JP5956708B1 - ダイ及びパッケージ、並びに、ダイの製造方法及びパッケージの生成方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 100
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 30
- 101100498818 Arabidopsis thaliana DDR4 gene Proteins 0.000 claims description 18
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000013386 metal-inorganic framework Substances 0.000 description 38
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F15/00—Digital computers in general; Data processing equipment in general
- G06F15/76—Architectures of general purpose stored program computers
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- G06F15/7807—System on chip, i.e. computer system on a single chip; System in package, i.e. computer system on one or more chips in a single package
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
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- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
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Abstract
Description
CPUコア若しくはLatencyコアからなる第1コアと、Acceleratorコア若しくはThroughputコアからなる第2コアとのうち少なくとも一方を備え、
外部インターフェースと、
メモリインターフェースと、
他のダイと接続するダイインターフェースと、
を備える前記ダイのセットであって、
前記ダイは、
前記第1コアと前記第2コアとの両方を含む第1種類のダイと第2種類のダイとを含み、
前記第1コアと前記第2コアとのコア数の比率は、前記第1種類のダイと前記第2種類のダイとでそれぞれ異なっている。
前記ダイのセットを少なくとも1つ含む。
電気的に非接触に通信を行う仕様に準拠したインターフェースを含む。
TCIに準拠したインターフェースを含む。
電気的に接触して通信を行う3次元積層の次世代高速メモリに準拠したインターフェースを含む。
HBMに準拠したインターフェースを含む、
電気的に接触して通信を行う汎用メモリ、及びDIMM(Dual Inline Memory Module)に準拠したインターフェースを含む。
DDR4に準拠したインターフェースを含む。
夫々の前記ダイインターフェースで相互に接続されている2つの前記ダイを含む。
相互に接続されている前記2つのダイが同種である。
相互に接続されている前記2つのダイが異種である。
相互に接続されている前記ダイインターフェースで別の前記ダイと接続されている。
TCI/MIF24は、磁界結合を用いた近接ダイ間無線通信によりメモリと非接触に通信を行うメモリインターフェースである。
サブダイ12は、メインコア11と同様に、アクセラレーターコア21と、CPUコア22と、GPIF23と、TCI/MIF24と、HBM/MIF25と、を備える。
ただし、アクセラレーターコア21とCPUコア22とのコア数の比率が、メインダイ21では2,048対64であるのに対し、サブダイ12では、256対256であり異なる。また、TCI/MIF24の個数も、メインダイ21では4個であるのに対し、サブダイ12では2個であり異なる。
サブダイ13は、CPUコア22と、GPIF23と、HBM/MIF25と、を備える。サブダイ13では、CPUコア22のコア数は64であり、アクセラレーターコア21は存在しない。換言すると、図1(C)のサブダイ13のアクセラレーターコア21とCPUコア22とのコア数の比率は、0対64であり、図1(A)のメインコア11とも図1(B)のサブコア12とも異なる。また、サブダイ13では、TCI/MIF24が存在しない(0個)である点も、メインコア11ともサブコア12とも異なる。
メモリインターフェース用ダイ14は、CPUコア22と、GPIF23と、DDR4/MIF(Double Data Rate 4/Memory Interface)26と、を備える。
ここで、パッケージとは、ダイ及びダイに接続されたメモリへの傷や衝撃を抑えるために、ダイ及びダイに接続されたメモリのセットをセラミックやモールド樹脂によってパッケージしたものをいう。
このように、メインダイ11とTCI DRAM30とがTCI/MIF24により非接触で接続したパッケージP1を適用することで、高速かつ大容量のメモリ通信が実現できる。
このように、メインダイ11と、HBM DRAM40とがHBM/MIF24により接続したパッケージP2を適用することで、パッケージの小型化と広帯域のメモリ通信とが実現できる。
サブダイ13−Eの2つのGPIF23−Eの夫々に、サブダイ13−Fの2つのGPIF23−Fの夫々が接続されている。
第1のコアの代表的な例としては、Intel(登録商標)のCoreシリーズやXeon(登録商標)シリーズに搭載されるx86系の汎用CPUコアなどがある。
第2のコアの代表的な例としては、GPGPU(General−purpose computing on graphics processing units)のSIMDコアやPEZY(登録商標)−SC(Super Computing)のMIMDコアなどがある。
CPUコア若しくはLatencyコアからなる第1コア(例えば図1のCPUコア22)と、Acceleratorコア若しくはThroughputコアからなる第2コア(例えば図1のアクセラレーターコア21)とのうち少なくとも一方を備え、
外部インターフェース(例えばPCIエクスプレス)と、
メモリインターフェース(例えば図1のTCI/MIF)と、
他のダイと接続するダイインターフェース(例えば図1のGPIF)と、
を備えるダイのセットであって、
前記ダイは、
前記第1コアと前記第2コアとの両方を含む第1種類のダイと第2種類のダイとを含み、
前記第1コアと前記第2コアとのコア数の比率は、前記第1種類のダイと前記第2種類のダイとでそれぞれ異なっている、
ダイのセットであれば足りる。
これにより、コンピュータの種類に応じたパッケージを個別に製造することなく、全てのコンピュータにとって最適なアクセラレーターコア21とCPUコア22とのコア数の比率のダイのセットを提供することができる。
さらに、図8に示すように、GPIF23を用いて、数が異なる異種類のダイを相互に接続させるためのダイのセットを容易に製造することができる。
これにより、コンピュータの種類に応じたパッケージを個別に製造することなく、全てのコンピュータにとって最適なアクセラレーターコア21とCPUコア22とのコア数の比率のパッケージを構成するダイのセットを容易に製造することができる。
CPUコア若しくはLatencyコアからなる第1コア(例えば図1のCPUコア22)と、Acceleratorコア若しくはThroughputコアからなる第2コア(例えば図1のアクセラレーターコア21)とのうち少なくとも一方を備え、
外部インターフェース(例えばPCIエクスプレス)と、
メモリインターフェース(例えば図1のTCI/MIF)と、
他のダイと接続するダイインターフェース(例えば図1のGPIF)と、
を備えるダイを少なくとも1つ含むパッケージであって、
前記ダイは、
前記第1コアと前記第2コアとの両方を含む第1種類のダイと第2種類のダイとを含み、
前記第1コアと前記第2コアとのコア数の比率は、前記第1種類のダイと前記第2種類のダイとでそれぞれ異なっているダイを少なくとも1つ含む、
パッケージであれば足りる。
これにより、コンピュータの種類に応じたパッケージを個別に製造することなく、全てのコンピュータにとって最適なアクセラレーターコア21とCPUコア22とのコア数の比率のパッケージを提供することができる。
さらに、図8に示すように、GPIF23を用いて、数が異なる異種類のダイを相互に接続させることができる。
これにより、コンピュータの種類に応じたパッケージを個別に製造することなく、全てのコンピュータにとって最適なアクセラレーターコア21とCPUコア22とのコア数の比率となるパッケージを容易に製造することができる。
12,12−C,D,I,R,T サブダイ
13,13−E,F,P,S サブダイ
14,14−G,H,M,Q,U メモリインターフェース用ダイ
21 アクセラレーターコア
22 CPUコア
23,23−A〜U GPIF
24 TCI/MIF
25 HBM/MIF
26 DDR4/MIF
30 TCI DRAM
40 HBM DRAM
50 DDR4 DIMM
60 露光マスク
P1 パッケージ
P2 パッケージ
P3 パッケージ
P4 パッケージ
Claims (14)
- CPUコア若しくはLatencyコアからなる第1コアと、Acceleratorコア若しくはThroughputコアからなる第2コアとのうち少なくとも一方を備え、
外部インターフェースと、
メモリインターフェースと、
他のダイと接続するダイインターフェースと、
を備えるダイのセットであって、
前記ダイのセットは、
前記第1コアと前記第2コアとの両方を含む第1種類のダイと第2種類のダイとを含み、
前記第1コアと前記第2コアとのコア数の比率は、前記第1種類のダイと前記第2種類のダイとで夫々異なっている、
ダイのセット。 - 請求項1に記載の前記ダイのセットに含まれるいずれかのダイを少なくとも備える、
パッケージ。 - 前記メモリインターフェースは、
電気的に非接触に通信を行う仕様に準拠したインターフェースを含む、
請求項2に記載のパッケージ。 - 前記メモリインターフェースは、
TCIに準拠したインターフェースを含む
請求項3に記載のパッケージ。 - 前記メモリインターフェースは、
電気的に接触して通信を行う3次元積層の次世代高速メモリに準拠したインターフェースをさらに含む、
請求項2乃至4のうち何れか1項に記載のパッケージ。 - 前記メモリインターフェースは、
HBMに準拠したインターフェースをさらに含む、
請求項5に記載のパッケージ。 - 前記メモリインターフェースは、
電気的に接触して通信を行う汎用メモリ、及びDIMM(Dual Inline Memory Module)に準拠したインターフェースをさらに含む、
請求項2乃至6のうち何れか1項に記載のパッケージ。 - 前記メモリインターフェースは、
DDR4に準拠したインターフェースをさらに含む、
請求項7に記載のパッケージ。 - 前記パッケージは、
夫々の前記ダイインターフェースで相互に接続されている2つの前記ダイを含む、
請求項2乃至8のうち何れか1項に記載のパッケージ。 - 前記パッケージは、
相互に接続されている前記2つのダイが同種である、
請求項9に記載のパッケージ。 - 前記パッケージは、
相互に接続されている前記2つのダイが異種である、
請求項9に記載のパッケージ。 - 前記パッケージは、
前記ダイのセットに含まれる第1のダイと第2のダイと第3のダイを少なくとも備えるものであり、
前記第1のダイは、
第1の前記ダイインターフェースと第2の前記ダイインターフェースとを少なくとも備えるものであり、
前記第2のダイは、
第3の前記ダイインターフェースを少なくとも備えるものであり、
前記第3のダイは、
第4の前記ダイインターフェースを少なくとも備えるものであり、
前記第1のダイインターフェースと前記第3のダイインターフェースにより、前記第1のダイと前記第2のダイは相互に接続されるものであり、
前記第2のダイインターフェースと前記第4のダイインターフェースにより、前記第1のダイと前記第3のダイは相互に接続されるものである、
請求項2乃至11のうち何れか1項に記載のパッケージ。 - 複数種類のダイを生成するための露光マスクを用意し、当該露光マスクを用いて前記複数種類のダイのセットを製造する、ダイのセットの製造方法であって、
前記複数種類のダイに含まれる夫々のダイは、
CPUコア若しくはLatencyコアからなる第1コアと、Acceleratorコア若しくはThroughputコアからなる第2コアとのうち少なくとも一方を備え、
外部インターフェースと、
メモリインターフェースと、
他のダイと接続するダイインターフェースと、
を備えるものであり、
前記複数種類のダイのセットは、前記第1コアと前記第2コアとの両方を含む第1種類のダイと第2種類のダイとを含み、
前記第1コアと前記第2コアとのコア数の比率は、前記第1種類のダイと前記第2種類のダイとで夫々異なっている、
ダイのセットの製造方法。 - ダイを少なくとも1つ含むようにパッケージを製造する、パッケージ製造方法であって、
前記ダイは、
CPUコア若しくはLatencyコアからなる第1コアと、Acceleratorコア若しくはThroughputコアからなる第2コアとのうち少なくとも一方を備え、
外部インターフェースと、
メモリインターフェースと、
他のダイと接続するダイインターフェースと、
を備えるものであり、
前記パッケージに含まれる前記ダイの夫々は、ダイのセットに含まれるいずれかのダイであり、
前記ダイのセットは、前記第1コアと前記第2コアとの両方を含む第1種類のダイと第2種類のダイとを含み、
前記第1コアと前記第2コアとのコア数の比率は、前記第1種類のダイと前記第2種類のダイとで夫々異なっている、
パッケージ製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/083669 WO2017094091A1 (ja) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | ダイ及びパッケージ、並びに、ダイの製造方法及びパッケージの生成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5956708B1 true JP5956708B1 (ja) | 2016-07-27 |
JPWO2017094091A1 JPWO2017094091A1 (ja) | 2017-12-14 |
Family
ID=56513722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016517011A Active JP5956708B1 (ja) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | ダイ及びパッケージ、並びに、ダイの製造方法及びパッケージの生成方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10818638B2 (ja) |
EP (1) | EP3385857A4 (ja) |
JP (1) | JP5956708B1 (ja) |
KR (1) | KR20180088437A (ja) |
CN (1) | CN108292292A (ja) |
WO (1) | WO2017094091A1 (ja) |
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Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11139270B2 (en) | 2019-03-18 | 2021-10-05 | Kepler Computing Inc. | Artificial intelligence processor with three-dimensional stacked memory |
US11836102B1 (en) | 2019-03-20 | 2023-12-05 | Kepler Computing Inc. | Low latency and high bandwidth artificial intelligence processor |
US11844223B1 (en) | 2019-05-31 | 2023-12-12 | Kepler Computing Inc. | Ferroelectric memory chiplet as unified memory in a multi-dimensional packaging |
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- 2015-11-30 CN CN201580084961.8A patent/CN108292292A/zh active Pending
- 2015-11-30 US US15/780,061 patent/US10818638B2/en active Active
- 2015-11-30 JP JP2016517011A patent/JP5956708B1/ja active Active
- 2015-11-30 KR KR1020187018353A patent/KR20180088437A/ko not_active Application Discontinuation
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JPWO2017094091A1 (ja) | 2017-12-14 |
US10818638B2 (en) | 2020-10-27 |
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CN108292292A (zh) | 2018-07-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20160426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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