JP5943846B2 - 炭化珪素半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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また、本発明の第2の炭化珪素半導体装置は、表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、ドリフト層上に、活性領域からリセスの一部に亘って形成された電極層と、リセスの底面であるドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、活性領域の反対側において第1不純物領域に隣接してドリフト層の表層に形成され、第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、電極層の一部と第1、第2不純物領域を覆う絶縁層とを備え、第2不純物領域の深さは、第1不純物領域の深さよりも浅い。
また、本発明の第3の炭化珪素半導体装置は、表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、リセスの底面であるドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、活性領域の反対側において第1不純物領域に隣接して形成され、第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、第1不純物領域の一部と第2不純物領域の上に形成されたシリコン酸化膜と、ドリフト層上に、リセスからシリコン酸化膜上に亘って形成された電極層とを備える。
また、本発明の第2の炭化珪素半導体装置の製造方法は、(a)第1導電型のSiCのドリフト層を準備する工程と、(b)単一のマスクを用いて、ドリフト層の表面に活性領域を囲むリセスとアライメントマークを形成する工程と、(c)ドリフト層上に、活性領域からリセスの一部に亘って電極層を形成する工程と、(d)リセスの底面であるドリフト層の表層に第2導電型の第1不純物領域を形成する工程と、(e)活性領域の反対側において第1不純物領域に隣接して、第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域をドリフト層の表層に形成する工程と、(f)電極層の一部と第1、第2不純物領域を覆う絶縁層を形成する工程とを備え、工程(e)は、第2不純物領域の深さを第1不純物領域の深さよりも浅く形成する工程である。
また、本発明の第2の炭化珪素半導体装置は、表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、ドリフト層上に、活性領域からリセスの一部に亘って形成された電極層と、リセスの底面であるドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、活性領域の反対側において第1不純物領域に隣接してドリフト層の表層に形成され、第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、電極層の一部と第1、第2不純物領域を覆う絶縁層とを備え、第2不純物領域の深さは、第1不純物領域の深さよりも浅い。以上の構成により、リセスの底面端部近傍の電界集中が緩和されるので、高い耐圧を有する。
また、本発明の第3の炭化珪素半導体装置は、表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、リセスの底面であるドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、活性領域の反対側において第1不純物領域に隣接して形成され、第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、第1不純物領域の一部と第2不純物領域の上に形成されたシリコン酸化膜と、ドリフト層上に、リセスからシリコン酸化膜上に亘って形成された電極層とを備える。以上の構成により、リセスの底面端部近傍の電界集中が緩和されるので、高い耐圧を有する。
また、本発明の第2の炭化珪素半導体装置の製造方法は、(a)第1導電型のSiCのドリフト層を準備する工程と、(b)単一のマスクを用いて、ドリフト層の表面に活性領域を囲むリセスとアライメントマークを形成する工程と、(c)ドリフト層上に、活性領域からリセスの一部に亘って電極層を形成する工程と、(d)リセスの底面であるドリフト層の表層に第2導電型の第1不純物領域を形成する工程と、(e)活性領域の反対側において第1不純物領域に隣接して、第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域をドリフト層の表層に形成する工程と、(f)電極層の一部と第1、第2不純物領域を覆う絶縁層を形成する工程とを備え、工程(e)は、第2不純物領域の深さを第1不純物領域の深さよりも浅く形成する工程である。従って、第2不純物領域によりリセスの底面端部近傍の電界集中が緩和されるので、高い耐圧を有する炭化珪素半導体装置が得られる。
図11は、本発明の前提技術であるSiCを用いたSBD110の終端構造を示す断面図である。SBD110は、SiCからなるn型の半導体基板1と、n型のドリフト層2、ショットキ電極3、アノード電極4、p型の終端領域5、絶縁保護膜6、カソード電極7を備える。ドリフト層2は半導体基板1の上面に形成され、カソード電極7は半導体基板1の下面に形成される。終端領域5は、活性領域(ショットキ電極3、アノード電極4が設けられた領域)を囲み、ショットキ電極3と一部が重複するようにドリフト層2の表層に形成される。アノード電極4はショットキ電極3上に形成され、終端領域5よりも内側に設けられる。絶縁保護膜6は、アノード電極4及びショットキ電極3の終端側と、ドリフト層2を覆うように形成される。カソード電極7は半導体基板1の下面に形成される。
<B−1.構成>
図1は、実施の形態1の炭化珪素半導体装置であるSBD100の終端構造を示す断面図である。SBD100は、SiCからなるn型の半導体基板1と、n型のドリフト層2、ショットキ電極3、アノード電極4、p型のガードリング層5a及びJTE層5b、絶縁保護膜6、カソード電極7を備える。
図2に沿って、SBD100の製造工程を説明する。まず、n+型の半導体基板1上にn−型のドリフト層2が形成された基板を準備する(図2(a))。次に、ドリフト層2の主面上にアライメントマーク8とJTE層5bを同時に形成するためのレジストマスク9をパターニングし、ドライエッチングを行ってレジストマスク9の開口に対応したリング状のリセス10とアライメントマーク8を形成する(図2(b))。ここで、リセス10の深さは例えば0.3μm程度であれば良く、例えば0.3μm以上0.8μm以下とする。
図3は、SBDの終端構造における電界強度分布のシミュレーション結果を示している。図3(a)は、図12に示す前提技術のSBD111のシミュレーション結果を、図3(b)は、実施の形態1のSBD100のシミュレーション結果を示している。なお、ガードリング層5aの不純物濃度を4.0×1013cm−2、JTE層5bの不純物濃度を1.4×1013cm−2として計算している。
本実施の形態のSBD100は、表面に活性領域を囲むリセス10が形成された第1導電型のSiCのドリフト層2と、ドリフト層2上に、活性領域からリセス10の一部に亘って形成されたショットキ電極3(電極層)と、リセス10の底面であるドリフト層2の表層に形成された第2導電型のガードリング層5a(第1不純物領域)と、活性領域の反対側においてガードリング層5aに隣接して形成され、ガードリング層5aより不純物濃度が低い第2導電型のJTE層5b(第2不純物領域)と、電極層の一部とガードリング層5a、JTE層5bを覆う絶縁保護膜6(絶縁層)とを備える。JTE層5b(第2不純物領域)はリセス10の底面であるドリフト層2の表層に形成されるので、アライメントマークの形成と終端領域の位置決めを同時に行ってフォトリソグラフィー工程数を削減しても、リセス10の底面端部への電界集中を軽減し、十分な耐圧を確保することができる。
<C−1.構成>
図4は、実施の形態2の炭化珪素半導体装置であるSBD101の終端構造を示す断面図である。SBD101は、JTE層5bがリセス10外でリセス10に隣接するドリフト層2の表層に設けられている点が、実施の形態1のSBD100とは異なる。それ以外の構成はSBD100と同様であり、図4において、SBD100と同一又は対応する構成要素には同一の参照符号を付している。
図5は、SBDの終端構造における電界強度分布のシミュレーション結果を示している。図5(a)は、実施の形態1のSBD100のシミュレーション結果を示し(図3(b)の再掲)、図5(b)は、実施の形態2のSBD101のシミュレーション結果を示している。なお、ガードリング層5aの不純物濃度を4.0×1013cm−2、JTE層5bの不純物濃度を1.4×1013cm−2として計算している。
なお、図4では、ガードリング層5aと隣接した位置にリング状のJTE層5bを形成したが、図6のSBD102に示すように、JTE層5bに加えて深さ約1μmほどのFLRや、多段JTE構造など異なる電界緩和効果のある終端構造を形成しても良い。SBD102ではSBD101の構成に加え、JTE層5bの活性領域の反対側に位置するドリフト層2表層にJTE層5と離間し、かつ互いに離間して形成されるJTE層5より不純物濃度の低い複数の第2導電型のFLR層5cが、第3不純物領域としてさらに設けられている。絶縁保護膜6はFLR層5cも覆って形成される。この場合、ガードリング層5aが電極端部での素子破壊を防ぐ保護層として働くため、より信頼性の高いSiC半導体装置を提供することができる。なお、図6のようなFLR構造は実施の形態1のSBD100に適用することも可能である。
実施の形態2のSBD101において、JTE層5(第2不純物領域)は、活性領域の反対側においてリセス10外で当該リセス10に隣接するドリフト層2の表層に形成される。この構成により、実施の形態1の効果に加えてさらに耐圧性能を高めることが可能である。
アライメントマーク8と、ガードリング層5aを同一レジストマスクで形成し、アライメントマーク形成時にできるリセス10底面端部での電界集中を生じさせないためには、ガードリング層5aの不純物濃度がJTE層5bよりも高濃度である必要がある。しかし、ガードリング層5aやJTE層5bの注入イオンを活性化させるアニール工程での温度ばらつき等の影響により、ガードリング層5aの不純物濃度がJTE層5bよりも高濃度にならない可能性があり、アライメントマーク8形成時に生じるリセス10の底面端部近傍に電界が集中して半導体素子が破壊する恐れがある。そのため、実施の形態3ではフィールドプレート構造を用いることで、ガードリング層5aの不純物濃度が低濃度になった場合でも、アライメントマーク形成時にできるリセス10底面端部での電界集中を緩和し、製造時のばらつきによる破壊リスクの低減を可能にする。
図7は、実施の形態3の炭化珪素半導体装置であるSBD103の終端構造を示す断面図である。SBD103は、ガードリング層5a、JTE層5b、及びドリフト層2の表面上にシリコン酸化膜13が形成され、ショットキ電極3がシリコン酸化膜13上をJTE層5bと重なる位置まで形成されたフィールドプレート構造となっている点が実施の形態2のSBD101と異なる。また、絶縁保護膜6は設けられていない。それ以外の構成はSBD101と同様であり、図7において、SBD101と同一又は対応する構成要素には同一の参照符号を付している。
図8に沿って、SBD103の製造工程を説明する。まず、n+型の半導体基板1上にn−型のドリフト層2が形成された基板を準備する(図8(a))。次に、ドリフト層2の主面上にアライメントマーク8とJTE層5bを同時に形成するためのレジストマスク9をパターニングし、ドライエッチングを行ってレジストマスク9の開口に対応したリング状のリセス10とアライメントマーク8を形成する(図8(b))。ここで、リセス10の深さは例えば0.3μm程度であれば良く、例えば0.3μm以上0.8μm以下とする。
図9(a)はフィールドプレート構造ではない実施の形態2のSBD101の電界分布を示し、図9(b)はフィールドプレート構造の実施の形態3のSBD103の電界分布を示している。また、図10(a)はフィールドプレート構造ではない実施の形態2のSBD101の電位分布を示し、図10(b)はフィールドプレート構造の実施の形態3のSBD103の電位分布を示している。フィールドプレート構造にすることにより、電位分布が変化し、アライメントマーク8形成時にできるリング状のリセス10底面端部での電界集中が緩和される。
本実施の形態の炭化珪素半導体装置であるSBD103は、表面に活性領域を囲むリセス10が形成された第1導電型のSiCのドリフト層2と、リセス10の底面であるドリフト層2の表層に形成された第2導電型のガードリング層5a(第1不純物領域)と、活性領域の反対側においてガードリング層5aに隣接して形成され、ガードリング層5aより不純物濃度が低い第2導電型のJTE層5b(第2不純物領域)と、ガードリング層5aの一部とJTE層5bの上に形成されたシリコン酸化膜13と、ドリフト層2上に、リセス10からシリコン酸化膜13上に亘って形成されたショットキ電極(電極層)とを備える。このようにフィールドプレート構造を用いることで、ガードリング層5aの不純物濃度が低濃度になった場合でも、アライメントマーク8形成時にできるリセス10底面端部での電界集中を緩和し、製造時のばらつきによる破壊リスクの低減を可能にする。
Claims (6)
- 表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、
前記ドリフト層上に、前記活性領域から前記リセスの一部に亘って形成された電極層と、
前記リセスの底面である前記ドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、
前記活性領域の反対側において前記第1不純物領域に隣接して前記ドリフト層の表層に形成され、前記第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、
前記電極層の一部と前記第1、第2不純物領域を覆う絶縁層とを備え、
前記第2不純物領域は、前記活性領域の反対側の前記リセスの底面端部と前記ドリフト層との間において、前記リセスの底面から側面に亘って設けられる、
炭化珪素半導体装置。 - 表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、
前記ドリフト層上に、前記活性領域から前記リセスの一部に亘って形成された電極層と、
前記リセスの底面である前記ドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、
前記活性領域の反対側において前記第1不純物領域に隣接して前記ドリフト層の表層に形成され、前記第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、
前記電極層の一部と前記第1、第2不純物領域を覆う絶縁層とを備え、
前記第2不純物領域の深さは、前記第1不純物領域の深さよりも浅い、
炭化珪素半導体装置。 - 前記第2不純物領域の前記活性領域の反対側に位置する前記ドリフト層表層に前記第2不純物領域と離間し、かつ互いに離間して形成される、前記第2不純物領域より不純物濃度の低い複数の第2導電型の第3不純物領域をさらに備え、
前記絶縁層は前記第3不純物領域を覆う、
請求項1又は2に記載の炭化珪素半導体装置。 - 表面に活性領域を囲むリセスが形成された第1導電型のSiCのドリフト層と、
前記リセスの底面である前記ドリフト層の表層に形成された第2導電型の第1不純物領域と、
前記活性領域の反対側において前記第1不純物領域に隣接して形成され、前記第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域と、
前記第1不純物領域の一部と前記第2不純物領域の上に形成されたシリコン酸化膜と、
前記ドリフト層上に、前記リセスから前記シリコン酸化膜上に亘って形成された電極層とを備える、
炭化珪素半導体装置。 - (a)第1導電型のSiCのドリフト層を準備する工程と、
(b)単一のマスクを用いて、前記ドリフト層の表面に活性領域を囲むリセスとアライメントマークを形成する工程と、
(c)前記ドリフト層上に、前記活性領域から前記リセスの一部に亘って電極層を形成する工程と、
(d)前記リセスの底面である前記ドリフト層の表層に第2導電型の第1不純物領域を形成する工程と、
(e)前記活性領域の反対側において前記第1不純物領域に隣接して、前記第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域を前記ドリフト層の表層に形成する工程と、
(f)前記電極層の一部と前記第1、第2不純物領域を覆う絶縁層を形成する工程とを備え、
前記工程(e)は、前記活性領域の反対側の前記リセスの底面端部と前記ドリフト層との間において、前記リセスの底面から側面に亘って前記第2不純物領域を形成する工程である、
炭化珪素半導体装置の製造方法。 - (a)第1導電型のSiCのドリフト層を準備する工程と、
(b)単一のマスクを用いて、前記ドリフト層の表面に活性領域を囲むリセスとアライメントマークを形成する工程と、
(c)前記ドリフト層上に、前記活性領域から前記リセスの一部に亘って電極層を形成する工程と、
(d)前記リセスの底面である前記ドリフト層の表層に第2導電型の第1不純物領域を形成する工程と、
(e)前記活性領域の反対側において前記第1不純物領域に隣接して、前記第1不純物領域より不純物濃度が低い第2導電型の第2不純物領域を前記ドリフト層の表層に形成する工程と、
(f)前記電極層の一部と前記第1、第2不純物領域を覆う絶縁層を形成する工程とを備え、
前記工程(e)は、前記第2不純物領域の深さを前記第1不純物領域の深さよりも浅く形成する工程である、
炭化珪素半導体装置の製造方法。
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