JP5921074B2 - Manufacturing method of laminated substrate - Google Patents
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Description
本発明は積層基板の製造方法及び該方法で製造された積層基板に関し、詳しくは、絶縁層が積層された積層基板の製造方法及び該方法で製造された積層基板に関する。 The present invention relates to a method for producing a laminated substrate and a laminated substrate produced by the method, and more particularly to a method for producing a laminated substrate having an insulating layer laminated thereon and a laminated substrate produced by the method.
従来、集合基板を分割することにより個基板を製造する方法が知られている。例えば図10(a)の平面図及び図10(b)の断面図に示すように、分割溝3,4が形成された集合基板1を、分割溝3,4に沿って切断する(例えば、特許文献1参照)。
Conventionally, a method of manufacturing individual substrates by dividing an aggregate substrate is known. For example, as shown in the plan view of FIG. 10A and the cross-sectional view of FIG. 10B, the aggregate substrate 1 on which the
セラミックの絶縁層が積層された多層基板は、セラミックグリーンシートを積層し、焼成することにより作製される。集合基板からセラミックの多層基板を作製する場合、セラミックグリーンシートを積層した集合基板を焼成した後に、焼結済みの集合基板から個基板に分割する方法と、未焼成の集合基板から個基板を分割した後、未焼成の個基板を焼成する方法とがある。 A multilayer substrate on which ceramic insulating layers are laminated is produced by laminating and firing ceramic green sheets. When manufacturing a ceramic multilayer substrate from an aggregate substrate, after firing the aggregate substrate on which the ceramic green sheets are laminated, the individual substrate is divided from the sintered aggregate substrate and the individual substrate is divided from the unfired aggregate substrate Then, there is a method of firing an unfired individual substrate.
前者のように焼結済みの集合基板から個基板を分割すると、後者のように集合基板から分割された未焼成の個基板を焼成するよりも、製造工程が簡単になり、効率がよい。 When the individual substrate is divided from the sintered aggregate substrate as in the former, the manufacturing process becomes simpler and more efficient than the firing of the unfired individual substrate divided from the aggregate substrate as in the latter.
しかしながら、集合基板の状態で焼成すると、個基板となる領域同士が拘束し合うため、焼成時に内部応力によりクラックが発生しやすい。また、焼結済みの集合基板から個基板を分割するときに、クラックが拡がり、個基板に欠陥が発生しやすい。さらには、焼成後の残留応力によって、積層基板に形成される素子の特性が劣化することがある。 However, when firing in the state of an aggregate substrate, the regions that become the individual substrates are constrained, and cracks are likely to occur due to internal stress during firing. Further, when the individual substrate is divided from the sintered aggregate substrate, cracks spread and defects are likely to occur in the individual substrate. Furthermore, the characteristics of the element formed on the laminated substrate may be deteriorated by the residual stress after firing.
本発明は、かかる実情に鑑み、焼成時の内部応力を緩和でき、分割時のクラックの拡がりを抑制でき、焼成後の残留応力を低減できる積層基板の製造方法及び該方法で製造された積層基板を提供しようとするものである。 In view of such circumstances, the present invention can relieve internal stress at the time of firing, suppress the spread of cracks at the time of division, and reduce the residual stress after firing, and the multilayer substrate manufactured by the method. Is to provide.
本発明は、上記課題を解決するために、以下のように構成した積層基板の製造方法を提供する。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a method for manufacturing a laminated substrate configured as follows.
積層基板の製造方法は、(i)1層又は2層以上の未焼成の上部絶縁層と1層又は2層以上の未焼成の下部絶縁層との間に、1層又は2層以上の未焼成の中間絶縁層が挟まれるように積層して、複数個分の個基板になる個基板領域を含む未焼成の集合基板を形成する第1の工程と、(ii)未焼成の前記集合基板を焼成する第2の工程と、(iii)焼成済みの前記集合基板を、前記個基板領域の境界線に沿って切断して、前記集合基板から前記個基板を分割する第3の工程とを備える。前記第1の工程において、前記中間絶縁層は、磁性体セラミック材料を含みコイルが形成されている磁性フェライト層を含み、前記上部絶縁層と前記下部絶縁層と前記中間絶縁層とのうち前記中間絶縁層のみの少なくとも1層に、前記個基板領域の前記境界線の一部を含む貫通孔を予め形成し、該貫通孔によって前記集合基板の内部に空洞を形成する。前記中間絶縁層に形成された前記貫通孔は、前記個基板領域の前記境界線が交差する部分を含み、かつ前記コイルが形成されているすべての前記磁性フェライト層を積層方向に連続して貫通するように形成されている。 The manufacturing method of the laminated substrate is as follows: (i) one layer or two or more layers of unfired upper insulating layer and one layer or two or more layers of unfired lower insulating layer. A first step of forming an unfired collective substrate including individual substrate regions that are laminated so as to sandwich a fired intermediate insulating layer, and (ii) the unfired collective substrate a second step of firing, a third step of dividing the assembled board (iii) firing already, is cut along the boundary lines of the individual substrate region, the number board from the collective board Is provided. In the first step, the intermediate insulating layer includes a magnetic ferrite layer in which a coil is formed including a magnetic ceramic material, and the intermediate insulating layer among the upper insulating layer, the lower insulating layer, and the intermediate insulating layer. A through hole including a part of the boundary line of the individual substrate region is formed in advance in at least one layer of only the insulating layer, and a cavity is formed in the collective substrate by the through hole. The through hole formed in the intermediate insulating layer includes a portion where the boundary line of the individual substrate region intersects, and continuously penetrates all the magnetic ferrite layers in which the coil is formed in the stacking direction. It is formed to do.
上記方法によれば、第2の工程において集合基板を焼成することにより、集合基板には内部応力が発生する。このとき、集合基板は、空洞の周囲の内部応力が緩和されるので、焼成時の内部応力を緩和し、クラックの発生を抑制することができる。 According to the above method, internal stress is generated in the aggregate substrate by firing the aggregate substrate in the second step. At this time, since the internal stress around the cavity is relieved in the collective substrate, the internal stress at the time of firing can be relieved and the generation of cracks can be suppressed.
第3の工程において集合基板を分割するとき、集合基板の内部には個基板領域の境界線を含む空洞が形成されているので、分割時のクラックの拡がりを抑制することができる。 When the collective substrate is divided in the third step, since a cavity including the boundary line of the individual substrate region is formed inside the collective substrate, it is possible to suppress the spread of cracks during the division.
さらに、中間層に貫通孔を形成することにより、分割後の個基板において、残留応力を低減することができる。 Furthermore, by forming through holes in the intermediate layer, residual stress can be reduced in the divided individual substrates.
上記方法において、前記中間絶縁層に形成された前記貫通孔は、前記個基板領域の前記境界線が交差する部分を含むように形成されている。 In the above method , the through hole formed in the intermediate insulating layer is formed to include a portion where the boundary line of the individual substrate region intersects.
この場合、貫通孔が形成された中間絶縁層は、隣接する個基板領域がそれぞれの四隅から離れた中間部分で互いに接続される。 In this case, the intermediate insulating layers in which the through holes are formed are connected to each other at intermediate portions where the adjacent individual substrate regions are separated from the four corners.
上記方法において、前記貫通孔が形成された前記中間絶縁層は、磁性体セラミック材料を含みコイルが形成されている磁性フェライト層を含む。 In the above method, the intermediate insulating layer in which the through holes are formed include a magnetic ferrite layer a magnetic ceramic material unrealized coils are formed.
この場合、コイルが形成された中間絶縁層は、貫通孔によって残留応力が緩和され、残留応力により生じる磁歪が緩和される。これにより、コイルにより形成されるインダクタ素子の特性劣化(鉄損によるコイルのインダクタンスの低下)を低減することができる。 In this case, in the intermediate insulating layer in which the coil is formed, the residual stress is relaxed by the through hole, and the magnetostriction caused by the residual stress is relaxed. Thereby, characteristic deterioration of the inductor element formed by the coil (decrease in the inductance of the coil due to iron loss) can be reduced.
好ましくは、前記第1の工程において、前記貫通孔に、前記第2の工程で未焼成の前記積層体を焼成するときに消失する材料が配置された前記集合基板を形成する。 Preferably, in the first step, the aggregate substrate in which a material that disappears when the unfired laminated body is fired in the second step is formed in the through hole.
この場合、貫通孔に配置された材料は、第2の工程において未焼成の集合基板を焼成するときに消失する。これにより、集合基板の内部に空洞が形成される。 In this case, the material disposed in the through hole disappears when the unfired aggregate substrate is fired in the second step. Thereby, a cavity is formed inside the collective substrate.
前記第3の工程により前記集合基板から前記個基板に分割された積層基板は、前記貫通孔が形成された前記中間絶縁層の周端面に、前記貫通孔により、前記上部絶縁層及び前記下部絶縁層の周端面よりも後退した凹部が形成されている。 Wherein the laminated substrate divided into the number board from the collective substrate by the third process, the peripheral surface of the intermediate insulating layer prior SL through holes are formed by the through hole, the upper insulating layer and the lower A recess recessed from the peripheral end surface of the insulating layer is formed.
上記構成の積層基板は、焼成時の内部応力を緩和でき、分割時のクラックの拡がりを抑制でき、焼成後の残留応力を低減できる。 The multilayer substrate having the above configuration can relieve internal stress during firing, can suppress the spread of cracks during division, and can reduce residual stress after firing.
本発明によれば、焼成時の内部応力を緩和でき、分割時のクラックの拡がりを抑制でき、焼成後の残留応力を低減できる。 According to the present invention, the internal stress during firing can be relaxed, the spread of cracks during division can be suppressed, and the residual stress after firing can be reduced.
以下、本発明の実施の形態について、図1〜図9を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
<実施例1> 実施例1の積層基板10aについて、図1及び図2を参照しながら説明する。
Example 1 A laminated
図1は、積層基板10aの断面図である。図2(a)は、図1の線A−Aに沿って切断した集合基板の要部断面図である。図2(b)は、図1の線B−Bに沿って切断した集合基板の要部断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of the
図1及び図2に示すように、積層基板10aは、積層基板10aになる個基板領域11a〜11dを含む集合基板を、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yに沿って切断することにより、作製する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the laminated
図1に示すように、積層基板10aは、絶縁層が積層された基板本体12の一方の主面12aに、表面実装部品やICチップなどの部品2,4,6を実装するためのランド電極26が形成されている。基板本体12の他方の主面12bには、積層基板10aを他の回路基板等に実装するための外部電極28が形成されている。積層基板10aに部品2,4,6を実装しない場合、ランド電極26を無くすことができる。
As shown in FIG. 1, a laminated
基板本体12は、順に、第1の非磁性フェライト層16a、第1の磁性フェライト層14a、中間非磁性フェライト層16c、第2の磁性フェライト層14b、第2の非磁性フェライト層16bが積層されている。各層14a,14b,16a,16b,16cは、1層又は2層以上の絶縁層を含む。第1の非磁性フェライト層16aは、本発明の上部絶縁層である。第2の非磁性フェライト層16bは、本発明の下部絶縁層である。中間非磁性フェライト層16cと第1及び第2の磁性フェライト層14a,14bは、本発明の中間絶縁層である。
In the
第1及び第2の磁性フェライト層14a,14bは、磁性体セラミック材料を含む。例えば、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅を主成分とする磁性フェライトと、セラミック材料とを含む。第1及び第2の非磁性フェライト層16a,16bと中間非磁性フェライト層16cとは、例えば、酸化鉄、酸化亜鉛及び酸化銅を主成分とする非磁性フェライトと、セラミック材料とを含む。
The first and second
基板本体12の内部には、電気回路を構成するように、ビアホール導体24と、コイル要素20と、配線導体22とが形成されている。ビアホール導体24は、基板本体12の絶縁層を貫通するように形成されている。コイル要素20と配線導体22とは、基板本体12の隣接する絶縁層の間に形成されている。基板本体12の内部には、コイル要素20に隣接して空隙18が形成されている。
A via
コイル要素20は、第1の磁性フェライト層14a、中間非磁性フェライト層16c、第2の磁性フェライト層14bに、それぞれ形成され、それらが、ビアホール導体22a,22b(図2(a)参照)を介して積層方向に螺旋状に接続され、コイルを形成する。
The
図示していないが、基板本体12の内部に、互いに対向する配線導体によってコンデンサを形成してもよい。この場合、LCフィルタを形成したり、LC共振回路を含むモジュール部品を形成したりすることができる。
Although not shown, a capacitor may be formed in the
図1に示すように、基板本体12の側面12cには、凹部40が形成されている。詳しくは、基板本体12の第1及び第2の磁性フェライト層14a,14bと中間非磁性フェライト層16cの周端面に、基板本体12の第1及び第2の非磁性フェライト層16a,16bの周端面16s,16tよりも後退した凹部40が形成されている。
As shown in FIG. 1, a
凹部40は、集合基板の第1及び第2の磁性フェライト層14a,14bと中間非磁性フェライト層16cに予め形成された貫通孔30の一部により形成される。すなわち、図2(a)に示すように個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yの交差部分を含ように十字形状に貫通孔30が予め形成された第1及び第2の磁性フェライト層14a,14bと中間非磁性フェライト層16cの両側に、図2(b)に示すように貫通孔30が形成されていない第1及び第2の非磁性フェライト層16a,16bを積層することにより、集合基板の内部に空洞を形成する。この集合基板を、境界線11x,11yに沿って切断することにより、凹部40が形成される。
The
図2(a)に示すように、貫通孔30が形成された第1及び第2の磁性フェライト層14a,14bと中間非磁性フェライト層16cとは、隣接する個基板領域11a〜11dがそれぞれの四隅から離れた中間部分で互いに接続される。
As shown in FIG. 2 (a), the first and second
次に、積層基板10aの製造工程について説明する。
Next, the manufacturing process of the
(1)まず、未焼成の第1及び第2の非磁性フェライト層の間に、第1及び第2の磁性フェライト層及び中間非磁性フェライト層が挟まれるように積層して、複数個分の個基板になる個基板領域を含む未焼成の集合基板を形成する。このとき、第1及び第2の磁性フェライト層及び中間非磁性フェライト層には、個基板領域の境界線の交差部分と交差部分に連続する部分を含む貫通孔を予め形成しておき、貫通孔によって集合基板の内部に空洞を形成する。 (1) First, the first and second magnetic ferrite layers and the intermediate nonmagnetic ferrite layer are laminated so as to be sandwiched between the unfired first and second nonmagnetic ferrite layers. An unfired collective substrate including individual substrate regions to be individual substrates is formed. At this time, in the first and second magnetic ferrite layers and the intermediate nonmagnetic ferrite layer, a through hole including a crossing portion of the boundary line of the individual substrate region and a portion continuing to the crossing portion is formed in advance, Thus, a cavity is formed inside the collective substrate.
詳しくは、未焼成の第1及び第2の磁性フェライト層として、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ニッケル及び酸化銅を主成分とする磁性フェライトを含むセラミックグリーンシートを用いる。第1及び第2の非磁性フェライト層と中間非磁性フェライト層には、酸化鉄、酸化亜鉛及び酸化銅を主成分とするセラミックグリーンシートを用いる。 Specifically, ceramic green sheets containing magnetic ferrite mainly composed of iron oxide, zinc oxide, nickel oxide and copper oxide are used as the unfired first and second magnetic ferrite layers. Ceramic green sheets mainly composed of iron oxide, zinc oxide and copper oxide are used for the first and second nonmagnetic ferrite layers and the intermediate nonmagnetic ferrite layer.
セラミックグリーンシートには、適宜位置にレーザー加工やパンチング加工等により貫通孔を形成し、この貫通孔に導体ペーストを印刷等により埋め込むことによって、焼成後にビアホール導体となる部分を配置する。また、セラミックグリーンシートの一方の主面に導体ペーストをスクリーン印刷法やグラビア印刷法等により印刷するか、あるいは所定パターン形状の金属箔を転写する等によって、コイル要素、配線導体、ランド電極、外部電極を形成するための導体パターンを形成する。 In the ceramic green sheet, a through hole is formed at an appropriate position by laser processing, punching processing, or the like, and a portion that becomes a via hole conductor after firing is disposed by embedding a conductive paste in the through hole by printing or the like. Also, by printing a conductor paste on one main surface of the ceramic green sheet by screen printing or gravure printing, or by transferring a metal foil of a predetermined pattern shape, coil elements, wiring conductors, land electrodes, external A conductor pattern for forming an electrode is formed.
コイル要素を形成するための導体パターンの上もしくは下には、焼成時に消失するカーボンペーストを、印刷等によって塗布しておく。 A carbon paste that disappears during firing is applied on or under the conductor pattern for forming the coil element by printing or the like.
さらに、第1及び第2の非磁性フェライト層と中間非磁性フェライト層用のセラミックグリーンシートには、個基板領域の境界線の交差部分を含むように、レーザー加工やパンチング加工等により個基板分割用の貫通孔を形成する。 Furthermore, the ceramic green sheets for the first and second nonmagnetic ferrite layers and the intermediate nonmagnetic ferrite layer are divided into individual substrates by laser processing, punching processing, etc. so as to include the intersections of the boundary lines of the individual substrate regions. A through-hole is formed.
セラミックグリーンシートを所定の順序で積層、圧着することにより、未焼成の集合基板を形成する。集合基板の内部には、個基板領域の境界線の交差部分を含む空洞が形成される。 An unfired aggregate substrate is formed by laminating and pressing the ceramic green sheets in a predetermined order. A cavity including the intersection of the boundary lines of the individual substrate regions is formed inside the collective substrate.
(2)次いで、未焼成の集合基板を焼成し、セラミックグリーンシートと導体ペーストを焼結させる。このとき、カーボンペーストが燃焼し消失して、コイル要素に隣接する空隙が形成される。 (2) Next, the unfired aggregate substrate is fired to sinter the ceramic green sheet and the conductor paste. At this time, the carbon paste burns and disappears, and a gap adjacent to the coil element is formed.
(3)次いで、焼結済みの集合基板を、ダイシングにより個基板領域の境界線に沿って切断して、集合基板から個基板を分割する。集合基板をブレイキングにより分割してもよい。この場合には、未焼成の集合基板に、分割用のブレイキング溝を形成しておく。 (3) Next, the sintered aggregate substrate is cut along the boundary line of the individual substrate regions by dicing, and the individual substrates are divided from the aggregate substrate. The aggregate substrate may be divided by breaking. In this case, dividing breaking grooves are formed in the unfired aggregate substrate.
ランド電極に部品を実装する場合には、集合基板に部品を実装した後、集合基板を分割すると、製造工程が簡単になり、効率が良い。 When components are mounted on the land electrodes, the manufacturing process is simplified and the efficiency is improved by dividing the assembly substrate after mounting the components on the assembly substrate.
以上の(1)〜(3)の工程により、集合基板から個基板に分割された積層基板を得ることができる。 Through the above steps (1) to (3), it is possible to obtain a laminated substrate that is divided from the aggregate substrate into individual substrates.
以上の工程により積層基板を製造すると、(2)の工程において集合基板を焼成するときに、コイル要素とセラミックグリーンシートとの線膨張係数や焼成挙動の差によって内部応力が発生しても、集合基板は、空洞の周囲の内部応力が緩和される。これにより、焼成時の内部応力を緩和し、クラックの発生を抑制することができる。 When the laminated substrate is manufactured by the above process, even if internal stress occurs due to the difference in the linear expansion coefficient and the firing behavior between the coil element and the ceramic green sheet when firing the aggregate substrate in the step (2), The substrate is relieved of internal stress around the cavity. Thereby, the internal stress at the time of baking can be relieved and generation | occurrence | production of a crack can be suppressed.
また、(3)の工程において集合基板を分割するとき、集合基板の内部には個基板領域の境界線を含む空洞が形成されているので、分割時のクラックの拡がりを抑制することができる。 Further, when the collective substrate is divided in the step (3), since the cavity including the boundary line of the individual substrate region is formed inside the collective substrate, it is possible to suppress the spread of cracks during the division.
さらに、第1及び第2の非磁性フェライト層と中間非磁性フェライト層用のセラミックグリーンシートに個基板領域の境界線の交差部分を含む貫通孔を形成することにより、分割後の個基板において、残留応力を低減することができる。 Further, by forming a through hole including a crossing portion of the boundary line of the individual substrate region in the ceramic green sheet for the first and second nonmagnetic ferrite layers and the intermediate nonmagnetic ferrite layer, Residual stress can be reduced.
残留応力の低減によって、コイルの効率が向上する。すなわち、磁性フェライト層に残留応力により磁歪が生じると、鉄損によるコイルの効率低下(インダクタンスの低下)が見られるが、磁性フェライト層に貫通孔を形成して磁性フェライト層の残留応力を緩和することにより、コイルの効率が向上する。 By reducing the residual stress, the efficiency of the coil is improved. In other words, when magnetostriction is generated in the magnetic ferrite layer due to residual stress, the efficiency of the coil is reduced due to iron loss (decrease in inductance), but a through hole is formed in the magnetic ferrite layer to relieve the residual stress in the magnetic ferrite layer. As a result, the efficiency of the coil is improved.
なお、空隙18によって空隙18の周囲では内部応力が緩和されるが、個基板領域の境界線付近において応力緩和効果はほとんど及ばない。個基板領域の境界線の一部を含む空洞を集合基板に形成しておくと、個基板領域の境界線付近において十分に内部応力を緩和することができる。
Although the internal stress is relieved around the
なお、(1)の工程において、セラミックグリーンシートの個基板分割用の貫通孔に、焼成時に消失するカーボンペーストを、印刷等により充填しておいてもよい。この場合、セラミックグリーンシートを積層、圧着した未焼成の集合基板を(2)の工程において焼成すると、貫通孔に充填されたカーボンペーストが消失し、集合基板の内部に、個基板領域の境界線の交差部分を含む空洞が形成される。 In the step (1), carbon paste that disappears during firing may be filled in the through holes for dividing the individual substrates of the ceramic green sheet by printing or the like. In this case, when the unfired aggregate substrate in which the ceramic green sheets are laminated and pressure-bonded is fired in the step (2), the carbon paste filled in the through holes disappears, and the boundary lines of the individual substrate regions are formed inside the aggregate substrate. A cavity including the intersecting portion is formed.
<参考例1> 参考例1の積層基板10bについて、図3及び図4を参照しながら説明する。
For <Reference Example 1>
図3は、積層基板10bの断面図である。図4は、図3の線A−Aに沿って切断した集合基板の要部断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view of the multilayer substrate 10b. 4 is a cross-sectional view of a principal part of the collective substrate cut along line AA in FIG.
図3及び図4に示すように、参考例1の積層基板10bは、実施例1の積層基板10aと略同様に構成されている。以下では、実施例1と同様の構成部分には同じ符号を用い、実施例1との相違点を中心に説明する。
As shown in FIGS. 3 and 4, the
図3に示すように、積層基板10bは、コイル要素20が形成されている絶縁層にのみ、凹部42が形成されている。
As shown in FIG. 3, the
凹部42は、図4に示すように、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yの交差部分の間の中間部分のみを含む貫通孔32により形成される。隣接する個基板領域11a〜11dは、それぞれの四隅で互いに接続されている。
As shown in FIG. 4, the
<変形例1> 図5は、変形例1の集合基板の要部断面図である。図5に示すように、集合基板に空洞を形成するための貫通孔34は、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yの交差部分を含み、個基板領域11a〜11dの角を無くすように矩形に形成する。
<Modification 1> FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part of a collective substrate of Modification 1. As shown in FIG. 5, the through-
<変形例2> 図6は、変形例2の集合基板の要部断面図である。図6に示すように、集合基板に空洞を形成するため、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yの交差部分を含む貫通孔34aと、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yの交差部分の間の中間部分のみを含む貫通孔32aとを形成する。
<
<変形例3> 図7は、変形例3の集合基板の要部断面図である。図7に示すように、集合基板に空洞を形成するため、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11yの隣接する交差部分の間の中間部分に、間隔を設けて複数の貫通孔32bを形成する。
<Modification 3> FIG. 7 is a cross-sectional view of the main part of the collective substrate of Modification 3. As shown in FIG. 7, in order to form a cavity in the collective substrate, a plurality of through
<比較例> 比較例の積層基板10xについて、図8及び図9を参照しながら説明する。
<Comparative example> The
図8は、積層基板10xの断面図である。図9は、図8の線A−Aに沿って切断した集合基板の要部断面図である。図8及び図9に示すように、積層基板10xの基板本体12xの側面12yには、凹部が形成されていない。この場合、集合基板の状態で焼成したときに、隣接する個基板領域11a〜11dが拘束し合うため、個基板領域11a〜11dの境界線11x,11y付近において、応力集中によってクラックが発生しやすい。
FIG. 8 is a cross-sectional view of the
これに対して、実施例1、2及び変形例1〜3のように中間絶縁層の貫通孔により個基板領域の境界線を含む空洞が内部に形成された集合基板を焼成すると、空洞の周囲において焼成時の内部応力を緩和することができ、クラック発生を抑制することができる。 On the other hand, when the collective substrate in which the cavity including the boundary line of the individual substrate region is formed by the through hole of the intermediate insulating layer as in Examples 1 and 2 and Modifications 1 to 3 is fired, The internal stress at the time of firing can be relaxed and cracking can be suppressed.
<まとめ> 以上に説明したように、個基板領域の境界線を含む空洞が内部に形成された集合基板を焼成した後、個基板領域の境界線に沿って分割すると、焼成時の内部応力を緩和でき、分割時のクラックの拡がりを抑制でき、焼成後の残留応力を低減できる。 <Summary> As described above, after firing the aggregate substrate in which the cavity including the boundary line of the individual substrate region is formed, and dividing along the boundary line of the individual substrate region, the internal stress during firing is reduced. It can alleviate, can suppress the spread of cracks during division, and can reduce the residual stress after firing.
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変更を加えて実施することが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with various modifications.
2,4,6 部品
10a,10b,10x 積層基板
11a〜11d 個基板領域
11x,11y 境界線
12 基板本体
12a,12b 主面
12c 側面
12x 基板本体
12y 側面
14a 第1の磁性フェライト層(中間絶縁層)
14b 第2の磁性フェライト層(中間絶縁層)
16a 第1の非磁性フェライト層(上部絶縁層)
16b 第2の非磁性フェライト層(下部絶縁層)
16c 中間非磁性フェライト層(中間絶縁層)
16s,16t 周端面
18 空隙
20 コイル要素
22 配線導体
22a,22b ビアホール導体
24 ビアホール導体
26 ランド電極
28 外部電極
30 貫通孔
32,32a,32b 貫通孔
34,34a 貫通孔
40,42 凹部
2, 4, 6
14b Second magnetic ferrite layer (intermediate insulating layer)
16a First nonmagnetic ferrite layer (upper insulating layer)
16b Second nonmagnetic ferrite layer (lower insulating layer)
16c Intermediate nonmagnetic ferrite layer (intermediate insulating layer)
16s, 16t
Claims (3)
未焼成の前記集合基板を焼成する第2の工程と、
焼成済みの前記集合基板を、前記個基板領域の境界線に沿って切断して、前記集合基板から前記個基板を分割する第3の工程と、
を備え、
前記第1の工程において、前記中間絶縁層は、磁性体セラミック材料を含みコイルが形成されている磁性フェライト層を含み、前記上部絶縁層と前記下部絶縁層と前記中間絶縁層とのうち前記中間絶縁層のみの少なくとも1層に、前記個基板領域の前記境界線の一部を含む貫通孔を予め形成し、該貫通孔によって前記集合基板の内部に空洞を形成し、前記中間絶縁層に形成された前記貫通孔は、前記個基板領域の前記境界線が交差する部分を含み、かつ前記コイルが形成されているすべての前記磁性フェライト層を積層方向に連続して貫通するように形成されていることを特徴とする、積層基板の製造方法。 One or more unfired intermediate insulation layers are sandwiched between one or more unfired upper insulation layers and one or more unfired lower insulation layers A first step of stacking and forming an unfired aggregate substrate including individual substrate regions to be a plurality of individual substrates;
A second step of firing the unfired aggregate substrate;
Said collective substrate already baked formed, by cutting along the boundary lines of the individual substrate region, a third step of dividing the number board from the collective board,
With
In the first step, the intermediate insulating layer includes a magnetic ferrite layer in which a coil is formed including a magnetic ceramic material, and the intermediate insulating layer among the upper insulating layer, the lower insulating layer, and the intermediate insulating layer. A through hole including a part of the boundary line of the individual substrate region is formed in advance in at least one layer of only the insulating layer, and a cavity is formed inside the collective substrate by the through hole, and formed in the intermediate insulating layer The formed through hole includes a portion where the boundary line of the individual substrate region intersects, and is formed so as to continuously penetrate all the magnetic ferrite layers in which the coils are formed in the stacking direction. A method for producing a laminated substrate, comprising:
前記貫通孔が形成された前記中間絶縁層の周端面に、前記貫通孔により、前記上部絶縁層及び前記下部絶縁層の周端面よりも後退した凹部が形成されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の積層基板の製造方法。 The laminated substrate divided from the collective substrate into the individual substrate in the third step is
Wherein the peripheral edge surface of said through holes are formed intermediate insulating layer by the through hole, wherein the recess recessed from the peripheral surface of the upper insulating layer and the lower insulating layer is formed, wherein Item 3. A method for producing a laminated substrate according to Item 1 or 2 .
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