JPH07183362A - ウェーハ搬送機 - Google Patents
ウェーハ搬送機Info
- Publication number
- JPH07183362A JPH07183362A JP32838693A JP32838693A JPH07183362A JP H07183362 A JPH07183362 A JP H07183362A JP 32838693 A JP32838693 A JP 32838693A JP 32838693 A JP32838693 A JP 32838693A JP H07183362 A JPH07183362 A JP H07183362A
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- JP
- Japan
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- wafer
- wafers
- transfer plate
- wafer transfer
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Geophysics And Detection Of Objects (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウェーハに塵埃の付着などのダメージを与え
ることなくウェーハを確実に検出し、装置内を清浄に保
ち、信頼性及び耐久性を向上し、ウェーハ搬送の確実性
及びウェーハの歩留りを向上する。 【構成】 ウェーハを搬送するウェーハ搬送機１７のウ
ェーハ搬送プレート２のウェーハ１と接触する部分内の
ウェーハ検出可能な位置に、又はウェーハ搬送プレート
２のウェーハと接触する部分下面に或いはウェーハ搬送
プレート２に対し非接触で反射型又は透過型ウェーハ検
出センサ１０を設置せしめる。
ることなくウェーハを確実に検出し、装置内を清浄に保
ち、信頼性及び耐久性を向上し、ウェーハ搬送の確実性
及びウェーハの歩留りを向上する。 【構成】 ウェーハを搬送するウェーハ搬送機１７のウ
ェーハ搬送プレート２のウェーハ１と接触する部分内の
ウェーハ検出可能な位置に、又はウェーハ搬送プレート
２のウェーハと接触する部分下面に或いはウェーハ搬送
プレート２に対し非接触で反射型又は透過型ウェーハ検
出センサ１０を設置せしめる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置におけ
るウェーハ搬送機に関する。
るウェーハ搬送機に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハ処理装置に於けるウェー
ハの搬送は、ウェーハ搬送プレートにウェーハを受載
し、該ウェーハ搬送プレートをウェーハ搬送機により移
動することで行っている。又、ウェーハの搬送に於いて
は、ウェーハ搬送の確実性を保証する為、ウェーハ搬送
途中に於けるウェーハの有無の検出は不可欠である。そ
こで、従来の半導体ウェーハ処理装置のウェーハ搬送機
は、ウェーハ搬送プレート上に載置されたウェーハを吸
着した時の真空の有無によりウェーハの有無を検出する
ウェーハ検出装置を具備している。
ハの搬送は、ウェーハ搬送プレートにウェーハを受載
し、該ウェーハ搬送プレートをウェーハ搬送機により移
動することで行っている。又、ウェーハの搬送に於いて
は、ウェーハ搬送の確実性を保証する為、ウェーハ搬送
途中に於けるウェーハの有無の検出は不可欠である。そ
こで、従来の半導体ウェーハ処理装置のウェーハ搬送機
は、ウェーハ搬送プレート上に載置されたウェーハを吸
着した時の真空の有無によりウェーハの有無を検出する
ウェーハ検出装置を具備している。
【０００３】図５は従来のウェーハ搬送機の１例を示す
要部の斜視図、図６は従来のウェーハ検出装置の１例を
示す縦断側面図である。図中、１はウェーハ、２はウェ
ーハ搬送プレートを示しており、該ウェーハ搬送プレー
ト２は図示しないプレートホルダに支持されている。該
ウェーハ搬送プレート２は短冊形状をしており、該ウェ
ーハ搬送プレート２の内部には長手方向に延びている吸
引路７が穿設され、該吸引路７の先端は、前記ウェーハ
搬送プレート２の上面先端側に開口している。又、前記
吸引路７の基端は、前記ウェーハ搬送プレート２の下面
基端側に開口しており、更に該基端側開口部９には配管
８が接続されている。前記配管８は、継手６によって二
方向に分岐され、一方の分岐路には、真空センサ３が接
続され、他方の分岐路には、電磁弁４を介して真空ポン
プ５が接続されている。
要部の斜視図、図６は従来のウェーハ検出装置の１例を
示す縦断側面図である。図中、１はウェーハ、２はウェ
ーハ搬送プレートを示しており、該ウェーハ搬送プレー
ト２は図示しないプレートホルダに支持されている。該
ウェーハ搬送プレート２は短冊形状をしており、該ウェ
ーハ搬送プレート２の内部には長手方向に延びている吸
引路７が穿設され、該吸引路７の先端は、前記ウェーハ
搬送プレート２の上面先端側に開口している。又、前記
吸引路７の基端は、前記ウェーハ搬送プレート２の下面
基端側に開口しており、更に該基端側開口部９には配管
８が接続されている。前記配管８は、継手６によって二
方向に分岐され、一方の分岐路には、真空センサ３が接
続され、他方の分岐路には、電磁弁４を介して真空ポン
プ５が接続されている。
【０００４】次に、ウェーハの有無検出について説明す
る。ウェーハ搬送機１７によってウェーハ１を前記ウェ
ーハ搬送プレート２に受載し、前記電磁弁４を開き、前
記真空ポンプ５で前記吸引路７を真空引きする。この
時、前記ウェーハ搬送プレート２上にウェーハ１が載置
されていた場合、前記吸引路７と該吸引路７に接続され
た前記配管８の内部は真空状態になるので、前記真空セ
ンサ３が真空状態を検知し、ウェーハ有と判断する。又
逆に、前記ウェーハ搬送プレート２上にウェーハ１が載
置されていない場合、前記吸引路７と前記配管８の内部
は真空状態とはならない為、前記真空センサ３が動作せ
ず、ウェーハ無と判断する。
る。ウェーハ搬送機１７によってウェーハ１を前記ウェ
ーハ搬送プレート２に受載し、前記電磁弁４を開き、前
記真空ポンプ５で前記吸引路７を真空引きする。この
時、前記ウェーハ搬送プレート２上にウェーハ１が載置
されていた場合、前記吸引路７と該吸引路７に接続され
た前記配管８の内部は真空状態になるので、前記真空セ
ンサ３が真空状態を検知し、ウェーハ有と判断する。又
逆に、前記ウェーハ搬送プレート２上にウェーハ１が載
置されていない場合、前記吸引路７と前記配管８の内部
は真空状態とはならない為、前記真空センサ３が動作せ
ず、ウェーハ無と判断する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のウェ
ーハ検出装置を有するウェーハ搬送機１７では、前記ウ
ェーハ搬送プレート２上のウェーハ１の有無を検出し、
又ウェーハを搬送する為にウェーハ１に対し真空吸着を
行うので、ウェーハ１の吸着面、つまり裏面に塵埃が付
着するなどのダメージにより歩留りを悪化させるという
課題がある。又、ウェーハ搬送プレート２がウェーハ１
の中央部に接触するので、ウェーハ１とウェーハ搬送プ
レート２との接触によっても装置内が汚染される可能性
がある。
ーハ検出装置を有するウェーハ搬送機１７では、前記ウ
ェーハ搬送プレート２上のウェーハ１の有無を検出し、
又ウェーハを搬送する為にウェーハ１に対し真空吸着を
行うので、ウェーハ１の吸着面、つまり裏面に塵埃が付
着するなどのダメージにより歩留りを悪化させるという
課題がある。又、ウェーハ搬送プレート２がウェーハ１
の中央部に接触するので、ウェーハ１とウェーハ搬送プ
レート２との接触によっても装置内が汚染される可能性
がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するためになされたものであって、ウェーハの裏面
に塵埃を付着させるなどのダメージを与えることなく、
ウェーハを確実に検出し又、装置内を清浄に保ち、信頼
性及び耐久性を向上し、ウェーハ搬送の確実性及びウェ
ーハの歩留りを向上し得るウェーハ搬送機を提供しよう
とするものである。即ち、本発明ウェーハ搬送機は、ウ
ェーハ１を搬送するウェーハ搬送機１７のウェーハ搬送
プレート２のウェーハ１と接触する部分内のウェーハ検
出可能な位置に、又はウェーハ搬送プレート２のウェー
ハと接触する部分下面に或いはウェーハ搬送プレート２
に対し非接触で反射型又は透過型ウェーハ検出センサ１
０を設置せしめる。
解決するためになされたものであって、ウェーハの裏面
に塵埃を付着させるなどのダメージを与えることなく、
ウェーハを確実に検出し又、装置内を清浄に保ち、信頼
性及び耐久性を向上し、ウェーハ搬送の確実性及びウェ
ーハの歩留りを向上し得るウェーハ搬送機を提供しよう
とするものである。即ち、本発明ウェーハ搬送機は、ウ
ェーハ１を搬送するウェーハ搬送機１７のウェーハ搬送
プレート２のウェーハ１と接触する部分内のウェーハ検
出可能な位置に、又はウェーハ搬送プレート２のウェー
ハと接触する部分下面に或いはウェーハ搬送プレート２
に対し非接触で反射型又は透過型ウェーハ検出センサ１
０を設置せしめる。
【０００７】
【作 用】このような構成であるから、ウェーハ１の有
無を光の反射又は透過で検出することができるので、真
空吸着式のようにウェーハにダメージを与えることなく
ウェーハを確実に検出することができ又、装置内を汚染
することがなく、清浄に保つことができるばかりでな
く、真空吸着式の比し部品点数を削減できるので、信頼
性及び耐久性を向上でき、ウェーハ搬送の確実性及びウ
ェーハの歩留りを向上し得ることになる。
無を光の反射又は透過で検出することができるので、真
空吸着式のようにウェーハにダメージを与えることなく
ウェーハを確実に検出することができ又、装置内を汚染
することがなく、清浄に保つことができるばかりでな
く、真空吸着式の比し部品点数を削減できるので、信頼
性及び耐久性を向上でき、ウェーハ搬送の確実性及びウ
ェーハの歩留りを向上し得ることになる。
【０００８】
【実施例】図１は本発明ウェーハ搬送機の要部の斜視
図、図２（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ発明におけるウェー
ハ搬送プレートの第１実施例を示す縦断側面図及び平面
図である。第１実施例は、半導体ウェーハ搬送機１７に
支持されたウェーハ搬送プレート２内のウェーハ検出可
能な位置に、投光部１１、受光部１２よりなる透過型の
ウェーハ検出センサ１０を設けた例である。ウェーハ搬
送プレート２は真空吸着式ではなくすくい上げ方式と
し、その形成は短冊形状をしており、そのウェーハ１の
載置面には、ウェーハ１の対峙する周縁部を支持する為
の棚部１５，１５を設け、更に該棚部１５，１５の間に
は、ウェーハ１の中央部裏面を前記ウェーハ搬送プレー
ト２に接触させない為の逃げ部１６を設けてある。又、
前記ウェーハ搬送プレート２はウェーハ搬送機１７の一
部であるプレートホルダ（図示せず）に支持されてお
り、更に、該プレートホルダは前記ウェーハ搬送プレー
ト２を垂直な軸心（図示せず）を中心に回軸させ得る様
になっている。１３は投光部１１に接続した電源部、１
４は受光部１２に接続されウェーハの有無信号を処理す
る信号処理部である。
図、図２（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ発明におけるウェー
ハ搬送プレートの第１実施例を示す縦断側面図及び平面
図である。第１実施例は、半導体ウェーハ搬送機１７に
支持されたウェーハ搬送プレート２内のウェーハ検出可
能な位置に、投光部１１、受光部１２よりなる透過型の
ウェーハ検出センサ１０を設けた例である。ウェーハ搬
送プレート２は真空吸着式ではなくすくい上げ方式と
し、その形成は短冊形状をしており、そのウェーハ１の
載置面には、ウェーハ１の対峙する周縁部を支持する為
の棚部１５，１５を設け、更に該棚部１５，１５の間に
は、ウェーハ１の中央部裏面を前記ウェーハ搬送プレー
ト２に接触させない為の逃げ部１６を設けてある。又、
前記ウェーハ搬送プレート２はウェーハ搬送機１７の一
部であるプレートホルダ（図示せず）に支持されてお
り、更に、該プレートホルダは前記ウェーハ搬送プレー
ト２を垂直な軸心（図示せず）を中心に回軸させ得る様
になっている。１３は投光部１１に接続した電源部、１
４は受光部１２に接続されウェーハの有無信号を処理す
る信号処理部である。
【０００９】ウェーハ搬送プレート２上にウェーハ１が
有る時は、ウェーハ検出センサ１０の投光部１１より照
射される光ビームがウェーハ１で反射して受光部１２で
受光できず、電気信号に変換されない。この時、ウェー
ハ無しとして信号処理部１４で処理される。又、ウェー
ハが無い時は、ウェーハ検出センサ１０の投光部１１よ
り出た光ビームは、受光部１２に入射されて受光され、
電気信号に変換される。この時、ウェーハ有として信号
処理部１４で処理される。ウェーハ搬送プレート２内に
透過型のウェーハ検出センサ１０を構成する投光部の受
光部１２をウェーハと接触しない位置に埋め込み一体型
とする事によりウェーハ１にダメージを与えず、確実に
ウェーハの検出を行う事が可能となる。また、プレート
２とセンサが一体型の為、プレートとセンサが分離型の
ものと比べ、ウェーハとセンサが接触しない位置にセン
サを取付ける微調整がいらず、センサの取付け作業を効
率よく行うことができる。また、ウェーハ検出センサを
ウェーハ搬送プレート２に内蔵しなくとも図３に示す第
２実施例のようにウェーハ搬送プレート２下に設けても
よい。
有る時は、ウェーハ検出センサ１０の投光部１１より照
射される光ビームがウェーハ１で反射して受光部１２で
受光できず、電気信号に変換されない。この時、ウェー
ハ無しとして信号処理部１４で処理される。又、ウェー
ハが無い時は、ウェーハ検出センサ１０の投光部１１よ
り出た光ビームは、受光部１２に入射されて受光され、
電気信号に変換される。この時、ウェーハ有として信号
処理部１４で処理される。ウェーハ搬送プレート２内に
透過型のウェーハ検出センサ１０を構成する投光部の受
光部１２をウェーハと接触しない位置に埋め込み一体型
とする事によりウェーハ１にダメージを与えず、確実に
ウェーハの検出を行う事が可能となる。また、プレート
２とセンサが一体型の為、プレートとセンサが分離型の
ものと比べ、ウェーハとセンサが接触しない位置にセン
サを取付ける微調整がいらず、センサの取付け作業を効
率よく行うことができる。また、ウェーハ検出センサを
ウェーハ搬送プレート２に内蔵しなくとも図３に示す第
２実施例のようにウェーハ搬送プレート２下に設けても
よい。
【００１０】図４（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ第３実施例
を示す縦断側面図及び平面図である。この第３実施例
は、ウェーハ搬送プレート２に対し非接触でウェーハ検
出センサ１０を設置せしめる。ウェーハ搬送プレート２
上にウェーハ１が有る時は、ウェーハ検出センサ１０の
投光部１１より照射される光ビームがウェーハ１で反射
して受光部１２で受光され、電気信号に変換される。こ
の信号はウェーハ有りの信号であり、信号処理部１４で
波形整形、増幅等の処理を行う。又、ウェーハが無い時
は、ウェーハ検出センサ１０の投光部１１より出た光ビ
ームは受光部１２に受光されず、電気信号に変換されな
い。受光部１２で電気信号に変換されない時は、ウェー
ハ無しとして信号処理部１４で処理される。
を示す縦断側面図及び平面図である。この第３実施例
は、ウェーハ搬送プレート２に対し非接触でウェーハ検
出センサ１０を設置せしめる。ウェーハ搬送プレート２
上にウェーハ１が有る時は、ウェーハ検出センサ１０の
投光部１１より照射される光ビームがウェーハ１で反射
して受光部１２で受光され、電気信号に変換される。こ
の信号はウェーハ有りの信号であり、信号処理部１４で
波形整形、増幅等の処理を行う。又、ウェーハが無い時
は、ウェーハ検出センサ１０の投光部１１より出た光ビ
ームは受光部１２に受光されず、電気信号に変換されな
い。受光部１２で電気信号に変換されない時は、ウェー
ハ無しとして信号処理部１４で処理される。
【００１１】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、ウェーハ
１の有無を光の反射又は透過で検出することができるの
で、真空吸着式のようにウェーハに塵埃を付着させるな
どのダメージを与えることなくウェーハを確実に検出す
ることができ又、装置内を汚染することがなく、清浄に
保つことができるばかりでなく、真空吸着式に比し部品
点数を削減できるので、信頼性及び耐久性を向上でき、
ウェーハ搬送の確実性及びウェーハの歩留りを向上する
ことができる。又、ウェーハ搬送プレート２に対し非接
触でウェーハ検出センサ１０を設置した場合はウェーハ
に接触しないようウェーハ搬送プレートにウェーハ検出
センサを取付けるための位置微調整作業が不要になり、
センサの設置作業効率を向上させることができる。
１の有無を光の反射又は透過で検出することができるの
で、真空吸着式のようにウェーハに塵埃を付着させるな
どのダメージを与えることなくウェーハを確実に検出す
ることができ又、装置内を汚染することがなく、清浄に
保つことができるばかりでなく、真空吸着式に比し部品
点数を削減できるので、信頼性及び耐久性を向上でき、
ウェーハ搬送の確実性及びウェーハの歩留りを向上する
ことができる。又、ウェーハ搬送プレート２に対し非接
触でウェーハ検出センサ１０を設置した場合はウェーハ
に接触しないようウェーハ搬送プレートにウェーハ検出
センサを取付けるための位置微調整作業が不要になり、
センサの設置作業効率を向上させることができる。
【図１】本発明ウェーハ搬送機の要部の斜視図である。
【図２】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明におけるウェ
ーハ搬送プレートの第１実施例を示す縦断側面図及び平
面図である。
ーハ搬送プレートの第１実施例を示す縦断側面図及び平
面図である。
【図３】第２実施例を示す縦断側面図である。
【図４】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ第３実施例を示す縦
断側面図及び平面図である。
断側面図及び平面図である。
【図５】従来のウェーハ搬送機の１例を示す要部の斜視
図である。
図である。
【図６】従来のウェーハ検出装置の１例を示す縦断側面
図である。
図である。
１ ウェーハ ２ ウェーハ搬送プレート １０ ウェーハ検出センサ １１ 投光部 １２ 受光部 １３ 電源部 １４ 信号処理部 １５ 棚部 １６ 逃げ部 １７ ウェーハ搬送機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/31 (72)発明者 保坂 英二 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 開発 秀樹 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 ウェーハを搬送するウェーハ搬送機のウ
ェーハ搬送プレートのウェーハと接触する部分に又はウ
ェーハ搬送プレートに対し非接触でウェーハ検出センサ
を設置したことを特徴とするウェーハ搬送機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32838693A JPH07183362A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | ウェーハ搬送機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32838693A JPH07183362A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | ウェーハ搬送機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07183362A true JPH07183362A (ja) | 1995-07-21 |
Family
ID=18209674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32838693A Pending JPH07183362A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | ウェーハ搬送機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07183362A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015002253A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP32838693A patent/JPH07183362A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015002253A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 |
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