JP5957895B2 - 電子部品の製造方法 - Google Patents

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本発明は、電子部品の製造方法に関し、より特定的には、導電体層と絶縁体シートとが積層されてなる電子部品の製造方法に関する。
従来の電子部品の製造方法としては、例えば、特許文献1に記載の積層型電子部品の製造方法が知られている。該積層型電子部品の製造方法では、シートの上面に溝を形成し、該溝内にコイル導体層を形成している。これにより、シートの上面からのコイル導体層の突出高さが低くなる。よって、シートの積層時に、コイル導体層が積み重なっても、コイル導体層が設けられている部分の積層体の高さとコイル導体層が設けられていない部分の積層体の高さとの差が大きくなりにくい。したがって、積層体の圧着時に、コイル導体層が設けられている部分とコイル導体層が設けられていない部分とに均等に圧力が加わるようになる。その結果、コイル導体層に圧力が集中して、コイル導体層が変形することが抑制される。
しかしながら、特許文献1に記載の積層型電子部品の製造方法は、溝の形成が困難であるという問題を有している。より詳細には、該積層型電子部品の製造方法では、レーザービームをシートに照射して溝を形成している。そして、溝の深さは、レーザービームの強度が微調整されることによって調整されている。したがって、適切な深さの溝を形成するためには、レーザービームの強度を精度よく微調整する必要がある。その結果、積層型電子部品の製造方法では、溝の形成が困難であった。
特開平7−192954号公報
そこで、本発明の目的は、コイル導体層の変形を抑制でき、かつ、電子部品を容易に作製できる電子部品の製造方法を提供することである。
本発明の一形態に係る電子部品の製造方法は、第1の絶縁体シート上に導体層を形成する第1の工程と、前記導体層と同じ形状を有する開口を第2の絶縁体シートに形成する第2の工程と、前記導体層が前記開口内に収まるように、前記第1の絶縁体シート上に前記第2の絶縁体シートを積層して積層体を形成する第3の工程と、を備えており前記第3の工程では、前記各第1の絶縁体シート上に前記第2の絶縁体シートを積層した後に、該第1の絶縁体シート及び該第2の絶縁体シートからなる複数の第3の絶縁体シートを積層することによって前記積層体を形成すること、を特徴とする。
本発明によれば、コイル導体層の変形を抑制でき、かつ、電子部品を容易に作製できる。
本発明の一実施形態に係る電子部品の外観斜視図である。 一実施形態に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。 電子部品の製造工程におけるセラミックグリーンシートの斜視図である。 図4(a)は、本実施形態に係る電子部品の断面構造図である。図4(b)は、比較例に係る電子部品の断面構造図である。
以下に、本発明の実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。
(電子部品の構成)
本発明の一実施形態に係る電子部品の構成について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る電子部品10の外観斜視図である。図2は、一実施形態に係る電子部品10の積層体12の分解斜視図である。
以下、電子部品10の積層方向をz軸方向と定義し、z軸方向から平面視したときに電子部品10の長辺が延在している方向をx軸方向と定義し、z軸方向から平面視したときに電子部品10の短辺が延在している方向をy軸方向と定義する。x軸方向とy軸方向とz軸方向とは直交している。
電子部品10は、図1及び図2に示すように、積層体12、外部電極14(14a,14b)及びコイルLを備えている。
積層体12は、図1に示すように、直方体状をなしており、コイルLを内蔵している。以下では、積層体12のz軸方向の正方向側の面を上面と定義し、積層体12のz軸方向の負方向側の面を下面と定義する。また、積層体12のその他の面を側面と定義する。
積層体12は、図2に示すように、長方形状の絶縁体層16(16a〜16m),17(17e〜17i)が積層されることにより構成されている。絶縁体層16a〜16dは、z軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように積層されている。また、絶縁体層16e〜16iと絶縁体層17e〜17iとは、絶縁体層16dのz軸方向の負方向側において、交互に並ぶと共に、z軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように積層されている。また、絶縁体層16j〜16mは、絶縁体層16iのz軸方向の負方向側において、z軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように積層されている。以下では、絶縁体層16,17のz軸方向の正方向側の面を表面と称し、絶縁体層16,17のz軸方向の負方向側の面を裏面と称す。
また、絶縁体層16e,17eからなる絶縁体層を絶縁体層19eと呼ぶ。絶縁体層16f,17fからなる絶縁体層を絶縁体層19fと呼ぶ。絶縁体層16g,17gからなる絶縁体層を絶縁体層19gと呼ぶ。絶縁体層16h,17hからなる絶縁体層を絶縁体層19hと呼ぶ。絶縁体層16i,17iからなる絶縁体層を絶縁体層19iと呼ぶ。
外部電極14aは、図1に示すように、積層体12のx軸方向の正方向側の側面を覆うように設けられている。外部電極14bは、図1に示すように、積層体12のx軸方向の負方向側の側面を覆うように設けられている。更に、外部電極14a,14bは、積層体12の上面及び下面、並びに、y軸方向の正方向側及び負方向側の積層体12の側面に対して折り返されている。外部電極14a,14bは、電子部品10外の回路とコイルLとを電気的に接続する接続端子として機能する。
コイルLは、積層体12に内蔵され、図2に示すように、コイル導体層18(18a〜18e)及びビアホール導体v1〜v4により構成されている。コイルLは、コイル導体層18及びビアホール導体v1〜v4が接続されることにより、z軸方向に延在する中心軸を有する螺旋状をなしている。
コイル導体層18a〜18eは、図2に示すように、絶縁体層16e〜16iの表面上に設けられており、z軸方向の正方向側から平面視したときに、時計回りに旋回するコ字型の線状導体層である。コイル導体層18a〜18eは、z軸方向から平面視したときに、重なりあって長方形状の環状の軌道を形成している。より詳細には、コイル導体層18a,18eは、5/8ターンのターン数を有しており、絶縁体層16e,16iの三辺に沿っている。コイル導体層18b〜18dは、3/4ターンのターン数を有しており、絶縁体層16f〜16hの三辺に沿っている。
コイル導体層18aは、絶縁体層16eの表面上において、y軸方向の正方向側の長辺以外の三辺に沿って設けられている。また、コイル導体層18aは、x軸方向の正方向側の短辺に引き出されており、外部電極14aと接続されている。コイル導体層18bは、絶縁体層16fの表面上において、x軸方向の負方向側の短辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体層18cは、絶縁体層16gの表面上において、y軸方向の負方向側の長辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体層18dは、絶縁体層16hの表面上において、x軸方向の正方向側の短辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体層18eは、絶縁体層16iの表面上において、y軸方向の正方向側の長辺以外の三辺に沿って設けられている。また、コイル導体層18eは、x軸方向の負方向側の短辺に引き出されており、外部電極14bと接続されている。
以下では、コイル導体層18において、z軸方向の正方向側から平面視したときに、時計回りの上流側の端部を上流端とし、時計回りの下流側の端部を下流端とする。なお、コイル導体層18のターン数は、3/4ターンに限らない。よって、コイル導体層18のターン数は、例えば、7/8ターンであってもよい。
ビアホール導体v1〜v4は、図2に示すように、絶縁体層16e〜16hをz軸方向に貫通するように設けられている。より詳細には、ビアホール導体v1は、絶縁体層16eをz軸方向に貫通し、コイル導体層18aの下流端及びコイル導体層18bの上流端に接続されている。ビアホール導体v2は、絶縁体層16fをz軸方向に貫通し、コイル導体層18bの下流端及びコイル導体層18cの上流端に接続されている。ビアホール導体v3は、絶縁体層16gをz軸方向に貫通し、コイル導体層18cの下流端及びコイル導体層18dの上流端に接続されている。ビアホール導体v4は、絶縁体層16hをz軸方向に貫通し、コイル導体層18dの下流端及びコイル導体層18eの上流端に接続されている。
また、絶縁体層17e〜17iにはそれぞれ、z軸方向から平面視したときに、コイル導体層18a〜18eと同じ形状を有する開口Oa〜Oeが設けられている。絶縁体層17e〜17iがそれぞれ絶縁体層16e〜16i上に積層されることによって、開口Oa〜Oe内にコイル導体層18a〜18eが収まっている。また、コイル導体層18a〜18eの上面と絶縁体層17e〜17iの上面とは1つの平面を構成しており、面一の状態である。
(電子部品の製造方法)
次に、電子部品10の製造方法について図面を参照しながら説明する。図3は、電子部品10の製造工程におけるセラミックグリーンシート116,117の斜視図である。なお、以下では、一つの電子部品10の製造方法について説明を行うが、実際には、大判のマザーセラミックグリーンシートが積層されてマザー積層体が作製され、更に、マザー積層体がカットされることにより、複数の積層体が同時に作製される。
まず、絶縁体層16,17となるべきセラミックグリーンシート116,117を準備する。具体的には、酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ニッケル(NiO)及び酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、平均粒径が2μmのフェライトセラミック粉末を得る。
このフェライトセラミック粉末に対して、結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)、可塑剤、湿潤材及び分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、PETのキャリアフィルム121,122上にシート状に形成して乾燥させ、図3(a)に示すセラミックグリーンシート116,117を作製する。セラミックグリーンシート116,117の厚みは、例えば、50μmである。
次に、図3(b)に示すように、セラミックグリーンシート117e〜117iにコイル導体層18a〜18eと同じ形状を有する開口Oa〜Oeを形成する。この際、セラミックグリーンシート117e〜117iを開口Oa〜Oeが貫通するように、開口Oa〜Oeを形成する。更に、セラミックグリーンシート117e〜117iに貼り付けられているキャリアフィルム122e〜122iにも貫通孔が形成される。ただし、孔はキャリアフィルム122e〜122iを貫通していなくてもよい。開口Oa〜Oeの形成は、例えば、レーザービームをセラミックグリーンシート117e〜117iに照射することによって行われてもよいし、金型パンチによって打ち抜き加工が施されることによって行われてもよい。
次に、セラミックグリーンシート116e〜116hのそれぞれに、ビアホール導体v1〜v4を形成する。具体的には、セラミックグリーンシート116e〜116hにレーザービームを照射してビアホールを形成する。更に、ビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性材料からなるペーストを印刷塗布などの方法により充填して、ビアホール導体v1〜v4を形成する。
次に、図3(c)に示すように、セラミックグリーンシート116e〜116i上に、導電性材料からなるペーストをスクリーン印刷法により塗布することにより、コイル導体層18a〜18eを形成する。導電性材料からなるペーストは、例えば、Ag粉末に、ワニス及び溶剤が加えられたものである。コイル導体層18a〜18eの厚みは、例えば、50μmである。
なお、コイル導体層18を形成する工程とビアホールに対して導電性材料からなるペーストを充填する工程とは、同じ工程において行われてもよい。
次に、図3(d)に示すように、コイル導体層18a〜18eのそれぞれが開口Oa〜Oe内に収まるように、セラミックグリーンシート117e〜117iのそれぞれをセラミックグリーンシート116e〜116i上に積層、仮圧着する。この際、キャリアフィルム122e〜122iがセラミックグリーンシート117e〜117iよりもz軸方向の正方向側に位置するように積層する。すなわち、図3(b)に示すセラミックグリーンシート117e〜117i及びキャリアフィルム122e〜122iの表裏を反転さて、セラミックグリーンシート117e〜117iがセラミックグリーンシート116e〜116i上に接するように積層する。ここで、セラミックグリーンシート116e〜116i及びセラミックグリーンシート117e〜117iからなるセラミックグリーンシートをそれぞれ、セラミックグリーンシート119e〜119iと呼ぶ。セラミックグリーンシート119e〜119iは、焼成されることによって絶縁体層19e〜19iとなる。
次に、図3(e)に示すように、セラミックグリーンシート119e〜119iのそれぞれからキャリアフィルム122e〜122iを剥離する。
次に、セラミックグリーンシート116a〜116d,119e〜119i,116j〜116mをz軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように1枚ずつ積層及び仮圧着して、未焼成のマザー積層体を形成する。セラミックグリーンシート116a〜116d,119e〜119i,116j〜116mの積層の際には、積層、仮圧着、及び、キャリアフィルム121a〜121mの剥離をこの順に1枚ずつ繰り返す。この後、マザー積層体に対して熱圧着により本圧着を行う。
次に、マザー積層体を個別の未焼成の積層体12にカットする。
次に、未焼成の積層体12に、脱バインダー処理及び焼成を施す。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において400℃で3時間の条件で行う。焼成は、例えば、900℃で2時間の条件で行う。この後、積層体12の表面に、バレル研磨処理を施して、面取りを行って、2.5mm×2.0mm×1.0mmの積層体12を得た。
次に、Agを主成分とする導電性材料からなる電極ペーストを、積層体12のx軸方向の両端に位置する側面に塗布する。そして、塗布した電極ペーストを約800℃の温度で1時間の条件で焼き付ける。これにより、外部電極14となるべき銀電極を形成する。銀電極の上面、底面及び側面への折り返し幅は0.5mmである。更に、外部電極14となるべき銀電極の表面に、Niめっき/Snめっきを施すことにより、外部電極14を形成する。以上の工程により、電子部品10が完成する。
(効果)
以上のように構成された電子部品10の製造方法によれば、コイル導体層18の変形を抑制できる。図4(a)は、本実施形態に係る電子部品10の断面構造図である。図4(b)は、比較例に係る電子部品210の断面構造図である。
比較例に係る電子部品210では、絶縁体層17が設けられていない。そのため、コイル導体218が設けられている部分の積層体212のz軸方向の高さは、コイル導体218が設けられていない部分の積層体212のz軸方向の高さよりも高くなる。そのため、積層体212の圧着時には、コイル導体218が設けられている部分に圧力が集中し、図4(b)に示すように、コイル導体218が円弧上に変形してしまう。
一方、電子部品10では、コイル導体層18の周囲には、絶縁体層17が設けられている。そして、コイル導体層18の上面と絶縁体層17の上面とは1つの平面を構成している。よって、コイル導体層18が設けられている部分の積層体12のz軸方向の高さとコイル導体層18が設けられていない部分の積層体12のz軸方向の高さとは略等しくなる。そのため、積層体12の圧着時には、コイル導体層18が設けられている部分及びコイル導体層18が設けられていない部分の両方に均等に圧力が加わる。その結果、図4(a)に示すように、電子部品10では、コイル導体層18が変形することが抑制される。
また、電子部品10の製造方法によれば、電子部品10を簡単に作製できる。より詳細には、特許文献1に記載の積層型電子部品の製造方法では、レーザービームをシートに照射して溝を形成している。そして、溝の深さは、レーザービームの強度が微調整されることによって調整されている。したがって、適切な深さの溝を形成するためには、レーザービームの強度を精度よく微調整する必要がある。その結果、積層型電子部品の製造方法では、溝の形成が困難であった。
一方、電子部品10の製造方法では、セラミックグリーンシート117e〜117iを貫通する開口Oa〜Oeを形成している。したがって、レーザービームの強度は、セラミックグリーンシート117e〜117iを貫通する強度以上であればよい。そのため、レーザービームの強度を精度よく微調整する必要がない。また、レーザービームの代わりに金型でセラミックグリーンシート117e〜117iを打ち抜いてもよい。以上より、電子部品10の製造方法では、開口Oa〜Oeを簡単に形成できるので、電子部品10を簡単に作製できる。
(その他の実施形態)
なお、本発明に係る電子部品の製造方法は前記実施形態に示した電子部品10の製造方法に限らず、その要旨の範囲内において変更可能である。
なお、電子部品10は、コイルLを内蔵しているが、コンデンサやその他の回路素子を内蔵していてもよい。
また、電子部品10の製造方法では、セラミックグリーンシート116とセラミックグリーンシート117を積層してセラミックグリーンシート119を作製した後に、セラミックグリーンシート119を積層している。しかしながら、セラミックグリーンシート116,117,119の積層順はこれに限らない。例えば、セラミックグリーンシート116,117がz軸の正方向側に位置するものから順に1枚ずつ積層されてもよい。
また、絶縁体層16,17は、全て磁性体層であるが、一部又は全てが非磁性体層であってもよい。
以上のように、本発明は、電子部品の製造方法に有用であり、特に、コイル導体の変形を抑制でき、かつ、電子部品を容易に作製できる点において優れている。
L コイル
Oa〜Oe 開口
10 電子部品
12 積層体
14a,14b 外部電極
16a〜16m,17e〜17i,19e〜19i 絶縁体層
18a〜18e コイル導体層
116a〜116m,117e〜117i,119e〜119i セラミックグリーンシート

Claims (5)

  1. 第1の絶縁体シート上に導体層を形成する第1の工程と、
    前記導体層と同じ形状を有する開口を第2の絶縁体シートに形成する第2の工程と、
    前記導体層が前記開口内に収まるように、前記第1の絶縁体シート上に前記第2の絶縁体シートを積層して積層体を形成する第3の工程と、
    を備えており
    前記第3の工程では、前記各第1の絶縁体シート上に前記第2の絶縁体シートを積層した後に、該第1の絶縁体シート及び該第2の絶縁体シートからなる複数の第3の絶縁体シートを積層することによって前記積層体を形成すること、
    を特徴とする電子部品の製造方法。
  2. 前記第2の工程では、前記第2の絶縁体シートにレーザビームを照射することによって前記開口を形成すること、
    を特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。
  3. 前記導体層は、積層方向に延在する中心軸を有する螺旋状のコイルを構成するコイル導体層であること、
    を特徴とする請求項1又は請求項のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
  4. 前記第1の工程では、スクリーン印刷法により前記導体層を形成すること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
  5. 前記第1の絶縁体シートは、第1のキャリアフィルム上に設けられており、
    前記第2の絶縁体シートは、第2のキャリアフィルム上に設けられており、
    前記第3の工程では、前記第1のキャリアフィルムが前記第1の絶縁体シートよりも積層方向の一方側に位置し、前記第2のキャリアフィルムが前記第2の絶縁体シートよりも積層方向の他方側に位置させた状態で、該第2の絶縁体シートを該第1の絶縁体シートに対して積層方向の他方側から積層して前記第3の絶縁体シートを形成すること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
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