JP6071068B2 - 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 - Google Patents

露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6071068B2
JP6071068B2 JP2013531102A JP2013531102A JP6071068B2 JP 6071068 B2 JP6071068 B2 JP 6071068B2 JP 2013531102 A JP2013531102 A JP 2013531102A JP 2013531102 A JP2013531102 A JP 2013531102A JP 6071068 B2 JP6071068 B2 JP 6071068B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
exposure
region
exposure apparatus
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013531102A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2013031223A1 (ja
Inventor
青木 保夫
保夫 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Publication of JPWO2013031223A1 publication Critical patent/JPWO2013031223A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6071068B2 publication Critical patent/JP6071068B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
JP2013531102A 2011-08-30 2012-08-30 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 Active JP6071068B2 (ja)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011186949 2011-08-30
JP2011186922 2011-08-30
JP2011186922 2011-08-30
JP2011186871 2011-08-30
JP2011186949 2011-08-30
JP2011186871 2011-08-30
PCT/JP2012/005466 WO2013031223A1 (fr) 2011-08-30 2012-08-30 Dispositif de traitement de substrat et procédé de traitement de substrat, procédé d'exposition et dispositif d'exposition ainsi que procédé de fabrication d'un dispositif et procédé de fabrication d'un écran plat

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017001562A Division JP6380564B2 (ja) 2011-08-30 2017-01-10 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2013031223A1 JPWO2013031223A1 (ja) 2015-03-23
JP6071068B2 true JP6071068B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=47755751

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013531102A Active JP6071068B2 (ja) 2011-08-30 2012-08-30 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2017001562A Active JP6380564B2 (ja) 2011-08-30 2017-01-10 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP2018141981A Active JP6638774B2 (ja) 2011-08-30 2018-07-30 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2019236526A Pending JP2020074009A (ja) 2011-08-30 2019-12-26 基板処理装置及び基板処理方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017001562A Active JP6380564B2 (ja) 2011-08-30 2017-01-10 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP2018141981A Active JP6638774B2 (ja) 2011-08-30 2018-07-30 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2019236526A Pending JP2020074009A (ja) 2011-08-30 2019-12-26 基板処理装置及び基板処理方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法

Country Status (6)

Country Link
JP (4) JP6071068B2 (fr)
KR (2) KR102105809B1 (fr)
CN (4) CN103782239B (fr)
HK (1) HK1245903A1 (fr)
TW (2) TW201921166A (fr)
WO (1) WO2013031223A1 (fr)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI701514B (zh) * 2014-03-28 2020-08-11 日商尼康股份有限公司 移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、元件製造方法、及移動體驅動方法
US20230290667A1 (en) * 2014-06-17 2023-09-14 Kateeva, Inc. Printing system assemblies and methods
CN115946453A (zh) * 2014-06-17 2023-04-11 科迪华公司 打印系统组件和方法
KR101715785B1 (ko) * 2014-12-05 2017-03-13 프로미스 주식회사 Fpd용 노광장치
WO2016159176A1 (fr) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社ニコン Dispositif d'exposition, procédé de fabrication d'écran plat, procédé de fabrication de dispositif, et procédé d'exposition
CN104820346B (zh) * 2015-04-24 2017-04-12 深圳市大川光电设备有限公司 平板工件的对位方法
US20190377271A1 (en) * 2016-09-30 2019-12-12 Nikon Corporation Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method
JPWO2018181912A1 (ja) * 2017-03-31 2020-02-13 株式会社ニコン 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体の駆動方法
KR102653016B1 (ko) 2018-09-18 2024-03-29 삼성전자주식회사 척 구동 장치 및 기판 처리 장치
CN109870881B (zh) * 2019-03-20 2021-06-15 哈尔滨工业大学 宏微组合式长行程精密运动平台
KR102125677B1 (ko) * 2019-06-27 2020-06-24 세메스 주식회사 기판 처리 방법
CN111082596B (zh) * 2019-12-23 2022-04-15 安徽机电职业技术学院 一种包括二自由度执行机构的自由度多方位微动台

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69735016T2 (de) * 1996-12-24 2006-08-17 Asml Netherlands B.V. Lithographisches Gerät mit zwei Objekthaltern
JP2000040662A (ja) * 1999-08-05 2000-02-08 Nikon Corp 露光装置
JP2001313246A (ja) * 2000-04-28 2001-11-09 Nikon Corp 露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法及びデバイス
KR20010034990A (ko) * 2000-06-29 2001-05-07 박용석 반도체 및 평판디스플레이용 멀티기능을 갖춘 집적제조장치
JP2002251017A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
TWI226303B (en) * 2002-04-18 2005-01-11 Olympus Corp Substrate carrying device
ATE429031T1 (de) * 2003-08-07 2009-05-15 Nikon Corp Belichtungsverfahren
JP2005317916A (ja) * 2004-03-30 2005-11-10 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2006049384A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Laserfront Technologies Inc ガントリー型xyステージ
KR101116630B1 (ko) * 2005-03-28 2012-03-07 엘지디스플레이 주식회사 평판표시장치용 노광장비 및 이를 이용한 기판의포토리소그라피 방법
JP2008182002A (ja) * 2007-01-24 2008-08-07 Dainippon Printing Co Ltd 基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP4652351B2 (ja) * 2007-02-02 2011-03-16 大日本印刷株式会社 基板支持装置、基板支持方法
WO2008129762A1 (fr) 2007-03-05 2008-10-30 Nikon Corporation Appareil à corps mobile, appareil de formation de motif, procédé de fabrication de motif, procédé de fabrication de dispositif, procédé de fabrication d'appareil à corps mobile, et procédé d'entraînement de corps mobile
US8896809B2 (en) * 2007-08-15 2014-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2009088297A (ja) * 2007-09-29 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd 載置装置、載置方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP2009147240A (ja) * 2007-12-18 2009-07-02 Dainippon Printing Co Ltd 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP2009200122A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP2010067867A (ja) * 2008-09-11 2010-03-25 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US8599359B2 (en) 2008-12-19 2013-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method
CN201364460Y (zh) * 2009-01-20 2009-12-16 清华大学 一种光刻机硅片台双台交换装置
KR102211255B1 (ko) * 2009-05-15 2021-02-02 가부시키가이샤 니콘 이동체 장치, 용력 전달 장치, 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
US20110042874A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8699001B2 (en) * 2009-08-20 2014-04-15 Nikon Corporation Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method
JP5573849B2 (ja) * 2009-08-20 2014-08-20 株式会社ニコン 物体処理装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8598538B2 (en) * 2010-09-07 2013-12-03 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019049694A (ja) 2019-03-28
WO2013031223A1 (fr) 2013-03-07
KR102105809B1 (ko) 2020-05-28
CN103782239A (zh) 2014-05-07
CN103782239B (zh) 2017-09-05
JP2017102468A (ja) 2017-06-08
HK1245903A1 (zh) 2018-08-31
KR20140084007A (ko) 2014-07-04
JP6638774B2 (ja) 2020-01-29
JPWO2013031223A1 (ja) 2015-03-23
TW201319758A (zh) 2013-05-16
CN107479332B (zh) 2020-04-03
JP2020074009A (ja) 2020-05-14
KR20200046127A (ko) 2020-05-06
TWI650612B (zh) 2019-02-11
KR102226989B1 (ko) 2021-03-11
TW201921166A (zh) 2019-06-01
CN107479332A (zh) 2017-12-15
CN107357137A (zh) 2017-11-17
CN109324485A (zh) 2019-02-12
JP6380564B2 (ja) 2018-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6380564B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP6904384B2 (ja) 移動体装置及び物体の移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法
JP6628154B2 (ja) 物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法
JP5573849B2 (ja) 物体処理装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP6708222B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、並びにデバイス製造方法
WO2013031235A1 (fr) Procédé d'alignement, procédé d'exposition, procédé de fabrication de dispositif, et procédé de fabrication d'un écran plat
JP7384242B2 (ja) 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
TW201643556A (zh) 曝光裝置、平面顯示器之製造方法、元件製造方法、及曝光方法
TWI685911B (zh) 物體更換系統、物體更換方法、及曝光裝置
JP2014038225A (ja) 露光方法及び露光装置、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法
JP2019045875A (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP6447845B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP2013051231A (ja) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP2016170427A (ja) 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160519

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161209

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161222

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6071068

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250