JP6074325B2 - 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 - Google Patents

基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 Download PDF

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Description

本発明は、基板処理装置、基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法、および基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。
半導体装置やフラットディスプレイパネルなどの製造のための一連の処理においては、半導体ウエハ等の基板に処理流体(例えば薬液)を供給することにより、所定の処理(例えば洗浄処理)が施される。
このような基板処理装置(液処理装置)においては、カセットから基板を取り出すアームと、処理部に対して基板を搬送するアームとの間に、基板を仮置きするための置き台(ステージ)が設けられている(特許文献1)。
特開2008−34490号公報 特開平8−274143号公報
ところで、このような基板処理装置においては、例えば電源投入時等、装置を初期化した直後は、装置内にウエハが残っている可能性がある。このため、このような基板処理装置においては、残されたウエハを回収するための回収動作が必要となる。
例えば、置き台に残されたウエハを回収する場合、ウエハの有無を確認するために置き台の内部に基板の検知機構を取り付けることが考えられる。しかしながら、置き台を複数積層する場合等、置き台の数が増えると、置き台の数だけ検知機構を設けることが必要となるためコストアップに繋がるおそれがある。
特許文献2の基板処理装置においては、搬送アーム上にウエハが存在するか否かを検知するセンサーが、搬送アームの待機位置近傍に設けられている。すなわち、搬送基台にセンサスタンドを設け、このセンサスタンドの略先端部に設けられたセンサによって、搬送アームがウエハを保持しているか否かを検出している。しかしながら、この場合、置き台に収容されたウエハの有無を確認するために、搬送アームを置き台の各スロットと待機位置近傍と間でスロットの個数分だけ複数回往復させなければならず、作業時間が長くなってしまう。
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板の回収動作に要する時間を短縮することが可能な、基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体を提供する。
本発明の一実施の形態による基板処理装置は、基板処理装置において、複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームと、前記搬送アームを制御する制御部とを備え、前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、前記制御部は、前記搬送アームを制御して、前記搬送アームを一の検知位置に移動させ、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断し、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させることを特徴とする。
本発明の一実施の形態による基板検知方法は、基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法において、前記基板処理装置は、複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、前記基板検知方法は、前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備えたことを特徴とする。
本発明の一実施の形態による記憶媒体は、基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、前記基板処理装置は、複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、前記基板検知方法は、前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、基板の回収動作に要する時間を短縮することができる。
図1は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の全体構成を示す平面図。 図2は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の搬送機構および置き台を示す斜視図。 図3は、本発明の一実施の形態による基板検知方法を示す概略図。 図4は、基板処理装置の変形例を示す概略図。
以下、図1〜図3を参照して、本発明の一実施の形態について説明する。
図1は本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
図1に示すように、基板処理装置(液処理装置)10は、複数のウエハW(被処理体である基板)を収容するウエハキャリアCを載置し、ウエハWの搬入・搬出を行う搬入出ステーション(基板搬入出部)16と、ウエハWに洗浄処理を施すための処理ステーション(液処理部)18とを備えており、これらは互いに隣接して設けられている。
このうち搬入出ステーション16は、複数のウエハWを水平状態で収容するウエハキャリアCを載置するキャリア載置部11と、ウエハWの搬送を行う搬送部12と、ウエハWの受け渡しを行う受け渡し部13と、搬送部12および受け渡し部13が収容される筐体14とを有している。
キャリア載置部11には4個のウエハキャリアCが載置可能であり、載置されたウエハキャリアCは筐体14の垂直壁部に密着された状態とされ、大気に触れることなくその中のウエハWが搬送部12に搬入可能となっている。
搬送部12は第1の搬送機構30(以下、単に搬送機構30という)を有しており、搬送機構30は、ウエハWを保持する第1のウエハ搬送アーム31(以下、単にウエハ搬送アーム31という)を有している。さらに、搬送機構30は、このウエハ搬送アーム31を前後(X方向)に移動させる機構、ウエハキャリアCの配列方向であるY方向に延在する水平ガイド17に沿って移動させる機構、垂直方向に移動させる機構、および水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構30により、ウエハキャリアCと受け渡し部13との間でウエハWが搬送される。
受け渡し部13は、その上に設けられたウエハWを載置可能な載置部(スロット)を複数備えた置き台40を有しており、この置き台40を介して処理ステーション18との間でウエハWの受け渡しが行われる。置き台40は複数設けられていても良く、この場合、複数の置き台40が上下方向に積層されていても良い。なお、搬送機構30および置き台40の詳細な構成については後述する。
処理ステーション18は直方体状をなす筐体21を有し、筐体21内には、その中央上部にウエハキャリアCの配列方向であるY方向に直交するX方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室21aと、搬送室21aの両側に設けられた2つのユニット室21b、21cとを有している。ユニット室21b、21cにはそれぞれ搬送室21aに沿って6個ずつ合計12個の処理ユニット22が水平に配列されている。
搬送室21aの内部には第2の搬送機構60(以下、単に搬送機構60という)が設けられている。搬送機構60は、ウエハWを保持する第2ウエハ搬送アーム61(以下、単にウエハ搬送アーム61という)を有しており、このウエハ搬送アーム61を前後に移動させる機構、搬送室21aに設けられた水平ガイド25(図1参照)に沿ってX方向に移動させる機構、垂直方向に沿って移動させる機構、および水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構60により、各処理ユニット22に対するウエハWの搬入出を行う。
処理ユニット22は、例えば、ウエハWをスピンチャックに保持し、ウエハWを回転させた状態でウエハWの表面または表裏面に処理液を供給して処理を行う、公知の枚葉式の液処理ユニットからなっていても良い。
なお、基板処理装置10は、その全体の動作を統括制御する制御部(コントローラ)80を有している。制御部80は、基板処理装置10の全ての機能部品の動作を制御する。制御部80は、ハードウエアとして例えば(汎用)コンピュータと、ソフトウエアとして当該コンピュータを動作させるためのプログラム(装置制御プログラムおよび処理レシピ等)とにより実現することができる。ソフトウエアは、コンピュータに固定的に設けられたハードディスクドライブ等の記憶媒体に格納されるか、あるいはCD−ROM、DVD、フラッシュメモリ等の着脱可能にコンピュータにセットされる記憶媒体に格納される。このような記憶媒体が参照符号81で示されている。
次に、図2を参照して搬送機構30および置き台40の構成について更に説明する。
図2に示すように、置き台40は、筐体41と、筐体41内に設けられ、それぞれウエハWを配列方向である上下方向(Z方向)に沿って所定の受取位置P〜P10に収容する複数のスロット(載置部)42a〜42jとを有している。このうち筐体41は、前後方向(X方向)に移動する搬送機構30のウエハ搬送アーム31が通過する第1の開口41aと、第1の開口41aに対向して設けられ、搬送機構60のウエハ搬送アーム61(図1参照)が通過する第2の開口41bとを有している。
また、スロット42a〜42jは、ウエハWの配列方向である上下方向(Z方向)に沿って筐体41内に等間隔に配置されている。これらスロット42a〜42jは、それぞれウエハ搬送アーム31が置き台40からウエハWを受け取る位置である、受取位置P〜P10に対応している。例えば、最下方に位置するスロット42aは、ウエハWを受取位置Pに収容するスロットであり、最上方に位置するスロット42jは、ウエハWを受取位置P10に収容するスロットである。なお、図2において、10個のスロット42a〜42jを示しているが、実際には、例えば20個〜50個のスロットが設けられていても良い。
一方、搬送機構30は、搬送基台32と、搬送基台32上に配置され、搬送基台32に対して前後方向(X方向)に進退可能なウエハ搬送アーム31と、搬送基台32に連結され、搬送基台32を左右方向(Y方向)、上下方向(Z方向)、回転方向(θ方向)に移動させる駆動部33とを有している。
このうちウエハ搬送アーム31は、平面略U字形状を有しており、ウエハWを載置する載置面31aを有している。このウエハ搬送アーム31は、載置面31aにウエハWを載置した状態で、第1の開口41aから置き台40内に進入し、置き台40の各受取位置P〜P10にウエハWを載置する。
また、ウエハ搬送アーム31は、載置面31aにウエハWを載置していない状態で、第1の開口41aから置き台40内に進入し、置き台40の各受取位置P〜P10にあるウエハWを受け取るとともに、受け取ったウエハWを置き台40の外方(例えば、図示しない他の置き台)へ搬送することも可能である。なお、図2において1つのウエハ搬送アーム31を示しているが、搬送機構30は、互いに独立して移動可能な複数(例えば2個)のウエハ搬送アーム31を有していても良い。
また、ウエハ搬送アーム31には、ウエハWを吸引する吸引機構50が設けられている。この吸引機構50は、ウエハ搬送アーム31の載置面31aに複数(例えば4個)形成された吸引孔51と、ウエハ搬送アーム31の内部に形成され、吸引孔51に連通する吸引通路52とを有している。さらに、吸引機構50は、吸引通路52に接続された吸引管53と、真空ポンプ54からの真空吸引をオンオフするバルブ55と、吸引機構50による吸引圧を検知し、これを検知信号として送信可能な圧力計(吸引圧検知機構)56とを有している。また、吸引管53は吸引源である真空ポンプ54に接続されている。
この場合、真空ポンプ54が作動することにより、吸引管53および吸引通路52を介して吸引孔51から空気が吸引され、これによりウエハ搬送アーム31を介してウエハWを真空吸着することができる。これにより、ウエハ搬送アーム31が移載している途中でウエハWが脱落することを防止することができる。
さらに吸引管53の途中には、上述したバルブ55と圧力計56とが配置されている。真空ポンプ54、バルブ55および圧力計56は、それぞれ制御部80に接続され、制御部80は、バルブ55を制御可能となっている。
ところで、本実施の形態において、吸引機構50は、ウエハWを真空吸着するのみならず、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが存在するか否かを検知する役割を果たす。
具体的には、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されていない場合、真空ポンプ54が作動し、バルブ55が開放されることにより、吸引孔51から空気が吸引され、圧力計56の値は略一定の吸引圧(負圧)となる。一方、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されている場合、真空ポンプ54が作動し、バルブ55が開放された際、吸引孔51が塞がれていることにより、圧力計56の値は上記吸引圧より小さい値(負圧)となる。したがって、制御部80は、圧力計56によって検知された吸引圧(負圧)が所定の閾値より大きければ、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されていないと判断し、圧力計56によって検知された吸引圧(負圧)が所定の閾値より小さければ、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されていると判断することができる。このように、本実施の形態による圧力計56は、基板検知機構としての役割も果たしている。
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について、図2および図3(a)〜(f)を参照して説明する。
具体的には、例えば電源投入時等、基板処理装置10を初期化した直後に、置き台40内に残されたウエハWを回収する回収動作時の作用(基板検知方法)について説明する。以下において、基板処理装置10の搬送機構30および吸引機構50は、制御部80の記憶媒体81に記録されたプログラムに従って駆動制御される。
まず、ウエハ搬送アーム31が置き台40の前方(X方向マイナス側)であって、受取位置Pの手前に移動する(図3(a)参照)。また、吸引機構50の真空ポンプ54が作動するとともにバルブ55が開放されることにより、吸引管53および吸引通路52を介して吸引孔51から空気が吸引される。このとき、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されていないため、圧力計56の値は、所定の閾値より大きい略一定の吸引圧(負圧)となる。
次に、ウエハ搬送アーム31が、置き台40に対して前進(X方向プラス側に移動)し、置き台40内に進入する。続いてウエハ搬送アーム31は、置き台40の受取位置P(検知位置)に移動する(図3(b)参照)。なお、この場合、ウエハWが受取位置Pにあるか否かを検知する検知位置は、受取位置Pに一致する。
次に、制御部80は、置き台40の受取位置PにウエハWが存在するか否かを判断する。すなわち、制御部80は、受取位置Pにあるウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されているか否かを判断する。
具体的には、ウエハ搬送アーム31が受取位置Pにある状態で、圧力計(基板検知機構)56が吸引機構50による吸引圧を検知し、これを検知信号として制御部80に対して送信する。この際、制御部80は、当該吸引圧(検知信号)が所定の閾値より大きければ、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されていないと判断する。これに対して、吸引圧(検知信号)が所定の閾値より小さければ、ウエハ搬送アーム31上にウエハWが載置されていると判断する。
図3(b)において、受取位置PにはウエハWが存在しないため、圧力計56によって検知された吸引圧は所定の閾値より大きくなる。したがって、制御部80は、置き台40の受取位置PにウエハWが存在しないと判断する。
続いて、ウエハ搬送アーム31は、Z方向プラス側に上昇し、受取位置Pを通過して、置き台40外方へ出ることなく受取位置Pから直接受取位置P(検知位置)へと移動する(図3(c)参照)。この場合、ウエハWが受取位置Pにあるか否かを検知する検知位置は、受取位置Pに一致する。
次に、制御部80は、受取位置PにウエハWが存在するか否かを判断する。なお、制御部80が受取位置PにウエハWが存在するかを判断する方法は、上記と同一である。
図3(c)において、受取位置PにはウエハWが存在しない。このため、ウエハ搬送アーム31は更に上昇し、受取位置Pを通過して、置き台40外方へ出ることなく受取位置Pから直接受取位置P(検知位置)へと移動する(図3(d)参照)。この場合、ウエハWが受取位置Pにあるか否かを検知する検知位置は、受取位置Pに一致する。
次に、制御部80は、上記と同様にして受取位置PにウエハWが存在するか否かを判断する。
図3(d)において、受取位置PにウエハWが存在する。このとき、受取位置Pにあるウエハ搬送アーム31の載置面31aは、ウエハWの裏面に密着する。このため、ウエハ搬送アーム31に形成された吸引孔51は全て塞がれ、圧力計56によって検知される吸引圧は所定の閾値より小さくなる。したがって、制御部80は、置き台40の受取位置PにウエハWが存在すると判断する。
次に、ウエハ搬送アーム31は、受取位置PのウエハWを受け取る。すなわち、ウエハ搬送アーム31の載置面31a上にウエハWが載置され、吸引孔51によってウエハWが吸引される。そしてウエハ搬送アーム31は、載置面31aにウエハWを載置した状態のまま、受取位置Pの上方の引出位置まで上昇した後、上昇を停める。その後、置き台40に対して後退(X方向マイナス側に移動)し、置き台40の外方へ移動する(図3(e)参照)。続いて、ウエハ搬送アーム31は、受け取ったウエハWを、基板処理装置10内に残されたウエハWを収容するためのウエハキャリアへと搬送する。
続いてウエハ搬送アーム31は、置き台40の前方(X方向マイナス側)に再度移動する。次に、ウエハ搬送アーム31は、置き台40に対して前進(X方向プラス側に移動)し、受取位置P(検知位置)に到達する(図3(f)参照)。この場合、受取位置P〜PにはウエハWが存在しないことが判明しているので、ウエハ搬送アーム31が受取位置Pに直接移動することにより、ウエハWの回収動作に要する時間を短縮することができる。
このようにして、制御部80は、ウエハ搬送アーム31を受取位置P〜P10(検知位置)に順次移動しながら、各受取位置P〜P10にウエハWが存在するか否かを判断する。制御部80は、各受取位置P〜PにウエハWが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム31を直接次の受取位置P〜P10(検知位置)へ移動させる。なお、制御部80は、最後の受取位置P10にウエハWが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム31を置き台40の外方へ移動し、一連のウエハWの回収動作が完了する。
一方、制御部80は、各受取位置P〜P10にウエハWが存在すると判断した場合、ウエハ搬送アーム31を制御して、各受取位置P〜P10でウエハWを受け取るとともに、このウエハWを置き台40の外方へと搬送する。
なお、上記において、制御部80は、ウエハ搬送アーム31が各受取位置P〜P10(検知位置)に到達した際、ウエハ搬送アーム31を各受取位置P〜P10(検知位置)で都度一時的に停止させて、各受取位置P〜P10にウエハWが存在するか否かを判断している。この場合、ウエハWの検知精度をより向上させることができる。あるいは、ウエハ搬送アーム31を受取位置P(検知位置)から受取位置P10(検知位置)まで連続的に移動しながら、各受取位置P〜P10にウエハWが存在するか否かを判断しても良い。この場合、ウエハWの回収動作に要する時間を短縮することができる。
以上に説明したように、本実施の形態によれば、制御部80は、ウエハ搬送アーム31を制御して、ウエハ搬送アーム31を置き台40の受取位置P〜P(検知位置)に移動させ、圧力計56からの検知信号に基づいて当該受取位置P〜PにウエハWが存在するかを判断し、当該受取位置P〜PにウエハWが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム31を直接次の受取位置P〜P10(検知位置)へ移動させる。一方、制御部80は、圧力計56からの検知信号に基づいて受取位置P〜P10にウエハWが存在すると判断した場合、ウエハ搬送アーム31を制御して、当該受取位置P〜P10でウエハWを受け取るとともに、当該ウエハWを置き台40の外方へ搬送する。
このことにより、置き台40内にウエハWが存在するか否かを短時間で確認することができ、ウエハWの回収動作に必要な時間を短縮することができる。他方、比較例として、置き台40にウエハWが存在するか否かを確認するために、ウエハ搬送アーム31を、各受取位置P〜P10と置き台40外方に設けられているセンサーと間で複数回往復させた場合、ウエハWの回収動作に必要な時間が長くなってしまう。
また、本実施の形態によれば、置き台40にウエハWを検知する検知機構を新たに取り付けることなくウエハWの有無を検知することができるので、基板処理装置10のコスト上昇を抑えることができる。
なお、上記実施の形態では、基板検知機構として吸引圧を検知する圧力計(吸引圧検知機構)56を用いる場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、基板検知機構としては、センサー等、ウエハWを機械的又は光学的に検知する機構を用いても良い。
また、上記実施の形態では、搬送機構30のウエハ搬送アーム31が、置き台40内に残されたウエハWを検知する場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、ウエハ搬送アーム31に代えて、またはウエハ搬送アーム31とともにウエハ搬送アーム61(図1参照)が、同様の方法を用いて置き台40内に残されたウエハWを検知しても良い。
例えば、図4に示すように、複数の置き台40が上下方向に積層され、搬送機構30のウエハ搬送アーム31を用いて一の置き台40内に残されたウエハWを検知するとともに、搬送機構60のウエハ搬送アーム61を用いて他の置き台40内に残されたウエハWを検知しても良い。この場合、複数のウエハ搬送アーム31、61を用いてウエハWを検知することにより、ウエハWの回収動作に要する時間を更に短縮することができる。
さらに、上記実施の形態では、ウエハ搬送アーム31がウエハWを検知する検知位置と、ウエハWの受取位置P〜P10とが一致する場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、ウエハWを検知する検知位置が、ウエハWの受取位置P〜P10と異なる位置であっても良い。例えば、基板検知機構として光学センサーを用いる場合には、ウエハWを検知する検知位置がウエハWの受取位置P〜P10よりも下方に位置していても良い。
さらにまた、上記実施の形態では、置き台40内でのウエハWの配列方向が上下方向(Z方向)である場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、ウエハWの配列方向は、水平方向であっても良い。
10 基板処理装置
30 搬送機構
31 ウエハ搬送アーム
32 搬送基台
40 置き台
41 筐体
42a〜42j スロット
50 吸引機構
51 吸引孔
52 吸引通路
53 吸引管
54 真空ポンプ
55 バルブ
56 圧力計
60 搬送機構
61 ウエハ搬送アーム
80 制御部
81 記憶媒体

Claims (7)

  1. 基板処理装置において、
    複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
    前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームと、
    前記搬送アームを制御する制御部とを備え、
    前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
    前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知し、
    前記制御部は、前記搬送アームを制御して、前記搬送アームを一の検知位置に移動させ、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断し、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させ
    前記制御部は、前記搬送アームが各検知位置に到達した際、前記搬送アームを都度一時的に停止させることを特徴とする基板処理装置。
  2. 前記制御部は、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて前記一の受取位置に前記基板が存在すると判断した場合、前記搬送アームを制御して、当該受取位置で前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
  3. 前記置き台は複数設けられ、これら複数の置き台が上下方向に積層されていることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
  4. 基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法において、
    前記基板処理装置は、
    複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
    前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、
    前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
    前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知し、
    前記基板検知方法は、
    前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、
    前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、
    当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備え
    前記搬送アームは、各検知位置に到達した際、都度一時的に停止することを特徴とする基板検知方法。
  5. 前記一の受取位置に前記基板が存在すると判断した場合、前記搬送アームが当該受取位置で前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する工程を更に備えたことを特徴とする請求項記載の基板検知方法。
  6. 前記置き台は複数設けられ、これら複数の置き台が上下方向に積層されていることを特徴とする請求項4または5記載の基板検知方法。
  7. 基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
    前記基板処理装置は、
    複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
    前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、
    前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
    前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知し、
    前記基板検知方法は、
    前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、
    前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、
    当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備え
    前記搬送アームは、各検知位置に到達した際、都度一時的に停止することを特徴とする記憶媒体。
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JP5004612B2 (ja) * 2007-02-15 2012-08-22 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
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