JP6014835B2 - Cmpパッドコンディショナおよび当該cmpパッドコンディショナの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本実施形態に係るCMPパッドコンディショナ1の構成について、図1および図2を参照して説明する。
次に、本実施形態に係るCMPパッドコンディショナ1の層構造について、図3を参照して説明する。なお、以下では、砥削部3aにおける層構造を例にして、CMPパッドコンディショナ1の層構造を説明する。
次に、本実施形態に係るCMPパッドコンディショナ1の製造方法について説明する。なお、CMPパッドコンディショナ1の製造方法のうち、台座2の表面にニッケルめっき層11を形成して、砥削部3a・3bに砥粒4を電着するまでの工程は、従来と同様であるため、以下では、非晶質クロムめっき層12によってニッケルめっき層11を被覆する工程(以下、被覆ステップと称する)について説明する。
以上のように、本実施形態に係るCMPパッドコンディショナ1は、台座2の表面に形成されたニッケルめっき層11により保持された複数の砥粒4を備え、当該砥粒4により化学機械研磨に用いられるCMPパッドを砥削加工するCMPパッドコンディショナ1であって、ニッケルめっき層11は、少なくとも非晶質構造を含む非晶質クロムめっき層12により被覆されている。
上述した実施形態では、ニッケルめっき層11上に非晶質クロムめっき層12を直接形成する構成について説明したが、本発明はこれに限定されない。非晶質クロムめっき層12は、ニッケルめっき層11よりも上層に形成されていればよく、ニッケルめっき層11と非晶質クロムめっき層12との間に、他の異なる層が形成された構成であってもよい。
次に、非晶質クロムめっき層によって被覆された本発明に係るCMPパッドコンディショナに対して行った耐食性試験について説明する。
なお、本発明に係るCMPパッドコンディショナは、下記のように表現することもできる。すなわち、本発明に係るCMPパッドコンディショナは、複数の砥粒がめっきによる金属結合相で固着された砥粒層を有するCMPパッドコンディショナの最上層に非晶質クロムめっきを施したことを特徴とする。
2 台座(基材)
3 砥削部
3a 砥削部
3b 砥削部
4 砥粒
11 ニッケルめっき層(金属固定層)
12 非晶質クロムめっき層
Claims (6)
- 基材表面に形成されたニッケルめっき層により保持された複数の砥粒を備え、当該砥粒により化学機械研磨に用いられるCMPパッドを砥削加工するCMPパッドコンディショナであって、
前記ニッケルめっき層は、少なくとも非晶質構造を含む非晶質クロムめっき層により被覆されており、
前記非晶質クロムめっき層は、前記ニッケルめっき層を保護する保護層であり、かつ他の異なる層を介して、前記ニッケルめっき層よりも上層に形成されていることを特徴とするCMPパッドコンディショナ。 - 前記非晶質クロムめっき層は、部分的に結晶化されており、且つ、ビッカース硬度がHV1100以上、HV1800以下であることを特徴とする請求項1に記載のCMPパッドコンディショナ。
- 前記非晶質クロムめっき層の表面に酸化膜が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のCMPパッドコンディショナ。
- 基材表面に形成されたニッケルめっき層により保持された複数の砥粒を備え、当該砥粒により化学機械研磨に用いられるCMPパッドを砥削加工するCMPパッドコンディショナの製造方法であって、
前記ニッケルめっき層を、少なくとも非晶質構造を含む非晶質クロムめっき層により被覆する被覆ステップを含み、
前記非晶質クロムめっき層は、前記ニッケルめっき層を保護する保護層であり、かつ前記被覆ステップにおいて、他の異なる層を介して、前記ニッケルめっき層よりも上層に形成されることを特徴とするCMPパッドコンディショナの製造方法。 - 前記被覆ステップにおいて、前記非晶質クロムめっき層を、200℃以上、300℃以下、または500℃以上、600℃以下の温度範囲で熱処理することを特徴とする請求項4に記載のCMPパッドコンディショナの製造方法。
- 前記熱処理を大気中で行うことを特徴とする請求項5に記載のCMPパッドコンディショナの製造方法。
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