は、偏光膜１０と第一の保護フィルム１４との間に、第一の接着剤組成物を噴射することにより供給している。第２の接着剤供給部６２は、偏光膜１０と第２の保護フィルム１８との間に、第二の接着剤組成物を噴射することにより供給している。

本実施形態に係る偏光板における第一の接着層及び第二の接着層の厚さは、（ａ）工程における第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物の供給量により調整することができる。第一の接着層及び第二の接着層の厚さは、好ましくは０．５〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍである。

なお、図３において、第一の接着剤供給部６０及び第二の接着剤供給部６２は、それぞれ接着剤組成物を噴射する装置として記載したが、第一の接着剤供給部６０及び第二の接着剤供給部は、接着剤組成物を塗布する塗布装置であってもよい。

（ａ）工程に供される第一の保護フィルム１４は、偏光膜１０と接合する面とは反対の面に、ハードコート層や低屈折率層があらかじめ貼合されていてもよい。

ハードコート層は、例えば、第一の保護フィルム１４の一方面上にハードコート層形成用組成物をワイヤーバーコータ等で均一の膜厚となるように塗工し、乾燥後、光照射することにより、形成することができる。

また、低屈折率層は、例えば、ハードコート層上に低屈折率層形成用組成物をワイヤーバーコータ等で均一の膜厚となるように塗工し、乾燥後、光照射することにより、形成することができる。

次に、工程（ｂ）について説明する。
工程（ｂ）では、偏光膜１０と第一の保護フィルム１４と第二の保護フィルム１８とを１対のロール（貼合ロール３０及び３２）により圧着し、貼り合わせる。このようなロール貼合は、積層すべき全ての層を一度に圧着することができ、貼合の工程数を減らすことができるので、生産性に優れている。

次に、工程（ｃ）について説明する。
工程（ｃ）では、第一の保護フィルム１４と偏光膜１０との間に供給された第一の接着剤組成物、及び、第二の保護フィルム１８と偏光膜１０との間に供給された第二の接着剤組成物を、十分に反応させて、第一の接着層及び第二の接着層を形成する。

工程（ｃ）では、例えば、工程（ｂ）で得られた貼合積層体（第一の保護フィルム１４、第一の接着剤組成物からなる層、偏光膜１０、第二の接着剤組成物からなる層及び第二の保護フィルム１８がこの順で積層された積層体）を、１５〜４０℃で所定の時間だけ保持することで行うことができる。保持温度及び保持時間は、用いる接着剤組成物の種類及び供給量によって適宜調整することができる。

保持温度は、作業効率の観点から、工程（ａ）〜（ｃ）が実施される環境下の温度と等しいことが好ましい。保持温度が１５℃以上であれば、接着剤組成物として好適なポリビニルアルコールや、ポリビニルアルコール水溶液、ポリウレタン系樹脂水溶液等の水系接着剤について、工程（ａ）での噴射又は貼付が容易となるだけの必要十分な粘度を確保できる。また、保持温度が４０℃以下であれば、工程（ａ）で第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物を供給してから、工程（ｂ）が完了するまでに時間的な余裕が十分に確保できる。

第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物が紫外線硬化性接着剤である場合には、貼合積層体に対し露光処理を行って、第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物を硬化させることができる。この際、露光光源は特に限定されないが、好ましくは紫外線である。また露光条件は、接着剤組成物の種類及び供給量に応じて適宜調整することができるが、例えば露光量は、１〜２０００ｍＪとすることができる。

工程（ａ）〜（ｃ）を経て作製された偏光板１００は、一対のロール（ロール４０及び４２）を介して偏光板巻取部５０で巻き取られる。

本実施形態に係る偏光板の製造方法は、第１の保護フィルム１４及び第２の保護フィルム１８を偏光膜１０に接合するにあたり、従来から保護フィルムとして利用されているトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが必要とする「ケン化処理」や、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムが必要とする「コロナ放電処理」などの、接着性改良を目的とした「表面処理」（前処理）を行う必要がないことが特徴である。

従来、偏光板の製造方法では、ＴＡＣフィルムを保護フィルムとして用いる場合、ＰＶＡ系接着剤等の水系接着剤を介して偏光膜と接合させるにあたり、ＴＡＣフィルムに「ケン化処理」を施して、ＴＡＣフィルム表面に存在するアセチル基を除去することで接着性を改良している。また、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムを保護フィルムとして用いる場合では、「コロナ放電処理」により表面改質を行い、フィルム表面に水酸基などの極性基を生成させることで接着性を改良している。

ここで、ＴＡＣフィルムの表面処理として好ましく用いられるアルカリケン化処理について具体的に説明する。表面処理は、ＴＡＣフィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１ｍｏｌ／Ｌ〜４．０ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ〜３．５ｍｏｌ／Ｌであることがさらに好ましい。アルカリ溶液の液温は、室温（例えば１５℃）〜９０℃の範囲が好ましく、４０℃〜７０℃がさらに好ましい。アルカリケン化処理はアルカリ溶液に浸漬した後、一般には水洗され、しかる後に酸性水溶液を通過させた後に、水洗して表面処理したＴＡＣフィルムを得る。

この際、酸性水溶液としては塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、蟻酸、クロロ酢酸、シュウ酸などの水溶液が挙げられ、その濃度は０．０１ｍｏｌ／Ｌ〜３．０ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．０５ｍｏｌ／Ｌ〜２．０ｍｏｌ／Ｌであることがさらに好ましい。アルカリケン化時間は、２０〜６００秒で実施されるがことが好ましく、さらには３０〜３００秒が好ましく、特には４０〜２１０秒であることが好ましい。また酸性溶液による中和は、２０〜６００秒で実施されることが好ましく、より好ましくは３０〜２５０秒、特には４０〜１８０秒であるであることが好ましい。さらに中和後の水洗については、２０〜４００秒で実施されることが好ましく、より好ましくは３０〜３００秒、特には４０〜２１０秒であるであることが好ましい。

これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができ、接触角法を用いることが好ましい。保護フィルム表面の水の接触角（２５℃／相対湿度６０％）は、４５°以下であることが好ましく、１０〜４５°であることがさらに好ましく、１０〜４０°が特に好ましく、１０〜３０°が最も好ましい。

以上のことから、ＴＡＣフィルムの表面処理工程は、処理速度が取れない（せいぜい１００ｍ／ｍｉｎ程度）ために生産性が高くできないという課題があった。

また、環状オレフィン系樹脂からなる保護フィルムに対し、接着剤組成物に対する密着性を向上させる前処理として、高周波発信機を用いた「コロナ放電処理」や、大気下でのグロー放電による「プラズマ処理」を施すことが行われているが、このような処理では分単位でその濡れ性が悪化するという課題がある。従来はこの対策として、表面処理後直ちに保護フィルム表面に接着剤組成物を塗布しているが、その製造工程負荷は高いものとなっている。また、表面処理した環状オレフィン系樹脂からなる保護フィルムは、カールが発生しやすいという課題もある。

以上、保護フィルムの接着性改良のために行う保護フィルムの表面処理方法について、具体的な例について詳述した。いずれの場合も、本質的には、保護フィルムの接着剤組成物と接する側に、水酸基に代表される官能基を生成・調製させるための処理であることは明白である。この表面処理層は、好ましくは数ｎｍ〜数μｍ程度の厚みであり、より好ましくは数ｎｍ〜数１００ｎｍであり、さらに好ましくは数ｎｍ〜数１０ｎｍの厚みであることが求められるが、本実施形態に係る保護フィルムでは、そのような層を生成・調製する必要がない。この水酸基量については、保護フィルム表面に関して、水との接触角測定や、赤外分光法の測定などで確認することができる。樹脂そのものが主鎖中に水酸基を有するか否かは、核磁気共鳴分光法、赤外分光法によって確認することができる。

本実施形態に係わる保護フィルムは、このような表面処理（即ち、前処理）を省略することを可能とし、偏光板製造工程負荷を低減させるため、偏光板の生産性を高めることを可能としている。

なお、保護フィルムの表面において水酸基を有しない、とは、例えば、保護フィルムの表面の赤外分光法測定において、水酸基に由来するピークが観測されないことを示す。

（接着層）
本実施形態に係る偏光板の製造方法において、第一の接着剤組成物及び第二の接着剤組成物として用い得る接着剤としては、（メタ）アクリレート系、オキセタン系等のモノマー・オリゴマー形接着剤；尿素樹脂系、メラミン樹脂系、フェノール樹脂系、レゾルシノール樹脂系、エポキシ系、ポリウレタン樹脂系、酢酸ビニル樹脂系、ポリビニルアルコール樹脂系、アクリル樹脂系、セルロース樹脂系等の樹脂系接着剤；クロロプレン系、ニトリルゴム系、スチレンブタジエンゴム系、スチレンブロック共重合熱可塑性エラストマー系、ブチルゴム系、天然ゴム系、再生ゴム系、塩化ゴム系、シリコーンゴム系等のゴム系接着剤；膠や澱粉系などの天然系接着剤；などが挙げられる。

また、本実施形態に係る偏光板の粘着層の形成に用い得る粘着剤は、一般的に感圧接着剤とも呼称される接着剤の一種であり、具体的には、（メタ）アクリレート系、オキセタン系、スチレンブタジエンゴム系、ブチルゴム系、天然ゴム系、シリコーンゴム系、ポリイソプレン系、ポリブテン系、ポリビニルエーテル系、アクリル樹脂系、ポリエステル系等の粘着剤が挙げられる。

これら粘着・接着剤の中でも、（メタ）アクリレート系、オキセタン系、アクリル樹脂系、ポリエステル系、エポキシ系の粘着・接着剤が好ましく、最も好ましくは（メタ）アクリレート系、アクリル樹脂系、ポリエステル系の粘着・接着剤である。これらの粘着・接着剤は透明性が高く、耐候性も良好という理由で好ましい。これら粘着・接着剤は、被着体である偏光膜や保護フィルムの材質によって適当に選ぶことができる。

粘着・接着剤は、乾燥後の厚さが好ましくは０．０１〜５０μｍであり、より好ましくは０．０１〜３０μｍであり、更に好ましくは０．０１〜３μｍとなるように塗布される。乾燥後の厚さが０．０１μｍ以上であれば必要十分な接着強度が得られ、層間剥離が生じ難く、５０μｍ以下であれば必要十分な全光線透過率が得られる。

また本実施形態において、第一の接着層、第二の接着層及び粘着層の屈折率ｎ３は、偏光膜の屈折率をｎ１、保護フィルムの屈折率をｎ２とすれば、ｎ１≦ｎ３≦ｎ２（ｎ１≦ｎ２の場合）、もしくはｎ２≦ｎ３≦ｎ１（ｎ２≦ｎ１の場合）となることが光利用効率を向上できる点で好ましい。

（ハードコート層）
本実施形態に係る偏光板において、必要に応じて第一の保護フィルムの面上にハードコート層を形成することができる。ハードコート層は、高い表面硬度を有する層である。したがって、偏光板にハードコート層を形成すると、偏光板の耐擦傷性および機械的強度を高めることができる。

ハードコート層の形成材料としては、二酸化ケイ素等の無機活性エネルギー硬化性樹脂、またはエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂等の有機活性エネルギー硬化性樹脂を挙げることができる。また、ハードコート層には、必要に応じて帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、染料や顔料等の着色剤、可塑剤、滑剤、界面活性剤などを添加することができる。

具体的には、ハードコート層に帯電防止剤を添加して、帯電防止機能を付与する場合がある。例えば、第一の保護フィルムが環状オレフィン系樹脂からなる場合には、含水率が極めて低いため静電気を帯びやすいという性質がある。ＬＣＤの組立時において、第一の保護フィルムが静電気を帯びていると、液晶セルに帯電し故障の原因となることがある。

また、ハードコート層を防眩処理することもできる。防眩処理とは、一般的にはハードコート層の表面に微細な凹凸を有する硬い透明樹脂層を形成することをいう。これにより、外光を拡散反射させて反射像をぼかすことができるため、窓や照明機器等の光による周辺環境の写り込みを防止し視認性を向上させることができる。

ハードコート層の厚さは、好ましくは０．５〜５０μｍであって、より好ましくは１〜３０μｍである。ハードコート層の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．７０であり、より好ましくは１．４５〜１．６０である。

（低屈折率層）
本実施形態に係る偏光板において、ハードコート層又は第一の保護フィルムの面上に、低屈折率層を形成することができる。低屈折率層を形成することにより、偏光板に光の反射防止機能を付与することができる。

低屈折率層の形成材料としては、例えば、含フッ素重合体含有硬化性組成物、アクリルモノマー、含フッ素アクリルモノマー、エポキシ基含有化合物、含フッ素エポキシ基含有化合物等の硬化物を挙げることができる。また、低屈折率層の屈折率を低下させるために、これにシリカ等の中空粒子を添加することもできる。シリカ系中空粒子の粒子径は、好ましくは５〜１００ｎｍであり、より好ましくは２０〜８０ｎｍである。この範囲であると、優れた低屈折率を実現することができる。

例えば、屈折率が１．４５〜１．７０のハードコート層の上に屈折率が１．２５〜１．４５の低屈折率層を形成することによって、偏光板は優れた反射防止機能を備えることができる。

低屈折率層の厚さは、好ましくは０．００５〜１．００μｍである。０．００５μｍ以上であれば強度が十分であり、また１μｍ以下であれば十分な透明性が発揮される。より好ましくは０．１０〜０．４０μｍ、さらに好ましくは０．１５〜０．３０μｍである。

また、低屈折率層には、モスアイ構造に代表されるナノ賦型構造による反射防止能を付与することもできる。ナノ賦型構造層は、特に材料としての屈折率制限はなく、０．１５〜０．３０μｍの周期構造を有し、長さ０．１〜０．３μｍの凸凹構造を示す公知のものであればいかなる構造でも構わない。ナノ賦型構造層としては０．３０〜０．８０μｍが光学的に好ましい。なお、本実施形態では、ナノ賦型構造をハードコート処理層の上に形成しても構わない。

さらに第一の保護フィルムには、透明導電処理を行っても良い。透明導電処理としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の従来公知の技術をいずれも使用できるが、膜の均一性やアンカーコート層への薄膜の密着性の観点から、スパッタリング法での薄膜形成が好ましい。また、用いる薄膜材料も特に制限されるものではなく、例えば、酸化錫を含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫等の金属酸化物のほか、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、コバルト、錫、亜鉛又はこれらの合金等が好ましく用いられる。中でも好ましいものとしては、酸化錫を含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が挙げられる。形成される透明導電層の厚みとしては、用途により必要伝導度が異なることから一概に言えないが、一般に０．０１〜０．１μｍが透明性維持の観点から好ましい。透明導電層は、例えば、第一の保護フィルムの面上、ハードコート層の面上、低屈折率層の面上等に設けることができる。

帯電防止層、電磁波遮蔽処理としては透明導電層が兼ねることができる。またガスバリアー層としてはハードコート層及び／又は透明導電層が、その機能を兼ねることができる。

（偏光板の後加工）
本実施形態に係る偏光板は、偏光膜と保護フィルムとを貼り合わせた後にも、保護フィルム表面に対して、必要に応じてハードコート処理、反射防止処理、透明導電処理、帯電防止処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリアー処理等の処理を行って、最終的な用途に用いることができる。このような表面処理を行う場合は、必要に応じて、コロナ放電やプラズマ放電による処理や、エポキシ基、イソシアナート基等を持ったプライマー剤塗布による表面処理等所謂アンカーコート処理を併用でき密着性を高めることができる。

本実施形態に係る偏光板は、下記に代表される構造を、その一部に含む偏光板であってよい。
［１］ 保護フィルム／偏光膜
［２］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム
［３］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム
［４］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ハードコート層
［５］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／反射防止層
［６］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／透明導電層
［７］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／帯電防止層
［８］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／電磁波遮蔽処理層
［９］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ガスバリアー層
［１０］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／反射防止層
［１１］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／透明導電層
［１２］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／帯電防止層
［１３］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／電磁波遮蔽処理層
［１４］ 保護フィルム／偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／ガスバリアー層
［１５］ 偏光膜／保護フィルム／ハードコート層
［１６］ 偏光膜／保護フィルム／反射防止層
［１７］ 偏光膜／保護フィルム／透明導電層
［１８］ 偏光膜／保護フィルム／帯電防止層
［１９］ 偏光膜／保護フィルム／電磁波遮蔽処理層
［２０］ 偏光膜／保護フィルム／ガスバリアー層
［２１］ 偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／反射防止層
［２２］ 偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／透明導電層
［２３］ 偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／帯電防止層
［２４］ 偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／電磁波遮蔽処理層
［２５］ 偏光膜／保護フィルム／ハードコート層／ガスバリアー層

３．アクリル系樹脂
本実施形態に係る保護フィルムは、特定のアクリル系樹脂を含有し、該アクリル系樹脂は、第一の構造単位、第二の構造単位及び第三の構造単位を有する。保護フィルムは、好ましくは８０質量％以上の割合で該アクリル系樹脂を含有し、より好ましくは９０質量％以上の割合で該アクリル系樹脂を含有する。また、保護フィルムは、該アクリル系樹脂からなるもの（すなわち、アクリル系樹脂が約１００質量％）であってもよい。

以下、アクリル系樹脂の各構造単位について説明する。

（第一の構造単位）
第一の構造単位は、下記式（１）で表される構造単位である。

式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。ここで、Ａ群は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基からなる群である。

なお、本明細書中、アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、アリールアルキル基中のアルキル基及びアルコキシ基中のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。

Ｒ^１における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^１における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。

また、Ｒ^１における炭素数５〜１２のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ビシクロオクチル基、トリシクロドデシル基、イソボルニル基、アダマンチル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられ、これらのうち、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ビシクロオクチル基、トリシクロドデシル基、イソボルニル基が好適である。

また、Ｒ^１における炭素数７〜１４のアリールアルキル基としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、６−フェニルヘキシル基、８−フェニルオクチル基が挙げられ、これらのうち、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基が好適である。

また、Ｒ^１における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、フェニル基が好適である。

また、Ｒ^１は置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基であってもよく、ここで置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基からなる群（Ａ群）より選ばれる基である。

Ｒ^１において、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、置換基を有するフェニル基が好ましい。また、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、２，４，６−トリブロモフェニル基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等が挙げられ、これらのうち難燃性が付与される点において、２，４，６−トリブロモフェニル基が好適である。

第一の構造単位の含有量は、アクリル系樹脂の総量基準で５０〜９５質量％であり、好ましくは６０〜９２質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。第一の構造単位の含有量が、５０質量％以上であれば高い全光線透過率及び耐環境性が発現する。

アクリル系樹脂は、第一の構造単位を一種のみ含有していてもよく、第一の構造単位を二種以上含有していてもよい。

例えば、アクリル系樹脂は、Ｒ^１がアルキル基である構造単位と、Ｒ^１がアリールアルキル基又はアリール基である構造単位と、を有するものとすることができる。このとき後者の構造単位の含有量は、アクリル系樹脂の総量基準で０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましく、０．１〜６質量％であることがさらに好ましい。この範囲にあるアクリル系樹脂によれば、大きな耐熱性低下を伴わずに、複屈折等の光学特性の改良効果が得られる。

第一の構造単位は、例えば、メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル類から選ばれる第一の単量体から形成される。第一の単量体は、下記式（１−ａ）で表すことができる。

式中、Ｒ^１は式（１）におけるＲ^１と同義である。

メタクリル酸エステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル；メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロオクチル、メタクリル酸トリシクロデシル、メタクリル酸微シクロオクチル、メタクリル酸トリシクロドデシル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸１−フェニルエチル、メタクリル酸２−フェノキシエチル、メタクリル酸３−フェニルプロピル、メタクリル酸２，４，６−トリブロモフェニル等が挙げられる。これらの第一の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用する場合もある。メタクリル酸エステルのうち、得られるアクリル系樹脂の透明性や耐候性が優れる点でメタクリル酸メチル及びメタクリル酸ベンジルが好ましい。

（第二の構造単位）
第二の構造単位は、下記式（２）で表される構造単位である。

式中、Ｒ^２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。Ｂ群は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基からなる群である。

Ｒ^２における炭素数７〜１４のアリールアルキル基としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、６−フェニルヘキシル基、８−フェニルオクチル基が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性などの光学的特性が一層向上する点において、ベンジル基が好適である。

また、Ｒ^２における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性等の光学的特性が一層向上する点において、フェニル基が好適である。

また、Ｒ^２は置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基であってもよく、ここで置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基からなる群（Ｂ群）より選ばれる基である。

置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基がより好ましい。また、置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−デシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基等が挙げられる。

置換基としての炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基としては、Ｒ^１における炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基として例示された基が同様に例示される。

Ｒ^２において、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、置換基を有するフェニル基、置換基を有するナフチル基が好ましい。また、置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基としては、２，４，６−トリブロモフェニル基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基等が挙げられ、これらのうち、難燃性が付与される点において、２，４，６−トリブロモフェニル基が好適である。

Ｒ^３及びＲ^４における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^３及びＲ^４における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。

Ｒ^３及びＲ^４における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性等の光学的特性が一層向上する点において、フェニル基が好適である。

Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。

第二の構造単位の含有量としては、アクリル系樹脂の総量基準で０．１〜４９．９質量％であり、好ましくは０．１〜３５質量％、より好ましくは０．１質量％〜２０質量％である。第二の構造単位の含有量がこの範囲であれば樹脂の透明性を維持し、黄変を伴わず、また耐環境性を損なうことなく耐熱性が向上する。

アクリル系樹脂は、第二の構造単位を一種のみ含有していてもよく、第二の構造単位を二種以上含有していてもよい。

第二の構造単位は、例えば、下記式（２−ａ）で表されるＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第二の単量体から形成される。

式中、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ式（２）におけるＲ^２、Ｒ^３及びＲ^４と同義である。

第二の単量体としては、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ブロモフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−エチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−メトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（２−ニトロフェニル）マレイミド、Ｎ−（２、４、６−トリメチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ベンジルフェニル）マレイミド、Ｎ−（２、４、６−トリブロモフェニル）マレイミド、Ｎ−ナフチルマレイミド、Ｎ−アントラセニルマレイミド、３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１，３−ジフェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１，３，４−トリフェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン等が挙げられる。これらの第二の単量体のうち、アクリル系樹脂の耐熱性、及び複屈折等の光学的特性が優れることから、Ｎ−フェニルマレイミド及びＮ−ベンジルマレイミドが好ましい。これらの第二の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用する場合もある。

（第三の構造単位）
第三の構造単位は、下記式（３）で表される構造単位である。

式中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。Ｃ群は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基からなる群である。

Ｒ^５における炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基、ビシクロオクチル基、トリシクロドデシル基、イソボルニル基、アダマンチル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられ、これらのうち、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が好適であり、アクリル系樹脂の耐候性及び透明性などの光学特性が一層向上するとともに、アクリル系樹脂に低吸水性を付与できる点からは、シクロヘキシル基がより好適である。

また、Ｒ^５における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^５における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、２−エチルヘキシル基、１−デシル基、１−ドデシル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系樹脂の耐候性及び透明性等の光学特性が一層向上することから、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好適である。

また、Ｒ^５は置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基であってもよく、ここで置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基からなる群（Ｃ群）より選ばれる基である。

置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基がより好ましい。また、置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−デシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^５において、置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基としては、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロエチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられ、これらのうち、トリフルオロエチル基が好適である。

Ｒ^６及びＲ^７における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^６及びＲ^７における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。

Ｒ^６及びＲ^７における炭素数６〜１４のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、これらのうち、耐熱性及び低複屈折性などの光学的特性が一層向上する点において、フェニル基が好適である。

Ｒ^６及びＲ^７は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。

第三の構造単位の含有量としては、アクリル系樹脂の総量基準で０．１〜４９．９質量％であり、好ましくは０．１質量〜３５質量％、より好ましくは０．１〜３０質量％である。第三の構造単位の含有量がこの範囲であれば、透明性を維持し、低吸湿性が発揮される。

アクリル系樹脂は、第三の構造単位を一種のみ含有していてもよく、第三の構造単位を二種以上含有していてもよい。

第三の構造単位は、例えば、下記式（３−ａ）で表されるＮ−置換マレイミド化合物から選ばれる第三の単量体から形成される。

式中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ式（３）におけるＲ^５、Ｒ^６及びＲ^７と同義である。

第三の単量体としては、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘプチルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−ステアリルマレイミド、Ｎ−シクロプロピルマレイミド、Ｎ−シクロブチルマレイミド、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド、１−シクロヘキシル−３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１−シクロヘキシル−３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１−シクロヘキシル−３−フェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、１−シクロヘキシル−３，４−ジフェニル−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン等が挙げられる。これらの第三の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用して用いる場合もある。アクリル系樹脂の耐候性が優れる点から、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドが好ましく、近年光学材料に求められている低吸湿性に優れることからＮ−シクロヘキシルマレイミドが特に好ましい。

アクリル系樹脂において、第二の構造単位及び第三の構造単位の総含有量は、アクリル系樹脂の総量基準で５〜５０質量％であることが好ましい。より好ましくは５〜４０質量％、更に好ましくは１０〜３５質量％、更に一層好ましくは１０〜３０質量％、特に好ましくは１５〜３０質量％である。この範囲内にあるとき、アクリル系樹脂はより十分な耐熱性改良効果が得られ、また、耐候性、低吸水性、光学特性についてより好ましい改良効果が得られる。なお、第二の構造単位の含有量及び第三の構造単位の含有量が５０質量％を超えると、重合反応時に単量体成分の反応性が低下して、未反応で残存する単量体量が多くなり、アクリル系樹脂の物性が低下してしまう場合がある。

アクリル系樹脂において、第二の構造単位の含有量Ｃ_２と第三の構造単位の含有量Ｃ_３のモル比Ｃ_２／Ｃ_３は、望ましくは０より大きく１５以下である。後述する光学特性（低い複屈折、低い光弾性係数）の観点から、モル比Ｃ_２／Ｃ_３は、より好ましくは１０以下である。モル比Ｃ_２／Ｃ_３がこの範囲にあるとき、本発明のアクリル系樹脂はより一層良好な光学特性を発現する。

アクリル系樹脂において、第一の構造単位、第二の構造単位及び第三の構造単位の合計の含有量は、アクリル系樹脂の総量基準で、８０質量％以上であってもよい。これにより、アクリル系樹脂は一層良好な光学特性を発現する。

（第四の構造単位）
アクリル系樹脂は、上記以外の構造単位をさらに含有していてもよい。例えば、アクリル系樹脂は、発明の目的を損なわない範囲で、上記第一、第二及び第三の単量体と共重合可能なその他の単量体に由来する構造単位を、さらに有していてもよい。以下、アクリル系樹脂中の第一、第二及び第三の構造単位以外の構造単位を、第四の構造単位と称する。

共重合可能なその他の単量体としては、芳香族ビニル；不飽和ニトリル；シクロヘキシル基、ベンジル基又は炭素数１〜１８のアルキル基を有するアクリル酸エステル；オレフィン；ジエン；ビニルエーテル；ビニルエステル；フッ化ビニル；プロピオン酸アリル等の飽和脂肪酸モノカルボン酸のアリルエステル又はメタリルエステル；多価（メタ）アクリレート；多価アリレート；グリシジル化合物；不飽和カルボン酸類等を挙げることができる。その他の単量体は、これらの群より選ばれる１種又は２種以上の組み合わせであり得る。

上記芳香族ビニルとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。上記不飽和ニトリルとしては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、フェニルアクリロニトリル等が挙げられる。また、上記アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｔ−ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸オクチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等が挙げられる。

また、上記オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ジイソブチレン等が挙げられる。また、上記ジエンとしては、ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。また、上記ビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等が挙げられる。また、上記ビニルエステルとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げられる。また、上記フッ化ビニルとしては、フッ化ビニリデン等が挙げられる。

上記多価（メタ）アクリレートとしては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド付加物のジ、又はトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多価アリレート単量体としては、ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレート等が挙げられる。グリシジル化合物単量体としては、グリシジル（メタ）アクリレート、及びアリルグリシジルエーテル等が挙げられる。不飽和カルボン酸単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、及びこれらの半エステル化物又は無水物が挙げられる。

アクリル系樹脂中の第四の構造単位の含有量は、アクリル系樹脂の総量基準で、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１５質量％であることがより好ましく、０．１〜１０質量％であることがさらに好ましい。含有量が上記範囲であると、アクリル系樹脂の吸湿性が一層改善される。耐候性の観点からは、１０質量％未満であることが好ましく、７質量％未満であることがより好ましい。

アクリル系樹脂は、第四の構造単位を一種のみ有していてもよく、二種以上を有していてもよい。

第四の構造単位の一例として、下記式（４）で表される構造単位が挙げられる。

式中、Ｒ^８は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ^９はハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基を示し、ａは１〜３の整数を示す。

Ｒ^８における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^９における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、１−デシル基、１−ドデシル基等が挙げられ、これらのうちメチル基が好適である。

Ｒ^９におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

また、Ｒ^９における炭素数１〜１２のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^９における炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、１−デシル基、１−ドデシル基等が挙げられ、これらのうち、アクリル系樹脂の透明性及び耐候性が一層向上する点において、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基が好適であり、メチル基がより好適である。

また、Ｒ^９における炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基がより好ましい。また、置換基としての炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−デシルオキシ基、１−ドデシルオキシ基等が挙げられ、これらのうち、メトキシ基が好適である。

式（４）で表される構造単位は、例えば、下記式（４−ａ）で表される単量体から形成することができる。

式中、Ｒ^８、Ｒ^９及びａはそれぞれ式（４）におけるＲ^８、Ｒ^９及びａと同義である。

第四の単量体としては、例えば、スチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、２−メチル−４−クロロスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、α―メチルスチレン、ｃｉｓ−β−メチルスチレン、ｔｒａｎｓ−β−メチルスチレン、４−メチル−α−メチルスチレン、４−フルオロ−α−メチルスチレン、４−クロロ−α−メチルスチレン、４−ブロモ−α−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、２−フルオロスチレン、３−フルオロスチレン、４−フルオロスチレン、２，４−ジフルオロスチレン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロスチレン、２−ブロモスチレン、３−ブロモスチレン、４−ブロモスチレン、２，４−ジブロモスチレン、α−ブロモスチレン、β−ブロモスチレン、２−ヒドロキシスチレン、４−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。これらの単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用して用いる場合もある。アクリル系樹脂を構成する第一の単量体、第二の単量体及び第三の単量体との共重合性に優れ、その光学特性の調整が少量の使用で可能な点からスチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。これらの第四の単量体は、単独で用いる場合も２種以上を併用する場合もある。

本実施形態において、アクリル系樹脂は、１種の共重合体から構成されていてもよいし、第一の構造単位、第二の構造単位及び第三の構造単位のうち１種以上の構造単位を有する２種以上の共重合体のブレンド物であってもよい。例えば、アクリル系樹脂は、第一の構造単位、第二の構造単位、及び第三の構造単位を有する１種の共重合体から構成される樹脂であり得る。あるいは、アクリル系樹脂は、第一の構造単位と、第二の構造単位、及び／又は第三の構造単位とを有する２種類以上の共重合体から構成されるブレンド物であってもよいし、第一の構造単位を有する重合体と、第二の構造単位を有する重合体と、第三の構造単位を有する重合体とから構成されるブレンド物であってもよい。透明性や均一性の観点から、アクリル系樹脂は、第一の構造単位、第二の構造単位、及び第三の構造単位を有する共重合体であるか、第一の構造単位と、第二の構造単位、及び／又は第三の構造単位とを有する２種類以上の共重合体から構成されるブレンド物であることが好ましく、第一の構造単位、第二の構造単位、及び第三の構造単位を有する共重合体であることが特に好ましい。

アクリル系樹脂中のハロゲン原子の含有量は、アクリル系樹脂の総量基準で０．４７質量％未満であることが好ましく、０．４５質量％以下であることがより好ましい。アクリル系樹脂がハロゲン原子を０．４７質量％未満とすることで、溶融成形等に際して高温でアクリル系樹脂を取り扱った場合でも、ハロゲン系ガスが発生し難く、ハロゲン系ガスに起因する装置の腐食や作業環境の悪化が防止される。また、アクリル系樹脂（又はその成形体等）を廃棄する際にも、環境負荷が比較的大きいハロゲン系ガスが発生し難いという利点がある。

アクリル系樹脂のＧＰＣ測定法によるポリメチルメタクリレート換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００〜１００００００であることが好ましい。Ｍｗが３０００以上であれば成形によって必要な強度を有する光学等方性偏光膜保護フィルムを得ることが出来る。また、Ｍｗが１００００００以下であれば各種溶融成形時に必要十分な熱流動性を得ることができる。Ｍｗは、より好ましくは３００００〜８０００００であり、更に好ましくは６００００〜６０００００である。特に好ましくは１０００００〜４０００００である。

アクリル系樹脂のＧＰＣ測定法によるポリメチルメタクリレート換算の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１〜１０であることが好ましい。アクリル系樹脂は、リビングラジカル重合法で重合することも可能であり、必要に応じて分子量分布を調整可能である。成形加工に適した樹脂粘度に調整する観点からは、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１〜７．０であることがより好ましく、１．２〜５．０であることがさらに好ましく、１．５〜４．０とすることもできる。

アクリル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１２０℃以上であることが好ましい。Ｔｇが１２０℃以上であれば、近年の液晶ディスプレイ用フィルム成形体として必要十分な耐熱性を有している。Ｔｇは、好ましくは１３０℃以上であり、より好ましくは１３５℃以上である。一方、Ｔｇの上限としては、１８０℃以下であることが好ましい。

（アクリル系樹脂の光学特性）
（ｉ）光弾性係数Ｃの絶対値
アクリル系樹脂の光弾性係数Ｃの絶対値は、３．０×１０^−１２Ｐａ^−１以下であることが好ましく、より好ましくは、２．０×１０^−１２Ｐａ^−１以下であり、さらに好ましくは１．０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である。

ここで、光弾性係数に関しては種々の文献に記載があり（例えば、化学総説，Ｎｏ．３９，１９９８（学会出版センター発行）参照）、下記式（ｉ−ａ）及び（ｉ−ｂ）により定義されるものである。光弾性係数Ｃ_Ｒの値がゼロに近いほど、外力による複屈折変化が小さいことが判る。

Ｃ_Ｒ＝｜Δｎ｜／σ_Ｒ …（ｉ−１）
｜Δｎ｜＝ｎｘ−ｎｙ …（ｉ−２）
式中、Ｃ_Ｒは光弾性係数、σ_Ｒは伸張応力、｜Δｎ｜は複屈折の絶対値、ｎｘは伸張方向の屈折率、ｎｙは面内で伸張方向と垂直な方向の屈折率、をそれぞれ示す。

アクリル系樹脂の光弾性係数Ｃは、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂等）と比較して、十分に小さい。従って、外力に起因した（光弾性）複屈折を生じさせないために複屈折変化を受けにくい。また、成形時の残存応力に起因する（光弾性）複屈折を生じにくいために成形体内での複屈折分布も小さい。

（ｉｉ）面内方向の位相差Ｒｅ
アクリル系樹脂は、フィルム成形した場合の面内方向の位相差Ｒｅの絶対値が、８ｎｍ以下であることが好ましい。ここで位相差Ｒｅは、フィルムとして測定した値を１００μｍ厚に換算して求めた値である。

位相差Ｒｅの絶対値は６ｎｍ以下であることがより好ましく、４ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

一般に、位相差Ｒｅの絶対値は、複屈折の大小を表す指標である。アクリル系樹脂の複屈折は、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂など）を用いた場合の複屈折に対して十分に小さく、光学材料として低複屈折やゼロ複屈折を要求される用途に好適である。

一方、面内方向の位相差Ｒｅの絶対値が８ｎｍを超える場合、屈折率異方性が高いことを意味し、光学材料として低複屈折やゼロ複屈折を要求される用途には使用できないことがある。また、光学材料（例えば、フィルム、シートなど）の機械的強度を向上させるために延伸加工をする場合があるが、延伸加工後の面内方向の位相差の絶対値が８ｎｍを超える場合は、光学材料として低複屈折やゼロ複屈折材料が得られたことにはならない。

（ｉｉｉ）厚み方向の位相差Ｒｔｈ
アクリル系樹脂は、フィルム成形した場合の厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が、８ｎｍ以下であることが好ましい。ここで位相差Ｒｔｈは、フィルムとして測定した値を１００μｍ厚に換算して求めた値である。

位相差Ｒｔｈの絶対値は、６ｎｍ以下であることがより好ましく、４ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

この厚み方向の位相差Ｒｔｈは、光学材料、特に光学フィルムとしたとき、該光学フィルムを組み込んだ表示装置の視野角特性と相関する指標である。具体的には、厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が小さいほど視野角特性は良好であり、見る角度による表示色の色調変化、コントラストの低下が小さい。

アクリル系樹脂は、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂など）を用いた場合と比較して、光学フィルムとしたときの厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が非常に小さいという特徴を有する。

（ｉｖ）全光線透過率
アクリル系樹脂は、フィルム成形した場合の全光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。ここで全光線透過率は、１００μｍ厚に換算して求めた値である。全光線透過率が８５％未満であると、透明性が低下し、高い透明性を要求される用途に使用できないことがある。

以上のとおり、アクリル系樹脂は、光弾性係数Ｃが十分に小さく（近似的にはゼロ）、また延伸加工の有無に関わらず、光学フィルムとして面内方向の位相差Ｒｅ及び厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値がいずれも小さい（近似的にはゼロ）ことで特徴付けられ、従来公知の樹脂では達成できない光学的に完全な等方性を実現することができる。さらに、アクリル系樹脂は、高い耐熱性をも同時に達成することができる。

（アクリル系樹脂の製造方法）
本実施形態に係るアクリル系樹脂は、第一の単量体、第二の単量体及び第三の単量体を含む単量体群を重合することにより得ることができる。アクリル系樹脂を得る手法として、例えば、キャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、リビングラジカル重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、通常、触媒の脱灰がないラジカル重合が選択される。

アクリル系樹脂は、偏光板を構成する、偏光膜の保護フィルムとして用いるため、微小な異物や不純物の混入は出来るだけ避けるのが好ましい。この観点から懸濁剤や乳化剤を用いないラジカルキャスト重合やラジカル溶液重合を用いることが望ましい。

また、重合形式として、例えば、バッチ重合法、連続重合法のいずれも用いることができる。重合操作が簡単という観点からは、バッチ重合法が望ましく、より均一組成の重合物を得るという観点では、連続重合法を用いることが望ましい。

重合反応時の温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合等に応じて適宜調整できるが、例えば、概ね重合温度が０〜１６０℃、重合時間が０．５〜２４時間であり、好ましくは、重合温度が８０〜１６０℃、重合時間が１〜８時間である。

ラジカル重合反応時には、必要に応じて重合開始剤を添加する。重合開始剤としては、重合温度に応じて一般的なラジカル重合開始剤を使用することができ、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート等のアゾ化合物を挙げることができる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用して用いてもよい。

重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくは０．００５〜５質量％の範囲で用いられる。

重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用され、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸２−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が挙げられる。これらの分子量調節剤は、重合度が所望の範囲内に制御されるように添加される。

ラジカル溶液重合の場合の重合溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用して用いてもよい。重合温度、取扱いの容易さ、及び、樹脂と溶媒との分離除去の容易性より、沸点が５０〜２００℃である溶媒が好ましい。

ラジカル溶液重合では、重合液濃度（樹脂分の濃度）として１０〜９５質量％以下で実施することが望ましい。１０質量％以上であれば、分子量と分子量分布の調整が容易である。９５質量％以下であれば、高分子量の重合体を得ることができる。また、重合中の除熱の観点から、反応液の粘度を適切にするために７５質量％以下とすることがより好ましく、６０質量％以下とすることが更に好ましい。

また、重合反応液の粘度を適切に保つという観点からは、重合中に重合溶媒を適宜添加することができる。反応液の粘度を適切に保つことで、除熱を制御し、反応液中の副反応を抑制することが容易となる。特に、粘度が上昇する重合反応後半においては重合溶媒を適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが更に好ましい。

溶液重合で得られたアクリル系樹脂は、溶液をそのまま用いて溶液キャスト法で保護フィルムとする場合以外では、溶媒や残存単量体と分離する必要がある。分離する方法は、溶液を加熱したり減圧したりして溶媒や残存単量体を揮発させる脱揮処理や、樹脂の貧溶媒中に入れて溶媒や残存単量体を抽出除去する方法等、公知の方法を用いることができる。

本実施形態において、アクリル系樹脂は、偏光膜の保護フィルムに供されるものであることから混入する異物数は、少ないほど好ましい。異物数を減少させる方法としては、重合反応工程、脱揮処理工程、及び成形工程において、重合溶液又は溶融液を、例えば、濾過精度１．５〜１５μｍのリーフディスク型ポリマーフィルター等で濾過する方法等が挙げられる。

本実施形態においては、最終的な偏光板、それを構成する偏光膜を保護する保護フィルムとして光学性能に影響が出ない範囲内で、アクリル系樹脂に熱安定剤、紫外線吸収剤、本発明に関わるアクリル系樹脂以外の樹脂を加えることが出来る。加える方法は公知の方法であれば特段の制限はない。例えば、重合時に添加する方法、重合後の溶液に添加する方法、樹脂に溶融混練等をして添加する方法、また、これらを組み合わせによる方法等によって添加することができる。

（保護フィルム）
本実施形態における保護フィルムとは、上述のアクリル系樹脂を後述する成形方法によりフィルム化したものである。偏光機能を有する偏光膜の両面、若しくは片面に接着剤等により貼合され、偏光膜に形態保持性や耐擦傷性を付与して偏光膜を保護することを目的に使用される。

ここで、偏光膜とは、入射する光を互いに直行する２つの偏光成分に分け、その一方のみを通過させ、他の成分を吸収又は反射させる働きを有する膜のことであり、その機能を有する膜であれば特に限定されず、いかなる偏光膜も用いることができる。また、その製造方法は特に限定されず、従来公知の方法を適用することができる。例えば、一軸延伸状態を保持したままのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム溶液にヨウ素を過溶解して製造した高次のヨウ素イオンを含む溶液に、浸漬し、ヨウ素を吸着後延伸したあと、１質量％から５質量％のホウ酸水溶液に浴温度２０℃から７０℃の温度下で浸漬して偏光膜を製造する方法や、あるいは、ポリビニルアルコールフィルムを１質量％から５質量％のホウ酸水溶液に浴温度２０℃から４０℃の温度下で浸漬し、一軸方向に３倍から７倍程度延伸した後、０．０５〜５質量％の二色性染料水溶液に温度２０〜４０℃で浸漬して染料を吸着してから、８０〜１００℃で乾燥し、熱固定することで偏光膜を製造する方法等が挙げられる。

偏光膜の厚みは、特に限定されるものではないが、１０〜５０μｍ以下である。１０μｍ以上であれば、延伸や浸漬時に破断することなしに製造が可能である。また５０μｍ以下であれば最終乾燥が容易であり、ばらつきの少ない偏光膜を得ることが可能である。より好ましくは１５〜４５μｍ以下である。

本実施形態に係る保護フィルムは、光弾性係数（Ｃ）が、−３．０×１０^−１２Ｐａ^−１〜＋３．０×１０^−１２Ｐａ^−１である樹脂組成物からなることが望ましい。本実施形態における光弾性係数（Ｃ）とは外力σを加えると、その外力σに応じた歪みＳの大きさと向きが変化するような透明材料に、偏光を入射した際に観察される位相差Ｒと外力δの関係式、Ｒ＝（Ｃ）×σにおいて定義される物理係数であり、個々の透明材料に固有の値である。

保護フィルムを成すアクリル系樹脂の光弾性係数（Ｃ）は、その絶対値が、より好ましくは、２．０×１０^−１２Ｐａ^−１以下であり、さらに好ましくは１．０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である。この範囲内であれば、本実施形態の保護フィルムが貼合された偏光板を備える画像表示装置において、新たな外力が加わっても光弾性複屈折の発生が小さい。具体的には、大画面フラットパネルディスプレイで問題となっている額縁光漏れが発生しない。また、偏光板一体型インナータッチパネル用途において、ペンタッチ等の外力を受けた場合でも画像の色ずれ等が発生しない。

ここで、光弾性係数に関しては種々の文献に記載があり（例えば、化学総説，Ｎｏ．３９，１９９８（学会出版センター発行）参照）、下記式（ｉ−ａ）及び（ｉ−ｂ）により定義されるものである。光弾性係数Ｃ_Ｒの値がゼロに近いほど、外力による複屈折変化が小さいことが判る。
Ｃ_Ｒ＝｜Δｎ｜／σ_Ｒ …（ｉ−１）
｜Δｎ｜＝ｎｘ−ｎｙ …（ｉ−２）
式中、Ｃ_Ｒは光弾性係数、σ_Ｒは伸張応力、｜Δｎ｜は複屈折の絶対値、ｎｘは伸張方向の屈折率、ｎｙは面内で伸張方向と垂直な方向の屈折率、をそれぞれ示す。

本実施形態のアクリル系樹脂の光弾性係数Ｃは、既存樹脂（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＣ、トリアセチルセルロース樹脂、環状オレフィン樹脂等）と比較して、十分に小さい。従って、外力に起因した（光弾性）複屈折が生じないために複屈折変化を受けにくい。また、成形時の残存応力に起因する（光弾性）複屈折を生じにくいために成形体内での複屈折分布も小さい。

本実施形態の保護フィルムは、フィルム状成形体１００μｍ厚みにおける透湿度が、３〜１００ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）である樹脂組成物からなることが望ましい。３ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）以上であれば、偏光板用接着剤の乾燥が十分できる。また透湿度が１００ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）以下であれば、外部からの吸湿により偏光膜の偏光度が低下することを防ぐことができる。より好ましい透湿度は５〜９０ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）。更に好ましくは１０〜８０ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）、特に好ましくは、２０〜７０ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）である。

本実施形態の保護フィルムは、貼り合わせる偏光膜の屈折率との差分が±０．０４以内である屈折率をもつ樹脂組成物からなることが望ましい。±０．０４内であれば偏光膜と接着層、接着層と保護フィルムの各層間での不必要な反射を防止することができ、全光線透過率を高く保持することができる。好ましくは±０．０３５以内、より好ましくは±０．０３以内である。

本実施形態の保護フィルムは、フィルム状成形体を延伸加工した場合の延伸倍率（Ｓ）と、その延伸倍率での１００μｍ厚み換算複屈折（Δｎ（Ｓ））との最小二乗法近似直線関係式（ａ）における傾きαが、−０．３０×１０^−５≦α≦＋０．３０×１０^−５の範囲にある樹脂組成物からなることが望ましい。この範囲内にあるとき、保護フィルムの強度を上げる目的で、保護フィルムに延伸加工処理を施しても、延伸後の保護フィルムの発現する複屈折を小さいままに保つことが可能となる。
Δｎ（Ｓ）＝α×Ｓ＋β （ａ）
−０．３０×１０^−５≦α≦０．３０×１０^−５ （ｂ）
［式中、βは定数であり、無延伸時の複屈折を示す。］

本実施形態の保護フィルムは、ガラス転移温度が１３０℃以上である樹脂組成物からなることが望ましい。１３０℃以上あれば、近年バックライトに多用されているＬＥＤ光源の付近においても、保護フィルムの熱変形がなく偏光板として使用に耐えることができる。また、屋外使用時に外部から入射する太陽光等の過熱が加わっても熱変形を生じることもない。好ましいガラス転移温度としては１３５℃以上、更に好ましいガラス転移は１４０℃以上である。一方、Ｔｇの上限としては、１８０℃であることが好ましい。

本実施形態の保護フィルムは、表面の鉛筆硬度が３Ｈ以上であることが望ましい。鉛筆硬度が３Ｈ以上あれば、偏光膜の保護フィルムとして偏光膜の傷つきを防止することが可能である。好ましい表面の鉛筆硬度としては４Ｈ以上、更に好ましくは５Ｈ以上である。

本実施形態の保護フィルムにおける面内方向の位相差（Ｒｅ）、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）とは保護フィルムの面内、及び厚み方向に生じる成形時の残留応力による歪み、成形後に加えられる外部応力により生じる歪みのいずれか、又は両方を原因とする位相差である。本実施形態の保護フィルムは、フィルム状成形体１００μｍ厚み換算の面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値が８ｎｍ以下であることが望ましい。本実施形態の保護フィルムは、フィルム状成形体１００μｍ厚み換算の厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値が８ｎｍ以下であることが望ましい。

面内方向の位相差の絶対値が８ｎｍ以下であり、かつ厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の絶対値が８ｎｍ以下であれば、本実施形態の保護フィルムを貼合された偏光板は、偏光が乱れることなくコントラストが良好な画像を得ることができる。より好ましくはＲｅ、Ｒｔｈともに６ｎｍ以下、更に好ましくは４ｎｍ以下が望ましい。

本実施形態における保護フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは１５〜８０μｍ、更に好ましくは２０〜４０μｍである。１０μｍ以上であれば偏光膜を保護しうる十分な傷つき強度を発現でき、３００μｍ以下であれば、必要十分な全光線透過率が維持できる。

（成形方法）
本実施形態において、アクリル系樹脂（アクリル系樹脂を含む樹脂組成物）を保護フィルムとして成形加工するには、溶融熱プレス、及び溶融熱プレスと熱溶融延伸法の組み合わせ、溶融押出法、及び溶融押出法と熱溶融延伸法の組み合わせ、射出成形法及び射出成形法と熱溶融延伸法の組み合わせ、溶媒キャスト法及び溶媒キャスト法と熱溶融延伸法の組み合わせ、熱アニール成形後の歪み除去加工等の公知の樹脂成形加工方法を用いることができる。それらの中でも、本実施形態における成形方法としては、生産性が高く、得られる保護フィルムのフィルム強度が優れる点から、溶融押出法と熱溶融延伸法を組み合わせる方法が最も好ましい。

本実施形態に係る溶融押出法において、アクリル系樹脂を押出す際の押出温度は、アクリル系樹脂を主成分とする組成物の熱分解を抑制するために、溶融物が固化しない範囲で低い温度に設定することが望ましく、概ね２００〜３００℃の範囲でできるだけ低く設定することが好ましい。またＴダイより溶融状態で押出されたアクリル系樹脂は、Ｔダイ直下、又はＴダイ側方に設置された鏡面状の冷却ロール、鏡面状の冷却ベルト等の各種冷却支持体にキャストされることで冷却固化、その後に巻き取りロールで巻き取られる。

この際、Ｔダイより溶融押出されたアクリル樹脂が自然放熱で固化する前に転写することが好まく、Ｔダイと冷却ロール又は冷却ベルト等の支持体の距離を１ｍｍ以上、３００ｍｍ以下程度にすることが一般的である。また、成形して得られる保護フィルム（所謂、原反）の厚みが３００μｍ以下の場合には、一本の冷却ロールや冷却ベルト上で転写して冷却固化することが好ましい。この構成で、厚みムラが少なく、その表面が平坦かつ平滑な保護フィルムを得ることが容易となる。この際の冷却ロールや冷却ベルトの温度は３０〜１２０℃が好ましい。前述した温度範囲内で成形加工する場合、成形で得られる保護フィルムは、押出歪みが少なく、光学的、機械的なムラが少ない。

溶融押出法で得られた保護フィルムに対し、引き続き、熱溶融延伸加工を行うことができる。例えば、未延伸フィルム（即ち、原反）を機械的流れ方向に縦一軸延伸、機械的流れ方向に直行する方向に横一軸延伸したり、またロール延伸とテンター延伸の逐次２軸延伸法、テンター延伸による同時２軸延伸法、チューブラー延伸による２軸延伸法等によって延伸することで２軸延伸フィルムとすることができる。

本実施形態に係る熱溶融二軸延伸法は、上記３００μｍ以下の厚みで得られた保護フィルム（以下、原反）を延伸加工により、薄膜化し、１０〜１００μｍの厚みの延伸された保護フィルムとして得る方法である。

図４は、保護フィルムの製造工程を説明するための模式図であり、溶融延伸装置１０１を側方及び上方からみた模式図である。

まず、原反ロール１０５から繰り出された原反は、余熱ロール１０６及び縦延伸ロール１０７が配置された縦延伸チャンバー１０８内でガラス転移温度＋５〜＋２５℃の範囲に加熱され、機械の流れ方向（以後ＭＤ方向）に配置された複数のロール間の周速差により、１０〜３５０％の範囲で縦延伸される。次いで、ＭＤ方向に延伸された原反は、張力制御ロール１０９及び引き取りロール１１０を通り、チェーンに付いたクリップ１１１でフィルムの端をチャッキングし、縦延伸同様にガラス転移温度＋５℃〜＋２５℃下に保たれた横方向に延伸チャンバー１１２内部に導入後、クリップ間隔を広げることで機械の流れ方向に対し垂直方向（以後ＴＤ方向）に１０％から３５０％の範囲で横延伸される。そして、ＴＤ方向に延伸された原反は、張力制御ロール１１３を通り、スリッター１１４を経て、端巻取りロール１１５を介して製品巻取りロール１１６に巻き取られる。一般的には延伸後、ガラス転移温度−１５℃からガラス転移温度＋５℃までに保たれた横延伸チャンバー１１２内部の出口付近でクリップ間隔を５％から１０％縮めることがより好ましい。

熱溶融延伸加工で得られる効果として、延伸による保護フィルム強度の向上と保護フィルムの薄膜化がある。延伸倍率は、少なくとも一方向に０．１％以上３５０％以下が好ましい。より好ましくは、０．２％以上３２０％以下であり、さらに好ましくは、０．３％以上３００％以下である。この範囲内で延伸することにより、強度、透明性、複屈折等の光学特性が優れる保護フィルムが得られる。

本実施形態で得られる保護フィルムは、従来の偏光板製造ラインをそのまま活用でき、さらには表面処理なし（すなわち、前処理なし）でも水系接着剤との接着性が良好であるため偏光膜の保護フィルムとして好適である。また、偏光膜と一体化した際も、保護フィルムが光学等方性に優れるため良好な偏光機能を発現し、耐熱性、表面硬度等の特性にも優れているため、長期使用における剥離、変形、偏光度の変化等が生じにくいなど偏光板としての高い信頼性と耐久性を実現できる。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。

［アクリル系樹脂］
＜組成解析＞
重合により得られたアクリル系樹脂をＣＤＣｌ_３に溶解し、ブルーカー株式会社製 ＤＰＸ−４００装置を用い、^１Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ（測定温度：４０℃）測定を実施し、（ｉ）第一の構造単位、（ｉｉ）第二の構造単位、（ｉｉｉ）第三の構造単位、及び（ｉｖ）第四の構造単位の量をそれぞれ同定し、その比率から組成を確認した。

＜ガラス転移温度の測定＞
重合により得られたアクリル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、示差走査熱量計（パーキンエルマージャパン（株）製 Ｄｉａｍｏｎｄ ＤＳＣ）を用いて、窒素ガス雰囲気下、α−アルミナをリファレンスとし、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠して、試料約１０ｍｇを常温から２００℃まで昇温速度１０℃／ｍｉｎで昇温して得られたＤＳＣ曲線から中点法で算出した。

＜重量平均分子量の測定＞
重合により得られたアクリル系樹脂の重量平均分子量、及び数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（東ソー（株）製 ＨＬＣ−８２２０）を用いて、溶媒はテトラヒドロフラン、設定温度４０℃で、市販の標準ＰＭＭＡ換算により求めた。

＜水酸基の確認＞
重合により得られたアクリル系樹脂、及び、参考例で用いた樹脂について、それぞれ赤外分光法で水酸基の有無を評価した。吸湿性樹脂の場合、吸湿された水分の影響があるため、それを排除するために、事前処理として真空乾燥機にて真空下（１０〜１５ｔｏｒｒ）、１００℃で（１）６時間、（２）１２時間、及び（３）２４時間事前乾燥したものを測定に用いて、もっとも水酸基（−ＯＨ）ピーク量が小さい測定結果で水酸基の有無を決定した。

１７２０ｃｍ^−１付近がカルボニル（Ｃ＝Ｏ）結合に起因する吸収ピーク、３６００〜３０００ｃｍ^−１が水酸基（−ＯＨ）に起因する吸収ピーク、１４００〜９００ｃｍ^−１が炭素−酸素（Ｃ−Ｏ）結合に起因する吸収ピークとして評価した。

＜光学特性評価＞
（光学評価用サンプルの調製）
重合により得られたアクリル系樹脂を溶融真空プレス成形でフィルムとした。鉄板の上にカプトンシートを配置し、その上に１５ｃｍ正方にくり貫いた厚み１５０μｍの金枠を置き、そこにアクリル系樹脂をおいた。更に、カプトンシートを重ね置きし、鉄板を配置した。二枚の金板に挟んだまま、真空圧縮成形機（（株）神藤金属工業所製 ＳＦＶ−３０型）にいれ、減圧を開始し１０ｋＰａに到達した段階で、２６０℃まで２０分をかけて昇温した、その後、２６０℃で５分保持したあと、プレス圧１０ＭＰａで５分間圧縮、その後、冷却を開始、５０℃に到達した段階で真空乾燥器内を大気圧に戻し、サンプルを取り出した。次いで、サンプルを一度、カプトンシートから剥離し、再度新しいカプトンシートで挟み、窒素で満たされ、ガラス転移温度（Ｔｇ）より１０℃高い温度に保たれた乾燥器の中で８時間、保持した。

（光弾性係数の測定）
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ ａｎｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ １９９９， ３９， ２３４９−２３５７に詳細について記載のある複屈折測定装置を用いた。２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室内で２４時間以上養生を行ったアクリル系樹脂からなるフィルム（厚み約１５０μｍ、幅６ｍｍ）を用い、同様に恒温恒湿室に設置したフィルムの引張り装置（井元製作所製）にチャック間５０ｍｍになるようにフィルムを配置した。次いで、後述する複屈折測定装置（大塚電子製ＲＥＴＳ−１００）のレーザー光経路がフィルムの中心部になるようにし、歪速度５０％／分（チャック間：５０ｍｍ、チャック移動速度：５ｍｍ／分）で伸張応力をかけながら複屈折を測定した。複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）と伸張応力（σ_Ｒ）の関係から、最小二乗近似によりその直線の傾きを求め光弾性係数（Ｃ_Ｒ）を計算した。計算には伸張応力が２．５ＭＰａ≦σＲ≦１０ＭＰａの間のデータを用いた。
Ｃ_Ｒ＝｜Δｎ｜／σ_Ｒ
｜Δｎ｜＝｜ｎｘ−ｎｙ｜
（Ｃ_Ｒ：光弾性係数、σ_Ｒ：伸張応力、｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、ｎｘ：伸張方向の屈折率、ｎｙ：伸張方向の垂直な屈折率）

（屈折率の測定）
重合により得られたアクリル系樹脂の屈折率は、上記の光弾性測定用溶融成形フィルムを用い、２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室に設置したメトリコン社製モデル２０１０プリズムカップラーを使用して求めた。サンプルは測定を実施する２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室で一昼夜養生したものを使用した。

（透湿性の測定）
重合により得られたアクリル系樹脂の透湿性は、ＪＩＳ Ｋ７１２９Ｂに記載のモコン法に準じた方法で、光弾性係数測定用溶融成形フィルムを用いて、試験条件４０℃、湿度９０％の環境下に２４時間で測定した。透湿度の単位はｇ／（ｍ^２・２４ｈ）である。測定装置：ＭＯＣＯＮ社製ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ Ｗ３／３３型水蒸気透過試験機。

［保護フィルム］
＜保護フィルムの溶融押出成形と測定サンプルの調整＞
二軸押出器を用い２６０℃にて溶融混練したアクリル系樹脂を押出速度１８０ｋｇ／ｈｒで、２５５℃に調整した幅４５ｃｍ、スリット間隔１ｍｍのＴダイより押出し、１５０℃に調整された鏡面冷却ロールで表面転写、巻き取りロールの速度を調節し約８００μｍ厚みのロール状板サンプルとして製造した。その後、ロールをほぐし、ＭＤ方向に２４ｃｍ、ＴＤ方向に２０ｃｍの長方形状になるようトムソン刃で打ち抜きサンプルを得た。更にサンプルを４ｃｍ正方形に切り取り、３０枚の測定サンプルに分割し、それぞれの４隅、都合１２０点の厚みを測定、平均することで保護フィルムの全体厚みを求めた。

＜複屈折の測定と厚み換算複屈折の算出＞
大塚電子製ＲＥＴＳ−１００を用いて、保護フィルムの複屈折を回転検光子法により測定した。複屈折の値は、波長５５０ｎｍ光の値である。複屈折（Δｎ）は、以下の式により計算した。得られた値をシートの厚さ１００μｍに換算して測定値とした。
Δｎ＝ｎｘ−ｎｙ
（Δｎ：複屈折、ｎｘ：伸張方向の屈折率、ｎｙ：伸張方向と垂直な屈折率）

複屈折（Δｎ）の絶対値（｜Δｎ｜）は、以下のように求めた。
｜Δｎ｜＝｜ｎｘ−ｎｙ｜

＜面内方向の位相差Ｒｅ測定の詳細＞
２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室に設置した大塚電子（株）製ＲＥＴＳ−１００を用いて、回転検光子法により波長４００ｎｍから上８００ｎｍまでの範囲で保護フィルムの複屈折測定を実施した。上記の４ｃｍ角のサンプル３０枚に関し、サンプル中心部で面内位相差Ｒｅ測定を行い、次いでサンプル中心部の厚みの測定を実施、厚み１００μｍに換算された面内方向の位相差Ｒｅを求めた。次いで、絶対値に変換した後、平均をとり、更に上記で求めた全体厚みに換算しなおすことで、保護フィルムの面内方向の位相差Ｒｅの絶対値を求めた。

なお、各厚みから、１００μｍ厚みへの換算は下記の数式に基づいて行った。
複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）と位相差Ｒｅは以下の関係にある。
Ｒｅ＝｜Δｎ｜×ｄ
（｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、Ｒｅ：位相差、ｄ：サンプルの厚み）
また、複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）は以下に示す値である。
｜Δｎ｜＝｜ｎｘ−ｎｙ｜
（ｎｘ：延伸方向の屈折率、ｎｙ：面内で延伸方向と垂直な屈折率）

＜厚み方向の位相差Ｒｔｈ測定の詳細＞
２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室に設置した王子計測機器（株）製位相差測定装置（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、波長５８９ｎｍにおいて保護フィルムの複屈折測定を実施した。測定は４ｃｍ角のサンプル３０枚に関し、サンプル中心で厚み方向の位相差Ｒｔｈ測定を行い、次いで中心部のサンプル厚みの測定を行うことで、厚み１００μｍに換算された厚み方向の位相差Ｒｔｈを求めた。次いで、絶対値に変換した後、平均をとり、更に上記で求めた全体厚みに換算しなおすことで、保護フィルムの厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値を求めた。

なお、各厚みから、１００μｍ厚みへの換算は下記の数式に基づいて行った。
複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）と位相差Ｒｔｈは以下の関係にある。
Ｒｔｈ＝｜Δｎ｜×ｄ
（｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、Ｒｔｈ：位相差、ｄ：サンプルの厚み）
また、複屈折の絶対値（｜Δｎ｜）は以下に示す値である。
｜Δｎ｜＝｜（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｜
（ｎｘ：延伸方向の屈折率、ｎｙ：面内で延伸方向と垂直な屈折率、ｎｚ：面外で延伸方向と垂直な厚み方向の屈折率）

＜保護フィルムにおける、延伸歪みと複屈折の関係式の傾きαの測定の詳細＞
溶融押出法にて製造した保護フィルム（厚み約８００μｍ、幅４０ｍｍ）をインストロン社製１０ｔ引張り試験機を用いて、延伸温度（Ｔｇ＋２０）℃、延伸速度（５００ｍｍ／分）で一軸フリー延伸して延伸保護フィルムを成形した。延伸倍率は、１００％、２００％、及び３００％で延伸した。次いで、得られた延伸保護フィルムの複屈折を前述の方法で測定し、一軸延伸したときに発現する複屈折（Δｎ（Ｓ））を求めた。
求めた延伸保護フィルムの発現している複屈折（Δｎ（Ｓ））の値を、その延伸倍率（Ｓ）に対してプロットして得られる最小二乗法近似直線関係式（Ａ）より傾きαの値を求めた。傾きαの値が小さいほど複屈折（Δｎ（Ｓ））、その変化が小さいことを意味する。
Δｎ（Ｓ）＝α×Ｓ＋β （βは定数：無延伸時の複屈折値）・・・（Ａ）
但し、ここで複屈折とは、測定した値を１００μｍ厚に換算して求めた値である。

また、延伸倍率（Ｓ）とは、延伸前のチャック間距離をＬ_０、延伸後のチャック間距離をＬ_１とすると、以下の式で表される値である。

完全に光学的等方性を満足する保護フィルムでは、未延伸フィルムでも、延伸フィルムにおいても、その面内位相差Ｒｅ、厚み方向位相差Ｒｔｈともに「ゼロ」となり、大面積サンプルにおいてもその位相差にばらつきがない。

＜保護フィルムの表面硬度測定＞
上述の方法で製造した保護フィルムの鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準じて、電動鉛筆引っかき硬度試験機（株式会社安田精機製作所製）を使用し、荷重５００ｇでの鉛筆硬度を測定した。

＜保護フィルムの応力条件下でのコントラスト評価＞
バックライト上に市販の偏光板を二枚用意し、直交状態に、空間をあけて設置した。次いで、その間に、保護フィルムを入れ、面方向に回転させたときの状態を観察した。その後、縦（ＭＤ）方向に弾性範囲内の応力で１０％延伸をした延伸保護フィルムを再度挟み込み、同様に回転させ、明暗の変化を目視で評価した。

延伸前の状態で回転させた場合に全く明暗が変化せず、かつ延伸状態で回転させた場合にも明暗の変化がないものを◎、延伸前の状態で回転させた場合に全く明暗が変化せず、かつ延伸状態で回転させた場合に僅かに明暗が変化するものを○、延伸前の状態で回転させた場合に成形による残留応力由来と考えられる部分的な明暗が見られ、かつ延伸状態で観点させた場合に観察された部分的な明暗が変化しないものを△、延伸前の状態で回転させた場合に成形による残留応力由来と考えられる部分的な明暗が見られ、かつ延伸状態で観点させた場合に観察された部分的な明暗が変化するものを×とした。

＜保護フィルムの干渉縞評価＞
光を通さない黒色板の上に、保護フィルムを置き、三波長蛍光灯（ナショナル：ＦＬ２０ＳＳ・ＥＮＷ／１８）で照らして、表面を目視評価した。全く干渉縞が見えないもの◎、干渉縞がうっすらと見えるもの○、干渉縞が目立つもの△、干渉縞が目立ち、かつギラツキが生じるもの×とした。

［偏光板］
＜偏光板の調製＞
（前処理なしでの偏光板の調製）
前述の方法で成形して得られた保護フィルムに対し偏光板用接着材組成物（後述）を用いて、そのまま偏光膜の両面に対し貼り付けた。その後、４０℃にて一週間乾燥をおこない偏光板を作成した。

（前処理ありでの偏光板の調製）
前術の方法で成形して得られた保護フィルム表面に対して表面処理を施し、その後、直ちに偏光膜の両面に対し、偏光板用接着材組成物（後述）で貼り付けた。その後、４０℃にて一週間乾燥をおこない偏光板を作成した。

＜密着性評価＞
（剥離性評価）
接着性は、評価する面（即ち、保護フィルム）にカッターナイフで５ｍｍ間隔に５本の切込みを碁盤目状に入れ、２４ｍｍ幅、ＪＩＳ Ｚ１５２２のセロハンテープをその面に接着させた後、セロハンテープを剥離した後の状態で判断した。
○：１６個のマスの内、０〜３個に剥離が観察される。
△：４から８個に剥離が観察される。
×：９個以上に剥離が観察される。

＜湿熱試験と曲げ試験＞
偏光板作製後、温度８５℃、湿度８５％に調整した恒温恒室装置に２４時間静置し、次いで２３℃、湿度６０％に調整した恒温恒湿室に２４時間静置を２０回繰り返した。その後、試験片を幅１ｃｍ、長さ１０ｃｍのサイズで２０枚、切り分けた。次いで、この試験片を５ｍｍ直径のガラス棒に巻きつけることで割れるかどうか評価した。割れたフィルムが０枚ものを◎、割れたフィルムが１枚のものを○、割れたフィルムが２枚のものを△、割れたフィルムが３枚以上のものを×とした。

［製造例１］
偏光膜の作製
湯浴に浸した、５Ｌの攪拌機ガラスセパラブルフラスコに蒸留水１Ｌを加える。次いで、セパラブルフラスコを冷却し、内部の蒸留水を４℃にする。その後、攪拌機を回転数１５０ｒｐｍで廻しながら、平均重合度１８００、ケン化度９９．９％のポリビニルアルコール（和光純薬製特級）粉体を加える。この状態で３０分保持したあと、攪拌を続けながらセパラブルフラスコの内部温度２℃／分の速度で加熱し、内部温度が９５℃に到達した段階で攪拌機の回転数を８０ｐｒｍに落とし、３時間攪拌を続ける。餅状の未溶解のポリビニルアルコールがないことを確認したあと、９５℃に保ったまま攪拌を停止、攪拌で巻き込んだ空気の泡が抜けるのをまった。概ね泡が抜けた段階で、セパラブルフラスコにアスピレーターを接続し、僅かに減圧にすることで完全に脱泡する。

平滑なガラス板（縦４５ｃｍ、横４５ｃｍ、厚み３ｍｍ）とガラス丸棒（直径２．５ｃｍ、長さ６０ｃｍ）、スコッチテープ（３Ｍ社製）を用意した。次いで、アセトンを浸したキムワイプでガラス板を良く拭きあげたあと、ガラス板の両端にスコッチテープを重ね貼りし、高さ１．３ｍｍのスペーサーを設けた。スペーサーを左右にしたガラス板上の上方部分に、完全に脱泡したポリビニルアルコール溶液をゆっくりと滴下したあと、左右のスペーサーに対し垂直にガラス棒を置き、ゆっくりとガラス板下方まで引いた。次いで、ガラス板を水平台の上に置き、水平台との間に僅かに隙間が出来る覆いをかぶせた上で、水分を乾燥させた。一週間後、厚さ、約８０μｍのポリビニルアルコールのフィルムを得た。

次いで、上記のポリビニルアルコールのフィルムを、室温下、引伸ばし治具で一軸３倍延伸をしたあと、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含む水溶液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／水＝０．０５／５／１００（質量比））に６０秒間浸漬した。次にヨウ化カリウム及びほう酸を含む６５℃の水溶液（ヨウ化カリウム／ほう酸／水＝２．５／７．５／１００（質量比））に３００秒浸漬した。３０℃の純水で２０秒水洗した後、５０℃で乾燥し、ポリビニルアルコール系偏光膜を得た。得られたポリビニルアルコール系偏光膜の屈折率を測定したところ１．５３であった。

［製造例２］
接着剤組成物の調整
ポリビニルアルコール系樹脂である和光純薬工業（株）製の１６３−０３０４５（分子量：２２，０００、ケン化度：８８モル％）に、水を加えて固形分濃度が７質量％の水溶液を調製した。一方、ポリウレタン系樹脂である大日本インキ化学工業（株）製のＷＬＳ−２０１（固形分濃度３５質量％）１００部に、ポリエポキシ系硬化剤である大日本インキ工業（株）製のＣＲ−５Ｌ（有効成分１００％品）５部を配合し、水で希釈して固形分濃度が２０質量％の水溶液を調製した。得られたポリウレタン系樹脂水溶液とポリビニルアルコール系樹脂水溶液とを、質量比で１：１（固形分質量比で８０：２０）の割合で混合し、固形分濃度が１５質量％の混合接着剤を調製した。

［製造例３］
アクリル系樹脂の製造（Ａ−１）
メチルメタクリレート（和光純薬特級、以下ＭＭＡ）を減圧度０．０１ＭＰａ、４０℃で蒸留し、禁止剤を除いた。次いで、蒸留メチルメタクリレート２４．３０ｋｇ、フェニルマレイミド２．４０ｋｇ（和光純薬特級、以下ｐｈＭＩ）、シクロマレイミド（和光純薬特級、以下ｃｈＭＩ）３．３０ｋｇ、メタキシレン２０ｋｇ（和光純薬特級、以下ｍＸｙ）を、計量し、５０Ｌタンクに加え、混合モノマー溶液を得た。次いで１００ｍＬ／分の速度で窒素によるバブリングを１２時間実施し、溶存酸素を除去した。混合モノマー溶液を、窒素置換した６０Ｌ反応器に加え、温度を１３０℃に上昇させた。次いで、パーブチルＯ（日本油脂）０．０６ｋｇをｍＸｙ６ｋｇに溶解させた開始剤溶液を、１ｋｇ／時間の速度で追添することで重合を実施し、８時間経過後、反応器を５０℃まで冷却した。

次いで、１ｍ^３の反応器に５００Ｌのメタノールを加え、上記の重合溶液を５時間かけて注ぎ、ポリマーを析出させた。その後、更に２時間攪拌を実施し、減圧濾過を行った。減圧濾過後のメタノール含有重合粉体に３００Ｌのメタノールを更に注ぎ、再度攪拌した。その後、減圧濾過を実施し、メタノール含有粉体を採取、０．３ｍ^３のコニカル真空乾燥器にて減圧度０．０３ＭＰａ、温度８０℃条件で乾燥を実施した。乾燥後の粉体を、２５０℃条件の二軸押出機にてペレタイジングを実施し、ペレット状のアクリル系樹脂（Ａ−１）を得た。

組成を確認したところ、ＭＭＡ、ｐｈＭＩ、ｃｈＭＩ各単量体由来の構造単位は、それぞれ、８１．３質量％、７．９％質量、１０．８質量％であった。また、ガラス転移温度（以下Ｔｇと記す）を測定したところ、１３５℃、重量平均分子量（以下Ｍｗ）は２２．５万であった。

［製造例４］
ポリメタクリル酸メチル樹脂の製造（Ｄ−１）
ＭＭＡモノマーを単独で用いる以外は、実施例１と同様の方法で、重合し、ポリマーを回収した。Ｔｇ＝１１０℃、Ｍｗ＝１６万であった。

［参考例１］
トリアセチルセルロース樹脂（以下ＴＡＣ）（Ｂ−１）：
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製、Ｆ−ＴＡＣ、８０μｍ厚み）を入手した。Ｔｇ＝１４５℃、Ｍｗの測定はサンプルが溶解せず出来なかった。

［参考例２］
環状ポリオレフィン樹脂（以下ＣＯＰ）（Ｃ−１）：
ゼオノア４８０Ｒ（日本ゼオン社）を入手した。Ｔｇ＝１３０℃。Ｍｗは測定しなかった。

［製造例５］
保護フィルムの作成
アクリル系樹脂（Ａ−１）、環状ポリオレフィン樹脂（Ｃ−１）、及びポリメタクリル酸メチル樹脂（Ｄ−１）について溶融押出法にて保護フィルムを成形した。具体的には、二軸押出器を用い各樹脂ごとに温度２２０〜２６０℃の範囲内で適宜温度を選択し。溶融混練した樹脂を押出速度１０ｋｇ／ｈｒで、２５５℃に調整した幅４５ｃｍ、スリット間隔２８０μｍのＴダイより押出し、１５０℃に調整された鏡面冷却ロールで表面転写、巻き取りロールの速度を調節し２５０μｍ厚みのロール状板サンプルとして製造した。次いでトムソン刃で２０ｃｍＭＤ方向に２４ｃｍ、ＴＤ方向に２０ｃｍの長方形状になるようトムソン刃で打ち抜き保護フィルムサンプルとして得た。

得られた保護フィルムの各種評価結果を下記にまとめた。
アクリル系樹脂（Ａ−１−２）：
表面硬度は４Ｈ、透湿度は２０ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）、屈折率は１．５０であった。また光弾性係数は＋０．４×１０^−１２Ｐａ^−１、αは＋０．０３×１０^−５であった。

環状ポリオレフィン樹脂（Ｃ−１−２）：
表面硬度はＨＢ、透湿度は０．９ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）であった。更に、屈折率は１．５３であった。また光弾性係数を測定した、＋５×１０^−１２Ｐａ^−１、αは＋０．６０×１０^−６であった。面内方向位相差（Ｒｅ）の絶対値は１２ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は９ｎｍであった。応力下のコントラスト評価を実施した結果は、中心部から両端に向け歪がのこり、部分的な明暗の変化が見られたことから×とした。渉縞試験に関しては◎であった。

ポリメタクリル酸メチル樹脂（Ｄ−１−２）：
表面硬度は２Ｈ、透湿度は１６ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）、屈折率は１．４９であった。また、光弾性係数は−４．７×１０^−１２Ｐａ^−１、αは−０．３×１０^−５であった。面内方向位相差（Ｒｅ）の絶対値は７ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は５ｎｍであった。応力下でのコントラスト評価結果は△であった。渉縞試験に関しては◎であった。また、フィルム状で入手したトリアセチルセルロースフィルムを評価し、次の結果を得た。

トリアセチルセルロース樹脂（Ｂ−１）：
表面硬度はＨ、透湿度は１７５ｇ／（ｍ^２・２４ｈｒ）、屈折率は１．４８であった。また、光弾性係数は＋１５×１０^−１２Ｐａ^−１であった。αは測定しなかった。面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は５ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は６６ｎｍであった。応力下コントラスト評価を実施した結果△であった。渉縞試験に関しては◎であった。

［製造例６］
延伸された保護フィルムの作成
製造例５で得られた、アクリル系樹脂（Ａ−１）からなる厚み２５０μｍのロール状保護フィルムを原反とし、図４の溶融延伸装置１０１で逐次延伸加工することで薄膜化した。まず原反ロールから繰り出された原反は、１５０℃に加熱され、ＭＤ方向に配置されたロール間の周速差により３００％縦延伸し、次いで、を１５０℃に加熱された横延伸チャンバー内に導入後、ＴＤ方向に３００％横延伸した。延伸後のフィルム厚みは３３μｍであった。製造例５同様にトムソン刃で打ち抜き延伸された保護フィルムサンプル（Ａ−１−３）として得た。上記で得られたアクリル系樹脂（Ａ−１）よりなる延伸された保護フィルムの各種評価を行った。

アクリル系樹脂（Ａ−１−３）：
面内方向の位相差（Ｒｅ）の絶対値は２ｎｍ、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は３ｎｍであった。次に、応力下でのコントラスト評価を実施した。結果は○であった。このことから、外力による歪みがかかってもコントラスト低下の原因になる偏光漏れが生じ難いことが判った。干渉縞試験に関しては◎であった。

表１より、本実施形態に係るアクリル系樹脂を含有する保護フィルムは、従来材料に対し、光学的な等方性が高く（複屈折が小さい）、耐熱性、及び表面硬度等の特性にも優れていることが判った。また、それを備える偏光板は、良好な偏光機能を有し、湿熱時にも剥離等が生じにくく、高い信頼性を有していることが判った。

［実施例１、比較例１〜７］
（前処理１）
製造例６で得られたアクリル系樹脂からなる延伸された保護フィルム（Ａ−１−３）に対して、下記処方の表面処理を前処理として施した。

プライマー処理：
処方Ａ：ウレタンアクリレート（００−０２２）１．０ｇ、光硬化開始剤（１８４）０．０３ｇ、イソプロパノール１９．０ｇを記載順に攪拌しながら添加、混合した。得られた混合液を保護フィルム（Ａ−１−３）に塗布した後、ＵＶ硬化して表面修飾を施した表面修飾保護フィルムＡ−１−３Ａ）を得た。水の接触角：２４±２°。

処方Ｂ：ウレタンアクリレート（００−０２２）０．９ｇ、光硬化開始剤（１８４）０．０２７ｇ、２０ｗｔ％ナノシリカ入りイソプロパノール分散液０．３３ｇ、及びイソプロパノール１８．７６ｇを記載順に攪拌しながら添加、混合した。得られた混合液を保護フィルム（Ａ−１−３）に塗布した後、ＵＶ硬化して表面修飾を施した表面修飾保護フィルムＡ−１−３Ｂ）を得た。水の接触角：１７±５°。

（前処理２）
参考例１で入手したトリアセチルセルロースフィルム（Ｂ−１）に対して、下記方法によるケン化処理を前処理として施した。

ケン化処理：トリアセチルセルロースフィルム（Ｂ−１）を５０℃の７％水酸化カリウム水溶液に３分間浸潰した後に水洗し、引き続き乾燥させて、ケン化処理された保護フィルム（Ｂ−１−３）を得た。水の接触角：１７±２°。

（偏光板の作成）
前述の方法に従って、次のフィルム構成を持つ偏光板を作成した。

（実施例１）
アクリル系樹脂（Ａ−１−３）／偏光膜（ＰＶＡ）／アクリル系樹脂（Ａ−１−３）、
（比較例１）
アクリル系樹脂（Ａ−１−３Ａ）／偏光膜（ＰＶＡ）／アクリル系樹脂（Ａ−１−３Ａ）、
（比較例２）
アクリル系樹脂（Ａ−１−３Ｂ）／偏光膜（ＰＶＡ）／アクリル系樹脂（Ａ−１−３Ｂ）、
（比較例３）
アクリル系樹脂（Ａ−１−３Ａ）／偏光膜（ＰＶＡ）／ＴＡＣ（Ｂ−１−３）、
（比較例４）
アクリル系樹脂（Ａ−１−３Ｂ）／偏光膜（ＰＶＡ）／ＴＡＣ（Ｂ−１−３）、
（比較例５）
ＴＡＣ（Ｂ−１−３）／偏光膜（ＰＶＡ）／ＴＡＣ（Ｂ−１−３）、
（比較例６）
環状ポリオレフィン樹脂（Ｃ−１−２）／偏光膜（ＰＶＡ）／環状ポリオレフィン樹脂（Ｃ−１−２）、
（比較例７）
ポリメタクリル酸メチル樹脂（Ｄ−１−２）／偏光膜（ＰＶＡ）／ポリメタクリル酸メチル樹脂（Ｄ−１−２）

得られた各種構成の偏光板について、貼合面での密着性を前述の剥離試験によって評価した。次いで、偏光板としての光学性能を市販の液晶モニター上に重ね、黒表示になる位置で固定した後、光漏れの有無、及び斜め方向から見た際の色味変化の有無に基づいて評価した。光漏れ、色味変化がないものを○、光漏れなく、色味変化があるものを△、光漏れがあるものを×とした。また、湿熱処理を施した後に、前述の曲げ試験を行い、偏光板としての割れ耐久性を評価した。得られた結果を表２にまとめた。

以上より、本実施形態に係るアクリル系樹脂を含有する保護フィルムは、前処理なしでもＰＶＡよりなる偏光膜に対して良好な接着性を示し、またその保護フィルムを備える偏光板が光学特性と湿熱に対する耐久性を示すことが判った。

従って、本実施形態の保護フィルムによれば、従来の偏光板製造ラインをそのまま活用でき、さらに表面処理（すなわち、前処理）が不要なため高生産性の達成が期待できる。得られた偏光板は、光学等方性が高い保護フィルムを備えることから、従来の偏光板に比べ視野角依存性が小さいことから、大画面液晶テレビ、デジタルサイネージなどに好適に用いることができる。

本発明によれば、従来の偏光板製造ラインをそのまま活用でき、さらには表面処理なし（すなわち、前処理なし）でも水系接着剤との接着性が良好である保護フィルム、並びに、それを備える偏光板を提供することができる。また、得られた偏光板は、光学等方性が高い保護フィルムを備えることから、従来の偏光板に比べ視野角依存性を小さくすることができる。

１０…偏光フィルム、１２…第１の接着剤層、１４…第１の保護フィルム層、１６…第２の接着剤層、１８…第２の保護フィルム、２０…ハードコート層、２０…低屈折率層、３０、３２…貼合ロール、４０、４２…ロール、５０…偏光板巻取部、６０、６２…接着剤供給部、７０、７２…放射線照射部、８０…粘着剤層、９０…液晶パネル、偏光板…１００、１０１…溶融延伸装置、１０５…原反ロール、１０６…余熱ロール、１０７…縦延伸ロール、１０８…縦延伸チャンバー、１０９…張力制御ロール、１１０…引き取りロール、１１１…クリップ、１１２…横延伸チャンバー、１１３…張力制御ロール、１１４…スリッター、１１５…端巻取りロール、１１６…製品巻取りロール。

Claims (5)

1. 偏光膜と接着層と保護フィルムとがこの順で積層された構造を備え、
   前記保護フィルムが、前記接着層側の面において水酸基を有さず、
   前記保護フィルムが、アクリル系樹脂を含有し、
   前記アクリル系樹脂が、その総量基準で、下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％と、を有し、
   前記接着層が、ポリビニルアルコール系樹脂及びポリウレタン系樹脂を含む水系接着剤を含む、偏光板。
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
   Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
   Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］
   

   

   
   ［式中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
   Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］
2. 偏光膜と接着層と保護フィルムとがこの順で積層された構造を備え、
   前記保護フィルムが、前記接着層側の面に表面処理を施されておらず、
   前記保護フィルムが、アクリル系樹脂を含有し、
   前記アクリル系樹脂が、その総量基準で、下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％と、を有し、
   前記接着層が、ポリビニルアルコール系樹脂及びポリウレタン系樹脂を含む水系接着剤を含む、偏光板。
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
   Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
   Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］
   

   

   
   ［式中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
   Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］
3. 前記偏光膜が、ポリビニルアルコールを含有する、請求項１又は２に記載の偏光板。
4. 偏光膜と保護フィルムとを接着剤を用いて接合する工程を備え、
   前記保護フィルムが、アクリル系樹脂を含有し、
   前記アクリル系樹脂が、その総量基準で、下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％と、を有し、
   前記接着剤が、ポリビニルアルコール系樹脂及びポリウレタン系樹脂を含む水系接着剤を含み、
   前記保護フィルムを、前記偏光膜と接合される側の面に表面処理を施さずに前記工程に供する、偏光板の製造方法。
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ａ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示す。
   Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基及び炭素数１〜１２のアルキル基。］
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は、炭素数７〜１４のアリールアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、又は、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数６〜１４のアリール基、を示し、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
   Ｂ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数７〜１４のアリールアルキル基。］
   

   

   
   ［式中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、下記Ｃ群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有する炭素数１〜１２のアルキル基、を示し、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を示す。
   Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基及び炭素数１〜１２のアルコキシ基。］
5. 前記偏光膜が、ポリビニルアルコールを含有する、請求項４に記載の製造方法。

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