JP6074325B2 - 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 - Google Patents
基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6074325B2 JP6074325B2 JP2013125909A JP2013125909A JP6074325B2 JP 6074325 B2 JP6074325 B2 JP 6074325B2 JP 2013125909 A JP2013125909 A JP 2013125909A JP 2013125909 A JP2013125909 A JP 2013125909A JP 6074325 B2 JP6074325 B2 JP 6074325B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transfer arm
- detection
- wafer
- receiving position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 137
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 97
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 66
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 24
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 182
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
30 搬送機構
31 ウエハ搬送アーム
32 搬送基台
40 置き台
41 筐体
42a〜42j スロット
50 吸引機構
51 吸引孔
52 吸引通路
53 吸引管
54 真空ポンプ
55 バルブ
56 圧力計
60 搬送機構
61 ウエハ搬送アーム
80 制御部
81 記憶媒体
Claims (7)
- 基板処理装置において、
複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームと、
前記搬送アームを制御する制御部とを備え、
前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知し、
前記制御部は、前記搬送アームを制御して、前記搬送アームを一の検知位置に移動させ、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断し、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させ、
前記制御部は、前記搬送アームが各検知位置に到達した際、前記搬送アームを都度一時的に停止させることを特徴とする基板処理装置。 - 前記制御部は、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて前記一の受取位置に前記基板が存在すると判断した場合、前記搬送アームを制御して、当該受取位置で前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記置き台は複数設けられ、これら複数の置き台が上下方向に積層されていることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
- 基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法において、
前記基板処理装置は、
複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、
前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知し、
前記基板検知方法は、
前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、
前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、
当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備え、
前記搬送アームは、各検知位置に到達した際、都度一時的に停止することを特徴とする基板検知方法。 - 前記一の受取位置に前記基板が存在すると判断した場合、前記搬送アームが当該受取位置で前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する工程を更に備えたことを特徴とする請求項4記載の基板検知方法。
- 前記置き台は複数設けられ、これら複数の置き台が上下方向に積層されていることを特徴とする請求項4または5記載の基板検知方法。
- 基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記基板処理装置は、
複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、
前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知し、
前記基板検知方法は、
前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、
前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、
当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備え、
前記搬送アームは、各検知位置に到達した際、都度一時的に停止することを特徴とする記憶媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013125909A JP6074325B2 (ja) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013125909A JP6074325B2 (ja) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015002253A JP2015002253A (ja) | 2015-01-05 |
JP6074325B2 true JP6074325B2 (ja) | 2017-02-01 |
Family
ID=52296595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013125909A Active JP6074325B2 (ja) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6074325B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109065478B (zh) * | 2018-07-27 | 2021-06-15 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 晶片侦测装置及方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07183362A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Kokusai Electric Co Ltd | ウェーハ搬送機 |
JPH1135153A (ja) * | 1997-07-22 | 1999-02-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板収納カセットからの基板取出し装置 |
JP2003060011A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-28 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板処理システム |
JP5004612B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2012-08-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP5629675B2 (ja) * | 2011-12-05 | 2014-11-26 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 基板処理装置 |
-
2013
- 2013-06-14 JP JP2013125909A patent/JP6074325B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015002253A (ja) | 2015-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI500107B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
JP5505384B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
KR102521418B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 그리고 기판 반송 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
KR101022959B1 (ko) | 기판처리장치 | |
CN107887311B (zh) | 基板搬运装置及基板搬运方法 | |
JP2016201526A (ja) | 基板処理システム | |
JP2013030701A (ja) | 熱処理装置、及びこれに基板を搬送する基板搬送方法 | |
JP5689096B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法並びに基板搬送用記憶媒体 | |
KR101409752B1 (ko) | 기판 이송 로봇을 이용한 멀티 챔버 기판 처리 장치 | |
JP2008100805A (ja) | 基板保管庫 | |
JP5728770B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、ならびに、プログラム | |
JP6074325B2 (ja) | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 | |
US20150362546A1 (en) | Probe apparatus and wafer transfer system | |
JP2016063081A (ja) | 蓋体開閉装置及び蓋体開閉方法 | |
KR101766594B1 (ko) | 어댑터 유닛 내장 로더실 | |
US10892176B2 (en) | Substrate processing apparatus having top plate with through hole and substrate processing method | |
US9595462B2 (en) | Peeling system | |
JP6656441B2 (ja) | 基板処理装置及び基板搬送方法並びに基板搬送プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
JP4757499B2 (ja) | 処理装置および処理方法 | |
JP2014160775A (ja) | 基板搬送装置、基板処理装置および基板収容方法 | |
JP2004296646A (ja) | 基板処理装置 | |
KR102478317B1 (ko) | 기판 처리 시스템 | |
JP4382515B2 (ja) | ウェーハカセット | |
JP6004879B2 (ja) | 切削装置 | |
KR20220144335A (ko) | 기판 유지부의 위치 조정 방법, 기판 처리 시스템 및 기억 매체 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150715 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160506 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160704 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161209 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170106 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6074325 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |