JP6054649B2 - 光選択透過フィルター形成用樹脂組成物及びその用途 - Google Patents

Description

本発明は、光選択透過フィルター形成用樹脂組成物及びその用途に関する。より詳しくは、光学部材やオプトデバイス部材の他、表示デバイス部品、機械部品、電気・電子部品等の用途に有用な光選択透過フィルターの形成に用いられる樹脂組成物、それを用いた光選択透過フィルター及び吸収シート、並びに、光選択透過フィルターを有する固体撮像素子に関する。

光選択透過フィルターは、特定波長の光の透過率を選択的に低減するフィルターであり、低減させる光の波長に応じて、赤外線（ＩＲ）カットフィルター、紫外線カットフィルター、赤外・紫外線カットフィルター等が挙げられる。このような光選択透過フィルターは、例えば、光学部材やオプトデバイス部材の他、表示デバイス部品、機械部品、電気・電子部品等に用いられる光学フィルターとして有用なものである。例えば、代表的な光学部材の１つとして、携帯電話用カメラやデジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等の光学撮像装置に搭載される固体撮像素子（カメラモジュールとも称す）があるが、固体撮像素子においては、画像処理等の妨げとなる光学ノイズの低減を、光学ノイズとなる赤外線（特に波長＞７８０ｎｍの近赤外線領域）を遮断する赤外線（ＩＲ）カットフィルターを備えることで行うことが一般的である。

このような固体撮像素子に代表される光学部材等の分野では、近年、デジタルカメラモジュールが携帯電話に搭載される等、小型化が進みつつあり、これに伴って、光選択透過フィルターの薄膜化への要望が高まっている。光選択透過フィルターは、主に、基材に金属等を蒸着させ無機多層膜とし、各波長の屈折率を制御したものが用いられており、その基材として、従来はガラス板が用いられてきたが、薄膜化の要望の高まりを受けて樹脂を基材とする技術が検討されている。近年ではまた、携帯電話、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等の屋外でも使用できる用途への適用も検討されているが、これらの屋外使用用途では、直射日光暴露等の外部環境への耐性、すなわち高いレベルの耐光性が要求されることになる。

基材に樹脂を用いた光選択透過フィルターとしては、主に、光を反射する機能を有する反射型フィルターと、吸収する機能を有する吸収型フィルターとがあるが、反射型フィルターは、光の遮断性能には優れるものの、光の入射角によって反射特性が変化する入射角依存性（視野角依存性とも称す）を有しており、その低減が課題であった。一方、吸収型フィルターは、入射角依存性はないものの、充分な吸収特性を実現するためには相当な厚みが必要であり、薄膜化の観点から工夫の余地があった。

そこで、反射機能と吸収機能とを併用したフィルターが提案されており、例えば、特許文献１には、ガラス基板上に、近赤外吸収剤を含む顔料インクを塗布・乾燥して得られる光吸収膜と、該光吸収膜よりも高屈折率の膜とを、交互に多層積層した光吸収フィルターが開示されている。この光吸収フィルターは、角度依存性を低減しつつ薄膜化をも実現しようとするものである。また、特許文献２には、視野角が広く、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物やソリのない近赤外線カットフィルターを得ることを目的として、特定のスクワリリウム系化合物を含有した樹脂製基板を有する近赤外線カットフィルターが開示されている。更に、特許文献３には、薄型化が可能になり、かつ可視光線領域で高い透明性を有するとともに、近赤外線領域で優れた阻止能を有する近赤外線カットフィルターを提供することを目的として、透明な基材１と、基材１の片面又は両面に形成された光学多層膜２、３と、基材１の少なくとも片面に形成された少なくとも一層の樹脂吸収膜４とからなる近赤外線カットフィルターが開示されている。この特許文献３では、光学多層膜２、３は、屈折率の異なる２種以上の薄膜を交互に積層してなり、可視光線領域で高透過特性を示すとともに近赤外線領域で低透過特性を示す膜であり、樹脂吸収膜４は、染料又は顔料を添加した樹脂材料を膜状に塗工してなり、染料又は顔料は近赤外線領域に吸収を有する膜であると記載されている。

特開２００６−１０６５７０号公報 特開２０１２−００８５３２号公報 特開２００６−３０１４８９号公報

上述したように種々の光選択透過フィルターが検討されており、遮断したい波長域（例えば、赤外領域）をシャープに遮断でき、かつ透過させたい波長域（例えば、可視領域）では高い透過率を示すといった光選択透過性に優れるとともに、遮断性能の入射角依存性のより一層の低減及び薄膜化を達成することできる光選択透過フィルターが望まれている。しかしながら、従来の樹脂組成物には、これらの要求をすべて充分に満足できるものは未だない。例えば、特許文献１〜３に記載の光選択透過フィルターでは、入射角依存性をより一層低減し、よりシャープな光選択透過性を発揮させるための工夫の余地があった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、優れた光選択透過性を有し、入射角依存性が充分に低減され、かつ薄膜化への要請に充分に対応できる光選択透過フィルターを形成することができる樹脂組成物、それを用いた光選択透過フィルター、該光選択透過フィルターに用いられる吸収シート及び該光選択透過フィルターを有する固体撮像素子を提供することを目的とする。

本発明者等は、光選択透過フィルターの形成に有用な樹脂組成物について種々検討したところ、各種用途に適用可能な光選択透過フィルターを得るためには、耐光性、耐熱性の観点からフタロシアニン系色素を用いた樹脂組成物が有用であることに着目した。そして、色素と樹脂成分とを含む樹脂組成物において、色素としてフタロシアニン系色素を用いた場合、フタロシアニン系色素の存在形態によって可視光の長波長側（６００ｎｍ以上）の吸収領域における吸収特性に違いが生じることを見いだした。具体的には、フタロシアニン系色素は平面性に優れる分子構造からなるため、単一分子として存在する場合と、会合した状態（会合分子）で存在する場合とで吸収極大ピークの位置が異なり、長波長側に単一分子由来のピーク（吸収極大）が、短波長側に会合分子由来のピーク（吸収極大）が各々表れることを見いだした。そして、樹脂組成物中のフタロシアニン系色素の会合状態を、分子の電子状態によってコントロールできることを見いだし、フタロシアニン環構造のα位（１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５位）の炭素原子にフッ素原子が結合し、かつβ位（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４位の位置）の炭素原子のうち特定数以上の炭素原子に電子求引性基を有するフェノキシ基が結合した構造とすると、該色素が会合分子構造をとりやすくなることに起因して、６００ｎｍに近い短波長域での吸収ピークが高くなり、例えば反射膜と組み合わせた場合に入射角依存性を充分に低減できる光選択透過フィルターが得られることを見いだした。

このような樹脂組成物の特異な光学特性は、光選択透過フィルターに適用する場合に、中でも撮像レンズ等のレンズ用光選択透過フィルターに適用する場合に特に有効である。また、光選択透過フィルターが有する吸収シートとして、このような樹脂組成物により形成される樹脂層を含む構成の吸収シートを用いると、反射膜（反射層）を更に含む場合に、入射角依存性を長期にわたり安定して低減できる光選択透過フィルターとなることも見いだし、更に、基材にガラスを用いる場合と比較して光選択透過フィルター全体を大幅に薄膜化できることも見いだした。そして、このような光選択透過フィルターが、固体撮像素子等の光学用途やオプトデバイス用途等、中でも特にレンズ用途に極めて有効な光選択透過フィルターであることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達した。

すなわち本発明は、色素及び樹脂成分を含み、光選択透過フィルターの形成に用いられる樹脂組成物であって、該色素は、下記一般式（Ｉ）：

（式中、Ｍは、金属原子を表す。Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４は、同一又は異なって、水素原子（Ｈ）、フッ素原子（Ｆ）又は置換基を有していてもよいＯＲ^ｉ基を表す。ＯＲ^ｉ基は、アルコキシ基、フェノキシ基又はナフトキシ基を表す。但し、Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４のうち少なくとも４個は、同一又は異なって、電子求引性基を有するフェノキシ基を表す。）で表されるフタロシアニン系色素である光選択透過フィルター形成用樹脂組成物である。

本発明はまた、吸収シートを含む光選択透過フィルターであって、該吸収シートは、上記光選択透過フィルター形成用樹脂組成物から形成される樹脂層を含む光選択透過フィルターである。
本発明は更に、上記光選択透過フィルターに用いられる吸収シートでもある。
本発明はそして、上記記載の光選択透過フィルター、レンズユニット部、及び、センサー部を少なくとも有する固体撮像素子でもある。
以下に本発明を詳述する。なお、以下において段落に分けて記載される本発明の好ましい形態の２つ又は３つ以上を組み合わせたものも本発明の好ましい形態である。

〔光選択透過フィルター形成用樹脂組成物〕
本発明の光選択透過フィルター形成用樹脂組成物（以下、単に樹脂組成物とも称す）は、光選択透過フィルターの形成に用いられる樹脂組成物であり、色素及び樹脂成分を含むものであるが、色素と樹脂成分とを含む樹脂組成物中に色素が分散又は溶解された形態であることが好適である。
なお、色素及び樹脂成分としては、各々、１種又は２種以上を使用することができ、また、上記樹脂組成物は、必要に応じて更にその他の成分を１種又は２種以上含むものであってもよい。

−色素−
上記色素は、上述した一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン系色素（以下、特定色素とも称す）である。上記樹脂組成物がこのような特定色素を含むことにより、光選択透過フィルターに求められる分光特性を充分に満足することが可能になるとともに、得られる光選択透過フィルターが、耐光性、耐熱性にも優れるものとなる。

上記一般式（Ｉ）において、Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４は、同一又は異なって、水素原子（Ｈ）、フッ素原子（Ｆ）又は置換基を有していてもよいＯＲ^ｉ基を表し、ＯＲ^ｉ基は、アルコキシ基、フェノキシ基又はナフトキシ基を表すが、Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４のうち少なくとも４個は、同一又は異なって、置換基として電子求引性基を有するフェノキシ基を表す。ここで、ＯＲ^ｉ基がアルコキシ基である場合、Ｒ^ｉは、例えば、炭素数１〜２０のアルキル基であることが好適である。より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基である。

上記ＯＲ^ｉ基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ）、ハロゲン基（ハロゲン原子）、シアノ基（−ＣＮ）、ニトロ基（−ＮＯ_２）等の電子求引性基；アルキル基（−Ｒ）等の電子供与性基；等が挙げられ、これらの１又は２以上を含んでいてもよい。
なお、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ）及びアルキル基（−Ｒ）を構成するＲは、炭素数１〜８のアルキル基であることが好適である。アルコキシカルボニル基として好ましくは、メトキシカルボニル基又はメトキシエトキシカルボニル基であり、アルキル基として好ましくは、メチル基又はジメチル基である。

上記電子求引性基として好ましくは、アルコキシカルボニル基、クロル基（塩素原子）、ニトロ基又はシアノ基であり、より好ましくは、メトキシカルボニル基、クロル基、ニトロ基又はシアノ基である。

上記Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４は、上述したようにこれらのうちの少なくとも４個が電子求引性基を有するフェノキシ基を表すが、当該電子求引性基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、各フェノキシ基中の電子求引性基の数は特に限定されないが、例えば、１〜４個であることが好ましく、より好ましくは１又は２個である。なお、１個のフェノキシ基が２個以上の電子求引性基を有する場合、当該電子求引性基は同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、各フェノキシ基における電子求引性基の位置は特に限定されるものではない。

また上記Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４の一部が、電子求引性基を有するフェノキシ基以外の基である場合、当該基は、水素原子（Ｈ）、フッ素原子（Ｆ）、又は、置換基を有していてもよいＯＲ^ｉ基（但し、電子求引性基を有するフェノキシ基を除く）であればよい。中でも、フェノキシ基、電子供与性基を有するフェノキシ基、又は、フッ素原子（Ｆ）であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子（Ｆ）である。なお、電子供与性基としてはアルキル基が好適である。

上記Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４として好ましくは、Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４の全てが、同一又は異なって、電子求引性基を有するフェノキシ基を表すことである。これにより、上記特定色素の会合性がより高くなることに起因して、遮断したい波長域をシャープに遮断でき、かつ透過させたい波長域では高い透過率を示すという光選択透過性（遮断透過特性）をより一層発揮できる光選択透過フィルターを与えることができ、また、反射膜による入射角依存性をより大幅に低減することが可能になるため好適である。このように、上記一般式（Ｉ）におけるＸ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４の全てが、同一又は異なって、電子求引性基を有するフェノキシ基を表す形態もまた、本発明の好適な形態の１つである。

上記一般式（Ｉ）において、Ｍは、金属原子を表す。金属原子としては特に限定されず、例えば、銅、亜鉛、インジウム、コバルト、バナジウム、鉄、ニッケル、錫、銀、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、鉛等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を使用することができる。中でも、溶解性、可視光透過性、耐光性がより優れることから、銅、バナジウム及び亜鉛のいずれか１以上を中心金属とするものが好ましい。より好ましくは銅又は亜鉛である。銅を中心金属とするフタロシアニン系色素は、どのような樹脂成分（バインダー樹脂）に分散させても光による劣化がなく、非常に優れた耐光性を有する。一方、亜鉛を中心金属とするフタロシアニン錯体（フタロシアニン系色素）は、樹脂成分に対する溶解性に優れ、４００〜６００ｎｍの波長領域での高い光透過性と、６００〜８００ｎｍの波長領域での高い光吸収性とを有する光選択透過フィルターが得られ易いため、特に好ましい。

上記特定色素はまた、６００〜８００ｎｍの波長域に２つの吸収極大波長を有し、その少なくとも１つの吸収極大波長が６００〜７３０ｎｍに存在するものであることが好適である。つまり、吸収極大波長が６００〜８００ｎｍの波長域に２つあり、そのうち少なくとも１つが６００〜７３０ｎｍに存在することが好ましい。このような吸収特性を有することで、遮断したい波長域をよりシャープに遮断でき、かつ透過させたい波長域では高い透過率を示すという光選択透過性により一層優れるものとなり、また、このような色素を用いた吸収シートを反射膜と組み合わせた際に、反射膜による入射角依存性をより大幅に軽減することが可能になる。

上記２つの吸収極大波長のうち、短波長側の波長をλ_Ａ１、長波長側の波長をλ_Ａ２とすると、λ_Ａ１が、好ましくは７３０ｎｍ以下の波長域に存在することであり、より好ましくは７００ｎｍ以下の波長域に存在することである。また、吸収極大波長λ_Ａ１の下限は６５０ｎｍ以上であることが好ましい。なお、波長５００ｎｍにおける透過率が９０％以上であり、かつ、最大吸収波長λ_Ａ１における透過率が６０％以下である色素を用いることが好ましい。最大吸収波長λ_Ａ１における透過率は、より好ましくは５０％以下、更に好ましくは３０％以下、特に１０％以下である。

色素の吸収極大波長は、通常の手法で吸収スペクトルを測定することで求めることができるが、別法として、色素の透過率スペクトルから求めることもできる。いずれの場合も溶媒分散法を用いることが好ましい。
溶媒分散法とは、色素を溶媒（例えば、クロロホルム、ジメチルアセトアミド）に溶解又は分散させて得た溶液（分散液を含む）を、１ｃｍ厚の透明石英セルに充填し、分光光度計（例えば、Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ−３１００、島津製作所社製）を用いて測定することができる。測定モードを吸光度とすれば色素の吸収スペクトルが、測定モードを透過率とすれば色素の透過率スペクトルが得られる。測定時の色素の濃度は特に限定されないが、例えば、溶媒と色素との総量１００質量％に対し、色素を０．０００００１〜０．０１質量％とすることが好ましく、より好ましくは０．００００１〜０．００１質量％とすることである。

上記特定色素はまた、樹脂膜評価法による吸光度特性を評価したときに、上記２つの吸収極大波長（λ_Ａ１、λ_Ａ２）において、これらのうち吸収率が最も大きいピークの波長（すなわち透過率が最も低いピークの波長）が、λ_Ａ１であることが好適である。これにより、６００ｎｍに近い短波長側でシャープな透過吸収特性を示すことが可能になるため、光選択透過性に更に優れるものとなる。
また上記２つの吸収極大波長（λ_Ａ１、λ_Ａ２）での吸光度の比（Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１）は、小さければ小さいほど、λ_Ａ１より短波長側の吸収波形がシャープになるため好適である。具体的には、０．６以下であることが好適である。（Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１）が０．６より大きいと、最大吸収波長より短波長側の吸収の立ち上がりがなだらかになるおそれがある。吸光度の比（Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１）として好ましくは０．６以下、より好ましくは、０.４５以下である。また、（Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１）の下限値は０以上であることが好適である。

上記「樹脂膜評価法」とは、樹脂成分に分散又は溶解含有させた膜の状態で吸光度特性を評価する方法である。
「樹脂成分に分散又は溶解含有させた膜」とは、特定色素と樹脂成分とからなる膜であって、２つの吸収極大波長（λ_Ａ１、λ_Ａ２）での吸光度が評価できる条件（λ_Ａ１、λ_Ａ２における吸光度が分光光度計の測定限界を超えずに、吸光度を測定できる条件）を満足するよう、特定色素の含有割合及び膜の厚みが選択された膜であればよい。
上記樹脂膜評価法において、評価用の膜は、特定色素の含有割合が０．０１〜１５質量％の範囲、膜の厚みが０．１〜１０μｍの範囲から選択されることが好ましく、膜における特定色素の含有割合が３質量％、膜の厚みが３μｍであることがより好ましい。
評価用の膜は、特定色素と樹脂成分とを含み（必要に応じて溶媒を含んでもよい）、透明な基材（ガラス、透明樹脂フィルム）に成膜（塗布、必要に応じて乾燥）することにより得ることができる。このようにして得られた膜付き基材の吸光度を測定することにより、当該色素の吸光度Ａ_Ａ１、Ａ_Ａ２、Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１を求めることができる。

ここで、特定色素と樹脂成分の組合せによっては、特定色素の含有割合及び膜の厚みを変えても、λ_Ａ２の位置に吸収極大が観測されない場合もある。このような場合はλ_Ａ１における吸光度が飽和せず吸光度を測定できる膜において、λ_Ａ１における吸光度（極大値）Ａ_Ａ１、及び、溶媒分散法で確認したλ_Ａ２に対応する波長における吸光度をＡ_Ａ２とみなし、その比（Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１）を求めればよい。
なお、評価用の樹脂成分としては特に限定されないが、後述する本発明の樹脂成分として使用し得る樹脂成分の少なくとも１種を用いた膜において、上述した（Ａ_Ａ２／Ａ_Ａ１）比を満足する特定色素であれば、本発明の樹脂組成物に好適に用いることができる。評価用の樹脂成分としては、後述する溶剤可溶性樹脂であることが好ましい。評価用の樹脂成分として好ましい樹脂成分はまた、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ（アミド）イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂からなる群から選択される１種であることが好ましい。中でも、フッ素化芳香族ポリマー又はポリ（アミド）イミド樹脂がより好ましく、さらに好ましくは、ポリ（アミド）イミド樹脂であり、特に好ましくはポリイミド樹脂である。
吸光度は、例えば、島津製作所製：ＵＶ−１８００（測定機械）を用いて測定することができる。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物を得るには、例えば、特公平６−３１２３９号公報等の従来公知方法により合成できる。具体的には、金属、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる一種と、下記一般式（ＩＩ）：

（式中、Ｘ^ａ及びＹ^ａは、同一又は異なって、水素原子（Ｈ）、フッ素原子（Ｆ）又は置換基を有していてもよいＯＲ^ｉ基を表し、ＯＲ^ｉ基は、アルコキシ基、フェノキシ基又はナフトキシ基を表す。）で表されるフタロニトリル誘導体とを、無溶媒又は有機溶媒の存在下で、加熱して反応させることにより得ることが好適であり、中でも、有機溶媒中で反応させることが好ましい。フタロニトリル誘導体の環化反応は、特に制限されるものではなく、特公平６−３１２３９号公報、特許第３７２１２９８号公報、特許第３２２６５０４号公報、特開２０１０−７７４０８号公報等に記載された従来公知の方法を単独で又は適宜修飾して適用することができる。置換基及びＯＲ^ｉ基の具体的な形態は、上記一般式（Ｉ）に関して上述したとおりである。

上記一般式（ＩＩ）において、Ｘ^ａ及びＹ^ａとして好ましくは、これらのうち少なくとも１個が、電子求引性基を有するフェノキシ基を表すことである。より好ましくは、Ｘ^ａ及びＹ^ａのいずれもが、同一又は異なって、電子求引性基を有するフェノキシ基を表すことである。

上記反応では、上記一般式（ＩＩ）で表されるフタロニトリル誘導体として、Ｘ^ａ及びＹ^ａのうち少なくとも１個が電子求引性基を有するフェノキシ基を表す形態の化合物を少なくとも使用することが好適である。なお、上記Ｘ^ａ及びＹ^ａのいずれもが、電子求引性基を有するフェノキシ基以外の基を表す形態の化合物と、Ｘ^ａ及びＹ^ａのうち少なくとも１個が電子求引性基を有するフェノキシ基を表す形態の化合物とを併用してもよい。

上記金属、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属（以下、金属化合物とも称する）としては、上記フタロニトリル誘導体と反応して上記一般式（Ｉ）で表される化合物が得られるものであれば、特に制限されるものではなく、例えば、鉄、銅、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム及びスズ等の金属；当該金属の、塩化物、臭化物、ヨウ化物等の金属ハロゲン化合物；当該金属の、酸化バナジウム、酸化チタニル及び酸化銅等の金属酸化物；当該金属の、酢酸塩等の有機酸金属；当該金属の、アセチルアセトナート等の錯体化合物及びカルボニル鉄等の金属カルボニル等が挙げられる。具体的には、鉄、銅、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、マグネシウム及びスズ等の金属；当該金属の、塩化物、臭化物、ヨウ化物等の金属ハロゲン化合物（例えば、塩化バナジウム、塩化チタン、塩化銅、塩化亜鉛、塩化コバルト、塩化ニッケル、塩化鉄、塩化インジウム、塩化アルミニウム、塩化錫、塩化ガリウム、塩化ゲルマニウム、塩化マグネシウム、ヨウ化銅、ヨウ化亜鉛、ヨウ化コバルト、ヨウ化インジウム、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化ガリウム、臭化銅、臭化亜鉛、臭化コバルト、臭化アルミニウム、臭化ガリウム）；一酸化バナジウム、三酸化バナジウム、四酸化バナジウム、五酸化バナジウム、二酸化チタン、一酸化鉄、三二酸化鉄、四三酸化鉄、酸化マンガン、一酸化ニッケル、一酸化コバルト、三二酸化コバルト、二酸化コバルト、酸化第一銅、酸化第二銅、三二酸化銅、酸化バラジウム、酸化亜鉛、一酸化ゲルマニウム、及び二酸化ゲルマニウム等の金属酸化物；酢酸銅、酢酸亜鉛、酢酸コバルト、安息香酸銅、安息香酸亜鉛等の有機酸金属；アセチルアセトナート等の錯体化合物及びコバルトカルボニル、鉄カルボニル、ニッケルカルボニル等の金属カルボニル等が挙げられる。これらのうち、好ましくは金属、金属酸化物及び金属ハロゲン化物であり、より好ましくは金属ハロゲン化物であり、更に好ましくは、ヨウ化バナジウム、塩化バナジウム、ヨウ化銅及びヨウ化亜鉛であり、特に好ましくは、ヨウ化バナジウム、塩化バナジウム及びヨウ化亜鉛である。ヨウ化亜鉛を用いる場合、上記一般式（Ｉ）における中心金属は、亜鉛ということになる。

上記金属化合物と、上記一般式（ＩＩ）で表されるフタロニトリル誘導体との反応を有機溶媒中で行う場合、有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、１−クロロナフタレン、１−メチルナフタレン、エチレングリコール、ベンゾニトリル等の不活性溶媒；ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトフェノン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒；等の１種又は２種以上を使用することができる。中でも好ましくは１−クロロナフタレン、１−メチルナフタレン、トリメチルベンゼン、ベンゾニトリルが、より好ましくはトリメチルベンゼン、ベンゾニトリルが使用される。溶媒を使用する際の有機溶媒の使用量は、式（ＩＩ）で示されるフタロニトリル化合物の濃度が、通常、１〜５０質量％、好ましくは１０〜４０質量％となるような量である。

上記反応に関し、反応温度は、原料の種類、溶媒の種類、その他の条件により必ずしも一定しないが、通常、１００〜２４０℃、好ましくは１３０〜２００℃である。反応時間も特に制限はないが、通常２〜２４時間、好ましくは５〜２０時間である。また、金属化合物を該フタロニトリル化合物４モルに対して、好ましくは０．８〜２．０モル、より好ましくは１．０〜１．５モルの範囲で仕込む。また、上記反応は、大気雰囲気中で行っても良いが、金属化合物の種類により、不活性ガス又は、酸素含有ガス雰囲気（例えば窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、又は酸素／窒素混合ガス等の流通下）で行われることが好ましい。
上記環化反応後は、従来公知の方法に従って、晶析、濾過、洗浄、乾燥を行ってもよい。

上記樹脂組成物において、上記特定色素の濃度（含有量）としては、光選択透過フィルターの吸収シートの構成や樹脂層の厚み等によっても異なるが、例えば、樹脂成分及び色素の総量１００質量％に対して、特定色素の濃度が０．００１質量％以上であることが好適である。上記特定色素を用いることで、当該樹脂組成物から形成される樹脂層における色素濃度が高濃度であっても優れた耐光性を有する樹脂層を形成することが可能になる。より好ましくは０．０１質量％以上、更に好ましくは０．１質量％以上、特に好ましくは１質量％以上である。ただし、色素濃度が高すぎると透過させたい可視光領域における透過率を充分とするためには樹脂層をかなり薄くすることとなり、均一な膜厚で成膜が困難となる場合がある。このような観点から、２０質量％以下であることが好適である。より好ましくは１５質量％以下である。

本発明においては、必要に応じて、上述した特定色素とともに他の色素を併用することもできる。他の色素とは、上記特定色素（すなわち、上記一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン系色素）以外の色素であればよいが、６００〜８００ｎｍの波長域に吸収極大を有するものが好適である。より好ましくは、６５０〜７３０ｎｍの波長域に吸収極大を有するものである。上記他の色素はまた、４００ｎｍ以上、６００ｎｍ未満の波長域には実質的に吸収極大を持たないものであることが好ましい。

上記他の色素はまた、上述した樹脂膜評価法により評価した場合に、上述した特定色素の最大吸収波長よりも長波長側に最大吸収波長を有する色素であることが好適である。これによって、反射膜（反射層）を更に含む光選択透過フィルターに用いた場合に、入射角依存性をより一層低減することが可能になる。より好ましくは、最大吸収波長が、上記特定色素の最大吸収波長よりも長波長側にあって、かつ６５０〜８００ｎｍの波長域にある色素であり、更に好ましくは、最大吸収波長が、上記特定色素の最大吸収波長よりも長波長側にあって、かつ６８０〜７３０ｎｍの波長域にある色素である。
なお、上記他の色素の最大吸収波長における透過率は、６０％以下であることが好ましい、より好ましくは５０％以下、更に好ましくは３０％以下である。

上記他の色素として具体的には、例えば、上述した特定色素以外のフタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、クロリン系色素、コリン系色素、シアニン系色素、クアテリレン系色素、スクアリリウム系色素、ナフタロシアニン系色素、ニッケル錯体系色素、銅イオン系色素等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を使用することができる。これらの中でも、耐光性、耐熱性の観点からフタロシアニン系色素が好適である。

ここで、一般に色素の骨格によって吸光係数が異なり、様々な骨格の色素に対して質量比を規定することは不可能なため、上記他の色素と特定色素との含有量の比を規定することは困難であるが、例えば、上記他の色素として、特定色素の最大吸収波長よりも長波長側に最大吸収波長を有する色素（色素Ｂとも称す）を使用する場合であって、かつ色素Ｂが低会合のフタロシアニン系色素である場合、当該色素Ｂと上記特定色素との含有量の質量比（色素Ｂ／特定色素）は、例えば、８０／２０〜４０／６０とすることが好適である。この範囲内にあることで、より充分な吸収帯幅を有し、かつシャープな透過吸収特性を示し、しかも反射膜と組み合わせた場合に入射角依存性を充分に低減できるという本発明の作用効果をより充分に発揮することが可能となる。質量比（色素Ｂ／特定色素）としてより好ましくは、７０／３０〜５０／５０である。

なお、本発明では、上記特定色素及び色素Ｂのいずれにも該当しない色素を含んでいてもよいが、このような他の色素の含有量は、本発明による効果を充分に発揮させるため、色素の総量１００質量％に対し、３０質量％以下であることが好適である。より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下、特に好ましくは、当該他の色素を実質的に含まないことである。

上記樹脂組成物はまた、３５０〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物を含んでもよい。これにより、３５０〜４００ｎｍ波長域の光（ほぼ紫光）に起因する光選択透過フィルター（及び吸収シート）の劣化を充分に抑制することができる。
上記３５０〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物を含む形態としては、上記特定色素が、更に３５０〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物である形態であってもよいし、また、別途、３５０〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物を併用する形態であってもよい。後者の３５０〜４００ｎｍの波長域に吸収能を有する化合物としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮ ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ ５７１、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６（ＢＡＳＦ社製）等の紫外線吸収化合物の１種又は２種以上を使用することができる。

−樹脂成分−
上記樹脂組成物において、樹脂成分としては、色素を充分に溶解又は分散できる樹脂成分であることが好ましい。すなわち、上記色素は、樹脂組成物中に均一に分散又は溶解されてなることが好ましい。このような樹脂成分を適切に選択することにより、透過させたい波長域（例えば、可視領域）における高透過率と、遮断したい波長域（例えば、赤外領域）における高吸収性とを両立することが可能となる。

上記樹脂成分としては、例えば、溶剤可溶性樹脂、溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。このような樹脂成分は、色素の分散性が高いため、光選択吸収性により優れた光吸収膜を形成することができるとともに、色素を高濃度で分散できるため、光選択透過フィルターの薄膜化も可能である。また、上記樹脂成分を用いると、後述する溶媒キャスト法によって光選択透過フィルターにおける樹脂層を形成（成膜）することができるため、樹脂層中に色素を高濃度で均一に分散できるとともに、比較的低温で樹脂層を形成することができる。
なお、光選択透過フィルターが有する、上記樹脂組成物により形成される樹脂層自体は、溶剤可溶性であっても不溶性であってもよい。

ここで、「溶剤可溶性樹脂」とは、有機溶剤に可溶な樹脂を意味し、例えば、ジメチルアセトアミド又はＮ−メチルピロリドン１００質量部に対し、１質量部以上溶解する樹脂であることが好適である。また、「溶剤可溶性樹脂原料」とは、溶剤可溶性の樹脂原料、すなわち樹脂原料であって溶剤可溶性であるものを意味し、例えば、ジメチルアセトアミド又はＮ−メチルピロリドン１００質量部に対し、１質量部以上溶解するものが好適である。また、「液状樹脂原料」とは、液状の樹脂原料、すなわち樹脂原料であって液状であるものを意味する。物が「液状である」とは、その物自体の粘度が、常温（２５℃）において１００Ｐａ・ｓ以下であることを意味する。粘度は、Ｂ型粘度計により測定することができる。
なお、「樹脂原料」には、樹脂の前駆体や該前駆体の原料、更に、樹脂を形成するための単量体（硬化性モノマー等）が含まれるものとする。

上記樹脂成分としては、上述したように、溶剤可溶性樹脂、溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料からなる群より選択される少なくとも１種が好ましいが、これらの中でも、溶剤可溶性樹脂を用いることが好適である。溶剤可溶性樹脂を用いると、溶剤可溶性樹脂原料や液状樹脂原料を用いた場合に比べて、耐光性に優れる。これは、溶剤可溶性樹脂が溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料よりも、分散した色素の吸収性能の劣化を引き起こしにくいためである。理由として、溶剤可溶性樹脂は、そのモノマーや前駆体から調整し、重合や反応を完結させている。更に精製を行う場合もある。こうして得られた溶剤可溶性樹脂には、色素の劣化、分解を促進させる未反応物、反応性末端、イオン性基、触媒、酸・塩基性基等がほとんどないと考えられる。一方、溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料は、このような色素の劣化、分解を促進させる因子が多く残っている。また、色素を分散させた状態で、色素の吸収性能や吸収スペクトルを保持したまま、溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料の重合や反応を完結させることが難しい（未反応部位が多くなり、所望の物性も充分に得られない。）。そのため、同じ色素を分散させても、樹脂成分の違いにより、樹脂層の耐光性が異なる。したがって、耐光性の観点からは、少なくとも溶剤可溶性樹脂を用いることが好適である。

上記溶剤可溶性樹脂として具体的には、例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ（アミド）イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂等が挙げられる。中でも、耐光性により優れる観点から、フッ素化芳香族ポリマー及び／又はポリ（アミド）イミド樹脂が好ましい。より好ましくは、ポリ（アミド）イミド樹脂であり、更に好ましくはポリイミド樹脂である。

上記溶剤可溶性樹脂はまた、架橋反応（硬化反応）することが可能な反応性基（例えば、エポキシ基やオキセタン環、エチレンスルフィド基等の開環重合性基や、アクリル基、メタクリル基、ビニル基等のラジカル硬化性基及び／又は付加硬化性基）を有するものであってもよい。

上記樹脂成分として溶剤可溶性樹脂を用いる場合、該溶剤可溶性樹脂がそのまま、上記樹脂層を構成する樹脂成分となっていてもよいし、該溶剤可溶性樹脂が架橋反応等により変化したものが、上記樹脂層を構成する樹脂成分となっていてもよい。
なお、架橋可能な反応性基の量や成膜時の架橋反応をどの程度進めるかは特に限定されるものではないが、樹脂の溶剤可溶性が維持できる程度であることが好ましい。

上記フッ素化芳香族ポリマーとしては、少なくとも１以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合及びエステル結合の群より選ばれた少なくとも１つの結合とを含む繰り返し単位により構成された重合体等が挙げられ、具体的には、例えば、フッ素原子を有するポリイミド、ポリエーテル、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドエーテル、ポリアミド、ポリエーテルニトリル、ポリエステル等が挙げられる。これらの中でも、少なくとも１つ以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合とを含む繰り返し単位を必須部位として有する重合体であることが好ましく、下記一般式（１−１）又は（１−２）で表される繰り返し単位を含む、フッ素原子を有するポリエーテルケトンがより好ましい。中でも特に、フッ素化ポリエーテルケトン（ＦＰＥＫ）が好適である。
なお、一般式（１−１）又は（１−２）で表される繰り返し単位は、同一でも異なっていてもよく、ブロック状、ランダム状等の何れの形態であってもよい。

上記一般式（１−１）中、Ｒ^１は炭素数１〜１５０の芳香族環を有する２価の有機鎖を表す。Ｚは２価の鎖又は直接結合を表す。ｘ及びｙは０以上の整数であり、ｘ＋ｙ＝１〜８を満たし、同一又は異なって、芳香族環に結合しているフッ素原子の数を表す。ｎ^１は、重合度を表し、２〜５０００の範囲内が好ましく、５〜５００の範囲内がより好ましい。
上記一般式（１−２）中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数６〜２０のアリールアミノ基又は炭素数６〜２０のアリールチオ基を表す。Ｒ^３は、炭素数１〜１５０の芳香族環を有する２価の有機鎖を表す。ｚは、芳香族環に結合しているフッ素原子の数であり、１又は２である。ｎ^１は、重合度を表し、２〜５０００の範囲内が好ましく、５〜５００の範囲内がより好ましい。

上記一般式（１−１）において、ｘ＋ｙは２〜８の範囲内が好ましく、４〜８の範囲内がより好ましい。また、エーテル構造部分（−Ｏ−Ｒ^１−Ｏ−）が芳香族環に結合する位置としては、Ｚに対してパラ位であることが好ましい。

上記一般式（１−１）及び（１−２）において、Ｒ^１及びＲ^３は２価の有機鎖であるが、例えば、下記の構造式群（２）で表されるいずれか一つ、又は、その組み合わせの有機鎖であることが好ましい。

上記構造式群（２）中、Ｙ^１〜Ｙ^４は、同一若しくは異なって、水素基又は置換基を表し、該置換基は、ハロゲン原子、又は、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアミノ基若しくはアリールチオ基を表す。

上記Ｒ^１及びＲ^３のより好ましい具体例としては、下記の構造式群（３）で表される有機鎖が挙げられる。

上記一般式（１−１）において、Ｚは、２価の鎖又は直接結合していることを表す。当該２価の鎖としては、例えば、下記構造式群（４）（構造式（４−１）〜（４−１３））で表される鎖であることが好ましい。

上記構造式群（４）中、Ｘは、炭素数１〜５０の２価の有機鎖であるが、例えば、上述した構造式群（３）で表される有機鎖が挙げられ、その中でもジフェニルエーテル鎖、ビスフェノールＡ鎖、ビスフェノールＦ鎖、フルオレン鎖が好ましい。

上記一般式（１−２）中のＲ^２において、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、２−エチルヘキシル基等が好適である。
上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルフリルオキシ基、アリルオキシ基等が好適である。
上記アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基等が好適である。
上記アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基等が好適である。

上記アリール基としては、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ｏ−、ｍ−又はｐ−トリル基、２，３−又は２，４−キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、ピレニル基等が好適である。
上記アリールオキシ基としては、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ヒドロキシ安息香酸及びそのエステル類（例えば、メチルエステル、エチルエステル、メトキシエチルエステル、エトキシエチルエステル、フルフリルエステル及びフェニルエステル等）由来の基、ナフトキシ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチルフェノキシ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−フェニルフェノキシ基、フェニルエチニルフェノキシ基、クレソチン酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。
上記アリールアミノ基としては、アニリノ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−トルイジノ基、１，２−又は１，３−キシリジノ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メトキシアニリノ基、アントラニル酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。
上記アリールチオ基としては、フェニルチオ基、フェニルメタンチオ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−トリルチオ基、チオサリチル酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。

上記Ｒ^２としては、これらのうち、置換基を有していてもよい、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアミノ基が好ましい。但し、Ｒ^２には、二重結合又は三重結合が含まれていてもよいし、含まれていなくてもよい。

上記一般式（１−２）中のＲ^２における置換基としては、上述のような炭素数１〜１２のアルキル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；シアノ基、ニトロ基、カルボキシエステル基等が好適である。また、これら置換基の水素がハロゲン化されていてもよいし、されていなくてもよい。これらの中でも、好ましくは、ハロゲン原子、水素がハロゲン化されていてもよいし、されていなくてもよいメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びカルボキシエステル基である。

上記ポリ（アミド）イミド樹脂とは、狭義のポリイミド樹脂（イミド結合を含み、アミド結合を含まない樹脂を意味し、ここでいうアミド結合とは、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合を意味する。）、及び、ポリアミドイミド樹脂（アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合とイミド結合とを含む樹脂を意味する。）のいずれをも包含する。
なお、ポリイミド樹脂におけるイミド結合は、通常、アミド結合とそれに隣接するカルボキシル基とを有する結合鎖（本発明では、該結合鎖をアミック酸ともいう。通常は、アミド結合が結合した炭素原子に隣接する炭素原子にカルボキシル基が結合した構造である。）におけるアミド結合とカルボキシル基との脱水反応による形成される。
ポリアミック酸から脱水反応によりポリイミド樹脂を生成させる際、分子内に若干量のアミック酸は残存し得る。したがって、本発明で「ポリイミド樹脂」という場合は、イミド結合を含み、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合は含まないが、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合は含まないか若干量含んでいてもよい。

上記溶剤可溶性樹脂としては、ポリイミド樹脂におけるイミド結合含有率（イミド化反応によりイミド化し得るアミド結合数とイミド結合数の合計量１００モル％に対するイミド結合数の割合）が８０モル％以上であるポリイミド樹脂が好ましい。より好ましくは９０モル％以上、更に好ましくは９５モル％以上、特に好ましくは９８モル％以上である。

ここで、ポリアミドイミド樹脂とは、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合とイミド結合とを含むが、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合は含まないか若干量含んでいてもよい。アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合を含む場合、アミド結合数（脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合数と脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合数との和）とイミド結合数との合計量１００モル％に対する、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合の含有率は、２０モル％未満が好ましい。より好ましくは１０モル％未満、更に好ましくは５モル％未満、特に好ましくは２モル％未満である。

上記ポリ（アミド）イミド樹脂は、多価カルボン酸化合物と、多価アミン化合物及び／又は多価イソシアネート化合物との反応により得られるポリ（アミド）イミド樹脂の原料（ポリ（アミド）イミド前駆体とも称す。）を、イミド化反応して得ることができる。
上記ポリ（アミド）イミド樹脂はまた、透明性を有することが好ましい。透明性向上のためには、芳香環が少ないほうが好ましい。中でも、芳香環を脂環又は脂肪鎖等で置き換えた構造を有することが好適である。より好ましくは、全重量１００％中の芳香環の重量が６５％以下、更に好ましくは４５％以下、特に好ましくは３０％以下である。

上記ポリ（アミド）イミド樹脂としては、イミド結合を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記一般式（５）：

（式中、Ｒ^４は、同一又は異なって、有機基を表す。）で表される繰り返し単位を有する化合物が好適である。
上記一般式（５）におけるＲ^４としては、２価の有機基が好ましく、中でも、炭素数２〜３９の２価の有機基が好ましい。また、当該有機基は１種又は２種以上の炭化水素骨格を含むものが好ましい。炭化水素骨格としては、脂肪族鎖状炭化水素、脂肪族環状炭化水素又は芳香族炭化水素であることが好ましい。当該有機基はまた、複素環骨格を有するものであってもよい。

上記一般式（５）におけるＲ^４としてはまた、上記の炭化水素骨格及び／又は複素環骨格から選ばれる、同一又は異なる２種以上を有し、それらが炭素―炭素結合を介して、又は、炭素―炭素結合とは異なる結合基を介して、結合した骨格を含むものが好ましい。結合基としては、例えば、−Ｏ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ_２Ｈ_４Ｏ−、−Ｓ−等が挙げられる。
なお、上記一般式（５）で表される繰り返し単位におけるそれぞれのＲ^４としては、同一であっても異なるものであってもよい。

上記Ｒ^４で表される有機基は窒素原子に直接結合していてもよいし、結合基として、−Ｏ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ_２Ｈ_４Ｏ−、−Ｓ−等を有していてもよい。
なお、一般式（５）におけるシクロヘキシル環における水素原子の一部又は全部が置換されていてもよいが、無置換（全て水素原子である形態）であるものが好ましい。
上記一般式（５）で表される繰り返し単位は、同一でも異なっていてもよく、ブロック状、ランダム状等の何れの形態であってもよい。

上記ポリ（アミド）イミド樹脂の好ましい具体例としては、例えば、三菱ガス化学社製のネオプリムＬ−３４３０（厚さ５０μｍ、１００μｍ、２００μｍ等）等が挙げられる。なお、この製品はフィルム形状であるが、有機溶剤に可溶であるので、上記溶剤可溶性樹脂として好ましく使用される。

上記溶剤可溶性樹脂原料又は液状樹脂原料としては、例えば、エポキシ樹脂の原料となるエポキシ化合物、ビニル重合体樹脂の原料であるビニル系化合物（（メタ）アクリル系化合物、スチレン系化合物等）、ポリ（アミド）イミド前駆体等が挙げられる。好ましくは、エポキシ化合物、ビニル系化合物である。

上記エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を含む硬化性組成物の硬化物である。硬化物の形態としてはエポキシ化合物をカチオン硬化触媒の存在下で光及び／又は熱硬化してなる形態、エポキシ化合物を付加的硬化剤と反応させることにより得られる硬化物の形態等が挙げられる。後者において硬化反応促進のため従来公知の硬化促進剤を併用することもできる。付加的硬化剤としては、例えば、酸無水物、多価フェノール化合物、多価アミン等が例示されるが、中でも酸無水物が好ましい。

上記エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が好適であり、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ（オンコートＥＸ−１）；ジャパンエポキシレジン社製のビスフェノールＡ型エポキシ化合物（エピコート８２８ＥＬ）；ジャパンエポキシレジン社製の水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物（エピコートＹＸ８０００）；ダイセル工業社製の脂環式液状エポキシ化合物（セロキサイド２０２１）等が好ましく使用できる。
なお、本明細書中、エポキシ基とは、３員環のエーテルであるオキシラン環を含むものであり、狭義のエポキシ基の他、グリシジル基（グリシジルエーテル基及びグリシジルエステル基を含む）を含むものを意味する。

上記エポキシ化合物を含む硬化性組成物は、可撓性を有する成分（可撓性成分）を含むことが好適である。可撓性成分を含むことにより、成形時や基板、型等からはずすときに割れない、形が崩れない、剥がれやすい、柔軟性がある等の一体感のある樹脂組成物とすることができる。
上記可撓性成分としては、上記エポキシ化合物とは異なる化合物であってもよいし、上記エポキシ化合物の少なくとも１種が可撓性成分であってもよい。

上記ビニル重合体樹脂とは、重合原料としてビニル系化合物を（共）重合して得られる重合体であり、アクリル樹脂、スチレン樹脂、アクリル−スチレン樹脂等が例示される。
アクリル樹脂とは、（メタ）アクリロイル基を有する化合物（（メタ）アクリロイル基含有化合物又は（メタ）アクリル系化合物とも称す。）を含む硬化性組成物の硬化物であり、スチレン樹脂とは、スチレンやジビニルベンゼン等のスチレン系モノマー（スチレン系化合物とも称す。）を含む硬化性組成物の硬化物であり、アクリル−スチレン樹脂とは、（メタ）アクリロイル基含有化合物及びスチレン系モノマーを含む硬化性組成物の硬化物である。上記ビニル重合体樹脂の中でも、アクリル樹脂、アクリル−スチレン樹脂が好ましい。

上記（メタ）アクリロイル基含有化合物として好ましくは、（メタ）アクリレートモノマー、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。（メタ）アクリレートモノマーを（共）重合した（メタ）アクリレート（共）重合体（ただし（メタ）アクリロイル基を有する）も好適に使用できる。フィルム化を容易にできる点で、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート（共）重合体等の重合性オリゴマーと、（メタ）アクリレートモノマーとを含む組成物をアクリル樹脂原料として用いることが好ましい。
上記アクリル−スチレン樹脂原料としては、上記アクリル樹脂原料の好適な形態において更にスチレン系モノマーを用いた組成物が好ましい。

上記ポリ（アミド）イミド前駆体とは、ポリ（アミド）イミド樹脂を形成するための原料、すなわちイミド化反応に供される化合物であり、例えば、ポリアミック酸等が好適である。具体的には、例えば、日立化成工業社製のＨＰＣ−７０００−３０等が好ましく使用される。

−その他の成分−
上記樹脂組成物は、上述したように色素及び樹脂成分を含むものであるが、更に必要に応じて、その他の成分を含むものであってもよい。その他の成分としては、上述した他の色素等が挙げられるが、その他の成分として、金属酸化物等の無機成分を含む場合、その含有量は、可視光に対する透明性に優れる観点から、樹脂組成物１００質量％中に５０質量％未満であることが好適である。より好ましくは２０質量％未満、更に好ましくは５質量％未満、特に好ましくは１質量％未満である。最も好ましくは、上記樹脂層を形成する樹脂組成物が、無機成分を実質的に含まないことである。

−樹脂組成物の製造方法−
上記樹脂組成物は、上述したフタロシアニン系色素及び樹脂成分を必須とし、必要に応じてその他の成分を含んでもよいが、その調製方法は特に限定されるものではない。これらの成分を通常の手法で混合することにより得ることができる。例えば、色素に、樹脂成分及び必要に応じて溶媒成分を添加し、混合・溶解することにより得ることができる。

〔光選択透過フィルター〕
本発明はまた、吸収シートを含む光選択透過フィルターであって、該吸収シートは、上述した本発明の光選択透過フィルター形成用樹脂組成物から形成される樹脂層を含む光選択透過フィルターでもある。
なお、吸収シート及び樹脂層は、それぞれ１又は２以上含んでいてもよい。

−吸収シート−
上記光選択透過フィルターにおける吸収シートは、上記光選択透過フィルター形成用樹脂組成物から形成される樹脂層を有する吸収シート（フィルム形状を含む）である。このような吸収シートは、シャープな透過吸収特性を有し、例えば反射膜と組み合わせることで、視野角依存性（入射角依存性とも称す）が充分に低減される光選択透過フィルターを与えることができるうえ、耐光性や耐熱性にも優れるものである。また、吸収シートを反射膜として好適な光学多層膜と組み合わせると、光学多層膜の層数を減らすことができ、該多層膜における応力を緩和できるため、多層膜のクラックや割れを充分に防止することもできる。このような本発明の光選択透過フィルターに用いられる吸収シートもまた、本発明の１つである。

上記吸収シートの構成（形態）は、樹脂層（吸収層）を含む限り特に限定されず、必要に応じて更に他の層を含むものであってもよい。中でも、支持体を更に有することが好ましい。吸収シートを支持体と樹脂層（吸収層）とを含む構成とすることで、色素の分散が困難な支持体であっても、この表面に樹脂層をコートすることによって本発明の吸収シートとしての効果を付与することができる。また、樹脂層の厚みを変更することで吸収特性をより制御することもでき、また、樹脂層を極薄コートすることによって吸収シートの膜厚を支持体の膜厚とほとんど変えずに本発明の効果を付与することもできるし、樹脂層を支持体の厚み調整に利用することもできる。

上記吸収シートの形態としてより好ましくは、支持体の一方又は両面に樹脂層が形成された形態であり、更に好ましくは、支持体の両面に樹脂層が形成された形態である。また、樹脂層を支持体で挟み込んだ吸収シートとしてもよい。
なお、吸収シートを構成する樹脂層や、支持体等の他の層は、各々、一層又は二層以上であってもよい。

上記吸収シートの厚みは、１ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、本発明の光選択透過フィルターを充分に薄膜化することができ、光学部材等の低背化要求により応えることができる。より好ましくは５００μｍ以下、更に好ましくは３００μｍ以下、特に好ましくは２００μｍ以下、最も好ましくは１５０μｍ以下である。また、１μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは４０μｍ以上である。
なお、上記吸収シートが支持体を含む場合、該支持体の厚みは１２０μｍ以下であることが好ましい。

上記吸収シートにおいて、樹脂層は、上述した本発明の光選択透過フィルター形成用樹脂組成物から形成されるものであるが、当該樹脂組成物中に色素が分散又は溶解された形態の樹脂組成物により、樹脂層が形成されることが好適である。これにより、色素が樹脂層中により均一に分散又は溶解されてなる樹脂層を得ることができる。

上記樹脂層の膜厚（厚み）に関し、本発明では、上述した光選択透過フィルター形成用樹脂組成物を用いることで薄膜化が可能となる。厚み方向からの水分等の浸入、拡散が抑制され易い点からも薄膜化できることは耐光性において有利となる。上記樹脂層の膜厚（厚み）は、５μｍ以下であることが好適である。これにより、光選択透過フィルターを充分に薄膜化することができ、光学部材等の低背化要求に応えることができる。より好ましくは３μｍ以下である。また、０．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上である。

上記樹脂層は、可視光の短波長域から紫外線領域において透過性に優れるものであってもよいが、吸収シートと紫外線領域を反射する反射膜とを組み合わせた紫外線カットフィルターとする場合においては、反射膜による入射角依存性を軽減し易い点から、３５０〜４００ｎｍ波長域における樹脂層の透過率の最小値が２０〜８０％であることが好ましい。同様の理由から吸収シートにおいて３５０〜４００ｎｍ波長域における透過率の最小値が２０〜８０％であることが好ましい。

上記樹脂層はまた、６００〜８００ｎｍの波長域に吸収極大波長を少なくとも１つ有し、該吸収極大波長が６００〜７３０ｎｍに存在することが好ましく、該吸収極大波長が６５０〜７３０ｎｍに存在することがより好ましい。また、最も透過率が低いピークの波長（すなわち、最大吸収波長）が、６００〜７３０ｎｍであることが好ましい。最大吸収波長は、より好ましくは、７３０ｎｍ以下の波長域に存在することであり、更に好ましくは、７００ｎｍ以下の波長域に存在することである。最大吸収波長はまた、６５０ｎｍ以上の波長域に存在することがより好ましい。

上記樹脂層として具体的には、例えば、６００〜８００ｎｍにおける吸収極大波長が１つであり、該吸収極大波長が６００〜７３０ｎｍに存在する態様（ｉ）；６００〜８００ｎｍの波長域に２つ又はそれ以上の吸収極大波長を有し、その少なくとも１つの吸収極大波長が６００〜７３０ｎｍに存在する態様（ｉｉ）；が好ましく挙げられる。
上記態様（ｉ）及び態様（ｉｉ）において、６００〜７３０ｎｍ（好ましくは６５０〜７３０ｎｍ）に現れる吸収極大（最大吸収）は、上記特定色素の吸収率が最も大きいピーク（吸収極大波長λ_Ａ１）に由来する吸収であることが好ましい。また、態様（ｉｉ）において、他の吸収極大のうちの一つは、上記特定色素の波長λ_Ａ２を吸収極大波長とする吸収ピークに由来するものであることが好ましい。

上記樹脂層において、特定色素の波長λ_Ａ１を吸収極大波長とする吸収ピークに由来する吸収極大における吸光度をＡｂｓ（Ｑ１）、特定色素の波長λ_Ａ２を吸収極大波長とする吸収ピークに由来する吸収極大における吸光度をＡｂｓ（Ｑ２）としたとき、これらの吸光度の比（Ａｂｓ（Ｑ２）／Ａｂｓ（Ｑ１））は、０．６１以下であることが好ましい。より好ましくは０．６０以下、更に好ましくは０．５０以下、特に好ましくは０.４５以下である。
なお、上記態様（ｉ）においては、特定色素の波長λ_Ａ２を吸収極大波長とする吸収ピークに由来する吸収が、樹脂層の吸収スペクトル上では実質、観測されないわけであるが、波長λ_Ａ２に対応する波長（通常は、λ_Ａ２にほぼ一致）における吸光度Ａｂｓ（Ｑ２）’を用いて、吸光度Ａｂｓ（Ｑ１）に対する比（Ａｂｓ（Ｑ２）’／Ａｂｓ（Ｑ１））が、上記比（Ａｂｓ（Ｑ２）／Ａｂｓ（Ｑ１））と同様の範囲であることが好ましい。

上記樹脂層において、６００〜７３０ｎｍにおける最大吸収波長での透過率は６０％以下であることが好ましい。より好ましくは５０％以下、更に好ましくは３０％以下である。
これらの吸収極大波長は、通常の手法で吸収スペクトルを測定することで求めることができるが、別法として、透過率スペクトルから求めることもできる。

上記樹脂層はまた、５００ｎｍにおける透過率が８０％以上であることが好ましく、より好ましくは８５％以上である。
上記樹脂層の吸収透過特性として特に好ましくは、波長６３０ｎｍにおける透過率（Ｔ６３０）が５０％以上で、かつ波長７００ｎｍにおける透過率（Ｔ７００）が５０％以下を満たすことである。これにより、より一層シャープな遮断特性を示すことができるため、好適である。Ｔ６３０としてより好ましくは５５％以上、更に好ましくは６０％以上であり、またＴ７００としてより好ましくは４５％以下、更に好ましくは４０％以下である。

上記樹脂層は更に、６００〜８００ｎｍにおける吸収帯の５０％透過幅（５０％透過率を示す短波長側の波長と、長波長側の波長との差の絶対値）が１０ｎｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以上、更に好ましくは３０ｎｍ以上である。

上記樹脂層が上述した吸収特性を有することで、光選択透過性により一層優れるものとなり、また、このような樹脂層を含む吸収シートを反射膜と組み合わせた際に、反射膜による入射角依存性をより大幅に軽減することが可能になる。
なお、上記樹脂層を含む吸収シート、及び／又は、該吸収シートを含む光選択透過フィルターもまた、上述したような樹脂層と同様の吸収透過特性（吸収極大波長や上記各波長での透過率等）を示すことが好適である。

上記樹脂層はまた、該樹脂層の可視光領域におけるヘイズが１０％以下であることが好ましい。より好ましくは５％以下、更に好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。また、この形態において、該樹脂層の可視光５００ｎｍにおける透過率は６０％以上であることが好適である。より好ましくは７０％以上、更に好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上である。
なお、上記吸収シート及び光選択透過フィルターについても、可視光領域におけるヘイズ及び可視光５００ｎｍにおける透過率が、夫々上述した範囲にあることが好ましい。
透過率は、分光光度計（例えば、Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ−３１００、島津製作所社製）を用いて測定することができる。透過率の測定に供する樹脂層及び吸収シートの厚みは、１〜２００μｍとすることが好ましい。

上記吸収シートは、上述したように支持体を更に有することが好適であるが、支持体としては、フィルム形状のもの（支持体フィルム）が好ましい。
上記支持体としては、透明性に優れる樹脂又はガラスを用いることが好適である。機械的強度に優れる、特に薄膜化しても機械的強度に優れる吸収シートとなり易い点から、好ましい支持体は樹脂である。具体的には、例えば、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ（アミド）イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、シクロオレフィン樹脂等を用いることができる。これらの中でも、反射層を蒸着形成する際の耐熱性に優れる点で、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ（アミド）イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、シクロオレフィン樹脂、エポキシ樹脂及び／又はアクリル樹脂が好ましい。より好ましくは、ポリ（アミド）イミド樹脂を少なくとも用いることである。

上記支持体（好ましくは支持体フィルム）の材質と、樹脂層に含まれる樹脂成分との好適な組み合わせとしては、例えば、支持体フィルム／樹脂成分として、ポリ（アミド）イミド樹脂／ポリ（アミド）イミド樹脂、ポリ（アミド）イミド樹脂／アクリル樹脂、ポリ（アミド）イミド樹脂／フッ素化芳香族ポリマー、ポリアミド樹脂／アクリル樹脂、アラミド樹脂／アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂／アクリル樹脂等が挙げられる。中でも、ポリ（アミド）イミド樹脂／ポリ（アミド）イミド樹脂が好ましく、より好ましくは、ポリイミド樹脂／ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂／ポリアミドイミド樹脂、又は、ポリアミドイミド樹脂／ポリアミドイミド樹脂であり、更に好ましくは、ポリイミド樹脂／ポリイミド樹脂である。

上記吸収シートの形成方法としては特に限定されず、例えば、樹脂層を形成する樹脂組成物を、支持体表面（又は、支持体と樹脂層との間に他の層を有する場合は、当該他の層の表面）に塗布し、乾燥又は硬化することにより形成する方法（塗布法又はコーティング法と称す）や、支持体に対して、樹脂組成物から形成された樹脂フィルムを熱圧着することにより形成する方法の他、練込法等も挙げられる。これらの中でも、支持体と樹脂層とを有する吸収シートを得る場合には、塗布法を採用することが好ましい。すなわち上記樹脂層は、塗布法によって形成された層であることが好ましく、これによって上記樹脂層と支持体等との密着性がより充分なものとなる。なお、支持体を有しない吸収シートを得る場合にも、塗布法を用いることが好ましく、例えば、仮の基材に、樹脂層を形成する樹脂組成物を塗布した後、該基材から剥離することにより当該吸収シートを得ることができる。

上記塗布法の中でも好ましくは、溶媒キャスト法であり、このように上記樹脂層が溶媒キャスト法によって形成された層である形態もまた、本発明の好適な形態の１つである。溶媒キャスト法を用いると色素をより均一に分散できるため、光選択吸収性により優れた光吸収膜を形成することができ、好適である。また、色素を高濃度で分散可能であるため薄膜化が可能であり、固体撮像素子等の部材の低背化要求により応えることもできる。更に、比較的低温で樹脂層を形成することができるため、比較的耐熱性の低い色素も使用することができる。一方、練込法においては、樹脂を高温（例えば、２００℃以上）で溶融して用いることになるため、耐熱性の低い色素は分解してしまい、充分な光吸収性が得られないおそれがある。また、色素の分散性も充分に高くならないおそれがある。

上記溶媒キャスト法においては、溶媒に、樹脂層を形成するための樹脂組成物を溶解して得られる溶液を、支持体上に塗布・乾燥（硬化）することにより、樹脂層を製膜（成膜）することが好ましい。また、樹脂成分として液状樹脂原料を用いる場合には、該樹脂原料に直接、色素を分散させてもよいし、該樹脂原料を溶媒で希釈したうえで色素を分散させてもよい。

上記溶媒（有機溶剤）としては、上記樹脂層を形成するための樹脂組成物を溶解できるものであれば特に限定されず、樹脂成分等の種類に応じて適宜選択可能であるが、例えば、メチルエチルケトン（２−ブタノン）、メチルイソブチルケトン（４−メチル−２−ペンタノン）、シクロヘキサノン等のケトン類；ＰＧＭＥＡ（２−アセトキシ−１−メトキシプロパン）、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のグリコール誘導体（エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等）；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；Ｎ−メチル−ピロリドン（より具体的には、１−メチル−２−ピロリドン等）等のピロリドン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジプチルエーテル等のエーテル類；等が好適である。より好ましくは、メチルエチルケトン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドである。

上記溶媒の使用量としては、上記樹脂組成物の総量１００質量部に対して、１５０質量部以上であることが好ましく、また、１９００質量部以下が好ましい。より好ましくは、２００質量部以上であり、また、１４００質量部以下である。上記範囲とすることにより、例えば、色素濃度の高い樹脂層が得られ易い。

−反射膜−
上記光選択透過フィルターはまた、反射膜（反射層とも称す）を含むことが好適である。これにより、光選択透過性により優れ、光遮断特性の入射角依存性が充分に低減され、かつ充分な薄膜化を実現することが可能な光選択透過フィルターとなり得る。このように、上記光選択透過フィルターが更に反射膜を含む形態もまた、本発明の好適な形態の１つである。

上記反射膜としては、多層からなる膜であることが好適である。すなわち上記反射膜は、光学多層膜であることが好ましい。また、光学多層膜としては、耐熱性に優れる点で、各波長の屈折率を制御できる無機多層膜等が好適である。無機多層膜としては、樹脂層や支持体、その他の機能性材料層の上に、真空蒸着法やスパッタリング法等により、低屈折率材料及び高屈折率材料を交互に積層させた屈折率制御多層膜であることが好ましい。上記反射膜はまた、透明導電膜であることも好適である。透明導電膜としては、インジウム−スズ系酸化物（ＩＴＯ）等の赤外線を反射する膜としての透明導電膜が好ましい。これらの中でも、無機多層膜が好適である。

上記無機多層膜としては、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを交互に積層した誘電体多層膜が好適である。
上記誘電体層Ａを構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を通常用いることができ、好ましくは、屈折率の範囲が１．２〜１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が好適である。

上記誘電体層Ｂを構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、好ましくは、屈折率の範囲が１．７〜２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫、酸化セリウム等を少量含有させたもの等が好適である。

上記誘電体層Ａ及び誘電体層Ｂの各層の厚みは、通常、遮断しようとする光の波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ〜０．５λの厚みであることが好ましい。厚みがこの範囲外になると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と大きく異なって反射・屈折の光学的特性の関係が崩れてしまい、特定波長の遮断・透過をするコントロールができなくなるおそれがある。

上記誘電体層Ａと誘電体層Ｂとを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はないが、例えば、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法等によって、誘電体層Ａと誘電体層Ｂとを交互に積層することにより、誘電体多層膜を形成することができる。

上記無機多層膜等の反射膜は、上記方法等により好適に形成することができるが、蒸着によって光選択透過フィルターが変形しカールしたり、割れが生じたりする可能性をより一層小さくするために、次の方法を用いることができる。すなわち具体的には、離型処理したガラス等の仮の基材に蒸着層を形成し、光選択透過フィルターの基材となる吸収シートに該蒸着層を転写して反射膜を形成する反射膜の転写方法が好適である。この場合、吸収シートには、接着層を形成しておくことが好ましい。

また上記吸収シートが有機材料、具体的には樹脂組成物により形成される場合には、未硬化又は半硬化状態の吸収シート（樹脂組成物）に誘電体層等を蒸着した後、吸収シートを硬化する方法が好適である。このような方法を用いると、多層蒸着後の冷却時に基材が流動的となり、液状に近い状態となるために、樹脂組成物と誘電体層等との熱膨張係数差が問題にならず、光選択透過フィルターの変形（カール）をより充分に抑制することができる。

このように上記吸収シートへの反射膜（好ましくは光学多層膜、より好ましくは無機多層膜）の形成には、蒸着法を用いることが好適であるが、蒸着温度は、１００℃以上とすることが好適である。より好ましくは１２０℃以上、更に好ましくは１５０℃以上である。このような高温で蒸着すると、無機膜（無機多層膜を構成する無機膜）が緻密で硬くなり、種々の耐性が向上し、歩留りが向上する等の利点がある。そのため、このような蒸着温度に耐える吸収シートや色素を用いることは、非常に意味がある。また、このような高温での蒸着には、吸収シートを構成する樹脂層又は支持体フィルムとして、線膨張係数の低い樹脂層又は支持体フィルムを用いることが好適である。これにより、無機・有機の線膨張係数の差による無機層クラックをより抑制することができる。また、線膨張係数が低い樹脂層又は支持体フィルムを用いると、高温で蒸着できるだけでなく、低温で蒸着したとしても、無機膜との線膨張係数の差が小さいため、光選択透過フィルターを有する固体撮像素子を製造する場合等に採用されるリフロー工程等の製造工程での加熱環境や過酷な使用環境においても、無機・有機の線膨張係数の差による無機層クラックが生じない。

上記線膨張係数が低い樹脂層又は支持体フィルムとしては、線膨張係数が６０ｐｐｍ以下のものが好ましい。より好ましくは５０ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０ｐｐｍ以下、最も好ましくは１０ｐｐｍ以下である。

上記線膨張係数が低い樹脂層又は支持体フィルムとして具体的には、例えば、ポリ（アミド）イミド樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、有機無機ハイブリッド樹脂等が好適であり、上記樹脂層又は支持体フィルムが、これらからなる群より選択される少なくとも１種により形成されるものである形態は、本発明の好適な形態の１つである。また、樹脂を延伸する；無機微粒子等を分散させる；ガラスクロスを用いる；架橋密度を上げる；コンポジット化する；結晶化させる；等によっても線膨張係数を低下させることができる。

上記反射膜は、上記吸収シートの少なくとも一方の表面に形成されてなることが好適である。反射膜は、上記吸収シートの一方の表面のみに形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよいが、両面に形成されることが好ましい。これにより、本発明に係る光選択透過フィルターの反りや反射膜の割れを充分に低減することができる。なお、上記吸収シートが樹脂層と支持体とからなる場合、反射膜は、樹脂層の表面に形成されることが好適である。特に吸収シートの両面に無機多層膜からなる反射膜が形成され、かつ樹脂層表面は、支持体又は無機多層膜からなる反射膜と密着している形態が好ましい。このような形態の光選択透過フィルターは耐光性、耐熱性に特に優れたものとなる。

また他の好ましい形態として、上記吸収シートとは異なる樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に反射膜が形成され、更に該反射膜の表面に、上記吸収シートが形成される形態も挙げられる。すなわち、樹脂フィルムの表面に、反射膜、上記吸収シートの順に積層されてなる形態である。反射膜は樹脂フィルムの両面に設けられることが好ましい。その場合、上記吸収シートは、一方の反射膜の表面に積層されていても、２つの反射膜の表面に積層されていてもよい。この場合、樹脂フィルムは、上述した支持体フィルムと同様のものを使用することができ、好適な形態についても支持体フィルムの場合と同様である。

上述したように上記反射膜は光学多層膜であることが好ましいが、その積層数は、上記吸収シートの一方の表面にのみ上記光学多層膜を有する場合は、１０〜８０層の範囲が好ましく、より好ましくは２５〜５０層の範囲である。一方、上記吸収シートの両面に上記光学多層膜を有する場合は、上記光学多層膜の積層数は、吸収シート両面の積層数の合計として、１０〜８０層の範囲が好ましく、より好ましくは２５〜５０層の範囲である。
また、上記反射膜の厚みは、０．５〜１０μｍであることが好ましい。より好ましくは、２〜８μｍである。反射膜が上記吸収シートの両面に形成される形態においては、両面の反射膜の合計の厚みが上記範囲内にあることが好ましい。

本発明の光選択透過フィルターは、所望の光の透過率を選択的に低減させるという機能以外の種々の他の機能を有していてもよい。例えば、光選択透過フィルターとして好ましい形態の１つである赤外線カットフィルターの場合、紫外線を遮蔽する機能等の赤外線カット以外の各種機能を有する形態や、強靱性、強度等の赤外線カットフィルターの物性を向上させる機能を有する形態を挙げることができる。
このように本発明の光選択透過フィルターが他の機能を有する形態においては、上記吸収シートの一方の表面に反射膜を形成し、他方の表面に他の機能を付与するための機能性材料層を形成することが好ましい。機能性材料層は、例えば、ＣＶＤ法、スパッタリング法、真空蒸着法により、直接、上記吸収シート上に形成したり、離型処理された仮の基材上に形成された機能性材料層を上記吸収シートに接着剤で張り合わせたりすることにより得ることができる。また、原料物質を含有する液状組成物を上記吸収シートに塗布、乾燥して、製膜することによっても得ることができる。

上記光選択透過フィルターはまた、厚み（上記吸収シートと反射膜等の他の層との合計の厚み）が１ｍｍ以下であることが好ましい。光選択透過フィルターの厚みとは、該光選択透過フィルターの最大厚みをいう。より好ましくは、薄膜化要求に対応し得る点で、２００μｍ以下であり、更に好ましくは１５０μｍ以下、特に好ましくは１２０μｍ以下、最も好ましくは６０μｍ以下である。また、耐リフロー性、特に２６０℃の温度における耐熱性に優れる点で、１μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上である。また、光選択透過フィルターの厚みの範囲は、１〜１５０μｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜１２０μｍ、更に好ましくは３０〜１２０μｍ、特に好ましくは３０〜６０μｍである。

上記光選択透過フィルターの厚みを１ｍｍ以下とすることにより、光選択透過フィルターをより小型化、軽量化することができ、種々の用途に好適に用いることができる。特に、光学部材等の光学用途において好適に用いることができる。光学用途においては、他の光学部材と同様に光選択透過フィルターも小型化、軽量化が強く求められている。本発明の光選択透過フィルターは、厚みを１ｍｍ以下とすることが可能であるため、薄膜化をより達成でき、特に撮像レンズ等のレンズユニットに用いた場合に、レンズユニットの低背化を実現することができる。言い換えると１ｍｍ以下の薄い光選択透過フィルターを光学部材として用いた場合に、光路を短縮することができ、該光学部材を小さくすることができる。具体的には、カメラモジュールにおいては、レンズと光選択透過フィルターとシーモスセンサーとを有することとなる。

図１及び図２に、カメラモジュールの一例を、模式的に示す。なお、これらの図は、エレクトロニックジャーナル第８１回テクニカルセミナー（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｊｏｕｒｎａｌ 第８１回 Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｓｅｍｉｎａｒ）資料を参照した。
図１に示すように、光選択透過フィルターは、所望の波長の光（カメラモジュールにおいては、例えば、７００ｎｍ以上の波長の光）をカットし、シーモスセンサーの誤作動を防ぐ役割がある。カメラモジュールに光選択透過フィルターを入れると、焦点距離が伸びるため、バックフォーカスが伸張し、モジュールが大きくなる。光選択透過フィルターの厚みがｔで屈折率ｎが１．５程度の場合、図２に示すように、バックフォーカスが約ｔ／３伸張し、モジュールが大きくなるが、光選択透過フィルターを薄くして、焦点距離を短くし、モジュールを小さくすることができる。それにより、例えば、１／１０インチの光学サイズの光路長としては、光選択透過フィルターなしの場合の１２０％以下とすることが好ましい。より好ましくは１１０％以下、更に好ましくは１０５％以下である。

本発明の光選択透過フィルターは、光の透過率を選択的に低減するものである。低減させる光としては、１０ｎｍ〜１００μｍの間のものであればよく、用いる用途により選択することができる。低減させる光の波長に応じて赤外線カットフィルター、紫外線カットフィルター、赤外・紫外線カットフィルター等とすることができるが、中でも、６５０ｎｍ〜１０μｍの赤外光と２００〜３５０ｎｍの紫外光とを低減し、それ以外の光を透過するものであることが好ましい。すなわち、上記光選択透過フィルターは赤外・紫外線カットフィルターであることが好ましい。

赤外線カットフィルターは、赤外線領域である６５０ｎｍ〜１０μｍの波長を有する光のうち、いずれかの波長（範囲）の光を選択的に低減する機能を有するフィルターであればよい。選択的に低減する波長の範囲としては、６５０ｎｍ〜２．５μｍ、６５０〜１μｍ又は８００ｎｍ〜１μｍであることが好適である。これらの範囲の波長の少なくとも一つを選択的に低減するフィルターもまた、上記赤外線カットフィルターに含まれる。選択的に低減する波長の範囲としては、近赤外線領域である６５０ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。
紫外線カットフィルターは、紫外線を遮断する機能を有するフィルターである。選択的に低減する波長の範囲としては、２００〜３５０ｎｍであることが好ましい。
赤外・紫外線カットフィルターは、紫外線及び赤外線の両方を遮断する機能を有するフィルターである。選択的に低減する波長の範囲は、上述と同様であることが好ましい。

本発明の光選択透過フィルターが赤外線カットフィルターである形態においては、６５０〜１０００ｎｍの赤外線の透過率を選択的に５％以下に低減するものが好ましい。その他の波長域の透過率は、７５％以上であることが好ましいが、フィルターの用途に応じて特定の波長域の透過率のみが高いものであってもよい。例えば、上記赤外線カットフィルターをカメラモジュールとして用いる場合には、赤外光の透過率が５％以下であり、可視光（４００〜６００ｎｍ）の透過率が８０％以上であることが好適である。より好ましくは８５％以上である。また、可視光の中でも４５０〜５５０ｎｍの波長域の光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好適である。なお、上記赤外線カットフィルターにおいては、その他（赤外線領域以外）の波長の透過率としては、より好ましくは８５％以上であり、更に好ましくは９０％以上である。すなわち、上記光選択透過フィルターは、波長が４００〜６００ｎｍにおける光の透過率が８０％以上であり、かつ８００〜１０００ｎｍにおける透過率が５％以下の赤外線カットフィルターであることが好ましい。
透過率は、分光光度計（Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ−３１００、島津製作所社製）を用いて測定することができる。

本発明の光選択透過フィルターが紫外線カットフィルターである形態においては、２００〜３５０ｎｍの紫外線の透過率を選択的に５％以下に低減するものが好ましい。その他の波長域の透過率は、７５％以上であることが好ましい。

本発明の光選択透過フィルターが赤外・紫外線カットフィルターである形態においては、６５０ｎｍ〜１０μｍの赤外光と２００〜３５０ｎｍの紫外光とを選択的に５％以下に低減するものが好ましく、その他の波長域の透過率は、７５％以上であることが好ましい。

上記光選択透過フィルターとして好ましくは、上記色素及び樹脂成分を含む樹脂層を有する吸収シートの少なくとも一方の表面に、反射膜が形成されてなる形態であるが、この構成によって、光遮断特性の入射角依存性をより充分に低減することができる。

ここで、光遮断特性の入射角依存性は、例えば、分光光度計（Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ−３１００、島津製作所社製）を用いて、入射角を変えた透過率（例えば０°、２０°、２５°、３０°等。入射角０°における透過率とは、光選択透過フィルターの厚み方向から光が入射するようにして測定される透過率であり、入射角２０°における透過率とは、光選択透過フィルターの厚み方向に対して２０°傾いた方向から光が入射するようにして測定される透過率である。）を測定し、そのスペクトル変化量により評価できる。
なお、光遮断特性の入射角依存性は、吸収層の吸収により充分に低減されている必要があり、入射角の変化に対して透過率スペクトルが変化しないこと、又は、その変化の程度が小さいことが好ましい。具体的には、入射角０°を２０°に変えても（より好ましくは２５°に変えても）、透過率８０％以上の領域において、透過率のスペクトルが変化しないことが好ましく、より好ましくは、透過率７０％以上の領域において透過率のスペクトルが変化しないことであり、更に好ましくは、透過率６０％以上の領域において透過率のスペクトルが変化しないことである。最も好ましくは、いずれの透過率領域においてもスペクトルが変化しないことである。

上述したように、本発明の光選択透過フィルターは、耐光性及び光選択透過性に特に優れ、光遮断特性の入射角依存性を充分に低減することができるとともに、充分な薄膜化が可能であるため、自動車や建物等のガラス等に装着される熱線カットフィルター等として有用であるのみならず、カメラモジュール（固体撮像素子ともいう）用途における光ノイズを遮断し視感度補正するためのフィルターとしても有用である。中でも、本発明の光選択透過フィルターは、薄型化・軽量化が進むデジタルスチルカメラや携帯電話用カメラ等のカメラモジュールに用いられるフィルターとして有用である。すなわち、上記光選択透過フィルターは、固体撮像素子（カメラモジュール）用光選択透過フィルターであることが好適である。

〔固体撮像素子〕
固体撮像素子は、通常、レンズユニット（撮像レンズ）部、光選択透過フィルター、及び、ＣＣＤやＣＭＯＳ等のセンサー部を備えるが、本発明の光選択透過フィルターを用いた固体撮像素子は、通常、レンズユニット（撮像レンズ）部と、ＣＣＤやＣＭＯＳ等のセンサー部との間に配置される。このように本発明の光選択透過フィルター、レンズユニット部、及び、センサー部を少なくとも有する固体撮像素子もまた、本発明の１つである。通常、反射型の光選択透過フィルターを用いた固体撮像素子では、入射角依存性に起因する影響（入射角による色むらの発生等）を抑制するために、多数のレンズを使用してレンズユニット部を構成するが、本発明の固体撮像素子では、上述した光選択透過フィルターを用いることによって、入射角依存性に起因する影響が充分に排除されるため、レンズユニット部を構成するレンズの枚数を少なくすることができ、薄型化・軽量化がより実現されることになる。
なお、レンズユニット部については、国際公開第２００８／０８１８９２号パンフレットに記載の形態が好ましく採用できる。

上記固体撮像素子として具体的には、例えば、携帯電話、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等が挙げられる。このように本発明の光選択透過フィルターを用いてなる、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、及び、表示素子もまた、本発明の好適な形態に含まれる。

本発明の光選択透過フィルターは、上述の構成よりなり、所望の波長の光を効果的に遮断することができるとともに、光遮断特性の入射角依存性が充分に低減された光選択透過フィルターである。したがって、本発明の光選択透過フィルターを用いた固体撮像素子（カメラモジュール）は、反射型フィルターを用いることにより課題となった入射角による色むらの発生が抑制された画像を取り込むことができる。また、充分な薄膜化も可能であるため、薄型化・軽量化が求められる用途において特に好適に用いることができる。具体的には、オプトデバイス用途、表示デバイス用途、機械部品、電気・電子部品等の様々な用途に好適に用いることができ、特に、撮像レンズ等のレンズ用光選択透過フィルターとして有用であり、中でも、カメラモジュール用ＩＲカットフィルターとして特に有用である。また、高レベルの耐光性を示すことができるため、直射日光下に暴露される可能性がある用途等、厳しい耐光性が要求される用途にも好ましく使用される。

カメラモジュールの構成を示す断面模式図である。 光選択透過フィルターの有無によるバックフォーカスの伸張を示す模式図である。 透過率測定方法を示す概念図である。

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「％」及び「ｗｔ％」は「質量％」を意味するものとする。
なお、参考例１０で得た化合物の略称において、Ｐｃはフタロシアニン核を表し、Ｚｎは中心金属を表し、Ｐｃのすぐ後にα位に置換する置換基を表し、そのα位に置換する置換基の後にβ位に置換する置換基を表す。例えば、［ＺｎＰｃ−｛α−（２，６−Ｃｌ_２ＰｈＯ）_２Ｈ_６｝｛β−（２，６−Ｃｌ_２ＰｈＯ）_２Ｈ_６｝］は、中心金属がＺｎ、α位のうち２個（２，６位）がジクロロルフェノキシ基（Ｃｌ_２ＰｈＯ）で置換され、β位のうち２個（２，６位）がジクロロルフェノキシ基（Ｃｌ_２ＰｈＯ）で置換され、残りが水素原子であるフタロシアニン化合物を意味する。

合成例１
４，５−ビス（３−クロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１０．０ｇ（０．０５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム６．９７ｇ（０．１２ｍｏｌ）及びアセトン３０ｇを仕込み、更に滴下ロートに３−クロロフェノール１３．０４ｇ（０．１０１ｍｏｌ）及びアセトン１３．０４ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより３−クロロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（３−クロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル ９．６４ｇ（収率４６．２％）を得た。

合成例２
４，５−ビス（４−クロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（０．１５ｍｏｌ）、フッ化カリウム２０．９ｇ（０．３６ｍｏｌ）、及びアセトン９０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−クロロフェノール３９．７ｇ（０．３１ｍｏｌ）及びアセトン６６．２ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−クロロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−クロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル ３９．６０ｇ（収率６３．３％）
を得た。

合成例３
４，５−ビス（２，３−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０ｇ（０．１５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム２０．９１ｇ（０．３６ｍｏｌ）、及びアセトン９０ｇを仕込み、更に滴下ロートに２，３−ジクロロフェノール４９．６２ｇ（０．３０３ｍｏｌ）及びアセトン４９．６２ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより２，３−ジクロロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（２，３−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル５３．０７ｇ（収率７２．８％）を得た。

合成例４
４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル５０ｇ（０．２５ｍｏｌ）、フッ化カリウム３４．８ｇ（０．６０ｍｏｌ）、及びアセトン５０ｇを仕込み、更に滴下ロートに２，５−ジクロロフェノール８２．３ｇ（０．５０ｍｏｌ）及びアセトン８２．３ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより２，５−ジクロロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル８８．８ｇ（収率７２．７％）を得た。

合成例５
４，５−ビス（３−シアノフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１２．０ｇ（０．０５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム８．３７ｇ（０．１４４ｍｏｌ）、及びアセトン３０ｇを仕込み、更に滴下ロートに３−シアノフェノール１４．５ｇ（０．１２２ｍｏｌ）及びアセトン１４．５ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−シアノフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（３−シアノフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１８．８１ｇ（収率７８．７％）を得た。

合成例６
４，５−ビス（４−シアノフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１００．０ｇ（０．５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム５８．７ｇ（１．０ｍｏｌ）、及びアセトン１００．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−シアノフェノール１２０．３ｇ（１．０ｍｏｌ）及びアセトン１２０．３ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−シアノフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−シアノフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１４５．７ｇ（収率７３．２％）を得た。

合成例７
４，５−ビス（３−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
２００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１０．０ｇ（０．０５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム６．９７ｇ（０．１２０ｍｏｌ）、及びアセトン３０ｇを仕込み、更に滴下ロートに３−ヒドロキシ安息香酸メチル１５．６６ｇ（０．１０３ｍｏｌ）及びアセトン１５．６６ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより３−ヒドロキシ安息香酸メチルのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（３−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１５．５６ｇ（収率６７．０％）を得た。

合成例８
４，５−ビス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（０．１５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム１９．２ｇ（０．３３ｍｏｌ）、及びアセトン５０．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−ヒドロキシ安息香酸メチル４６．５３ｇ（０．３１ｍｏｌ）及びアセトン７４．５ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−ヒドロキシ安息香酸メチルのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３０．７ｇ（収率４２．８％）を得た。

合成例９
４，５−ビス（４−ニトロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１５．７２ｇ（０．０７８ｍｏｌ）、フッ化カリウム１０．９４ｇ（０．１８８ｍｏｌ）、及びアセトン４５．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−ニトロフェノール ２２．１６ｇ（０．１５９ｍｏｌ）及びアセトン３０．０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−ニトロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−ニトロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル２８．２８ｇ（収率８２．２％）を得た。

合成例１０
４，５−ビス（４−ブロモフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１７．００ｇ（０．０３ｍｏｌ）、フッ化カリウム４．９２ｇ（０．０８ｍｏｌ）、及びアセトン６０．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−ブロモフェノール １２．２３ｇ（０．０７ｍｏｌ）及びアセトン３０．０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−ブロモフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−ブロモフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル９．５６ｇ（収率５４．０％）を得た。

合成例１１
４，５−ビス（４−フルオロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル１１２．８０ｇ（０．０６ｍｏｌ）、フッ化カリウム８．９９ｇ（０．１５ｍｏｌ）、及びアセトン６０．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−フルオロフェノール ２２．１６ｇ（０．１５９ｍｏｌ）及びアセトン３０．０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−フルオロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−フルオロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１５．７１ｇ（収率６３．９％）を得た。

合成例１２
４，５−ビス（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（０．１５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム２０．９１ｇ（０．３６０ｍｏｌ）、及びアセトン４５．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに３−トリフルオロメチルフェノール ４９．３４ｇ（０．３０４ｍｏｌ）及びアセトン３０．０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより３−トリフルオロメチルフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３８．５０ｇ（収率５８．６％）を得た。

合成例１３
４−（２−メチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル５０ｇ（０．２５ｍｏｌ）、フッ化カリウム１４．８ｇ（０．２５５ｍｏｌ）、及びアセトン１５０ｇを仕込み、更に滴下ロートに２−メチルフェノール２７．３ｇ（０．２５ｍｏｌ）及びアセトン６３．７ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより２−メチルフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（２−メチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル４８．５ｇ（収率６７．１％）を得た。

合成例１４
４−（２−メチルフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに合成例１３で得られた４−（２−メチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３６．０ｇ（０．０．１２５ｍｏｌ）、フッ化カリウム１０．８７ｇ（０．１８７ｍｏｌ）、及びアセトン７０．２ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−ヒドロキシ安息香酸メチル１６．３ｇ（０．１３２ｍｏｌ）及びアセトン３０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−ヒドロキシ安息香酸メチルのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（２−メチルフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル２８．５ｇ（収率５８．２％）を得た。

合成例１５
４−（２−クロロフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリルの合成
5００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル５０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム１７．４ｇ（０．３０ｍｏｌ）、及びアセトン5０ｇを仕込み、更に滴下ロートに２−クロロフェノール３３．２ｇ（０．２５７ｍｏｌ）及びアセトン３３．２ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより２−クロロフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（２−クロロフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル５０．１ｇ（収率６５．０％）を得た。

合成例１６
４−（２−クロロフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６―ジフルオロフタロニトリルの合成
２００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに合成例１５で得られた４−（２−クロロフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３６．０ｇ（０．０．１２５ｍｏｌ）、フッ化カリウム１０．８７ｇ（０．１８７ｍｏｌ）、及びアセトン７０．２ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−ヒドロキシ安息香酸メチル１６．３ｇ（０．１３２ｍｏｌ）及びアセトン３０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−ヒドロキシ安息香酸メチルのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（２−クロロフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル２８．５ｇ（収率５８．２％）を得た。

合成例１７
４−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル５０ｇ（０．２５ｍｏｌ）、フッ化カリウム１５．９ｇ（０．２７５ｍｏｌ）、及びアセトン１５０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−ヒドロキシ安息香酸メチル３９．９ｇ（０．２６ｍｏｌ）及びアセトン４０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−ヒドロキシ安息香酸メチルのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（収率３５．８％）を得た。

合成例１８
４，５−ビス（２−メチルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（０．１５ｍｏｌ）、フッ化カリウム２０．1ｇ（０．３４７ｍｏｌ）、及びアセトン１２０．1ｇを仕込み、更に滴下ロートに２−メチルフェノール３４．４１ｇ（０．３１５ｍｏｌ）及びアセトン１２０．1ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより２−メチルフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（２−メチルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル４５．５ｇ（収率８０．６％）を得た。

合成例１９
４，５−ビス（４−メトキシフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（０．１５ｍｏｌ）、フッ化カリウム１８．３ｇ（０．３１５ｍｏｌ）、及びアセトン７０．０ｇを仕込み、更に滴下ロートに４−メトキシフェノール３７．６ｇ（０．３０ｍｏｌ）及びアセトン３７．６ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより４−メトキシフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（４−メトキシフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３９．１５ｇ（収率６３．９％）
を得た。

合成例２０
４，５−ビス（フェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０．０ｇ（０．１５ｍｏｌ）、フッ化カリウム２１．０８ｇ（０．３６ｍｏｌ）、及びアセトン６０．1ｇを仕込み、更に滴下ロートにフェノール２８．５０ｇ（０．３０ｍｏｌ）及びアセトン２８．５０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートよりフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４，５−ビス（フェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１９．６９ｇ（収率３７．７％）を得た。

合成例２１
４−（２，６−ジメチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリルの合成
２００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコにテトラフルオロフタロニトリル３０ｇ（０．１５０ｍｏｌ）、フッ化カリウム９．５８ｇ（０．１６５ｍｏｌ）、及びアセトン９０ｇを仕込み、更に滴下ロートに２，６−ジメチルフェノール１９．２４ｇ（０．１５７ｍｏｌ）及びアセトン２０．０ｇを仕込んだ。−１℃で攪拌しながら、滴下ロートより２，６−ジメチルフェノールのアセトン溶液を約２時間かけて滴下した後、更に２時間攪拌を続けた。その後、反応温度を室温までゆっくりと上昇させながら一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（２，６−ジメチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３４．４ｇ（収率７５．９％）を得た。

合成例２２
３−（２−メトキシカルボニルフェノキシ）フタロニトリルの合成
２００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに３−ニトロフタロニトリル６．９ｇ（０．０４０ｍｏｌ）、サリチル酸メチル６．8ｇ（０．０４４ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１．０６ｇ（０．０８０ｍｏｌ）、及びアセトニトリル２７．８ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（２−メトキシカルボニルフェノキシ）フタロニトリル１０．３ｇ（収率９２．８％）を得た。

合成例２３
３−（４−メトキシエチルカルボニルフェノキシ）フタロニトリルの合成
２００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに３−ニトロフタロニトリル１３．８５ｇ（０．０８０ｍｏｌ）、４−ヒドロキシ安息香酸メトキシエチル １６．６５ｇ（０．０８４ｍｏｌ）、炭酸カリウム１３．２７ｇ（０．０９６ｍｏｌ）、及びアセトニトリル５５．４ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（４−メトキシエチルカルボニルフェノキシ）フタロニトリル１９．５５ｇ（収率７５．８％）を得た。

合成例２４
３−（２−クロロフェノキシ）フタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに３−ニトロフタロニトリル１７．３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、２−クロロフェノール１３．６ｇ（０．１０５ｍｏｌ）、炭酸カリウム１６．６ｇ（０．１２ｍｏｌ）、及びアセトニトリル６９．３ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（２−クロロフェノキシ）フタロニトリル２７．８／ｇ（収率９１．７％）を得た

合成例２５
３−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに３−ニトロフタロニトリル１５．０ｇ（０．０８７ｍｏｌ）、２，６−ジクロロフェノール１５．７ｇ（０．０９５ｍｏｌ）、炭酸カリウム２３．９ｇ（０．１７ｍｏｌ）、及びアセトニトリル６０．０ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリル１７．５ｇ（収率６９．９％）を得た。

合成例２６
３−（２，６−ジメチルフェノキシ）フタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに３−ニトロフタロニトリル１５．０ｇ（０．０８７ｍｏｌ）、２，６−ジメチルフェノール１１．２ｇ（０．０９1ｍｏｌ）、炭酸カリウム２３．９ｇ（０．１７ｍｏｌ）、及びアセトニトリル６０．０ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）フタロニトリル１７．５ｇ（収率６９．９％）を得た。

合成例２７
３−（４−シアノフェノキシ）フタロニトリルの合成
２００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに３−ニトロフタロニトリル１３．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）、４−シアノフェノール１０．１ｇ（０．０８４ｍｏｌ）、炭酸カリウム１３．３ｇ（０．０９６ｍｏｌ）、及びアセトニトリル５５．４ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（４−シアノフェノキシ）フタロニトリル１９．３ｇ（収率９８．２％）を得た。

合成例２８
４−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリルの合成
５００ｍｌの四つ口セパラブルフラスコに４−ニトロフタロニトリル１５．０ｇ（０．０８７ｍｏｌ）、２，６−ジクロロフェノール１５．７ｇ（０．０９５ｍｏｌ）、炭酸カリウム２３．９ｇ（０．１７ｍｏｌ）、及びアセトニトリル６０．０ｇを仕込み、６０℃で一晩攪拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、４−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリル２２．８ｇ（収率９１．１％）を得た。

実施例１−１
（１）［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（３−クロロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１で得られた４，５−ビス（３―クロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル４．１７ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル９．７３ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、反応液をフタロシアニン化合物の理論収量の２０倍に相当するメタノール（８６ｇ）中に滴下して結晶を析出させ、吸引ろ過後ウェットケーキを得た。得られたケーキを再度、フタロシアニン化合物の理論収量の１０倍量に相当するメタノール（４３ｇ）で撹拌洗浄し、吸引ろ過した。得られたケーキを真空乾燥機を用いて、１００℃で２４時間乾燥後、目的物（Ｐｃ１）４．１２ｇを得た（収率９５．１％）。

（２）樹脂組成物の調製、吸収シートの製造
ネオプリムＬ−３４３０（三菱ガス化学社製、５０μｍ厚）８部にジメチルアセトアミド１００部を加え、１２０℃で１時間攪拌し、溶解させた。この溶液６．０６３ｇに、上記で得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１）１５ｍｇを加え、混合、溶解して樹脂塗料液（樹脂組成物）を調整した。得られた樹脂塗料液をスピンコーターでガラス基板上に塗布し１２０℃で２０分間乾燥させることにより樹脂層（乾燥後の樹脂膜の厚み：３μｍ）を形成し吸収シートを得た。得られた吸収シートの吸収スペクトルを分光光度計（島津製作所製：ＵＶ−１８００）で測定した。その結果を以下の表１にまとめた。

実施例１−２
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−クロロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ２と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２で得られた４，５−ビス（４―クロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル８．３４ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７６ｇ（０．００５５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１９．４６ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ２）８．０９ｇを得た（収率９３．４％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ２）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−３
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（２，３−ジクロロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ３と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例３で得られた４，５−ビス（２，３−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル４．８６ｇ（０．０１００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１１．３４ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ３）４．７５ｇを得た（収率９４．６％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ３）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−４
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（２，５−ジクロロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ４と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例４で得られた４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル８．２６ｇ（０．０１７０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．４２ｇ（０．００４５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル３３．０５ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ４）７．１７ｇを得た（収率８４．０％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ４）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−５
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（２，５−ジクロロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］バナジウムオキサイド（Ｐｃ５と称す）の合成
１００ｍｌの四ツ口フラスコに合成例４で得られた４，５−ビス（２,５−ジクロロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１５．００ｇ（０．０３０９ｍｏｌ）、塩化バナジウム（ＩＩＩ） １．５８ｇ（０．０１０モル）、１，２，４−トリメチルベンゼン ２１．９９ｇ及びベンゾニトリル ２．４０ｇを仕込み、１７０℃でＭガス（窒素と酸素の混合ガス、酸素濃度７体積％）を液相部に吹き込みながら、攪拌下１８時間、反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ５）１３．６１ｇ（収率８７．7％）を得た。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ５）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−６
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（３−シアノフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ６と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例５で得られた４，５−ビス（３―シアノフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３．９８ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル９．２９ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ６）３．４７ｇを得た（収率８３．７％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ６）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−７
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−シアノフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ７と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例６で得られた４，５−ビス（４―シアノフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル８．１７ｇ（０．０２０５ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７２ｇ（０．００５４ｍｏｌ）、ベンゾニトリル３２．６６ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ７）７．０４ｇを得た（収率８２．９％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ７）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−８
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（３−メトキシカルボニルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ８と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例７で得られた４，５−ビス（３−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル９．２９（０．０２０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７６ｇ（０．００５５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル２１．６７ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ８）７．５０ｇを得た（収率７８．１％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ８）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−９
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ９と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例８で得られた４，５−ビス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル９．２９（０．０２００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７６ｇ（０．００５５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル２１．６７ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ９）８．８２ｇを得た（収率９１．８％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ９）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１０
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−ニトロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１０と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例９で得られた４，５−ビス（４―ニトロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル４．３８ｇ（０．０１００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１０．２３ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１０）４．３９ｇを得た（収率９６．６％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１０）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１１
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−ブロモフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１１と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１０で得られた４，５−ビス（４―ブロモフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル９．４５ｇ（０．００８ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．７０ｇ（０．００２２ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１２．６５ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１１）３．８１ｇを得た（収率９１．２％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１１）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１２
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−フルオロフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１２と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１１で得られた４，５−ビス（４―フルオロフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３．８４ｇ（０．０１００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル９．６０ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１２）３．５２ｇを得た（収率８８．０％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１２）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１３
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１３と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１２で得られた４，５−ビス（３―トリフルオロメチルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３．８４ｇ（０．０１００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル８．９７ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１３）３．５２ｇを得た（収率８８．０％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１３）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１４
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２―テトラキス（２−メチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，３−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１４と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１４で得られた４−（２−メチルフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）３，６−ジフルロフタロニトリル８．４１ｇ（０．０２００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７６ｇ（０．００５５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１２．６１ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１４）７．４３ｇ（収率８５．２％）を得た。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１４）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１５
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２―テトラキス（２−クロロフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，３−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１５と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに上記で得られた合成例１６で得られた４−（２−クロロフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル８．８２ｇ（０．０２００ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７６ｇ（０．００５５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル２０．５７ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１５）８．５４ｇ（収率９３．５％）を得た。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１５）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１６
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２―テトラキス（２−クロロフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，３−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］バナジウムオキサイド（Ｐｃ１６と称す）の合成
１００ｍｌの四ツ口フラスコに、合成例１６で得られた４−（２−クロロフェノキシ）−５−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，６−ジフルオロロフタロニトリル１２．００ｇ（０．０２７２ｍｏｌ）、塩化バナジウム（ＩＩＩ）１．３９ｇ（０．００９モル）、１，２，４−トリメチルベンゼン １７．５９ｇ及びベンゾニトリル １．９２ｇを仕込み、１７０℃でＭガス（窒素と酸素の混合ガス、酸素濃度７体積％）を液相部に吹き込みながら、攪拌下１８時間、反応させた。反応終了後、反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１６）１１．１４ｇ（収率８９．４％）を得た。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１６）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１７
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，１，３，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−ドデカフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１７と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに上記で得られた合成例１７で得られた４−（４−メトキシカルボニルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３．３２ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル７．７５ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１７）２．６７ｇを得た（収率７６．７％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１７）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

実施例１−１８
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２−テトラキス（２―クロロフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，１，３，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−ドデカフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｐｃ１８と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１５で得られた４−（２−フェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３．０９ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル７．２０ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｐｃ１８）３．０１ｇを得た（収率９２．７％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｐｃ１８）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

比較例１−１
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（２−メチルフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｃ−Ｐｃ１と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１８で得られた４，５−ビス（２―メチルフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１１．２４ｇ（０．０３０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）２．５１ｇ（０．００ｍ７９ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１６．９４ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｃ−Ｐｃ１）７．９４ｇを得た（収率６７．５％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｃ−Ｐｃ１）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

比較例１−２
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−メトキシフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｃ−Ｐｃ２と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１９で得られた４，５−ビス（４―メトキシフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１０．２１ｇ（０．０２５ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）２．０９ｇ（０．００６６ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１５．３１ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｃ−Ｐｃ２）７．９４ｇを得た（収率９０．９％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｃ−Ｐｃ２）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

比較例１−３
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキス（４−メトキシフェノキシ）−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］バナジウムオキサイド（Ｃ−Ｐｃ３と称す）
１００ｍｌの四ツ口フラスコに合成例１９で得られた４，５−ビス（４―メトキシフェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル１２．００ｇ（０．０２９４ｍｏｌ）、塩化バナジウム（ＩＩＩ） １．５０ｇ（０．０１０モル）、１，２，４−トリメチルベンゼン １７．５９ｇ及びベンゾニトリル １．９２ｇを仕込み、１７０℃でＭガス（窒素と酸素の混合ガス、酸素濃度７体積％）を液相部に吹き込みながら、攪拌下１８時間、反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｃ−Ｐｃ３）１１．５４ｇ（収率９２．４％）を得た。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｃ−Ｐｃ３）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

比較例１−４
［２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタキスフェノキシ−１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−オクタフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｃ−Ｐｃ４と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２０で得られた４，５−ビス（フェノキシ）−３，６−ジフルオロフタロニトリル３．４８ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル８．１３ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｃ−Ｐｃ４）３．３ｇを得た（収率９０．１％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｃ−Ｐｃ４）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

比較例１−５
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２−テトラキス（２−メチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，１，３，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−ドデカフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｃ−Ｐｃ５と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例１３で得られた４−（２−メチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル５．７６ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．７６ｇ（０．００５５ｍｏｌ）、ベンゾニトリル８．６４ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｃ−Ｐｃ５）７．９４ｇを得た（収率９０．９％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｃ−Ｐｃ５）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

比較例１−６
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，２−テトラキス（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，１，３，４，８，１１，１５，１８，２２，２５−ドデカフルオロ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｃ−Ｐｃ６と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２１で得られた４−（２，６−ジメチルフェノキシ）−３，５，６−トリフルオロフタロニトリル３．０２ｇ（０．０１０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．８８ｇ（０．００２８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル７．０５ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｃ−Ｐｃ６）２．８３ｇを得た（収率８８．９％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｃ−Ｐｃ６）について、実施例１−１に記載の方法と同様にして、樹脂組成物の調製、吸収シートの製造を行い、その評価結果を表１にまとめた。

表１及び後述する表２において、Ｑ１、Ｑ２、λＱ１、λＱ２、Ａｂｓ（Ｑ２）／Ａｂｓ（Ｑ１）は、それぞれ下記を意味する。
Ｑ１：フタロシアニンの会合由来の吸収
Ｑ２：フタロシアニンの非会合由来の吸収
λＱ１：フタロシアニンの会合由来の吸収の吸収極大波長
λＱ２：フタロシアニンの非会合由来の吸収の吸収極大波長
Ａｂｓ（Ｑ１）：λＱ１（のＭａｘ値）における吸光度
Ａｂｓ（Ｑ２）：λＱ２（のＭａｘ値）における吸光度
Ａｂｓ（Ｑ２）／Ａｂｓ（Ｑ１）：Ａｂｓ（Ｑ１）とＡｂｓ（Ｑ２）との比
また、α位置換基とは、フタロシアニン環の１，４，８，１１，１５，１８，２２，２５位の炭素に結合した置換基を意味し、β位置換基とは、フタロシアニン環の２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４位の炭素に結合した置換基を意味する。

なお、本実施例の吸収シートにおいては、λＱ１のみ観測されて、λＱ２が観測されない場合がある。このような場合は、含有される色素が非会合状態であれば示す吸収極大波長における吸光度を測定し、該吸光度をＡｂｓ（Ｑ２）として用いて、Ａｂｓ（Ｑ２）／Ａｂｓ（Ｑ１）を算出した。このように、吸収極大がλＱ１のみ観測された場合は、表１のλＱ２欄に、＊印を付して示した。

Ｐｃ１〜Ｐｃ１８及びＣ−Ｐｃ１〜Ｃ−Ｐｃ６は、表１中の式（６）で表される構造を有するフタロシアニン系色素である。式（６）中のＭ、Ｘ及びＹは、各色素について表１に示すとおりである。例えば、Ｐｃ１について、Ｘ及びＹが「３−クロロフェノキシ ８個」であるとは、式（６）中のＸ及びＹの全て（合計８個）が３−クロロフェノキシ基であることを意味し、Ｐｃ１４について、Ｘが「２−メチルフェノキシ ４個」、Ｙが「４−メトキシカルボニルフェノキシ ４個」であるとは、式（６）中のＸの全て（合計４個）が２−メチルフェノキシ基、Ｙの全て（合計４個）が４−メトキシカルボニルフェノキシ基であることを意味する。

参考例１
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２−メトキシカルボニルフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ１と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２２で得られた３−（２−メトキシカルボニルフェノキシ）フタロニトリル４．１７ｇ（０．０１５０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．３２ｇ（０．００４１ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１６．７０ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ１）２．００ｇを得た（収率４５．０％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ１）について、以下の方法により、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２に示した。

＜色素の評価＞
ネオプリムＬ−３４３０（三菱ガス化学社製、５０μｍ厚）８部にジメチルアセトアミド１００部を加え、１２０℃で１時間攪拌し、溶解させた。この溶液６．０６３ｇに上記で得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ１）１５ｍｇを加え、混合、溶解して樹脂塗料液を調整した。得られた樹脂塗料液をスピンコーターでガラス板上に塗布し１２０℃で２０分間乾燥させることにより（乾燥後の樹脂膜の厚み：３μｍ）、試料（ガラス板に樹脂層が形成されたコーティングガラス）を得た。得られた試料の吸収スペクトルを分光光度計（島津製作所製：ＵＶ−１８００）で測定した。

参考例２
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２−メトキシカルボニルフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］銅（Ｒ−Ｐｃ２と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２２で得られた３−（２−メトキシカルボニルフェノキシ）フタロニトリル４．００ｇ（０．０１４４ｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）０．３９ｇ（０．００４０ｍｏｌ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル９．３３ｇを仕込み、１８０℃で撹拌しながら１０時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ２）２．９４ｇを得た（収率６９．５％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ２）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例３
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（４−メトキシエチルカルボニルフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ３と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２３で得られた３−（４−メトキシエチルカルボニルフェノキシ）フタロニトリル８．３８ｇ（０．０２６ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）２．２８ｇ（０．００７２ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１９．５５ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ３）４．１１ｇを得た（収率４６．７％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ３）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例４
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２−クロロフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ４と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２４で得られた３−（２−クロロフェノキシ）フタロニトリル１０．１９ｇ（０．０４０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）３．５１ｇ（０．０１１ｍｏｌ）、ベンゾニトリル２３．８ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ４）２．７４ｇを得た（収率２５．３％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ４）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例５
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２，６−ジクロロフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ５と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２５で得られた３−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリル２．３ｇ（０．００８０ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）０．７０ｇ（０．００２２ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１３．１ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ５）０．８０ｇを得た（収率３２．８％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ５）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例６
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２，６−ジクロロフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］銅（Ｒ−Ｐｃ６と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２５で得られた３−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリル４．００ｇ（０．０１４４ｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）０．３８ｇ（０．００３８ｍｏｌ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル９．３３ｇを仕込み、１８０℃で撹拌しながら１０時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ６）３．２２ｇを得た（収率７６．３％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ６）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例７
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２，６−ジメチルフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ７と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２６で得られた３−（２，６−ジメチルフェノキシ）フタロニトリル３．７２ｇ（０．０１５ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ） １．３２ｇ（０．００４１ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１４．９０ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ７）２．５９ｇを得た（収率６５．４％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ７）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例８
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（２，６−メチルフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］銅（Ｒ−Ｐｃ８と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２６で得られた３−（２，６−ジメチルフェノキシ）フタロニトリル４．００ｇ（０．０１６１ｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）０．４４ｇ（０．００４４ｍｏｌ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル９．３３ｇを仕込み、１８０℃で撹拌しながら１０時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ８）２．８７ｇを得た（収率６７．４４％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ８）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例９
［Ｃ，Ｃ，Ｃ，１−テトラキス（４−シアノフェノキシ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ９と称す）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２７で得られた３−（４−シアノフェノキシ）フタロニトリル８．０ｇ（０．０３２６ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）２．８６ｇ（０．００９０ｍｏｌ）、ベンゾニトリル１８．６ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ９）３．６ｇを得た（収率４７．３％）
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ９）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

参考例１０
［ＺｎＰｃ−｛α−（２，６−Ｃｌ_２ＰｈＯ）_２Ｈ_６｝｛β−（２，６−Ｃｌ_２ＰｈＯ）_２Ｈ_６｝］亜鉛（Ｒ−Ｐｃ１０）の合成
２００ｍｌの四つ口フラスコに合成例２５で得られた３−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリル２．５ｇ（０．００８６ｍｏｌ）、合成例２８で得られた４−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリル２．５ｇ（０．００８６ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）１．１ｇ（０．００４８ｍｏｌ）、ベンゾニトリル７．５ｇを仕込み、１６０℃で撹拌しながら２４時間反応させた。反応終了後、実施例１−１と全く同様の操作を行い、目的物（Ｒ−Ｐｃ１０）４．２ｇを得た（３−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリルと４−（２，６−ジクロロフェノキシ）フタロニトリルに対する収率７９．２％）。
このようにして得られたフタロシアニン化合物（Ｒ−Ｐｃ１０）について、参考例１に記載の方法と同様にして、ポリイミド中の分光特性を測定し、その結果を表２にまとめた。

Ｒ−Ｐｃ１〜Ｒ−Ｐｃ１０は、表２中の式（７）で表される構造を有するフタロシアニン系色素である。式（７）中のＭ、Ｘ、Ｙ及びＲ^αは、各色素について表２に示すとおりである。例えば、Ｒ−Ｐｃ１について、Ｒ^αが「２−メトキシカルボニルフェノキシ ４個、水素 ４個」、Ｘ及びＹが「水素 ８個」であるとは、式（７）中のＲ^α（合計８個）のうち４個が２−メトキシカルボニルフェノキシ基、残りのＲ^αが水素原子であり、Ｘ及びＹの全て（合計８個）が水素原子であることを意味する。

実施例２−１〜２−１０（２種の色素を混合してのポリイミド中での分光特性測定）
ネオプリムＬ−３４３０（三菱ガス化学社製、５０μｍ厚）８部にジメチルアセトアミド１００部を加え、１２０℃で１時間攪拌し、溶解させた。この溶液６．０６３ｇに、表３に示す色素（Ａ）及び色素（Ｂ）を、表３に記載の重量比で総量が１５ｍｇになるように量り取った色素混合物を、混合、溶解して樹脂塗料液（樹脂組成物）を調製した。得られた樹脂塗料液をスピンコーターでガラス基板上に塗布し１２０℃で２０分間乾燥させることにより、ガラス基板表面に樹脂層の形成された吸収シートを製造した。得られた吸収シートの吸収スペクトルを分光光度計（島津製作所製：ＵＶ−１８００）で測定した。その結果を以下の表３にまとめた。
なお、各実施例において、色素（Ａ）及び色素（Ｂ）の代わりに、各実施例で用いた色素（Ａ）のみを１５ｍｇ用いた点以外は各実施例と同様に樹脂塗料液（樹脂組成物）を調製し、更に各実施例と同様にして吸収シートを作成し、評価した結果を表３に示した。

表３より、実施例２−１〜２−１０で得られた吸収シートの吸収特性を、色素（Ａ）を単独で使用して得られた吸収シートの吸収特性と比較すると、樹脂層に特定色素に加えて他の色素を更に含有させることにより、最大吸収波長における透過率が低減（吸収率が増大）するとともに、６００〜８００ｎｍ波長域における吸収幅が増大していることが分かる。なお、表３に記載の「％Ｔ＠λｍａｘ」や「Ｗ（ｎｍ）」も、吸光度比（Ａｂｓ（Ｑ２）／Ａｂｓ（Ｑ１））の評価対象である吸収シートに由来するものである。

実施例３−１
実施例１−１で得た樹脂塗料液を、支持体フィルムとしてのネオプリムＬ−３４３０（三菱ガス化学社製、５０μｍ厚）上に４０μｍ厚で塗布し、１５０℃で６０分間乾燥して、吸収シート（３−１）を得た。得られた吸収シートは５３μｍであった。
この吸収シート（３−１）を、幅６０ｍｍ、長さ１００ｍｍの長方形にカッティングした後、この両面に、蒸着基板温度１５０℃で赤外線を反射する多層膜{シリカ（ＳｉＯ₂：膜厚１２０〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ₂：膜厚７０〜１２０ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの、積層数は片面２０層ずつ両面に蒸着：計４０層}を蒸着により形成し、光選択透過フィルター（光学フィルター）（３−１）を製造した。

実施例３−２
実施例２−１で得た樹脂塗料液を、支持体フィルムとしてのネオプリムＬ−３４３０（三菱ガス化学社製、５０μｍ厚）上に４０μｍ厚で塗布し、１５０℃で６０分間乾燥して、吸収シート（３−２）を得た。得られた吸収シートは５３μｍであった。
この吸収シート（３−２）を、幅６０ｍｍ、長さ１００ｍｍの長方形にカッティングした後、この両面に、蒸着基板温度１５０℃で赤外線を反射する多層膜{シリカ（ＳｉＯ₂：膜厚１２０〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ₂：膜厚７０〜１２０ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの、積層数は片面２０層ずつ両面に蒸着：計４０層}を蒸着により形成し、光選択透過フィルター（光学フィルター）（３−２）を製造した。

比較例３−１
比較例１−１で得た樹脂塗料液を、支持体フィルムとしてのネオプリムＬ−３４３０（三菱ガス化学社製、５０μｍ厚）上に４０μｍ厚で塗布し、１５０℃で６０分間乾燥して、吸収シート（Ｃ３−１）を得た。得られた吸収シートは５３μｍであった。
この吸収シート（Ｃ３−１）を、幅６０ｍｍ、長さ１００ｍｍの長方形にカッティングした後、この両面に、蒸着基板温度１５０℃で赤外線を反射する多層膜{シリカ（ＳｉＯ₂：膜厚１２０〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ₂：膜厚７０〜１２０ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの、積層数は片面２０層ずつ両面に蒸着：計４０層}を蒸着により形成し、光選択透過フィルター（光学フィルター）（Ｃ３−１）を製造した。

＜入射角依存性の評価＞
このようにして得た光選択透過フィルター（３−１、３−２、Ｃ３−１）について、入射角依存性を評価した。
具体的には、Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ−３１００（島津製作所社製）を用いて２００〜１１００ｎｍにおける透過率を測定した。透過率は、図３に示すように、入射光に対して垂直になるように光選択透過フィルターを設置した場合（このようにして測定された透過率スペクトルを０°スペクトルともいう。光選択透過フィルターの厚み方向から光が入射するようにして測定される。）と、入射光に対して２５°光選択透過フィルターを傾けて設置した場合（このようにして測定された透過率スペクトルを２５°スペクトルともいう。光選択透過フィルターの厚み方向に対して２５°傾いた方向から光が入射するようにして測定される。）の夫々について測定した。

その結果、スペクトルは示していないものの、特定色素を含有する樹脂層を有する光選択透過フィルター（３−１）では、透過率６０％以上の領域において、０°と２５°とのスペクトルに変化がなく、光遮断特性の入射角依存性が低減されることが確認された。更に、特定色素に他の色素を併用した樹脂層を有する光選択透過フィルター（３−２）では、透過率４０％以上の領域において、０°と２５°とのスペクトルに変化がなく、より入射角依存性が低減されることが確認された。
一方、特定色素ではない色素を単独で用いた樹脂層を有する光選択透過フィルター（Ｃ３−１）では、透過率７５％の領域でも入射角依存性が発現した。多層膜の膜厚と層数の変更を行い、長波長側の吸収極大波長（λＱ２）領域で光遮断したところ、入射角依存性は若干改善されたが、光を透過するべき領域に小さな吸収ピーク（λＱ１）が現れ、光選択透過フィルターに適した波形とならなかった。
したがって、本発明の特定色素を含有する樹脂層を有する光選択透過フィルターは、光遮断特性の入射角依存性を低減することができることが分かった。

１：レンズ
２：光選択透過フィルター
３：センサー
４：光源
５：光選択透過フィルター
６：受光部

Claims (6)

1. 色素及び樹脂成分を含み、光選択透過フィルターの形成に用いられる樹脂組成物であって、該色素は、下記一般式（Ｉ）：
   

   

   （式中、Ｍは、金属原子を表す。Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４は、同一又は異なって、水素原子（Ｈ）、フッ素原子（Ｆ）又は置換基を有していてもよいＯＲ^ｉ基を表す。ＯＲ^ｉ基は、アルコキシ基、フェノキシ基又はナフトキシ基を表す。但し、Ｘ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４のうち少なくとも４個は、同一又は異なって、電子求引性基を有するフェノキシ基を表す。）で表されるフタロシアニン系色素であり、
   該樹脂成分は、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ（アミド）イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂及びポリシクロオレフィン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の溶剤可溶性樹脂を含み、
   該溶剤可溶性樹脂は、Ｎ−メチルピロリドン１００質量部に対し１質量部以上溶解する樹脂であり、
   該フッ素化芳香族ポリマーは、少なくとも１つ以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合とを含む繰り返し単位を有する重合体である
   ことを特徴とする光選択透過フィルター形成用樹脂組成物。
2. 前記一般式（Ｉ）におけるＸ^１〜Ｘ^４及びＹ^１〜Ｙ^４は、その全てが、同一又は異なって、電子求引性基を有するフェノキシ基を表す
   ことを特徴とする請求項１に記載の光選択透過フィルター形成用樹脂組成物。
3. 吸収シートを含む光選択透過フィルターであって、
   該吸収シートは、請求項１又は２に記載の光選択透過フィルター形成用樹脂組成物から形成される樹脂層を含む
   ことを特徴とする光選択透過フィルター。
4. 前記光選択透過フィルターは、更に、反射膜を含む
   ことを特徴とする請求項３に記載の光選択透過フィルター。
5. 請求項３又は４に記載の光選択透過フィルターに用いられる
   ことを特徴とする吸収シート。
6. 請求項３又は４に記載の光選択透過フィルター、レンズユニット部、及び、センサー部を少なくとも有する
   ことを特徴とする固体撮像素子。

Images