JP6071216B2 - Manufacturing method of resin sealing material and resin sealing device - Google Patents
Manufacturing method of resin sealing material and resin sealing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP6071216B2 JP6071216B2 JP2012041625A JP2012041625A JP6071216B2 JP 6071216 B2 JP6071216 B2 JP 6071216B2 JP 2012041625 A JP2012041625 A JP 2012041625A JP 2012041625 A JP2012041625 A JP 2012041625A JP 6071216 B2 JP6071216 B2 JP 6071216B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- standard
- resin sealing
- sealing material
- sealing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 642
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 642
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 title claims description 267
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims description 229
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 122
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 108
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 56
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 53
- 239000010421 standard material Substances 0.000 claims description 30
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 28
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 10
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 6
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000012216 screening Methods 0.000 claims description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 29
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 16
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 13
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 3
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- 241000282341 Mustela putorius furo Species 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B7/00—Mixing; Kneading
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B9/00—Making granules
- B29B9/12—Making granules characterised by structure or composition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/16—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
- H01L23/18—Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Description
本発明は、圧縮成形用の成形型を使用してチップ状の電子部品を樹脂封止する際に使用される、粉状又は粒状を呈する樹脂封止用材料の製造方法及び樹脂封止装置に関するものである。 The present invention relates to a resin sealing material manufacturing method and a resin sealing device , which are used when resin-sealing chip-shaped electronic components using a compression mold. Is.
IC(Integrated Circuit)チップ、LED(Light Emitting Diode)チップ、チップコンデンサ等のチップ状電子部品(以下「チップ」という。)を樹脂封止する工程においては、流動性樹脂を硬化させることによって硬化樹脂からなる封止樹脂を形成する。このことにより、リードフレーム、プリント基板等(以下「基板本体」という。)に装着されたチップが樹脂封止される。近年、樹脂封止する方式として、トランスファ成形に加えて圧縮成形が使用されるようになっている(例えば、特許文献1参照)。トランスファ成形に比べて圧縮成形は、ボンディング用のワイヤに加わる流動性樹脂の圧力が小さいこと、封止樹脂の薄型化に対応できること、等の利点を有する。圧縮成形においては、流動性樹脂の原料として、熱硬化性樹脂からなる粉状又は粒状の樹脂封止用材料、又は、常温で液状である樹脂封止用材料(液状樹脂)を使用する。 In the step of resin-sealing chip-like electronic components (hereinafter referred to as “chips”) such as IC (Integrated Circuit) chips, LED (Light Emitting Diode) chips, and chip capacitors, a curable resin is obtained by curing a fluid resin. A sealing resin made of is formed. As a result, the chip mounted on the lead frame, printed circuit board or the like (hereinafter referred to as “substrate body”) is resin-sealed. In recent years, compression molding has been used in addition to transfer molding as a method for resin sealing (see, for example, Patent Document 1). Compared to transfer molding, compression molding has advantages such as that the pressure of the fluid resin applied to the bonding wire is small and that the sealing resin can be made thinner. In compression molding, a powdery or granular resin sealing material made of a thermosetting resin or a resin sealing material (liquid resin) that is liquid at room temperature is used as a raw material for the flowable resin.
本発明は、熱硬化性樹脂からなる粉状又は粒状の樹脂封止用材料を使用する場合を対象とする。樹脂封止装置が有する成形型のキャビティに樹脂封止用材料を供給し、成形型に設けられたヒータによって樹脂封止用材料を加熱して溶融させ、流動性を有する溶融樹脂(以下「流動性樹脂」という)を生成する。引き続き流動性樹脂を加熱して硬化させることによって、キャビティにおいて硬化樹脂からなる封止樹脂を形成する。 This invention makes object the case where the powdery or granular resin sealing material which consists of thermosetting resins is used. A resin sealing material is supplied to a cavity of a molding die included in the resin sealing device, and the resin sealing material is heated and melted by a heater provided in the molding die. Is referred to as a “resin”. Subsequently, the fluid resin is heated and cured to form a sealing resin made of a cured resin in the cavity.
ところで、近年、次の要請がますます強まっている。第1の要請は、完成品としての電子部品(以下「電子デバイス」という。)に対する、いわゆる軽薄短小化の要請である。したがって、ワイヤの小径化及び封止樹脂の薄型化の要請がいっそう強まっている。第2の要請は、LEDが広く採用されてきたことに伴う。電子デバイスのうちLEDに代表される光デバイスにおいては、透光性を有する封止樹脂が使用される。封止樹脂に気泡(ボイド)が残存した場合には光学特性が損なわれる。したがって、光デバイスにおいては、封止樹脂に気泡が存在しないことが求められる。 By the way, in recent years, the following demands are getting stronger. The first requirement is a so-called light, thin and small requirement for an electronic component (hereinafter referred to as “electronic device”) as a finished product. Therefore, there is an increasing demand for a smaller wire diameter and a thinner sealing resin. The second requirement is accompanied by the wide adoption of LEDs. In an optical device typified by an LED among electronic devices, a sealing resin having translucency is used. When bubbles (voids) remain in the sealing resin, the optical properties are impaired. Therefore, the optical device is required to have no bubbles in the sealing resin.
封止樹脂の原材料である粉状又は粒状の樹脂封止用材料としては、通常、トランスファ成形の樹脂封止用材料として使用される樹脂タブレットの原材料が転用される。樹脂タブレットは、原材料である粉状又は粒状の樹脂封止用材料が円柱状に打錠されることによって形成される。トランスファ成形においては、ポットと呼ばれる円筒形の空間に供給された樹脂タブレットが加熱されて溶融することによって溶融樹脂が生成される。生成された溶融樹脂は、プランジャによって押圧されてキャビティに注入される。キャビティに注入された溶融樹脂は、加熱されることによって硬化する。ここまでの工程によって、硬化樹脂からなる封止樹脂が形成される。 As a powdery or granular resin sealing material that is a raw material of the sealing resin, a raw material of a resin tablet used as a resin sealing material for transfer molding is usually diverted. The resin tablet is formed by compressing a powdery or granular resin sealing material, which is a raw material, into a cylindrical shape. In transfer molding, a resin tablet supplied to a cylindrical space called a pot is heated and melted to produce a molten resin. The produced molten resin is pressed by the plunger and injected into the cavity. The molten resin injected into the cavity is cured by being heated. Through the steps so far, the sealing resin made of the cured resin is formed.
トランスファ成形においては、円柱状の樹脂タブレットがポットにおいて加熱されることによって溶融樹脂が生成される。したがって、樹脂タブレットの原材料である粉状又は粒状の樹脂封止用材料に対しては、粒径(粒子径)のばらつきが小さいことはそれほど要求されていない。このことから、樹脂タブレットの原材料であって圧縮成形において使用される粉状又は粒状の樹脂封止用材料の粒径は大きくばらついている場合が多い。なお、本出願書類においては、「粉状又は粒状」という用語は、微粉状、顆粒状、粒状、短い棒状、塊状、小さい板状、球に似た形状であって定まらない形状(例えば、ねじれた形状、不規則な形状、凹凸を有する形状)等を含む。以後、「粉状又は粒状の樹脂封止用材料」の総称として適宜「粒状樹脂」という用語を使用する。 In transfer molding, a molten resin is produced by heating a cylindrical resin tablet in a pot. Therefore, a small variation in particle size (particle size) is not so required for a powdery or granular resin sealing material that is a raw material of a resin tablet. From this, the particle size of the powdery or granular resin sealing material used as a raw material for resin tablets in compression molding often varies greatly. In the present application documents, the term “powder or granule” means a fine powder, granule, granule, short rod, lump, small plate, or a shape similar to a sphere but not defined (for example, twisted). Shapes, irregular shapes, irregular shapes) and the like. Hereinafter, the term “granular resin” is used as a general term for “powder or granular resin sealing material”.
ところで、本出願に係る発明の発明者らによって、次のことが見出された。第1に見出されたことは、樹脂封止用材料の粒径は、μmオーダーから2〜3mm程度までという大きなばらつきを有することである。 By the way, the following things have been found by the inventors of the present invention. First, it has been found that the particle diameter of the resin sealing material has a large variation from the order of μm to about 2 to 3 mm.
第2に見出されたことは、上述した大きなばらつきを有する樹脂封止用材料を使用する場合には、キャビティに供給された樹脂封止用材料がキャビティ底面(キャビティにおける内底面)においてまだら状に配置される傾向があることである。特に、大きなばらつきを有する樹脂封止用材料を使用して封止樹脂の厚さ(基板本体の上面から封止樹脂の上面までの寸法をいう。以下同じ。)の目標値tがt=0.2〜0.3mm程度のパッケージを製造しようとした場合を考える。この場合には、キャビティに供給すべき樹脂封止用材料が少量であることに起因してまだら状に配置される傾向が強い。この場合には、粒径に関して大きなばらつきを有する樹脂封止用材料がキャビティ底面においてばらついて配置されることになる。このことに起因して、キャビティにおいて、樹脂封止用材料が溶融して生成された流動性樹脂にチップが浸されるまでの過程において不均一に存在している流動性樹脂が流動する場合がある。流動性樹脂の流動は、ワイヤの変形、封止樹脂における未充填(言い換えれば気泡)等が発生する原因になる。 Secondly, when the resin sealing material having a large variation described above is used, the resin sealing material supplied to the cavity is mottled on the cavity bottom surface (inner bottom surface in the cavity). There is a tendency to be placed in. In particular, using a resin sealing material having a large variation, the target value t of the thickness of the sealing resin (the dimension from the upper surface of the substrate body to the upper surface of the sealing resin; the same applies hereinafter) is t = 0. Consider a case where a package of about 2 to 0.3 mm is to be manufactured. In this case, the resin sealing material to be supplied to the cavity has a strong tendency to be arranged in a mottled manner due to the small amount. In this case, the resin sealing material having a large variation in particle size is arranged in a distributed manner on the bottom surface of the cavity. Due to this, in the cavity, there is a case where the fluid resin present non-uniformly flows in the process until the chip is immersed in the fluid resin produced by melting the resin sealing material. is there. The flow of the flowable resin causes deformation of the wire, unfilling (in other words, bubbles) in the sealing resin, and the like.
第3に見出されたことは、突出して大きな粒径(例えば、10t程度)を有する粒状の樹脂封止用材料が存在する場合には、その樹脂封止用材料が充分に溶融していない段階においてワイヤに接触する場合があることである。ワイヤに対するこのような接触は、ワイヤの変形を引き起こす。 Thirdly, when there is a granular resin sealing material that protrudes and has a large particle size (for example, about 10 t), the resin sealing material is not sufficiently melted. There is a case where the wire may be touched in the stage. Such contact with the wire causes deformation of the wire.
第4に見出されたことは、シャッターとスリット部材とを組み合わせて樹脂封止用材料をキャビティに供給した場合に(例えば、特許文献1参照)、突出して大きな粒径を有する樹脂封止用材料の存在は流動性樹脂の重量の増加を引き起こすことである。このことによって、パッケージにおける封止樹脂の厚さtのばらつきが大きくなる。 Fourthly, when a resin sealing material is supplied to the cavity by combining a shutter and a slit member (see, for example, Patent Document 1), the resin sealing has a large particle size. The presence of the material causes an increase in the weight of the flowable resin. This increases the variation in the thickness t of the sealing resin in the package.
第5に見出されたことは、樹脂封止用材料の特性によっては、小さい粒径を有する樹脂封止用材料は、キャビティに供給される場合に、本来樹脂封止用材料が存在しないはずの場所に付着するおそれがあることである。このような付着は、樹脂封止用材料の密度が小さい場合に、小さい粒径を有する樹脂封止用材料が浮遊することによって引き起こされることがある。また、このような付着は、樹脂封止用材料が帯電しやすい場合に、小さい粒径を有する樹脂封止用材料が静電気を帯びることによって引き起こされることがある。意図せざる場所への樹脂封止用材料の付着は、次の不具合を引き起こす。第1に、キャビティ底面において樹脂封止用材料がばらついて配置されることである。第2に、成形型の汚れである。第3に、型締めが不充分になることによる樹脂ばりの発生である。 The fifth finding is that, depending on the properties of the resin sealing material, the resin sealing material having a small particle size should be essentially free of the resin sealing material when supplied to the cavity. There is a possibility of adhering to the place. Such adhesion may be caused by floating of the resin sealing material having a small particle diameter when the density of the resin sealing material is small. Further, such adhesion may be caused when the resin sealing material having a small particle diameter is charged with static electricity when the resin sealing material is easily charged. Adhesion of the resin sealing material to an unintended place causes the following problems. First, the resin sealing material varies and is arranged at the bottom of the cavity. Second, it is dirt on the mold. Thirdly, resin flash is generated due to insufficient clamping.
本出願に係る発明が解決しようとする課題は、封止樹脂の原材料である粉状又は粒状の樹脂封止用材料の粒径のばらつきに起因して、ワイヤの変形、封止樹脂における気泡の発生、封止樹脂の厚さtのばらつきの増大等の不具合が発生することである。 The problem to be solved by the invention according to the present application is that due to the variation in the particle size of the powdery or granular resin sealing material that is the raw material of the sealing resin, the deformation of the wire, the bubble in the sealing resin The occurrence of problems such as occurrence and increase in variation of the thickness t of the sealing resin occurs.
上述した課題を解決するために、本発明に係る樹脂封止用材料は、樹脂封止装置に設けられキャビティを有する圧縮成形用の成形型を使用して電子部品を封止樹脂によって樹脂封止する際に封止樹脂の原材料として使用され、樹脂材料を含み粉状又は粒状を呈する樹脂封止用材料であって、封止樹脂の厚さが目標値をt(mm)とする第1の規格を有する場合において樹脂封止用材料の粒径DがD≦a×t(mm)という第2の規格を満たし、第1の規格は0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であること(aは正の実数)を特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a resin sealing material according to the present invention is a resin sealing device in which an electronic component is sealed with a sealing resin using a compression molding mold provided in a resin sealing device and having a cavity. A resin sealing material that is used as a raw material of a sealing resin and includes a resin material and exhibits a powdery shape or a granular shape, and a thickness of the sealing resin is a target value t (mm) In the case of having a standard, the particle diameter D of the resin sealing material satisfies the second standard D ≦ a × t (mm), and the first standard is 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm ) (A is a positive real number).
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、第1の規格は0.05(mm)≦t≦1.0(mm)であることを特徴とする。 The resin sealing material according to the present invention is characterized in that, in the above-described resin sealing material, the first standard is 0.05 (mm) ≦ t ≦ 1.0 (mm).
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、第2の規格は、樹脂封止用材料を撮影して得られた画像に基づいて投影面積を算出し、該投影面積の面積円相当径を粒径Dとして取り扱うことによって適用され、aの値が3.0であることを特徴とする。 Further, the resin sealing material according to the present invention is the above-described resin sealing material, the second standard calculates the projected area based on an image obtained by photographing the resin sealing material, The projected area is applied by treating the equivalent area diameter of the projected area as the particle diameter D, and the value of a is 3.0.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、気流による遠心力を利用して又は篩を利用して樹脂封止用材料が第2の規格を満たすか否かについて判断されたことを特徴とする。 Further, the resin sealing material according to the present invention is the above-described resin sealing material, wherein the resin sealing material satisfies the second standard using centrifugal force due to airflow or using a sieve. It is characterized by having been judged.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、樹脂材料は熱硬化性を有することを特徴とする。 The resin sealing material according to the present invention is characterized in that, in the above-described resin sealing material, the resin material has thermosetting properties.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、樹脂材料はエポキシ系樹脂又はシリコーン系樹脂を含むことを特徴とする。 Moreover, the resin sealing material according to the present invention is characterized in that, in the above-described resin sealing material, the resin material includes an epoxy resin or a silicone resin.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、樹脂材料は透光性を有することを特徴とする。 Moreover, the resin sealing material according to the present invention is characterized in that, in the above-described resin sealing material, the resin material has translucency.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、少なくとも樹脂材料と添加剤と充填剤とを含み、樹脂材料は粉状又は粒状であり、少なくとも樹脂材料と添加剤と充填剤とが混練された後に粉砕され、第2の規格に基づいて選別されることによって製造されることを特徴とする。 In addition, the resin sealing material according to the present invention includes at least a resin material, an additive, and a filler in the above-described resin sealing material, and the resin material is powdery or granular, and at least the resin material is added. The agent and the filler are kneaded and then pulverized and selected based on the second standard.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、少なくとも樹脂材料と添加剤と充填剤とを含み、樹脂材料は粉状又は粒状であり、少なくとも樹脂材料と添加剤と充填剤とが混練された後に粉砕され、第2の規格に基づいて選別された結果第2の規格のうちD≦a×t(mm)を満たさないと判断された規格外材料が粉砕されることによって、第2の規格を満たすと判断されるに至った第2の規格内材料からなることを特徴とする。 In addition, the resin sealing material according to the present invention includes at least a resin material, an additive, and a filler in the above-described resin sealing material, and the resin material is powdery or granular, and at least the resin material is added. After the material and the filler are kneaded, they are pulverized and selected based on the second standard. As a result, the non-standard material that is determined not to satisfy D ≦ a × t (mm) among the second standard is pulverized. It is characterized by comprising the material in the second standard that has been determined to satisfy the second standard.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、樹脂封止用材料は、樹脂封止装置に供給されてからキャビティに供給されるまでの間において選別された結果第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料からなることを特徴とする。 Further, the resin sealing material according to the present invention is selected in the above-described resin sealing material from when the resin sealing material is supplied to the resin sealing device to when it is supplied to the cavity. As a result, it is characterized by being made of a material within the first standard determined to satisfy the second standard.
また、本発明に係る樹脂封止用材料は、上述した樹脂封止用材料において、樹脂封止用材料は、樹脂封止装置に供給されてからキャビティに供給されるまでの間において選別された結果第2の規格のうちD≦a×t(mm)を満たさないと判断された規格外材料が粉砕されることによって、第2の規格を満たすと判断されるに至った第2の規格内材料からなることを特徴とする。 Further, the resin sealing material according to the present invention is selected in the above-described resin sealing material from when the resin sealing material is supplied to the resin sealing device to when it is supplied to the cavity. As a result, the nonstandard material determined not to satisfy D ≦ a × t (mm) in the second standard is pulverized, so that the second standard is determined to satisfy the second standard. It is made of a material.
また、本発明に係る樹脂封止用材料の製造方法は、樹脂封止装置に設けられキャビティを有する圧縮成形用の成形型を使用して電子部品を封止樹脂によって樹脂封止する際に封止樹脂の原材料として使用され、粉状又は粒状を呈する樹脂封止用材料の製造方法であって、粉状又は粒状を呈する樹脂材料と、添加剤と、充填剤とを少なくとも含む原材料群を準備する工程と、原材料群を混練する工程と、原材料群を混練して第1の中間材料を生成する工程と、中間材料を粉砕して第2の中間材料を生成する工程と、封止樹脂の厚さが目標値をt(mm)とする第1の規格を有する場合において樹脂封止用材料の粒径DがD≦a×t(mm)という第2の規格に基づいて(aは正の実数)、第2の中間材料を選別する工程と、原材料群のうち第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料を樹脂封止用材料に決定する工程とを備え、第1の規格は0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であることを特徴とする。 In addition, the method for producing a resin sealing material according to the present invention uses a compression molding die provided in a resin sealing device and has a cavity when sealing an electronic component with a sealing resin. A method for producing a resin sealing material that is used as a raw material for a stop resin and that exhibits a powdery or granular form, comprising a raw material group that includes at least a resinous material that exhibits a powdery or granular form, an additive, and a filler A step of kneading the raw material group, a step of kneading the raw material group to produce a first intermediate material, a step of grinding the intermediate material to produce a second intermediate material, and a sealing resin When the thickness has the first standard with the target value t (mm), the particle size D of the resin sealing material is based on the second standard D ≦ a × t (mm) (a is positive) Of the second intermediate material, and the second of the raw material group And determining the first in-standard material determined to satisfy the standard as a resin sealing material, wherein the first standard is 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm) It is characterized by.
また、本発明に係る樹脂封止用材料の製造方法は、上述した樹脂封止用材料の製造方法において、第1の規格は0.05(mm)≦t≦1.0(mm)であることを特徴とする。 In the method for manufacturing a resin sealing material according to the present invention, the first standard is 0.05 (mm) ≦ t ≦ 1.0 (mm) in the above-described method for manufacturing a resin sealing material. It is characterized by that.
また、本発明に係る樹脂封止用材料の製造方法は、上述した樹脂封止用材料の製造方法において、原材料群を選別する工程においては、樹脂封止用材料を撮影して得られた画像に基づいて投影面積を算出し、該投影面積の面積円相当径を粒径Dとして取り扱うことによって第2の規格を適用し、aの値が3.0であることを特徴とする。 Further, in the method for producing a resin sealing material according to the present invention, in the above-described method for producing a resin sealing material, in the step of selecting a raw material group, an image obtained by photographing the resin sealing material The projected area is calculated based on the above, the area equivalent circle diameter of the projected area is treated as the particle size D, the second standard is applied, and the value of a is 3.0.
また、本発明に係る樹脂封止用材料の製造方法は、上述した樹脂封止用材料の製造方法において、原材料群を選別する工程においては、気流による遠心力を利用して又は篩を利用して樹脂封止用材料が第2の規格を満たすか否かについて判断することを特徴とする。 In the method for producing a resin sealing material according to the present invention, in the above-described method for producing a resin sealing material, in the step of selecting a raw material group, centrifugal force due to air current or a sieve is used. And determining whether or not the resin sealing material satisfies the second standard.
また、本発明に係る樹脂封止用材料の製造方法は、上述した樹脂封止用材料の製造方法において、原材料群を選別する工程において第2の規格に基づいて選別した結果第2の規格のうちD≦a×t(mm)を満たさないと判断した規格外材料を粉砕する工程と、粉砕された規格外材料を第2の規格に基づいて選別する工程と、粉砕された規格外材料のうち第2の規格を満たすと判断された第2の規格内材料を樹脂封止用材料に決定する工程とを備えることを特徴とする。 Moreover, the manufacturing method of the resin sealing material according to the present invention is the above-described method of manufacturing the resin sealing material, and the second standard is obtained as a result of selection based on the second standard in the step of selecting the raw material group. Of these, the step of pulverizing the non-standard material determined not to satisfy D ≦ a × t (mm), the step of selecting the pulverized non-standard material based on the second standard, and the pulverized non-standard material And a step of determining a second in-standard material determined to satisfy the second standard as a resin sealing material.
本発明によれば、電子部品を封止樹脂によって樹脂封止する際に封止樹脂の原材料として使用される樹脂封止用材料が、次の規格を満たす。その規格は、封止樹脂の厚さが目標値をt(mm)とする第1の規格を有している場合において、樹脂封止用材料の粒径DがD≦3.0×t(mm)という規格である。この規格は、樹脂封止用材料を撮影して得られた画像に基づいて投影面積を算出し、該投影面積の面積円相当径を粒径Dとして取り扱うことによって、適用される。樹脂封止用材料がこの規格を満たすことにより、厚さの目標値tに対して大きな粒径Dを有する粒状樹脂の存在に起因する不具合の発生が抑制される。第1の規格を0.03(mm)≦t≦1.2(mm)にすることによって、上述した不具合の発生を抑制する効果が増大する。 According to the present invention, the resin sealing material used as the raw material of the sealing resin when the electronic component is resin-sealed with the sealing resin satisfies the following standards. In the standard, when the thickness of the sealing resin has the first standard in which the target value is t (mm), the particle size D of the resin sealing material is D ≦ 3.0 × t ( mm). This standard is applied by calculating the projected area based on an image obtained by photographing the resin sealing material and treating the equivalent area diameter of the projected area as the particle diameter D. When the resin sealing material satisfies this standard, the occurrence of defects due to the presence of the granular resin having a large particle diameter D with respect to the target thickness t is suppressed. By setting the first standard to 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm), the effect of suppressing the occurrence of the above-described problems increases.
加えて、本発明によれば、樹脂封止装置に供給された樹脂封止用材料が、樹脂封止用材料の粒径Dに関する第2の規格であるD≦3.0×t(mm)という規格に基づいて選別される。選別された結果第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料が、成形型に搬送される。このことによって、従来の樹脂封止用材料が供給された場合において、第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料からなる樹脂封止用材料が成形型に搬送される。したがって、厚さの目標値tに対して大きな粒径Dを有する粒状樹脂の存在に起因する不具合の発生が抑制される。 In addition, according to the present invention, the resin sealing material supplied to the resin sealing device is a second standard relating to the particle size D of the resin sealing material, D ≦ 3.0 × t (mm). Is selected based on the standard. As a result of the sorting, the first in-standard material determined to satisfy the second standard is conveyed to the mold. Thus, when the conventional resin sealing material is supplied, the resin sealing material made of the first in-standard material determined to satisfy the second standard is conveyed to the mold. Therefore, the occurrence of problems due to the presence of the granular resin having a large particle diameter D with respect to the target thickness t is suppressed.
加えて、本発明によれば、選別された結果第2の規格を満たさないと判断された規格外材料が粉砕され、粉砕された規格外材料が選別される。選別された結果第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料が、成形型に搬送される。したがって、厚さの目標値tに対して大きな粒径Dを有する粒状樹脂の存在に起因する不具合の発生が抑制される。更に、樹脂封止用材料が有効に利用される。 In addition, according to the present invention, the non-standard material determined not to satisfy the second standard as a result of sorting is pulverized, and the pulverized non-standard material is sorted. As a result of the sorting, the first in-standard material determined to satisfy the second standard is conveyed to the mold. Therefore, the occurrence of problems due to the presence of the granular resin having a large particle diameter D with respect to the target thickness t is suppressed. Further, a resin sealing material is effectively used.
本発明によれば、封止樹脂の厚さが目標値をt(mm)とする0.03(mm)≦t≦1.2(mm)という第1の規格を有している場合において、樹脂封止用材料の粒径(粒子径)Dに関する第2の規格であるD≦3.0×t(mm)に基づいて、樹脂封止装置の成形型に供給されるべき樹脂封止用材料が選別される。選別された結果第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料が成形型に搬送される。一方、選別された結果第2の規格を満たさないと判断された規格外材料が粉砕されて、粉砕された規格外材料が選別される。選別された結果第2の規格を満たすと判断された第2の規格内材料が、成形型に搬送される。 According to the present invention, when the thickness of the sealing resin has the first standard of 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm) with the target value being t (mm), For resin sealing to be supplied to a molding die of a resin sealing device based on D ≦ 3.0 × t (mm) which is the second standard regarding the particle size (particle diameter) D of the resin sealing material Material is sorted. As a result of the sorting, the first in-standard material determined to satisfy the second standard is conveyed to the mold. On the other hand, the nonstandard material determined as not satisfying the second standard as a result of the selection is pulverized, and the pulverized nonstandard material is selected. As a result of the sorting, the second in- standard material determined to satisfy the second standard is conveyed to the mold.
[実施例1]
図1〜図4を参照して、本発明に係る樹脂封止用材料を使用する樹脂封止方法及び樹脂封止装置を説明する。なお、本出願書類におけるいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素には同一の符号を付して、説明を適宜省略する。
[Example 1]
A resin sealing method and a resin sealing apparatus using the resin sealing material according to the present invention will be described with reference to FIGS. In addition, in order to make it easy to understand, all drawings in the present application document are schematically omitted and exaggerated as appropriate. The same components are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
図1(1)に示されているように、本発明に係る樹脂封止用材料を使用する樹脂封止装置は、下型1と上型2とを有する。下型1と上型2とは、併せて成形型を構成する。下型1と上型2との間には、樹脂封止用材料(後述)を供給する第1の供給手段3が進退自在に設けられている。下型1には、凹部からなるキャビティ4が設けられている。第1の供給手段3は、粉状又は粒状を呈する樹脂封止用材料5をキャビティ4に供給する。すなわち、キャビティ4は、樹脂封止用材料5が供給されるべき空間である。下型1と上型2との間には、離型フィルム6が張り渡された状態で供給される。
As shown in FIG. 1 (1), the resin sealing device using the resin sealing material according to the present invention has a
下型1と上型2とは、相対的に昇降することができる。これによって、下型1と上型2とは、相対的に接近して型締めし、かつ、相対的に離れて型開きする。図1には、下型1が外枠部材7とキャビティ部材8とによって構成され、外枠部材7が弾性部材(渦巻ばね等;図示なし)によって弾性支持されている例が示されている。外枠部材7はキャビティ4の側面を構成し、キャビティ部材8はキャビティ4の底面を構成する。これに限らず、一体的に設けられた下型1にキャビティ4が彫り込まれていてもよい。外枠部材7が弾性支持されていることに代えて、又はそのことに加えて、キャビティ部材8が弾性部材によって弾性支持されてもよい。
The
下型1には、離型フィルム6を吸引して下型1の型面に密着させるための、言い換えれば離型フィルム6を下型1の型面に吸着するための、吸引路9が設けられている。図1において2個の吸引路9にそれぞれ描かれた下向きの2本の矢印は、外部の吸引機構(図示なし)が離型フィルム6を吸引する様子を示す。下型1には、樹脂封止用材料5を加熱するヒータ10が設けられている。なお、キャビティ部材8に設けられたヒータは図示されていない。
The
上型2には、下型1に対向する面(以下「上型2の型面」という)において、平面視してキャビティ4を取り囲むようにしてシール部材11が設けられている。上型2の型面において平面視してシール部材11の内側に、キャビティ4を含む空間における気体を吸引する吸引路12が設けられている。
The
上型2には、基板本体13に複数個のチップ14が装着された封止前基板15が、吸着などの周知の方法によって固定される。封止前基板15は、平面視してキャビティ4を完全に含むとともにシール部材11と吸引路12との内側に位置するようにして、固定される。基板本体13の電極とチップ14の電極とは(いずれも図示なし)、金線などのワイヤ16によって電気的に接続される。基板本体13は、仮想的に設けられた格子状の境界線17によって、複数の領域18に区切られる。各領域18には、1個又は複数個のチップ14が装着される。
A
第1の供給手段3は、外枠19と、外枠19の下部に開閉自在に設けられた供給用シャッタ20とを有する。供給用シャッタ20が閉じた状態において、樹脂封止用材料5が収容される収容部21が外枠19の内側に形成される。
The first supply means 3 includes an
本発明に係る樹脂封止用材料5について、説明する。樹脂封止用材料5は、次のようにして製造される。まず、熱硬化性樹脂からなる粉状又は粒状の樹脂材料と、添加剤と、シリカ等からなるフィラー(充填剤)とを少なくとも含む原材料群を準備する。次に、原材料群を混練して第1の中間材料を生成する。次に、混練された第1の中間材料を粉砕して第2の中間材料を生成する。次に、所定の規格に基づいて第2の中間材料を選別する。第2の中間材料のうち所定の規格を満たすと判断された第1の規格内材料を、樹脂封止用材料5に決定する。
The
樹脂材料としてエポキシ系樹脂又はシリコーン系樹脂を含むことができる。光デバイスを製造する目的で樹脂封止用材料5が使用される場合には、樹脂材料は透光性を有する。加えて、この場合には、樹脂封止用材料5に添加剤として蛍光体を含んでもよい。
An epoxy resin or a silicone resin can be included as the resin material. When the
本発明においては、樹脂封止用材料5を使用して、硬化樹脂からなり厚さの目標値tを有する封止樹脂を形成する。厚さの目標値tの規格(第1の規格)としては、例えば、近年の電子デバイスに対する軽薄短小化の要請を考慮して0.1(mm)≦t≦1.2(mm)であることとする。軽薄短小化に関するいっそう強い要請を考慮した場合には、第1の規格は0.05(mm)≦t≦1.2(mm)であることが好ましく、更には0.05(mm)≦t≦1.0(mm)であることが好ましい。電子デバイスの用途によってはチップ厚が15μm程度になるという予測を考慮した場合には、第1の規格は0.03(mm)≦t≦1.0(mm)であることが好ましい。加えて、材料の有効利用を含めて考慮した場合には、第1の規格は0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であることが好ましい。現実的な要請という観点からは、第1の規格は0.2(mm)≦t≦1.0(mm)であることが好ましい。
In the present invention, the
樹脂封止用材料5は、粒径(粒子径)Dと封止樹脂の厚さの目標値tとに関する0.03(mm)≦D≦3t(mm)という所定の規格(第2の規格)を満たす。この第2の規格は、0.05(mm)≦D≦2t(mm)であることが好ましい。樹脂封止用材料5の関するこれらの規格については、後に詳しく説明する。本出願書類においては、樹脂封止用材料5の粒径Dは、光学的な手段によって樹脂封止用材料5を撮影して得られた画像におけるそれらの粒子の投影面積の面積円相当径を、意味する。具体的には、樹脂封止用材料5を撮影して得られた画像に基づいて投影面積を算出し、それらの投影面積の面積円相当径を粒径Dとして取り扱う。図1(1)においては、粒径Dを便宜的に示す。
The
なお、樹脂封止用材料5の粒径Dを、光学的な手段以外の他の手段、例えば、気流による遠心力、ふるい等の周知の手段によって測定した場合について説明する。この場合においては、上述した光学的な手段による粒径Dの測定値Aと、他の手段による粒径Dの測定値Bとが、異なる可能性がある。したがって、測定値Aと測定値Bとの相関を予め調べておいて、その相関に基づいて新たな第2の規格を定めることが好ましい。従来の第2の規格に代えて新たな第2の規格を採用して、その新たな第2の規格に基づいて樹脂封止用材料5の粒径Dについて判断することが好ましい。
In addition, the case where the particle diameter D of the
以下、本発明に係る樹脂封止用材料5を使用してチップ14を樹脂封止することによって樹脂封止体を製造する樹脂封止体の製造方法について、図1と図2とを参照して説明する。引き続いて、チップ14を樹脂封止して形成した成形体、言い換えれば樹脂封止体から電子デバイスを製造する電子デバイスの製造方法を説明する。
Hereinafter, with reference to FIG. 1 and FIG. 2, about the manufacturing method of the resin sealing body which manufactures the resin sealing body by resin-sealing the chip |
図1(1)に示すように、下型1と上型2との間において、キャビティ4の上方に離型フィルム6を張り渡して供給する。その後に、吸引路9によってキャビティ4の底面に向かって離型フィルム6を吸引する。これにより、キャビティ4を構成する型面(以下「キャビティ面」という。)の全面に離型フィルム6を吸着させる。少なくともチップ14を樹脂封止した後に下型1と上型2とが型開きする段階まで、離型フィルム6を吸着し続ける。なお、本出願書類においては、キャビティ面の全面に離型フィルム6が吸着した状態において樹脂封止用材料5が供給されるべき空間についても、便宜上「キャビティ」と呼ぶ。
As shown in FIG. 1 (1), a
次に、下型1と上型2との間に第1の供給手段3を進入させ、キャビティ4の上方において第1の供給手段3を停止させる。その後に、供給用シャッタ20を図の左右方向に開いて、キャビティ4に樹脂封止用材料5を供給する。
Next, the first supply means 3 enters between the
次に、図1(2)に示すように、キャビティ4に供給された樹脂封止用材料5を、ヒータ10を使用して加熱する。このことにより、第1の供給手段3によってキャビティ4に供給された樹脂封止用材料5を溶融させて流動性樹脂(図1(3)の溶融樹脂22を参照)を生成する。樹脂封止用材料5を加熱することに並行して、上型2を下降させる。なお、下型1を上昇させることもできる。要は、下型1と上型2とが相対的に近づけばよい。
Next, as shown in FIG. 1B, the
次に、図1(3)に示すように、更に上型2を下降させてシール部材11の下端と下型1の型面とを接触させる。これによって、キャビティ4を含む空間であって成形型の外部から遮断された外気遮断空間23を形成する。成形型の外部に設けられた減圧ポンプ(吸引ポンプ)、減圧タンク等の減圧手段(図示なし)を使用して、外気遮断空間23を減圧する。これにより、外気遮断空間23に含まれる微小な粒子と、外気遮断空間23及び溶融樹脂22に含まれる気体等とを、成形型の外部に排出する。図1(3)において吸引路12付近に示された2本の上向きの矢印が、減圧によって成形型の外部に排出される気体等24を示す。シール部材11の下端と下型1の型面とが接触してから下型1と上型2とが完全に型締めされるまでの状態(中間型締め状態)において外気遮断空間23を減圧する工程が開始されることが、好ましい。溶融樹脂22が完全に硬化するまでの期間において外気遮断空間23を減圧する工程が実行されることが、好ましい。
Next, as shown in FIG. 1 (3), the
次に、図2(1)に示すように、引き続いて上型2を下降させる。これにより、溶融樹脂22にチップ14とワイヤ16とを浸漬して(浸けて)、下型1と上型2とを完全に型締めする。下型1と上型2とが完全に型締めされた状態(完全締め状態)において、下型1と上型2とによって溶融樹脂22を加圧しながら引き続いて溶融樹脂22を加熱する。これにより、溶融樹脂22を硬化させて、図2(2)に示すように硬化樹脂からなる封止樹脂25を形成する。
Next, as shown in FIG. 2 (1), the
次に、図2(2)に示すように、上型2を上昇させて下型1と上型2とを型開きする。その後に、基板本体13とチップ14とワイヤ16と封止樹脂25とを有する樹脂封止体(封止済基板)からなる成形体26を、成形型の外に取り出す。ここまでの工程により、基板本体13に装着された複数個のチップ14を樹脂封止する工程が完了して、複数個のチップ14が樹脂封止された成形体26が完成する。
Next, as shown in FIG. 2 (2), the
次に、図2(3)に示すように、粘着フィルムや吸着等の周知の方法を使用して、成形体26をステージ(図示なし)に固定する。回転刃27を使用して、各境界線17に沿って成形体26を完全に切断する(フルカットする)。具体的には、図2(3)におけるX方向の各境界線17とY方向の各境界線17とにそれぞれ沿って、成形体26を完全に切断する。これによって、成形体26の個片化(singulation)が実行される。ここまでの工程によって、成形体26が各領域18単位に個片化されて、図2(4)に示された電子デバイス28が製造される。各電子デバイス28は、基板本体13が各領域18単位に個片化された単位基板29と、チップ14と、ワイヤ16と、封止樹脂25が各領域18単位に個片化された単位封止樹脂30とを有する。
Next, as shown in FIG. 2 (3), the molded
なお、成形体26を個片化する工程では、フルカットすることに代えて、成形体26の厚さ方向の途中まで溝を形成した後に(ハーフカットした後に)成形体26に外力を加えて個片化してもよい。回転刃27に代えて、レーザ光、ウォータージェット、ワイヤソー等を使用することもできる。
In the step of dividing the molded
以下、本発明に係る樹脂封止用材料5について、粒径Dと封止樹脂25の厚さの目標値tとに関する所定の規格を説明する。第1に、樹脂封止用材料5の粒径Dの規格の下限について説明する。粒径Dの規格の下限については、封止樹脂25の厚さの目標値tが大きい場合はいうまでもなく小さい場合においても原則として定める必要がない。しかし、樹脂封止用材料の特性によっては、樹脂封止用材料が浮遊すること又は帯電することに起因して、本来樹脂封止用材料5が存在しないはずの場所に付着するという問題が発生することがある。この問題を防止するためには、樹脂封止用材料5の粒径Dの規格の下限がある程度大きな値であることが好ましい。経験から、粒径Dの値が0.05mm未満である場合には、樹脂封止用材料5を供給したり搬送したりする際に浮遊や帯電等が発生しやすいことが判明した。加えて、粒径Dの値が0.03mm未満である場合には、上述した浮遊や帯電等がいっそう発生しやすいことが判明した。これらのことに基づいて、粒径Dの規格の下限については、0.03mm以上であることが好ましく、0.05mm以上であることがいっそう好ましいといえる。したがって、粒径Dの規格の下限を設ける場合には、下限として0.03(mm)≦Dであること、好ましくは0.05(mm)≦Dであること、に決定した。
Hereinafter, the predetermined standard regarding the particle diameter D and the target value t of the thickness of the sealing
第2に、樹脂封止用材料5の粒径Dの規格の上限について説明する。粒径Dの規格の上限については、次の手順によって決定した。第1の手順として、粒径Dが特定の範囲(4水準)に収まるようにして、樹脂封止用材料5を選別した。第2の手順として、封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)として適当な値からなる2水準を設定した。第3の手順として、それぞれの封止樹脂25の厚さの目標値t(2水準)に対応する樹脂封止用材料5の重量w(g)を算出して、その重量の樹脂封止用材料5を実際に評価用キャビティ(平面寸法:233×67mm)に散布した。散布された樹脂封止用材料5がそのキャビティ底面を覆う割合(以下「樹脂占有率」という。)を、光学的に測定した。第4の手順として、その樹脂封止用材料5を使用して樹脂封止した場合に、実際の封止樹脂25の厚さのばらつき等の点においてどの程度の樹脂占有率であれば許容できるかということについて評価した。以上の4つの手順によって、実際に使用できると思われる樹脂封止用材料5の粒径Dについて、規格の上限を決定した。
Secondly, the upper limit of the standard of the particle diameter D of the
以下、樹脂封止用材料5の粒径Dの規格の上限を決定した手順について、図3と図4とを参照して説明する。第1の手順として、樹脂封止用材料5を選別して、粒径Dが次の範囲(4水準)に収まる樹脂封止用材料Ma、Mb、Mc、Mdを準備した。
樹脂封止用材料Ma:D=1.0〜2.0mm
樹脂封止用材料Mb:D=0.2〜2.0mm
樹脂封止用材料Mc:D=0.2〜1.0mm
樹脂封止用材料Md:D=0.2〜0.4mm
Hereinafter, the procedure for determining the upper limit of the standard of the particle diameter D of the
Resin sealing material Ma: D = 1.0 to 2.0 mm
Resin sealing material Mb: D = 0.2 to 2.0 mm
Resin sealing material Mc: D = 0.2 to 1.0 mm
Resin sealing material Md: D = 0.2 to 0.4 mm
第2の手順として、封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)として、t=0.19(mm)及びt=0.32(mm)の2水準を設定した。t=0.19(mm)という値は、近年の電子デバイス28に対する軽薄短小化の要請を考慮して設定された値である。
As a second procedure, two levels of t = 0.19 (mm) and t = 0.32 (mm) were set as target values t (mm) for the thickness of the sealing
第3の手順として、封止樹脂25の厚さの目標値tがt=0.19(mm)及び0.32(mm)の場合において、封止樹脂25の厚さの目標値t(2水準)にそれぞれ対応する樹脂封止用材料5の重量を算出した。算出された重量は、t=0.19(mm)の場合には4.91(g)、t=0.32(mm)の場合には7.91(g)であった。上述した重量の値は、チップ14が装着された場合における算出値(理論値)である。
As a third procedure, when the target value t of the thickness of the sealing
なお、実験では、基板本体13にチップ14が装着されていない状態において、言い換えればダミー基板を対象として、樹脂封止用材料5を供給した。実際の供給量wとして、t=0.19(mm)の場合に相当する4.91gに代えて6.03gの樹脂封止用材料5を、t=0.32(mm)の場合に相当する7.91gに代えて10.16gの樹脂封止用材料5を、それぞれ評価用キャビティに散布した。
In the experiment, in a state where the
引き続いて、第3の手順として、w=4.91(g)の樹脂封止用材料5に相当する樹脂封止用材料Ma、Mb、Mc、Mdを準備して、それらを評価用キャビティに順次散布した。同様に、w=7.91(g)の樹脂封止用材料5に相当する樹脂封止用材料Ma、Mb、Mc、Mdを準備して、それらを評価用キャビティに順次散布した。散布された樹脂封止用材料5の状態を、評価用キャビティの上方から撮影した。撮影によって得られた画像を2値化して、樹脂封止用材料5の樹脂占有率を算出した。具体的には、256階調(レベル0を黒とし、レベル255を白とする)を有する画像においてレベル25をしきい値として画像を2値化した。2値化画像においてレベル25以下を「樹脂封止用材料が存在する」と判断して、評価用キャビティの底面において樹脂封止用材料が存在する部分の面積比を算出した。
Subsequently, as a third procedure, resin sealing materials Ma, Mb, Mc, and Md corresponding to the
供給量w=4.91(g)の場合において、樹脂封止用材料Ma〜Mdのそれぞれが散布された状態を2値化して得られた画像と樹脂占有率の円グラフとを図3(1)〜(4)に示す。供給量w=7.91(g)の場合において、樹脂封止用材料Ma〜Mdのそれぞれが散布された状態を2値化して得られた画像と樹脂占有率の円グラフとを図4(1)〜(4)に示す。 In the case of the supply amount w = 4.91 (g), an image obtained by binarizing the state where each of the resin sealing materials Ma to Md is dispersed and a pie chart of the resin occupancy rate are shown in FIG. Shown in 1) to (4). In the case of the supply amount w = 7.91 (g), an image obtained by binarizing the state where each of the resin sealing materials Ma to Md is dispersed and a pie chart of the resin occupation ratio are shown in FIG. Shown in 1) to (4).
第4の手順として、図3(1)〜(4)に示された4種類の樹脂封止用材料Ma〜Mdを使用して、厚さの目標値t=0.19(mm)の封止樹脂25を成形した(図2(2)参照)。その結果に基づいて、図3(1)〜(3)の場合には封止樹脂25として許容されないと判断され、図3(4)の場合には封止樹脂25として余裕を持って許容されると判断された。
As a fourth procedure, the four types of resin sealing materials Ma to Md shown in FIGS. 3 (1) to (4) are used to seal the target thickness t = 0.19 (mm). The
図3に示された結果に基づいて、第1に、樹脂封止用材料5の粒径D(mm)の規格の下限の値としてD=0.2(mm)が妥当であると判断された。粒径D(mm)の規格の下限がD=1.0(mm)の場合は、評価用キャビティの底面において樹脂封止用材料5がまだら状に配置される傾向が強いので(図3(1)参照)、封止樹脂25として許容されないことは明らかである。
Based on the results shown in FIG. 3, first, it is determined that D = 0.2 (mm) is appropriate as the lower limit value of the standard of the particle diameter D (mm) of the
図3に示された結果に基づいて、第2に、樹脂封止用材料5の粒径D(mm)の規格の上限の値は、D=0.4(mm)以上で1.0(mm)以下の範囲に存在すると予想される。粒径Dに関するこの範囲は、樹脂封止用材料5の粒径D(mm)の規格の下限が0.2mmである場合のうち図3(3)に示された場合と図3(4)に示された場合との間であって、樹脂占有率が41%以上で84%以下の範囲に相当する。
Based on the results shown in FIG. 3, second, the upper limit value of the standard of the particle diameter D (mm) of the
引き続いて、第4の手順として、図4(1)〜(4)に示された4種類の樹脂封止用材料Ma〜Mdを使用して、厚さの目標値t=0.32(mm)の封止樹脂25を成形した(図2(2)参照)。その結果に基づき、図4(1)、(2)に示された場合には封止樹脂25として許容されないものと判断され、図4(3)、(4)に示された場合には封止樹脂25として許容されるものと判断された。加えて、図4(3)に示された場合が許容される限界であると判断された。したがって、図4(特に図4(3))に示された結果に基づいて、樹脂封止用材料5の粒径D(mm)の規格の下限が0.2mmである場合においては、粒径D(mm)の規格の上限としてD=1.0(mm)が適当であると推定する。粒径D(mm)の規格の上限としてのD=1.0(mm)という値は、封止樹脂25の厚さの目標値t=0.32(mm)に対してはD/t=3.125という関係に相当する。なお、図4(3)に示された場合(D=0.2〜1.0mm)において、樹脂占有率は72%である。
Subsequently, as a fourth procedure, a target thickness value t = 0.32 (mm) using the four types of resin sealing materials Ma to Md shown in FIGS. ) Sealing
引き続いて、第4の手順として、図4に基づいて推定された粒径D(mm)の規格の上限(D=1.0(mm))に相当する樹脂占有率(72%)に基づいて、図3に示された場合における粒径D(mm)の規格の上限について検討する。図3(3)においては粒径D(mm)がD=0.2〜1.0mmで樹脂占有率が41%、図3(4)においては粒径D(mm)がD=0.2〜0.4mmで樹脂占有率が84%である。これらの間において樹脂占有率が72%である場合を比例計算すると、粒径D(mm)の規格の上限として、D=0.567mmが得られる。このD=0.567mmという値は、樹脂占有率が72%である場合に相当するとともに、封止樹脂25の厚さの目標値t=0.19(mm)に対してはD/t=2.99という関係に相当する。
Subsequently, as a fourth procedure, based on the resin occupation ratio (72%) corresponding to the upper limit (D = 1.0 (mm)) of the standard of the particle diameter D (mm) estimated based on FIG. The upper limit of the standard of the particle diameter D (mm) in the case shown in FIG. 3 (3), the particle size D (mm) is D = 0.2 to 1.0 mm and the resin occupancy is 41%. In FIG. 3 (4), the particle size D (mm) is D = 0.2. The resin occupancy is 84% at ˜0.4 mm. When proportionally calculating the case where the resin occupancy is 72% among these, D = 0.567 mm is obtained as the upper limit of the standard of the particle diameter D (mm). This value of D = 0.567 mm corresponds to the case where the resin occupancy is 72%, and D / t = for the target value t = 0.19 (mm) of the thickness of the sealing
以上をまとめると、粒径D(mm)の規格について、規格の下限が0.2mmである場合における規格の上限と封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)との関係は、図3の場合がD/t=3.125であり、図4の場合がD/t=2.99である。これらのことに基づいて、粒径D(mm)の規格の上限と封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)との関係については、D/t=3.0が概ね妥当であると判断する。
Summarizing the above, regarding the standard of the particle diameter D (mm), the relationship between the upper limit of the standard and the target value t (mm) of the thickness of the sealing
なお、図3(4)の場合は封止樹脂25として余裕を持って許容されると判断された。このことに基づいて、図3(4)に示された場合、すなわち粒径D(mm)の規格の上限と封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)との関係がD/t≒2.11の場合が好ましいと判断する。したがって、粒径D(mm)の規格の上限と封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)との好ましい関係については、D/t=2.0が概ね妥当であると判断する。
In the case of FIG. 3 (4), it was determined that the sealing
ここまでの説明から、粒径D(mm)については次の規格が妥当であるといえる。第1に、粒径Dの規格の下限を設ける場合には0.03(mm)≦Dであることであり、好ましくは0.05(mm)≦Dであることである。第2に、粒径Dの規格の上限としては、封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)との関係がD≦3.0×tであることであり、好ましくはD≦2.0×tであることである。
From the description so far, it can be said that the following standard is appropriate for the particle diameter D (mm). First, in the case where the lower limit of the standard of the particle diameter D is provided, 0.03 (mm) ≦ D, and preferably 0.05 (mm) ≦ D. Second, the upper limit of the standard of the particle diameter D is that the relationship between the thickness of the sealing
したがって、粒径D(mm)についての規格は次に示すようになる。その規格は、粒径Dと封止樹脂25の厚さの目標値t(mm)とに関するD≦3.0×t(mm)という規格である。この規格は、樹脂封止用材料5の歩留まり(有効利用率)を高めるという観点から好ましい。その一方、更に薄い電子デバイス28に対応するという観点からは、D≦2.0×t(mm)という規格が好ましい。樹脂封止用材料5の浮遊や帯電を抑制するという観点に基づいてこれらの規格に下限を設ける場合には、0.03(mm)≦Dという規格、又は、0.05(mm)≦Dという規格が加えられる。
Therefore, the standard for the particle size D (mm) is as follows. The standard is a standard of D ≦ 3.0 × t (mm) regarding the particle diameter D and the target value t (mm) of the thickness of the sealing
本実施例に係る樹脂封止用材料5は、封止樹脂25の厚さの目標値tの規格(第1の規格)として、0.03(mm)≦t≦1.2(mm)という規格(好ましくは0.05(mm)≦t≦1.0(mm)という規格)を満たすことを前提として、次の規格(第2の規格)を満たす。それは、粒径Dと封止樹脂25の厚さの目標値tとに関する、D≦3.0×t(mm)という規格である。更に薄い電子デバイス28に対応するという観点からは、好ましくはD≦2.0×t(mm)という規格である。これらの規格に下限を設ける場合には、0.03(mm)≦Dという規格、又は、0.05(mm)≦Dという規格が加えられる。
The
樹脂封止用材料5がこの規格を満たすことによって、次の効果が得られる。第1に、封止樹脂25の厚さの目標値tが小さい場合においても、言い換えればキャビティ4に供給される樹脂封止用材料5が少量の場合においても、樹脂封止用材料5がキャビティ底面においてばらついて配置されることが抑制される。このことによって、図1、2に示されたキャビティ4において、樹脂封止用材料5が溶融して生成された流動性樹脂22が流動することが抑制される。したがって、ワイヤ16の変形、封止樹脂25における未充填等の発生が抑制される。
When the
第2に、粒径Dの上限が適正な値に抑えられる。したがって、厚さの目標値tに対して大きな粒径を有する粒状樹脂の存在に起因する不具合の発生が抑制される。具体的には、パッケージにおける封止樹脂の厚さtのばらつきが抑制される。 Second, the upper limit of the particle diameter D is suppressed to an appropriate value. Therefore, the occurrence of defects due to the presence of the granular resin having a large particle size with respect to the target thickness value t is suppressed. Specifically, variation in the thickness t of the sealing resin in the package is suppressed.
第3に、小さい粒径を有する樹脂封止用材料5が浮遊することによって、又は、静電気を帯びることによって引き起こされる、意図せざる場所への樹脂封止用材料5の付着が抑制される。したがって、このような樹脂封止用材料5の付着に起因する不具合の発生が抑制される。
Thirdly, adhesion of the
なお、本出願書類においては、粒径Dの規格の下限値は、その下限値よりも小さい粒径Dを含む樹脂封止用材料5を排除することを意味するものではない。実際には、樹脂封止用材料5を搬送したり計量したりする過程において、樹脂封止用材料5が割れたり欠けたりすることによって微小な粉体又は粒体(樹脂封止用材料5に起因する微粒子であって以下「樹脂系微粒子」という。)が生成される可能性がある。このような樹脂系微粒子は、粒径Dの規格の下限値よりも小さい粒径Dを有する可能性がある。したがって、粒径Dの規格の下限値よりも小さい粒径Dを有する樹脂系微粒子が存在することを理由として本出願における樹脂封止用材料5に該当しないと判断することは、妥当ではない。
In the present application documents, the lower limit value of the standard for the particle size D does not mean that the
[実施例2]
本発明に係る樹脂封止用材料5が使用される樹脂封止装置の1つの実施例について、図5を参照して説明する。図5に示されているように、樹脂封止装置A1は、材料受入手段31と、樹脂材料処理手段32と、複数個(図5では2個)の成形手段33と、成形体払出手段34とを備える。材料受入手段31は、封止前基板15を受け入れる基板受入手段35と、樹脂封止用材料5を受け入れる樹脂材料受入手段36とを備える。材料受入手段31から樹脂材料処理手段32と複数個の成形手段33とを順次経由して成形体払出手段34に至るまで、搬送レール37が設けられている。搬送レール37には主搬送手段38が設けられている。主搬送手段38は搬送レール37に沿って図の横方向に移動することができる。なお、成形手段33は単数個であってもよい。
[Example 2]
One embodiment of a resin sealing device in which the
材料受入手段31は、樹脂封止装置A1の外部から封止前基板15を受け入れる基板受入部39と、受け入れた封止前基板15を主搬送手段38に搬送する基板搬送部40とを有する。樹脂材料受入手段36は、樹脂封止装置A1の外部から樹脂封止用材料5を受け入れる樹脂受入部41と、受け入れた樹脂封止用材料5の重量・体積等を計量する計量部42とを有する。計量されるべき樹脂封止用材料5又は計量された樹脂封止用材料5は、例えば、トレイ等からなる容器43に収容される。容器43に収容された樹脂封止用材料5は、第1の樹脂搬送部44によってその容器43ごと主搬送手段38に搬送される。
The material receiving unit 31 includes a
基板受入手段35と樹脂材料受入手段36とは、第1の樹脂搬送部44が進退する際に必要に応じて開閉するシャッタ45によって仕切られていることが好ましい。このことにより、樹脂系微粒子を含む微粒子が基板受入手段35に侵入することが抑制される。
The substrate receiving means 35 and the resin material receiving means 36 are preferably partitioned by a
本実施例に係る樹脂封止用材料5が使用される樹脂封止装置A1においては、樹脂材料処理手段32に関する第1の構成が採用される。材料受入手段31に隣り合って、樹脂封止装置A1において樹脂材料処理手段32が着脱自在に設けられている。したがって、樹脂材料処理手段32は、必要に応じて樹脂封止装置A1に取り付けられ、又は、必要に応じて樹脂封止装置A1から取り外される。
In the resin sealing device A1 in which the
樹脂材料処理手段32は、樹脂封止用材料5を粒径の規格に従って選別する選別手段46と、選別された結果規格よりも粒径が大きいと判断された規格外材料を粉砕する粉砕手段47とを有する。加えて、樹脂材料処理手段32は、樹脂受入部41と選別手段46と粉砕手段47との間において樹脂封止用材料5及び規格外材料を搬送する、第2の樹脂搬送部48を有する。
The resin material processing unit 32 includes a sorting unit 46 that sorts the
選別手段46として、例えば、光学的な手段、気流による遠心力、ふるい等の周知の手段が、選ばれて又は適宜組み合わせて使用される。粉砕手段47として、例えば、撹拌、ロールミル等の周知の手段が使用される。選別手段46と粉砕手段47とは樹脂材料処理手段32に含まれる。 As the sorting means 46, for example, known means such as optical means, centrifugal force by airflow, and sieve are selected or used in appropriate combination. As the pulverizing means 47, for example, known means such as stirring and a roll mill are used. The sorting means 46 and the pulverizing means 47 are included in the resin material processing means 32.
樹脂系微粒子等が基板受入手段35に侵入することを防止するために、樹脂材料処理手段32には次の構成要素が設けられていることが好ましい。それらの構成要素は、樹脂材料受入手段36と選別手段46と粉砕手段47とを含む空間をシャッタ45と協働して他の空間から遮断するシャッタ49と、シャッタ45とシャッタ49とによって遮断された空間に存在する微粒子を吸引して集塵する集塵手段50とを含む。
In order to prevent resin-based fine particles and the like from entering the substrate receiving means 35, the resin material processing means 32 is preferably provided with the following components. These components are blocked by the
選別手段46において適用される粒径Dの規格としては、封止樹脂25の厚さの目標値tの規格に関連づけて次の規格を採用することができる。厚さの目標値tの規格(第1の規格)として、例えば、0.03(mm)≦t≦1.2(mm)という規格(好ましくは0.05(mm)≦t≦1.0(mm)という規格)を採用する。粒径Dの規格(第2の規格)として、例えば、0.03(mm)≦D≦3.0×t(mm)という規格(好ましくは0.05(mm)≦D≦2.0×t(mm)という規格)を採用する。
As the standard of the particle diameter D applied in the sorting means 46, the following standard can be adopted in relation to the standard of the target value t of the thickness of the sealing
複数個の成形手段33は、それぞれ次の構成要素を有する。構成要素として挙げられるものは、まず、チェイスホルダ51と、チェイスホルダ51に取り付けられキャビティ4を有する下型1と、下型1に対向して設けられ封止前基板15が固定される上型2(図5には図示なし)と、である。次に、下型1と上型2との間に離型フィルム6を供給し巻き取る第2の供給手段52である。次に、下型1と上型2との間に形成された外気遮断空間(図1(3)に示された外気遮断空間23を参照)を減圧する減圧ポンプ53である。
Each of the plurality of forming means 33 has the following components. Examples of components include a
成形体払出手段34には、成形体26を搬送する成形体搬送部54と、成形体26が収容されるトレイ等からなる成形体用容器55が配置される成形体収容部56とが設けられる。
The molded body dispensing means 34 is provided with a molded body transporting section 54 that transports the molded
本実施例に係る樹脂封止用材料5が使用される樹脂封止装置A1においては、樹脂材料処理手段32に関する第1の構成に加えて、単数個又は複数個(図5では2個)の成形手段33に関する第2の構成が採用される。図5に示された左側の成形手段33は、樹脂材料処理手段32に隣り合って、かつ、右側の成形手段33に隣り合って(言い換えれば樹脂材料処理手段32と右側の成形手段33とに挟まれて)、樹脂封止装置A1において着脱自在に設けられている。右側の成形手段33は、左側の成形手段33に隣り合って、かつ、成形体払出手段34に隣り合って(言い換えれば左側の成形手段33と成形体払出手段34とに挟まれて)、樹脂封止装置A1において着脱自在に設けられている。
In the resin sealing device A1 in which the
なお、樹脂封止装置A1に単数個の成形手段33が設けられている場合には、樹脂封止装置A1においてその成形手段33が、樹脂材料処理手段32と成形体払出手段34とに挟まれて、取り付けられている。仮に樹脂封止装置A1から成形体払出手段34が取り外されたとすれば、樹脂封止装置A1においてその単数個の成形手段33の右側に隣り合って他の成形手段33を着脱することができる。 When a single molding unit 33 is provided in the resin sealing device A1, the molding unit 33 is sandwiched between the resin material processing unit 32 and the molded body discharging unit 34 in the resin sealing device A1. Attached. If the molded body discharging means 34 is removed from the resin sealing device A1, the other molding means 33 can be attached and detached adjacent to the right side of the single molding means 33 in the resin sealing device A1.
本実施例に係る樹脂封止用材料5が使用される樹脂封止装置A1は、次のような効果を奏する。第1に、選別手段46によって選別された結果第2の規格を満たさないと判断された規格外材料を、粉砕手段47によって粉砕する。粉砕された規格外材料を選別手段46によって選別する。選別された結果第2の規格を満たすと判断された第2の規格内材料を成形型に搬送する。したがって、樹脂封止装置A1に供給された樹脂封止用材料5を有効に利用することができる。
The resin sealing device A1 in which the
第2に、樹脂材料処理手段32に関して第1の構成を採用することにより、必要に応じて、事後的に樹脂材料処理手段32を樹脂封止装置A1に取り付け、又は、事後的に樹脂材料処理手段32を樹脂封止装置A1から取り外すことができる。このことによって、樹脂封止用材料5の仕様、電子デバイス28の封止樹脂25の厚さt(図2参照)等に応じて、樹脂封止装置A1に対して樹脂材料処理手段32を事後的に取り付けること、及び、樹脂封止装置A1から樹脂材料処理手段32を事後的に取り外すことができる。加えて、第1の工場において樹脂封止装置A1から取り外した樹脂材料処理手段32を、その樹脂材料処理手段32を必要とする第2の工場に移送して、第2の工場が保有していた樹脂封止装置A1に取り付けることができる。したがって、樹脂封止装置A1を使用する電子デバイス28(図2(4)参照)のメーカーは、市場の動向や樹脂封止用材料5及び電子デバイス28の仕様の変化等に応じて、樹脂封止装置A1に樹脂材料処理手段32を容易に着脱することができる。
Secondly, by adopting the first configuration with respect to the resin material processing means 32, the resin material processing means 32 is attached to the resin sealing device A1 afterwards as needed, or the resin material processing is performed afterwards. The means 32 can be removed from the resin sealing device A1. As a result, the resin material processing means 32 is applied to the resin sealing device A1 in accordance with the specifications of the
第3に、各成形手段33に関して第2の構成を採用することによって、各成形手段33は、必要に応じて樹脂封止装置A1に取り付けられ、又は、必要に応じて樹脂封止装置A1から取り外される。このことにより、市場の動向や需要の増減等に応じて、樹脂封止装置A1に対して成形手段33を取り付けて増設すること、及び、樹脂封止装置A1から成形手段33を取り外して成形手段33の数を減少させることができる。加えて、第1の工場において樹脂封止装置A1から取り外した成形手段33を、例えば、需要が旺盛な他の地域に立地する第2の工場に移送して、第2の工場が保有していた樹脂封止装置A1に取り付けることができる。したがって、樹脂封止装置A1を使用する電子デバイス28(図2(4)参照)のメーカーは、市場の動向や需要の増減等に応じて電子デバイス28の生産能力を容易に調整することができる。
Thirdly, by adopting the second configuration with respect to each molding means 33, each molding means 33 is attached to the resin sealing device A1 as necessary, or from the resin sealing device A1 as necessary. Removed. As a result, the molding means 33 is attached to the resin sealing device A1 and added in accordance with the market trend and the increase / decrease in demand, and the molding means 33 is detached from the resin sealing device A1 and molded. The number of 33 can be reduced. In addition, the molding means 33 removed from the resin sealing device A1 in the first factory is transferred to, for example, a second factory located in another area where demand is strong, and the second factory holds it. It can be attached to the resin sealing device A1. Therefore, the manufacturer of the electronic device 28 (see FIG. 2 (4)) that uses the resin sealing device A1 can easily adjust the production capacity of the
第4に、樹脂材料受入手段36と選別手段46と粉砕手段47とを含む空間をシャッタ45とシャッタ49とによって他の空間から遮断し、遮断された空間に存在する樹脂系微粒子等を吸引して集塵する集塵手段50を設ける。このことによって、樹脂系微粒子を含む微粒子を集塵することができる。したがって、樹脂系微粒子を含む異物が封止前基板15等に付着することによって発生する不具合を抑制することができる。
Fourth, the space including the resin material receiving means 36, the sorting means 46, and the crushing means 47 is blocked from other spaces by the
第5に、離型フィルム6を使用することによって、下型1から成形体26を容易に離型させることができる(図2(2)参照)。加えて、離型フィルム6を介して、キャビティ面に設けられた微細な凹凸を封止樹脂25に確実に転写することができる。これらのことによって、電子デバイス28(図2(4)参照)を製造する場合において品質を向上させることができる。特に、微細な凹凸を含むレンズ(例えば、フレネルレンズ等)を有する光デバイスを製造する場合において、品質を顕著に向上させることができる。
Fifth, by using the
第6に、少なくとも中間型締め状態において外気遮断空間23を形成して、その外気遮断空間23を減圧する(図1(3)参照)。これにより、封止樹脂25における気泡の発生が抑制される。したがって、電子デバイス28(図2(4)参照)を製造する場合において品質を向上させることができる。特に、透光性の封止樹脂25を有する光デバイスを製造する場合において、品質を顕著に向上させることができる。
Sixth, the outside air blocking space 23 is formed at least in the intermediate mold clamping state, and the outside air blocking space 23 is decompressed (see FIG. 1 (3)). Thereby, generation | occurrence | production of the bubble in the sealing
[実施例3]
本発明に係る樹脂封止用材料5が使用される樹脂封止装置の他の実施例を、図6を参照して説明する。図6に示されているように、樹脂封止装置A2においては、次の構成が採用されている。
[Example 3]
Another embodiment of the resin sealing device in which the
第1の構成として、図6に示された左側の成形手段33は、基板受入手段57に隣り合って、かつ、右側の成形手段33に隣り合って(言い換えれば基板受入手段57と右側の成形手段33とに挟まれて)、樹脂封止装置A2において着脱自在に設けられている。右側の成形手段33は、左側の成形手段33に隣り合って、かつ、成形体払出手段34に隣り合って(言い換えれば左側の成形手段33と成形体払出手段34とに挟まれて)、樹脂封止装置A2において着脱自在に設けられている。 As a first configuration, the left molding means 33 shown in FIG. 6 is adjacent to the substrate receiving means 57 and adjacent to the right molding means 33 (in other words, the substrate receiving means 57 and the right molding means). It is sandwiched between the means 33) and is detachably provided in the resin sealing device A2. The right molding means 33 is adjacent to the left molding means 33 and adjacent to the molded body discharging means 34 (in other words, sandwiched between the left molding means 33 and the molded body discharging means 34). The sealing device A2 is detachably provided.
第2の構成として、図5に示された樹脂封止装置A1においては樹脂材料受入手段36が材料受入手段31に含まれていたことに対して、樹脂封止装置A2においては、基板受入手段57から独立した樹脂材料受入手段58が、樹脂材料処理手段59に隣り合って設けられている。図6においては、樹脂材料受入手段58と樹脂材料処理手段59とが図の上下方向に隣り合っている。樹脂材料受入手段58と樹脂材料処理手段59とが、併せて樹脂材料用手段60を構成する。加えて、樹脂材料受入手段58と樹脂材料処理手段59とは、それぞれ独立したモジュールであって、樹脂材料用手段60においてそれぞれ着脱できるように構成されている。すなわち、樹脂材料受入手段58を有する樹脂材料用手段60に、事後的に樹脂材料処理手段59を取り付けることができる。 As a second configuration, in the resin sealing device A1 shown in FIG. 5, the resin material receiving means 36 is included in the material receiving means 31, whereas in the resin sealing device A2, the substrate receiving means is included. Resin material receiving means 58 independent of 57 is provided adjacent to the resin material processing means 59. In FIG. 6, the resin material receiving means 58 and the resin material processing means 59 are adjacent to each other in the vertical direction of the figure. The resin material receiving means 58 and the resin material processing means 59 together constitute a resin material means 60. In addition, the resin material receiving means 58 and the resin material processing means 59 are independent modules, and are configured to be detachable from the resin material means 60. That is, the resin material processing means 59 can be attached to the resin material means 60 having the resin material receiving means 58 later.
なお、樹脂封止装置A2に単数個の成形手段33が設けられている場合には、樹脂封止装置A2においてその成形手段33が、基板受入手段57と成形体払出手段34とに挟まれて取り付けられる。仮に樹脂封止装置A2から樹脂材料用手段60と成形体払出手段34とが取り外されたとすれば、樹脂封止装置A2において、その単数個の成形手段33の右側に隣り合って他の成形手段33を着脱することができる。 In the case where a single molding means 33 is provided in the resin sealing device A2, the molding means 33 is sandwiched between the substrate receiving means 57 and the molded body discharging means 34 in the resin sealing device A2. It is attached. If the resin material means 60 and the molded body discharging means 34 are removed from the resin sealing device A2, in the resin sealing device A2, another molding means is adjacent to the right side of the single molding means 33. 33 can be attached and detached.
第3の構成として、樹脂材料用手段60が、平面視して単数個又は複数個の成形手段33(図6では2個)を挟んで、基板受入手段57とは反対側に設けられている。したがって、樹脂封止装置A2において、封止前基板15を受け入れる基板受入手段57と、粉状又は粒状を呈する樹脂封止用材料5を受け入れ選別し必要に応じて規格外材料を粉砕する樹脂材料用手段60とが、最も離れて位置する。
As a third configuration, the resin material means 60 is provided on the side opposite to the substrate receiving means 57 with the single or plural molding means 33 (two in FIG. 6) sandwiched therebetween in plan view. . Therefore, in the resin sealing apparatus A2, the substrate receiving means 57 for receiving the
第1の構成によれば、各成形手段33は、必要に応じて樹脂封止装置A2に取り付けられ、又は、必要に応じて樹脂封止装置A2から取り外される。したがって、樹脂封止装置A2を使用する電子デバイス28(図2(4)参照)のメーカーは、市場の動向や需要の増減等に応じて電子デバイス28の生産能力を容易に調整することができる。
According to the 1st structure, each shaping | molding means 33 is attached to resin sealing apparatus A2 as needed, or is removed from resin sealing apparatus A2 as needed. Therefore, the manufacturer of the electronic device 28 (see FIG. 2 (4)) that uses the resin sealing device A2 can easily adjust the production capacity of the
第2の構成によれば、樹脂材料受入手段58を有する樹脂材料用手段60に、事後的に樹脂材料処理手段59を取り付けることができる。したがって、電子デバイス28が有する単位封止樹脂30(図2(4)参照)の薄型化が進む等の技術動向の変化に伴い、電子デバイス28のメーカーの要望に応じて、事後的に樹脂材料処理手段59を追加することができる。
According to the second configuration, the resin material processing means 59 can be attached to the resin material means 60 having the resin material receiving means 58 later. Therefore, as the unit sealing resin 30 (see FIG. 2 (4)) of the
第3の構成によれば、樹脂系微粒子等が基板受入手段57に侵入することを防止することができる。したがって、樹脂系微粒子を含む異物が封止前基板15等に付着することによって発生する不具合を防止することができる。
According to the third configuration, resin-based fine particles and the like can be prevented from entering the substrate receiving means 57. Therefore, it is possible to prevent problems caused by foreign matters including resin-based fine particles adhering to the
加えて、樹脂封止装置A2に選別手段46と粉砕手段47とが設けられている。このことによって、図5に示された樹脂封止装置A1の場合と同様に、樹脂封止装置A2に供給された樹脂封止用材料5を有効に利用することができる。
In addition, sorting means 46 and crushing means 47 are provided in the resin sealing device A2. Accordingly, the
また、樹脂材料受入手段58と選別手段46と粉砕手段47とを含む空間をシャッタ45によって他の空間から遮断し、遮断された空間に存在する微粒子を吸引して集塵する集塵手段50を設ける。このことによって、図5に示された樹脂封止装置A1の場合と同様に、樹脂系微粒子を含む異物が封止前基板15等に付着することによって発生する不具合を抑制することができる。
Further, a dust collecting means 50 that blocks the space including the resin material receiving means 58, the sorting means 46, and the pulverizing means 47 from other spaces by the
また、樹脂封止装置A2において、離型フィルム6を使用する。このことによって、図5に示された樹脂封止装置A1の場合と同様に、電子デバイス28(図2(4)参照)を製造する場合において品質を向上させることができる。
Moreover, the
また、樹脂封止装置A2において、少なくとも中間型締め状態において外気遮断空間23を形成して、その外気遮断空間23を減圧する(図1(3)参照)。このことにより、図5に示された樹脂封止装置A1の場合と同様に、電子デバイス28(図2(4)参照)を製造する場合において品質を向上させることができる。 Further, in the resin sealing device A2, the outside air blocking space 23 is formed at least in the intermediate mold clamping state, and the outside air blocking space 23 is decompressed (see FIG. 1 (3)). As a result, as in the case of the resin sealing device A1 shown in FIG. 5, the quality can be improved when the electronic device 28 (see FIG. 2 (4)) is manufactured.
なお、図6に示された樹脂封止装置A2において、成形体払出手段34と樹脂材料用手段60との平面的な位置を入れ替えてもよい。このように入れ替えた場合には、樹脂材料用手段60が、図6に示された右側の成形手段33に隣り合って、かつ、成形体払出手段34に隣り合って(言い換えれば、右側の成形手段33と成形体払出手段34とに挟まれて)、樹脂封止装置A2において着脱自在に設けられている。 In the resin sealing device A2 shown in FIG. 6, the planar positions of the molded body dispensing means 34 and the resin material means 60 may be interchanged. In this case, the resin material means 60 is adjacent to the right molding means 33 shown in FIG. 6 and adjacent to the molded body discharging means 34 (in other words, the right molding means). The resin sealing device A2 is detachably provided between the means 33 and the molded body discharging means 34).
本出願書類において説明する粒径Dは、光学的な手段によって樹脂封止用材料5を撮影して得られた画像におけるそれらの粒子の投影面積の面積円相当径を意味する。したがって、同一の樹脂封止用材料5を対象として、面積円相当径の測定(算出)以外の他の測定法、例えば、フェレー径の測定、遮光法やふるい分け法等を使用して粒径Dを測定した場合には、本出願書類における粒径Dとは異なった測定値が得られる可能性がある。他の測定法を使用して粒径Dを測定した場合には、本出願書類における測定法によって測定した場合の測定値に置き換えて、本出願書類において説明する粒径Dの規格に含まれるか否かを判断する。言い換えれば、他の測定法を使用して得られた測定値と本出願書類において説明する粒径Dの規格とをそのまま対比することは妥当ではない。
The particle diameter D described in the present application document means an area equivalent circle diameter of the projected area of these particles in an image obtained by photographing the
樹脂封止用材料5の粒径Dを測定する場合には、トレイに散布された樹脂封止用材料5を上方から撮影する方法、フィーダから自由落下する樹脂封止用材料5を側方から撮影する方法等が使用される。しかし、これらに限定されない。供給しようとする樹脂封止用材料5の全数を対象として粒径Dを測定することができる。これに代えて、供給しようとする樹脂封止用材料5から一部分のサンプルを抜き取って、そのサンプルを対象として粒径Dを測定することができる。
When measuring the particle diameter D of the
ここまでの説明においては、樹脂封止用材料5を粒径Dの規格に従って選別する選別手段46と、選別された結果規格よりも粒径Dが大きいと判断された規格外材料を粉砕する粉砕手段47とを、樹脂封止装置A1、A2の内部に設けた例について説明した(図5、6参照)。これに限らず、変形例として、選別手段と粉砕手段との双方を樹脂封止装置の外部に設けてもよい。この場合には、樹脂封止装置の外部において予め選別され必要に応じて粉砕された樹脂封止用材料5を、樹脂封止装置に供給することができる。
In the description so far, the sorting means 46 for sorting the
他の変形例として、選別手段を樹脂封止装置の内部に設け、粒径Dの規格を満たさないと判断された規格外材料を粉砕する粉砕手段を樹脂封止装置の外部に設けてもよい。規格外材料を粉砕手段に移送する工程は、作業者が手動で行ってもよく、レールに沿って動く搬送手段や往復するように回転するアームを有する搬送手段を使用して行ってもよい。 As another modified example, the selecting means may be provided inside the resin sealing device, and the pulverizing means for pulverizing the nonstandard material determined not to satisfy the standard of the particle diameter D may be provided outside the resin sealing device. . The step of transferring the nonstandard material to the crushing means may be performed manually by an operator, or may be performed using a conveying means that moves along a rail or a conveying means that has an arm that rotates so as to reciprocate.
ここまでの説明において、供給用シャッタ20に代えて、第1の供給手段3に樹脂封止用材料5の落とし口を設けてもよい。この場合には、キャビティ4に樹脂封止用材料5を落としながら第1の供給手段3を移動させることによって、キャビティ4に樹脂封止用材料5を供給する。樹脂封止用材料5の落とし口として、樋状の形状を有する落とし口をほぼ水平に設けることが好ましい。加えて、平面視してキャビティ4の型面に対して樹脂封止用材料5を落とす軌跡が、互いに重ならずかつ交わらないようにして、第1の供給手段3を移動させることが好ましい。更に、加振手段を使用して落とし口に振動を加えることによって樹脂封止用材料5を振動させながら、キャビティ4の型面に対して樹脂封止用材料5を落とすことが好ましい。
In the description so far, instead of the supply shutter 20, the first supply means 3 may be provided with an outlet for the
次の構成を採用してもよい。第1の構成は、外枠を有する第1の供給手段を設け、平面視して外枠と外枠の内側とを覆うようにして第1の供給手段の下面に矩形状の離型フィルム6を吸着し、外枠と離型フィルム6とに囲まれた空間からなる収容部に樹脂封止用材料5を供給するという構成である。この構成によれば、収容部に樹脂封止用材料5が収容された状態で、第1の供給手段をキャビティ4の上方に移動させる。離型フィルム6に対する吸着を解除するとともに、キャビティ4の内面に離型フィルム6を吸着する。このことによって、キャビティ4に離型フィルム6と樹脂封止用材料5とを供給する。
The following configuration may be adopted. In the first configuration, a first release means having an outer frame is provided, and a
第2の構成は、凹部を有する第1の供給手段を設け、凹部に樹脂封止用材料5を供給して、第1の供給手段の上面に矩形状の離型フィルム6を吸着し、第1の供給手段を反転させるという構成である。この構成によれば、反転した第1の供給手段をキャビティ4の上方に移動させる。離型フィルム6に対する吸着を解除するとともに、キャビティ4の内面に離型フィルム6を吸着する。このことによって、キャビティ4に離型フィルム6と樹脂封止用材料5とを供給する。
The second configuration includes a first supply unit having a recess, supplies the
上述した2つの構成のいずれにおいても、第1の供給手段に対して樹脂封止用材料5を供給する際に、加振手段を使用することができる。第1の供給手段に対して樹脂封止用材料5を落とす落とし口に振動を加えることによって、樹脂封止用材料5を振動させる。第1の供給手段の上方において樹脂封止用材料5を振動させながら、第1の供給手段に対して樹脂封止用材料5を落とすことが好ましい。
In either of the two configurations described above, the vibration means can be used when the
ここまでの説明においては、封止前基板15と成形体26とを搬送する搬送系と樹脂封止用材料5を搬送する搬送系とを、主搬送手段38として共通にする例について説明した(図5、6参照)。これに代えて、封止前基板15と成形体26とを搬送する搬送系と樹脂封止用材料5を搬送する搬送系とを、別系統にしてもよい。
In the description so far, the example in which the transport system for transporting the
ここまでの説明においては、1個の成形手段33に1組の成形型が設けられた構成について説明した(図5、6参照)。これに代えて、1個の成形手段33に対して、下型1と上型2とを含む1組の成形型を2組用意して、上段と下段との2段にそれぞれ1組の成形型を配置してもよい。この場合には、共通した型開閉機構を動作させることによって、上段の1組の成形型と下段の1組の成形型とを実質的に同時に型締めすること及び型開きすることができる。共通した型開閉機構としては、例えば、サーボモータ、油圧シリンダ等の駆動源と、ラック・アンド・ピニオン等の伝達手段とを使用する。この構成によれば、同じ専有面積を有する成形手段33を使用した場合において2倍の生産効率を実現することができる。
In the description so far, the configuration in which one set of forming dies is provided in one forming means 33 has been described (see FIGS. 5 and 6). Instead of this, two sets of molds including the
ここまでの説明においては、離型フィルム6を使用する実施例について説明した(図2(2)、5、6参照)。成形型に使用される材料の物性と封止樹脂25の物性との組合せによっては、離型フィルム6を使用しなくてもよい。
In the description so far, the embodiment using the
ここまでの説明においては、少なくとも中間型締め状態において外気遮断空間23を形成して、その外気遮断空間23を減圧する実施例について説明した(図1(3)参照)。封止樹脂25に対して要求される気泡等に関する品質水準によっては、外気遮断空間23を形成してその外気遮断空間23を減圧することを実施しなくてもよい。
In the description so far, the embodiment has been described in which the outside air blocking space 23 is formed at least in the intermediate mold clamping state and the outside air blocking space 23 is decompressed (see FIG. 1 (3)). Depending on the quality level required for the bubbles or the like required for the sealing
ここまでの説明においては、図2(3)、(4)に示すように、成形体26を各領域18単位に個片化する。例えば、図2(3)におけるX方向に4個、かつ、Y方向に4個の領域18が存在する場合には、成形体26がそれぞれ1個の領域18からなる16個の電子デバイス28に個片化される。これに限らず、X方向に1個かつY方向に4個にまとまる領域(以下「1×4」と示す。)に成形体26を個片化して、又は、4×1にまとまる領域に成形体26を個片化して、それぞれ4個の領域18からなる4個の電子デバイス28を製造することができる。加えて、成形体26を2×2の領域に個片化して、それぞれ4個の領域18からなる4個の電子デバイス28を製造することができる。更に、成形体26から端部における不要な部分を除去して、成形体26を4×4の領域に個片化して、16個の領域18からなる1個の電子デバイス28を製造することができる。したがって、チップ14がLEDチップの場合には、列状又は面状の光デバイス(発光体)を容易に製造することができる。
In the description so far, as shown in FIGS. 2 (3) and 2 (4), the molded
本発明は、上述した実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて、任意にかつ適宜に組み合わせ、変更し、又は選択して採用できるものである。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be arbitrarily combined, modified, or selected and adopted as necessary without departing from the spirit of the present invention. is there.
1 下型
2 上型
3 第1の供給手段
4 キャビティ
5 樹脂封止用材料
6 離型フィルム
7 外枠部材
8 キャビティ部材
9 吸引路(吸引手段)
10 ヒータ(加熱手段)
11 シール部材(外気遮断手段)
12 吸引路(減圧手段)
13 基板本体
14 チップ(電子部品)
15 封止前基板
16 ワイヤ
17 境界線
18 領域
19 外枠
20 供給用シャッタ
21 収容部
22 溶融樹脂
23 外気遮断空間
24 排出される気体等
25 封止樹脂
26 成形体(樹脂封止体)
27 回転刃
28 電子デバイス
29 単位基板
30 単位封止樹脂
31 材料受入手段
32、59 樹脂材料処理手段
33 成形手段
34 成形体払出手段
35、57 基板受入手段
36、58 樹脂材料受入手段
37 搬送レール
38 主搬送手段(第1の搬送手段)
39 基板受入部
40 基板搬送部
41 樹脂受入部
42 計量部
43 容器
44 第1の樹脂搬送部
45、49 シャッタ(仕切手段)
46 選別手段
47 粉砕手段
48 第2の樹脂搬送部(第2の搬送手段)
50 集塵手段
51 チェイスホルダ
52 第2の供給手段
53 減圧ポンプ(減圧手段)
54 成形体搬送部
55 成形体用容器
56 成形体収容部
60 樹脂材料用手段
A1、A2 樹脂封止装置
D 粒径
t 封止樹脂の厚さの目標値
DESCRIPTION OF
10 Heater (heating means)
11 Seal member (outside air blocking means)
12 Suction passage (pressure reduction means)
13
DESCRIPTION OF
27
39
46 Sorting means 47 Crushing means 48 Second resin transport section (second transport means)
50 Dust collecting means 51 Chase holder 52 Second supply means 53 Pressure reducing pump (pressure reducing means)
54 Molded
Claims (18)
前記樹脂封止用材料は少なくとも前記樹脂材料と添加剤と充填剤とを含み、
前記樹脂材料は粉状又は粒状であり、
前記樹脂封止用材料は、前記封止樹脂の厚さが目標値をt(mm)とする第1の規格を有する場合において、前記樹脂封止用材料の粒径Dに関するD≦a×t(mm)という第2の規格を満たし(係数aは正の実数)、
前記第1の規格は前記封止樹脂の厚さに関する規格であって、0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であり、
前記第2の規格は前記樹脂封止用材料の粒径Dと前記封止樹脂の厚さとに関する規格であり、
前記係数aは2.99≦a≦3.125を満たし、
前記第1の規格における前記封止樹脂の厚さは前記基板本体の上面から前記封止樹脂の上面までの寸法であり、
少なくとも前記樹脂材料と前記添加剤と前記充填剤とを混練する工程と、
混練された前記樹脂材料と前記添加剤と前記充填剤とを粉砕する工程と、
粉砕された前記樹脂材料と前記添加剤と前記充填剤とを前記第2の規格に基づいて選別する工程とを備えることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 When the electronic component mounted on the substrate body is resin-sealed with a sealing resin composed of a cured resin after curing using a compression molding mold provided in the resin sealing device and having a cavity. A method for producing a resin sealing material, which is used as a raw material for a resin and produces a resin sealing material containing a resin material and exhibiting a powdery or granular shape ,
The resin sealing material includes at least the resin material, an additive, and a filler,
The resin material is powdery or granular,
In the case where the thickness of the sealing resin has a first standard in which the target value is t (mm), the resin sealing material has D ≦ a × t related to the particle size D of the resin sealing material. Satisfies the second standard (mm) (coefficient a is a positive real number),
The first standard is a standard related to the thickness of the sealing resin, and 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm),
The second standard is a standard related to the particle diameter D of the resin sealing material and the thickness of the sealing resin,
The coefficient a satisfies 2.99 ≦ a ≦ 3.125,
The thickness of the sealing resin in the first standard is a dimension from the upper surface of the substrate body to the upper surface of the sealing resin,
Kneading at least the resin material, the additive and the filler;
Crushing the kneaded resin material, the additive, and the filler;
A method for producing a resin sealing material, comprising a step of selecting the pulverized resin material, the additive, and the filler based on the second standard.
前記第2の規格に基づいて選別された結果前記第2の規格を満たさないと判断された規格外材料を粉砕する工程と、
粉砕された前記規格外材料を前記第2の規格に基づいて選別することによって前記第2の規格を満たすと判断された第2の規格内材料を得る工程と、
前記第2の規格内材料を前記樹脂封止用材料に決定する工程とを更に備えることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the manufacturing method of the resin sealing material described in Claim 1 ,
A step of pulverizing a non-standard material is determined not to satisfy the sorted result and the second standard based on the second standard,
Obtaining the second in-standard material determined to satisfy the second standard by sorting the pulverized non-standard material based on the second standard;
Manufacturing method of the resin sealing material, characterized by further comprising the step of determining the second standard within the material in the resin sealing material.
前記樹脂封止用材料は、前記樹脂封止装置に供給されてから前記キャビティに供給されるまでの間において選別された結果前記第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料からなることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the method for producing a resin sealing material according to claim 1 or 2 ,
The resin sealing material is selected from the first in-standard material determined to satisfy the second standard as a result of being selected after being supplied to the cavity after being supplied to the resin sealing device. The manufacturing method of the material for resin sealing characterized by becoming.
前記樹脂封止用材料は、前記樹脂封止装置に供給されてから前記キャビティに供給されるまでの間において選別された結果前記第2の規格を満たさないと判断された規格外材料が粉砕されることによって、前記第2の規格を満たすと判断されるに至った第2の規格内材料からなることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the method for producing a resin sealing material according to claim 1 or 2 ,
The non-standard material determined to not satisfy the second standard is pulverized as a result of sorting the resin sealing material from the time it is supplied to the resin sealing device to the time it is supplied to the cavity. The method for producing a resin sealing material comprising: a second in-standard material that has been determined to satisfy the second standard.
粉状又は粒状を呈する樹脂材料と、添加剤と、充填剤とを少なくとも含む原材料群を準備する工程と、
前記原材料群を混練する工程と、
前記原材料群を混練して第1の中間材料を生成する工程と、
前記第1の中間材料を粉砕して第2の中間材料を生成する工程と、
前記封止樹脂の厚さが目標値をt(mm)とする第1の規格を有する場合において、前記樹脂封止用材料の粒径Dと前記封止樹脂の厚さとに関するD≦a×t(mm)という第2の規格に基づいて(係数aは正の実数)、前記第2の中間材料を選別する工程と、
前記原材料群のうち前記第2の規格を満たすと判断された第1の規格内材料を前記樹脂封止用材料に決定する工程とを備え、
前記第1の規格は前記封止樹脂の厚さに関する規格であって、0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であり、
前記係数aは2.99≦a≦3.125を満たし、
前記第1の規格における前記封止樹脂の厚さは前記基板本体の上面から前記封止樹脂の上面までの寸法であることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 When the electronic component mounted on the substrate body is resin-sealed with a sealing resin composed of a cured resin after curing using a compression molding mold provided in the resin sealing device and having a cavity. A method for producing a resin sealing material that is used as a raw material of a resin and exhibits a powdery or granular shape,
Preparing a raw material group including at least a resin material exhibiting powdery or granular form, an additive, and a filler;
Kneading the raw material group;
Kneading the raw material group to produce a first intermediate material;
Crushing the first intermediate material to produce a second intermediate material;
In a case wherein the first standard thickness of the sealing resin is a target value t (mm), D ≦ about the thickness of the sealing resin and the particle size D of the resin sealing material a × t Selecting the second intermediate material based on a second standard (mm) (coefficient a is a positive real number);
Determining a first in-standard material determined to satisfy the second standard among the raw material group as the resin sealing material,
The first standard is a standard related to the thickness of the sealing resin, and 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm),
The coefficient a satisfies 2.99 ≦ a ≦ 3.125,
The method for producing a resin sealing material, wherein the thickness of the sealing resin in the first standard is a dimension from the upper surface of the substrate body to the upper surface of the sealing resin.
前記第1の規格は0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であることに代えて0.05(mm)≦t≦1.0(mm)であることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the manufacturing method of the resin sealing material described in Claim 1 or 5 ,
Resin characterized in that the first standard is 0.05 (mm) ≦ t ≦ 1.0 (mm) instead of 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm) Manufacturing method of sealing material.
前記原材料群を選別する工程においては、前記樹脂封止用材料を撮影して得られた画像に基づいて投影面積を算出し、該投影面積の面積円相当径を前記粒径Dとして取り扱うことによって前記第2の規格を適用することを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the manufacturing method of the resin sealing material described in Claim 1 or 5 ,
In the step of selecting the raw material group, a projected area is calculated based on an image obtained by photographing the resin sealing material, and an area equivalent circle diameter of the projected area is handled as the particle diameter D. A method for producing a resin sealing material, wherein the second standard is applied.
前記原材料群を選別する工程においては、気流による遠心力を利用して又は篩を利用して前記樹脂封止用材料が前記第2の規格を満たすか否かについて判断することを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the manufacturing method of the resin sealing material described in Claim 1 or 5 ,
In the step of selecting the raw material group, it is determined whether the resin sealing material satisfies the second standard by using centrifugal force due to airflow or by using a sieve. Manufacturing method of sealing material.
前記原材料群を選別する工程において前記第2の規格に基づいて選別した結果前記第2の規格を満たさないと判断した規格外材料を粉砕する工程と、
粉砕された前記規格外材料を前記第2の規格に基づいて選別する工程と、
粉砕された前記規格外材料のうち前記第2の規格を満たすと判断された第2の規格内材料を前記樹脂封止用材料に決定する工程とを備えることを特徴とする樹脂封止用材料の製造方法。 In the manufacturing method of the resin sealing material described in Claim 5 ,
A step of pulverizing the non-standard material determined not to satisfy the second standard as a result of the selection based on the second standard in the step of selecting the raw material group;
Screening the pulverized non-standard material based on the second standard;
A resin sealing material comprising a step of determining, as the resin sealing material, a second in-standard material determined to satisfy the second standard among the pulverized non-standard material Manufacturing method.
前記樹脂封止装置の外部から前記基板本体に前記電子部品が装着された封止前基板を受け入れる基板受入手段と、 A substrate receiving means for receiving a pre-sealing substrate in which the electronic component is mounted on the substrate body from the outside of the resin sealing device;
前記樹脂封止装置の外部から前記樹脂封止用材料を受け入れる樹脂材料受入手段と、 A resin material receiving means for receiving the resin sealing material from the outside of the resin sealing device;
前記樹脂封止用材料を前記成形手段に搬送する第1の搬送手段と、 First conveying means for conveying the resin sealing material to the molding means;
前記キャビティに供給された前記樹脂封止用材料を加熱して溶融させることによって溶融樹脂を生成する加熱手段と、 Heating means for generating a molten resin by heating and melting the resin sealing material supplied to the cavity;
少なくとも前記樹脂材料受入手段を含む空間を仕切る仕切手段と、 Partition means for partitioning a space including at least the resin material receiving means;
仕切られた前記空間を吸引する集塵手段とを備え、 A dust collecting means for sucking the partitioned space,
前記樹脂材料受入手段は、前記樹脂封止用材料として、前記樹脂封止用材料の粒径Dに関するD≦a×t(mm)という第2の規格に基づいて選別された第1の規格内材料を受け入れ(係数aは正の実数)、 The resin material receiving means is within the first standard selected as the resin sealing material based on a second standard D ≦ a × t (mm) related to the particle size D of the resin sealing material. Accept material (coefficient a is a positive real number),
前記第1の規格は前記封止樹脂の厚さに関する規格であって、0.03(mm)≦t≦1.2(mm)であり、The first standard is a standard related to the thickness of the sealing resin, and 0.03 (mm) ≦ t ≦ 1.2 (mm),
前記第2の規格は前記樹脂封止用材料の粒径Dと前記封止樹脂の厚さとに関する規格であり、The second standard is a standard related to the particle diameter D of the resin sealing material and the thickness of the sealing resin,
前記係数aは2.99≦a≦3.125を満たし、The coefficient a satisfies 2.99 ≦ a ≦ 3.125,
前記第1の規格における前記封止樹脂の厚さは前記基板本体の上面から前記封止樹脂の上面までの寸法であり、The thickness of the sealing resin in the first standard is a dimension from the upper surface of the substrate body to the upper surface of the sealing resin,
前記第1の搬送手段は、前記樹脂封止用材料として、前記第1の規格内材料を前記成形手段に搬送することを特徴とする樹脂封止装置。 The said 1st conveyance means conveys the said 1st specification material to the said shaping | molding means as said resin sealing material, The resin sealing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記第1の規格は0.05(mm)≦t≦1.0(mm)であることを特徴とする樹脂封止装置。 The first standard is 0.05 (mm) ≦ t ≦ 1.0 (mm).
1個又は複数個の前記成形手段を備え、Comprising one or a plurality of said forming means,
前記基板受入手段と前記樹脂材料受入手段とは、平面視して1個又は複数個の前記成形手段に対して同じ側において配置され、 The substrate receiving means and the resin material receiving means are arranged on the same side with respect to one or a plurality of the forming means in plan view,
1個又は複数個の前記成形手段のうちの1個の前記成形手段は、平面視して前記基板受入手段と前記樹脂材料受入手段との少なくとも一方に隣接して、かつ、前記樹脂封止装置において着脱自在に設けられていることを特徴とする樹脂封止装置。 One of the molding means or one of the molding means is adjacent to at least one of the substrate receiving means and the resin material receiving means in a plan view, and the resin sealing device A resin sealing device, wherein the device is detachable.
前記成形型をそれぞれ有する1個又は複数個の成形手段を備え、Comprising one or a plurality of molding means each having the mold;
前記基板受入手段と前記樹脂材料受入手段とは、平面視して1個又は複数個の前記成形手段を挟んで相対向して配置され、 The substrate receiving means and the resin material receiving means are arranged to face each other with one or a plurality of the molding means in plan view,
1個又は複数個の前記成形手段のうちの1個の前記成形手段は、平面視して前記基板受入手段と前記樹脂材料受入手段との少なくとも一方に隣接して、かつ、前記樹脂封止装置において着脱自在に設けられていることを特徴とする樹脂封止装置。 One of the molding means or one of the molding means is adjacent to at least one of the substrate receiving means and the resin material receiving means in a plan view, and the resin sealing device A resin sealing device, wherein the device is detachable.
複数個の前記成形手段のうちの1個の前記成形手段は平面視して他の前記成形手段に隣接して、かつ、前記樹脂封止装置において着脱自在に設けられていることを特徴とする樹脂封止装置。 One of the plurality of molding means is provided adjacent to the other molding means in plan view and detachably provided in the resin sealing device. Resin sealing device.
前記樹脂封止用材料は樹脂材料を含み、The resin sealing material includes a resin material,
前記樹脂材料は熱硬化性を有し、 The resin material has thermosetting properties,
前記加熱手段は、前記溶融樹脂を加熱して硬化させることによって前記封止樹脂を成形することを特徴とする樹脂封止装置。 The resin sealing device, wherein the heating means forms the sealing resin by heating and curing the molten resin.
前記キャビティに前記樹脂封止用材料を供給する第1の供給手段を備え、A first supply means for supplying the resin sealing material to the cavity;
前記第1の搬送手段が、前記キャビティを有する前記成形手段まで前記第1の供給手段を移動させることを特徴とする樹脂封止装置。 The resin sealing apparatus, wherein the first transport unit moves the first supply unit to the molding unit having the cavity.
少なくとも前記成形型が型締めされた状態において前記キャビティを含む空間を前記成形型の外部から遮断して外気遮断空間を形成する外気遮断手段と、An outside air blocking means for blocking the space including the cavity from the outside of the mold at least when the mold is clamped to form an outside air blocking space;
前記外気遮断空間を減圧する減圧手段とを備えることを特徴とする樹脂封止装置。 A resin sealing device comprising: a decompression unit that decompresses the outside air blocking space.
前記成形型が型開きされた状態において前記キャビティに重なるようにして離型フィルムを供給する第2の供給手段と、Second supply means for supplying a release film so as to overlap the cavity in a state where the mold is opened;
前記キャビティにおける型面に向かって前記離型フィルムを吸引することによって前記離型フィルムを前記型面に密着させる吸引手段とを備えることを特徴とする樹脂封止装置。 A resin sealing device comprising: suction means for adhering the release film to the mold surface by sucking the release film toward the mold surface in the cavity.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012041625A JP6071216B2 (en) | 2012-02-28 | 2012-02-28 | Manufacturing method of resin sealing material and resin sealing device |
TW102100215A TWI601573B (en) | 2012-02-28 | 2013-01-04 | Resin sealing material and its manufacturing method |
KR1020130006910A KR20130098898A (en) | 2012-02-28 | 2013-01-22 | Material for resin sealing and manufacturing method for the same |
CN201310056524.8A CN103295975B (en) | 2012-02-28 | 2013-02-22 | Resin seal material and manufacture method thereof |
KR1020150073147A KR20150065641A (en) | 2012-02-28 | 2015-05-26 | Material for resin sealing and manufacturing method for the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012041625A JP6071216B2 (en) | 2012-02-28 | 2012-02-28 | Manufacturing method of resin sealing material and resin sealing device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013176875A JP2013176875A (en) | 2013-09-09 |
JP6071216B2 true JP6071216B2 (en) | 2017-02-01 |
Family
ID=49096626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012041625A Active JP6071216B2 (en) | 2012-02-28 | 2012-02-28 | Manufacturing method of resin sealing material and resin sealing device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6071216B2 (en) |
KR (2) | KR20130098898A (en) |
CN (1) | CN103295975B (en) |
TW (1) | TWI601573B (en) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5627619B2 (en) * | 2012-02-28 | 2014-11-19 | Towa株式会社 | Resin sealing device and method for manufacturing resin sealing body |
JP6057880B2 (en) * | 2013-11-28 | 2017-01-11 | Towa株式会社 | Resin material supply method and supply device for compression molding apparatus |
JP6430143B2 (en) * | 2014-04-30 | 2018-11-28 | Towa株式会社 | Resin molding apparatus, resin molding method, and molded product manufacturing method |
JP6444707B2 (en) * | 2014-11-28 | 2018-12-26 | Towa株式会社 | Electronic component, manufacturing method and manufacturing apparatus |
JP6525580B2 (en) * | 2014-12-24 | 2019-06-05 | Towa株式会社 | Resin molding apparatus and resin molding method |
CN105098030A (en) * | 2015-06-17 | 2015-11-25 | 苏州迈瑞微电子有限公司 | Integrated circuit (IC) package method and package structure |
JP6842234B2 (en) * | 2015-10-13 | 2021-03-17 | ローム株式会社 | Manufacturing method of optical semiconductor device and optical semiconductor device |
JP6506680B2 (en) * | 2015-11-09 | 2019-04-24 | Towa株式会社 | Resin sealing apparatus and resin sealing method |
JP6491120B2 (en) * | 2016-02-13 | 2019-03-27 | Towa株式会社 | Resin sealing device, resin sealing method, and resin molded product manufacturing method |
CN110223992B (en) * | 2019-06-27 | 2021-09-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Display panel, forming die of display panel and preparation method of display panel |
JP7003184B2 (en) * | 2020-06-22 | 2022-01-20 | Towa株式会社 | Resin molding equipment and manufacturing method of resin molded products |
JP7453683B2 (en) * | 2020-09-11 | 2024-03-21 | アピックヤマダ株式会社 | Resin sealing device |
CN113745136B (en) * | 2021-11-08 | 2022-01-04 | 张家港谱析传感科技有限公司 | Electronic component manufacturing equipment |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11246671A (en) * | 1998-02-26 | 1999-09-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Production of granular epoxy resin composition |
JP3594489B2 (en) * | 1998-07-03 | 2004-12-02 | 京セラケミカル株式会社 | Method for manufacturing resin-encapsulated electronic component |
JP2007197571A (en) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Matsushita Electric Works Ltd | Epoxy resin composition for sealing and resin-sealed electronic component |
JP5277569B2 (en) * | 2007-06-11 | 2013-08-28 | 住友ベークライト株式会社 | Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same |
JP2009007524A (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Asahi Glass Co Ltd | Translucent sealing curable composition |
JP2009275110A (en) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Nitto Denko Corp | Resin composition for encapsulating semiconductor and semiconductor device using the same |
JP5086945B2 (en) * | 2008-09-05 | 2012-11-28 | 株式会社東芝 | Manufacturing method of semiconductor device |
MY152342A (en) * | 2008-12-10 | 2014-09-15 | Sumitomo Bakelite Co | Granular epoxy resin composition for encapsulating semiconductor, semiconductor device using the same and method for producing semiconductor device |
MY152389A (en) * | 2008-12-10 | 2014-09-15 | Sumitomo Bakelite Co | Resin composition for encapsulating semiconductor, method for producing semiconductor device and semiconductor device |
JP2010247429A (en) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Apic Yamada Corp | Resin sealing apparatus and resin sealing method using the same |
JP2011171436A (en) * | 2010-02-17 | 2011-09-01 | Tdk Corp | Electronic component built-in module and manufacturing method of the same |
JP2012028651A (en) * | 2010-07-26 | 2012-02-09 | Toshiba Corp | Resin supply device and method for manufacturing semiconductor device |
JP5627619B2 (en) * | 2012-02-28 | 2014-11-19 | Towa株式会社 | Resin sealing device and method for manufacturing resin sealing body |
-
2012
- 2012-02-28 JP JP2012041625A patent/JP6071216B2/en active Active
-
2013
- 2013-01-04 TW TW102100215A patent/TWI601573B/en active
- 2013-01-22 KR KR1020130006910A patent/KR20130098898A/en active Application Filing
- 2013-02-22 CN CN201310056524.8A patent/CN103295975B/en active Active
-
2015
- 2015-05-26 KR KR1020150073147A patent/KR20150065641A/en active Search and Examination
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103295975B (en) | 2016-08-03 |
CN103295975A (en) | 2013-09-11 |
KR20130098898A (en) | 2013-09-05 |
TW201334873A (en) | 2013-09-01 |
KR20150065641A (en) | 2015-06-15 |
JP2013176875A (en) | 2013-09-09 |
TWI601573B (en) | 2017-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5627619B2 (en) | Resin sealing device and method for manufacturing resin sealing body | |
JP6071216B2 (en) | Manufacturing method of resin sealing material and resin sealing device | |
TWI543275B (en) | A method of compression-molding electronic components and an apparatus of metal mold | |
KR100897654B1 (en) | Molding apparatus for resin encapsulation of electronic part | |
JP5824765B2 (en) | Resin molding method, resin molding apparatus, and supply handler | |
CN102971127B (en) | The manufacture method of resin seal electronic device and the resin sealing apparatus of electronic device | |
WO2017081883A1 (en) | Resin-sealing device and resin-sealing method | |
CN105034228B (en) | The manufacturing method of flaky resin body, resin molding apparatus and resin molding method and molded article | |
JP6598642B2 (en) | Resin sealing device and resin sealing method | |
US20120018920A1 (en) | Resin supply device and method for manufacturing semiconductor device | |
JP2012187902A (en) | Resin sealing method and resin sealing device | |
JP5776092B2 (en) | Compression molding method, compression molding apparatus, and resin supply handler | |
JP2010247429A (en) | Resin sealing apparatus and resin sealing method using the same | |
CN1806323A (en) | Resin sealing semiconductor package and method and device for manufacturing the same | |
CN107914355B (en) | Resin material supply device and method, resin molding device, and resin molded product manufacturing method | |
JP4707364B2 (en) | Resin sealing molding method and apparatus for electronic parts | |
JP5065771B2 (en) | Resin sealing device and resin sealing method | |
WO2023228462A1 (en) | Resin molding device, and method for manufacturing resin molded article | |
JP5758823B2 (en) | Manufacturing method of resin-sealed molded product of electronic component, lower mold for compression molding, and resin sealing device | |
TW201916994A (en) | Semiconductor mold compound transfer system and associated methods |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160616 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6071216 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |