JP6021439B2 - 固体撮像装置 - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 43
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 14
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 2
- -1 CH 2 F 2 Substances 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
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-
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
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- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14641—Electronic components shared by two or more pixel-elements, e.g. one amplifier shared by two pixel elements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
- H01L27/14627—Microlenses
Description
図1乃至8を参照しながら、第1実施形態の固体撮像装置11を説明する。図1は、固体撮像装置11のセンサ部が有する画素ユニット100の回路の構成例を示す。画素ユニット100は、光電変換部101及び102(光電変換素子)、転送トランジスタ103及び104、フローティングディフュージョン(以下、FD)105、リセットトランジスタ106、増幅トランジスタ108を含んでいる。リセットトランジスタ106及び増幅トランジスタ108のそれぞれは、ドレイン端子及びソース端子の一方が電源107に接続されている。増幅トランジスタ108は、例えば、ソースフォロワ回路を構成する。光電変換部101及び102には、例えば、フォトダイオードが用いられうる。転送トランジスタ103は、例えば、光電変換部101に対応して配され、転送トランジスタ104は、例えば、光電変換部102に対応して配されうる。FD105は、転送トランジスタ103及び104の拡散領域である。
増幅トランジスタ108は、画素信号を列信号線109に出力しうる。画素ユニット100は、ここでは例として、2つの光電変換部101及び102がFD105、増幅トランジスタ108及びリセットトランジスタ106を共有する構成を採用しているが、本実施形態はこの構成に限られない。例えば、複数の光電変換部のそれぞれにFD105、増幅トランジスタ108及びリセットトランジスタ106をそれぞれ設けて、光電変換部ごとに画素信号を読み出す構成にしてもよい。また、例えば、増幅トランジスタ108と列信号線109との間には、画素信号の出力の可否を選択する選択トランジスタが配されてもよい。
図9及び10を参照しながら、第2実施形態の固体撮像装置12を説明する。図9は、図2で示されたレイアウト上面図のカットラインA−A’における断面構造図(ここでは、画素R及びBの断面構造図)を示している。本実施形態は、導光部212の第1部分801の径が、境界Kにおいて、より小さくなっている点で第1実施形態と異なる。また、第1実施形態で述べたように、導光部212の第1部分801と第2部分802との境界Kは、絶縁膜306より下に位置するとよい。導光部212は、このような形状を採ることにより、第1部分801とゲート電極204との距離がさらに大きくなり、第1実施形態で述べた効果がより効率的に得られる。
Claims (8)
- 半導体基板に設けられた複数の光電変換部と、前記半導体基板に設けられたMOSトランジスタと、前記半導体基板及び前記MOSトランジスタを覆うように形成された第1絶縁層と、前記第1絶縁層の上に形成され、前記第1絶縁層よりも屈折率が高い第2絶縁層と、前記光電変換部に光を導くように前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層の中に形成された導光部と、を備え、
前記導光部は、
前記半導体基板に平行な面とのなす角が第1の角度となる第1の側面を有する第1部分と、
前記第1部分の上に配され、前記半導体基板に平行な面とのなす角が第2の角度となる第2の側面を有する第2部分と、
を含み、
前記第1の側面と前記第2の側面とは互いに接続されており、
前記第1の角度は前記第2の角度よりも小さく、
前記第1の側面と前記第2の側面との境界は、前記MOSトランジスタのゲート電極の上面より上に位置し、前記第1絶縁層と前記第2絶縁層との境界より下に位置し、
前記導光部の下端は、前記ゲート電極の前記上面より上に位置する
ことを特徴とする固体撮像装置。 - 前記導光部は、前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層よりも屈折率が高い部材によって構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。 - 前記第1絶縁層は酸化シリコン、前記第2絶縁層は窒化シリコン、前記導光部は窒化シリコンによって構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。 - 前記光電変換部および前記ゲート電極を覆う絶縁膜を更に備え、前記絶縁膜の上面のうち前記光電変換部と前記導光部との間における部分は、前記ゲート電極の前記上面より上に位置する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の固体撮像装置。 - 前記部分を覆う第2絶縁膜を更に備え、前記導光部の下端は、前記第2絶縁膜に接している、
ことを特徴とする請求項4に記載の固体撮像装置。 - 前記第2絶縁膜の下面は、前記ゲート電極の前記上面より上に位置する、
ことを特徴とする請求項5に記載の固体撮像装置。 - 前記導光部の上に、複数の色を含むカラーフィルタを有する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の固体撮像装置。 - 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012120137A JP6021439B2 (ja) | 2012-05-25 | 2012-05-25 | 固体撮像装置 |
US13/895,440 US9030587B2 (en) | 2012-05-25 | 2013-05-16 | Solid-state image sensor with light-guiding portion |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012120137A JP6021439B2 (ja) | 2012-05-25 | 2012-05-25 | 固体撮像装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013247246A JP2013247246A (ja) | 2013-12-09 |
JP2013247246A5 JP2013247246A5 (ja) | 2015-06-25 |
JP6021439B2 true JP6021439B2 (ja) | 2016-11-09 |
Family
ID=49621310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012120137A Expired - Fee Related JP6021439B2 (ja) | 2012-05-25 | 2012-05-25 | 固体撮像装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9030587B2 (ja) |
JP (1) | JP6021439B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102356695B1 (ko) | 2014-08-18 | 2022-01-26 | 삼성전자주식회사 | 광 유도 부재를 가지는 이미지 센서 |
JP6539123B2 (ja) | 2015-06-18 | 2019-07-03 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置及びその製造方法ならびにカメラ |
CN107004691B (zh) * | 2015-11-12 | 2022-02-11 | 松下知识产权经营株式会社 | 光检测装置 |
JP6808348B2 (ja) * | 2016-04-28 | 2021-01-06 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置およびカメラ |
JP6465839B2 (ja) * | 2016-07-06 | 2019-02-06 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置、撮像システム、移動体、および、光電変換装置の製造方法 |
WO2018088281A1 (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-17 | パナソニック・タワージャズセミコンダクター株式会社 | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP2019091817A (ja) * | 2017-11-15 | 2019-06-13 | シャープ株式会社 | 固体撮像装置および固体撮像装置の製造方法 |
CN110770908A (zh) * | 2019-09-04 | 2020-02-07 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 图像传感器及其制作方法、电子设备 |
JP2021040166A (ja) * | 2020-12-09 | 2021-03-11 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置およびカメラ |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05283661A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
JPH1168074A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-03-09 | Sony Corp | 固体撮像素子 |
JP3702611B2 (ja) * | 1997-10-06 | 2005-10-05 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
WO2004055898A1 (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-01 | Sony Corporation | 固体撮像素子およびその製造方法 |
JP4120543B2 (ja) * | 2002-12-25 | 2008-07-16 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子およびその製造方法 |
JP4548702B2 (ja) * | 2003-10-02 | 2010-09-22 | キヤノン株式会社 | 撮像装置および撮像システム |
KR100652379B1 (ko) | 2004-09-11 | 2006-12-01 | 삼성전자주식회사 | Cmos 이미지 센서 및 그 제조 방법 |
KR100666371B1 (ko) * | 2004-12-23 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 이미지 소자의 제조 방법 |
US7755122B2 (en) * | 2005-08-29 | 2010-07-13 | United Microelectronics Corp. | Complementary metal oxide semiconductor image sensor |
US20070200055A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Tower Semiconductor Ltd. | Via wave guide with cone-like light concentrator for image sensing devices |
US7358583B2 (en) * | 2006-02-24 | 2008-04-15 | Tower Semiconductor Ltd. | Via wave guide with curved light concentrator for image sensing devices |
JP2008085174A (ja) | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Fujifilm Corp | 撮像装置 |
KR100922931B1 (ko) * | 2006-12-27 | 2009-10-22 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 씨모스 이미지 센서 및 그 제조 방법 |
JP2008218650A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | 固体撮像素子 |
US7816641B2 (en) | 2007-12-28 | 2010-10-19 | Candela Microsystems (S) Pte. Ltd. | Light guide array for an image sensor |
US20090189055A1 (en) * | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Visera Technologies Company Limited | Image sensor and fabrication method thereof |
JP4697258B2 (ja) * | 2008-05-09 | 2011-06-08 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置と電子機器 |
JP4743296B2 (ja) * | 2008-11-17 | 2011-08-10 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、および、その製造方法、カメラ |
JP2010182765A (ja) | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Sony Corp | 固体撮像装置および電子機器 |
JP5423042B2 (ja) | 2009-02-25 | 2014-02-19 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
JP5402092B2 (ja) * | 2009-03-04 | 2014-01-29 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法および電子機器 |
JP5644057B2 (ja) | 2009-03-12 | 2014-12-24 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置とその製造方法および撮像装置 |
JP5212246B2 (ja) * | 2009-04-24 | 2013-06-19 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子及び固体撮像素子の製造方法 |
US7923799B2 (en) * | 2009-06-09 | 2011-04-12 | Aptina Imaging Corporation | Image sensors with light guides |
US20120018831A1 (en) * | 2010-07-20 | 2012-01-26 | Himax Imaging, Inc. | Light pipe fabrication with improved sensitivity |
JP2012049431A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Sony Corp | 固体撮像装置および電子機器 |
JP2012114155A (ja) | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Panasonic Corp | 固体撮像装置とその製造方法 |
US8542311B2 (en) * | 2011-01-20 | 2013-09-24 | Aptina Imaging Corporation | Multisection light guides for image sensor pixels |
JP2012186396A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Panasonic Corp | 固体撮像装置およびその製造方法 |
JP4866972B1 (ja) * | 2011-04-20 | 2012-02-01 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP2013012506A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子、電子機器の製造方法、および電子機器。 |
-
2012
- 2012-05-25 JP JP2012120137A patent/JP6021439B2/ja not_active Expired - Fee Related
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