JP6056082B2 - 表示装置および電子機器 - Google Patents
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Description
1.実施の形態(第2電極を2層構造とし、有機層側の局所的な領域に絶縁(高抵抗)部分を有する表示装置の例)
・構成
・製造方法(修復工程を含む)
2.変形例1−1〜1−4(サブ画素レイアウトの他の例)
3.変形例2(アノードリフレクタの例)
4.適用例(電子機器の例)
[構成]
図1は、本開示の一実施の形態に係る表示装置(表示装置1)の構成を表すものである。この表示装置1は、例えば有機EL表示装置であり、基板11上の表示領域110には、複数の画素(サブピクセル)PXLCが、例えばマトリクス状に配置されている。各画素PXLCは、有機EL素子10Aを含み、例えば赤色の光LR(波長620nm〜750nm),緑色の光LG(波長495nm〜570nm),青色の光LB(波長450nm〜495nm)または白色の光LWを発生する。ここでは、これら4種の画素PXLC(R画素,G画素,B画素,W画素)の組により1つのピクセルが構成される場合を例に挙げて説明する。表示領域110の周辺には、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130が設けられている。
図9は、上記のような表示装置1の製造工程(有機EL素子10Aの製造工程)の流れを表したものである。このように、まず、駆動基板10を形成する(ステップS1)。具体的には、基板11上に、例えば低温ポリシリコンプロセスにより、上述したトラジスタTr1,Tr2、キャパシタCs等を含む画素駆動回路140を形成する。この後、平坦化層13を基板11の全面に成膜した後、パターニングすることによりコンタクトホール等を形成する。
図11は、逆バイアス印加工程において用いられる修復装置(修復装置41)を含むシステム構成を表したものである。修復装置41は、外部電源40に接続されており、この外部電源40から供給される電力に基づいて、設置部42に設置されたパネル43を通電可能となっている。設置部42は、パネル43を所定の位置に載置するためのものであり、例えばホットプレートなどを含んで構成されている。ここで、修復対象となるパネル43は、製造工程中の半製品状態にあるものである。具体的には、パネル43は、画素駆動回路140、走査線駆動回路130および信号線駆動回路120が形成された駆動基板10上に、第1電極14、バンク15、有機層16および第1導電膜17Aが形成された状態(信号線ドライバIC等が接続される前の状態)の素子基板である。図12に、修復装置41の機能構成を、画素駆動回路140および走査線駆動回路130の構成と共に示す。
修復装置41は、例えば、垂直駆動条件発生回路44と、バイアス電圧発生回路45と、バイアス電圧駆動回路46と、修復素子選択制御回路47と、修復信号電位発生回路48とを含んで構成されている。この修復装置41は、例えばパネル43(表示装置1)における信号線駆動回路120を停止させた状態で、特定領域内の画素駆動回路140に修復信号を供給すると共に、有機EL素子10Aに逆バイアス電圧を印加することにより、滅点の修復動作を行うものである。
まず、修復動作に先立ち、有機EL素子10Aを発光させる場合(有機EL素子10Aの表示動作)について説明する。図13Aは、表示動作時の画素駆動回路140の動作状態を、修復素子選択線47A、選択トランジスタTr3および修復用信号線48Aと共に表したものである。図13Bは、表示動作時において正常に発光する場合の動作状態について表したものである。尚、トランジスタTr1〜Tr3は、オンオフ状態(開閉状態)がわかるように、スイッチの回路記号として図示している。表示動作時において、画素駆動回路140では、走査線駆動回路130により、走査線130Aにオン電圧が印加され、トランジスタTr2がオン状態に制御される。これにより、信号線駆動回路120から信号線120Aを通じて供給される信号データが、トランジスタTr1のゲートに印加される。またこの際、信号データは保持容量Csに保持される。この信号データは、トランジスタTr2がオフ状態に切り替わった後も保持容量Csに保持される。この結果、トランジスタTr1には、ゲート・ソース間電圧Vgsに応じたドレイン電流Idsが継続的に流れる。このドレイン電流Idsが有機EL素子10Aに供給されることで、有機EL素子10Aが継続的に発光する。
図13Dは、修復動作時の画素駆動回路140の動作状態を、修復素子選択線47A、選択トランジスタTr3および修復用信号線48Aと共に表したものである。有機EL素子10Aは、ダイオード接続されたトランジスタTr4、寄生容量成分C1および抵抗成分R1として表される。このような等価回路において、有機EL素子10Aに逆バイアス電圧を印加することにより、有機EL素子10Aが有するダイオード特性により、抵抗成分R1に対して逆方向電流Idを流すことができる。
修復動作時に有機EL素子10Aに印加される逆バイアス電圧は、上記のような交流に限らず、直流であってもよい。この場合、陰極線電圧Vcatとして例えば10Vが、電源電圧Vccとして例えば5Vがそれぞれ印加されることにより、有機EL素子10Aに逆バイアス電圧(5V)が継続的に印加される。直流駆動の場合も、逆方向電流Idを抵抗成分R1に継続的に流すことで、異物X付近の温度を上昇させ、第1導電膜17Aに絶縁部分17a1を形成することができる。
上記のような修復動作時には、図11に示したように設置部42にパネル43を設置し、パネル43を通電する(逆バイアス電圧を印加する)。この際、具体的には、パネル43の端部に形成されたパッド(パッド49a〜49e)に、針(プローブ)(針50a〜50e)をあてて(接触させて)、パネル43と修復装置41とを電気的に接続させる。
本実施の形態の表示装置1では、図1および図2に示したように、走査線駆動回路130から各画素のトランジスタTr2のゲートに走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路120からは画像信号が、トランジスタTr2を介して保持容量Csに供給され、保持される。この保持容量Csに保持された信号に応じてトランジスタTr1がオンオフ制御され、これによって、有機EL素子10Aに駆動電流(ドレイン電流Ids)が注入される。この駆動電流が、第1電極14および第2電極17を通じて有機層16の発光層に注入されることにより、有機層16では、正孔と電子との再結合により、発光が起こる。ここでは、各有機EL素子10Aの有機層16から白色光が発生する。
図16は、変形例1−1に係る画素PXLCの配列の一例を表したものである。上記実施の形態では、例えば、R,G,B,Wの4つの画素PXLCが表示単位U(ピクセル)を構成する場合について説明したが、本変形例のように、R,G,Bの3つの画素PXLCが1つの表示単位Uを構成していてもよい。この場合、短冊状の画素PXLCが、例えば全体としてストライプ状に並列して配置されたレイアウトとなる。
図19は、変形例1−2に係る画素PXLCを形成するためのカラーフィルタ層19、有機層16および開口部WINの各レイアウトの一例を表したものである。本変形例では、R,G,Bの3つの画素PXLCから表示単位Uが構成され、有機層16がR,G,Bの各色に塗り分けられている(画素PXLC毎に異なる色の発光層が形成されている)点で、上記実施の形態と異なっている。本変形例では、図20に示したように、カラーフィルタ層19のR,G,Bの各領域に対向して、有機層16には、3色の発光層(16R,16G,16B)が形成されている。
図21は、変形例1−3に係る画素PXLCを形成するためのカラーフィルタ層19、有機層16および開口部WINの各レイアウトの一例を表したものである。本変形例では、R,G,Bの3つの画素PXLCから表示単位Uが構成され、有機層16がY,Bの2色に塗り分けられている点で、上記実施の形態と異なっている。本変形例では、図22に示したように、カラーフィルタ層19のうちR,Gの領域に対向して、有機層16では黄色(Y)発光層(黄色発光層16Y)が形成されている。カラーフィルタ層19のうちBの領域に対向して、有機層16では青色(B)発光層(青色発光層16B)が形成されている。
図23は、変形例1−4に係る画素PXLCを形成するためのカラーフィルタ層19、有機層16および開口部WINの各レイアウトの一例を表したものである。本変形例では、R,G,B,Yの4つの画素PXLCから表示単位Uが構成され、有機層16がY,Bの2色に塗り分けられている点で、上記実施の形態と異なっている。本変形例では、図24に示したように、有機層16において、カラーフィルタ層19のうちR,Y,Gに対向する領域に、黄色発光層16Yが形成されている。カラーフィルタ層19のうちBに対向する領域には、青色発光層16Bが形成されている。
上記実施の形態では、バンク15の開口部WINが画素PXLC(有機EL素子10A)と1対1対応で設けられた構成を例示したが、本変形例のように、1つの画素PXLCに複数の開口部WINを設け、いわゆるリフレクタ(アノードリフレクタ)を形成してもよい。図25は、変形例2に係るアノードリフレクタを有する素子の断面構造を表したものである。この場合、バンク15には、第1電極14が形成された領域の一部に複数の開口部WINが設けられている点で、上記実施の形態と異なっている。これらの第1電極14およびバンク15の上部には、複数の開口部WINを覆うように、有機層16が形成されている。
1.1≦n1≦1.8 ………(1)
n1−n2≧0.20 ………(2)
上記実施の形態および変形例において説明した表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するあらゆる分野の電子機器に用いることができる。その際、例えば図39に示したようなモジュールとして、以下に挙げるようなテレビジョン装置,デジタルカメラ,ビデオカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話およびスマートフォン等の携帯端末装置などの電子機器に組み込まれる。図39において、基板11には、例えば2次元配置されたサブ画素(上述の有機EL素子10Aを含む画素PXLC)を含む表示領域110と、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130等とが形成されている。基板11の一辺には、封止基板20から露出した領域210が設けられ、この領域210に、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130の配線を延長して外部接続端子(図示せず)が形成されている。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)220が設けられている。
(1)
第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上に順に積層された第1の導電膜と第2の導電膜とを含む第2電極と
を備えた表示装置。
(2)
前記第1の導電膜の厚みは、前記第2の導電膜の厚みよりも小さい
上記(1)に記載の表示装置。
(3)
前記第1の導電膜の厚みは、前記第2の導電膜の厚みの10分の1以下である
上記(2)に記載の表示装置。
(4)
前記第1および第2の導電膜は光透過性を有する
上記(1)〜(3)のいずれかに記載の表示装置。
(5)
前記第1の導電膜は、他の部分よりも高抵抗の局所部分を含む
上記(4)に記載の表示装置。
(6)
前記第1および第2の導電膜は、互いに同一の材料からなる
上記(4)または(5)に記載の表示装置。
(7)
前記第1および第2の導電膜は、インジウム亜鉛酸化物(IZO)からなる
上記(6)に記載の表示装置。
(8)
前記第1の導電膜はマグネシウム(Mg)と銀(Ag)との合金を含み、
前記第2の導電膜はインジウム亜鉛酸化物(IZO)を含む
上記(4)または(5)に記載の表示装置。
(9)
前記第1の導電膜と前記第2の導電膜との間に酸化膜を有する
上記(1)〜(8)のいずれかに記載の表示装置。
(10)
前記第1の導電膜は透明導電膜であり、
前記第2の導電膜は、光反射性を有する金属膜である
上記(1)〜(3)のいずれかに記載の表示装置。
(11)
第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上に順に積層された第1の導電膜と第2の導電膜とを含む第2電極と
を備えた表示装置を有する電子機器。
(12)
第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層上に、他の部分よりも高抵抗の局所部分を含む第2電極と
を備えた表示装置。
(13)
前記第2電極は、前記有機層の上に順に積層された第1の導電膜と第2の導電膜を含み、
前記局所部分は、前記第1の導電膜に形成されている
上記(12)に記載の表示装置。
Claims (7)
- 第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上に形成された第2電極と
を備え、
前記第2電極は、前記有機層の側から順に、
透明導電膜から構成されると共に、ショート箇所に他の部分よりも高抵抗な局所部分を含む第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上に積層され、前記第1の導電膜と同一の透明導電膜から構成されると共に、前記第1の導電膜よりも大きな厚みを有する第2の導電膜と
を有する
表示装置。 - 前記第1の導電膜の厚みは、前記第2の導電膜の厚みの10分の1以下である
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1の導電膜と前記第2の導電膜との間に酸化膜を有する
請求項1に記載の表示装置。 - 第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上に形成された第2電極と
を備え、
前記第2電極は、前記有機層の側から順に、
透明導電膜から構成されると共に、ショート箇所に他の部分よりも高抵抗な局所部分を含む第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上に積層され、光反射性を有する金属膜を含むと共に、前記第1の導電膜よりも大きな厚みを有する第2の導電膜と
を有する
表示装置。 - 前記第2の導電膜は銀(Ag)を含む
請求項4に記載の表示装置。 - 第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上に形成された第2電極と
を備え、
前記第2電極は、前記有機層の側から順に、
透明導電膜から構成されると共に、ショート箇所に他の部分よりも高抵抗な局所部分を含む第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上に積層され、前記第1の導電膜と同一の透明導電膜から構成されると共に、前記第1の導電膜よりも大きな厚みを有する第2の導電膜と
を有する
表示装置を有する電子機器。 - 第1電極と、
前記第1電極上に形成され、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上に形成された第2電極と
を備え、
前記第2電極は、前記有機層の側から順に、
透明導電膜から構成されると共に、ショート箇所に他の部分よりも高抵抗な局所部分を含む第1の導電膜と、
前記第1の導電膜上に積層され、光反射性を有する金属膜を含むと共に、前記第1の導電膜よりも大きな厚みを有する第2の導電膜と
を有する
表示装置を有する電子機器。
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