JP5875368B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図1を参照しながら、第1実施形態の半導体装置の製造方法を説明する。本実施形態では、半導体装置の一例として、固体撮像装置について説明する。図1(a)に例示されるように、半導体基板100(例えば、P型Si基板)は、画素領域101と周辺回路領域102を備えている。画素領域101には、例えば、フォトダイオードのような光電変換部、及び光電変換部で生じたキャリアを転送するための転送トランジスタ等を備える画素が二次元状に配されうる。周辺回路領域102には、画素領域101からの信号を読み出し、処理する論理部が配されうる。周辺回路領域102は画素領域101以外の領域である。
図2を参照しながら、第2実施形態の半導体装置の製造方法を説明する。本実施形態は、ドレイン端子/ソース端子とゲート端子のそれぞれについて個別にコンタクトプラグが形成される点で第1実施形態と異なる。まず、図1(a)に例示される第1実施形態と同様にして、第1絶縁層形成工程がなされる(図2(a))。以下、第1実施形態と同様の構成、あるいは製造方法を行うことが可能な場合には、詳細な説明を省略する。
図3を参照しながら、第3実施形態の半導体装置の製造方法を説明する。本実施形態は、図3(a)に例示されるように、NMOSトランジスタ群が配されたPウェル領域301とPMOSトランジスタ群が配されたNウェル領域302のそれぞれについて個別にコンタクトプラグが形成される点で第1実施形態と異なる。Pウェル領域301には、ドレイン及びソースのN型拡散層304及び305を備えたLDD構造のNMOSトランジスタが配されている。Nウェル領域302には、ドレイン及びソースのP型拡散層306及び307を備えたLDD構造のPMOSトランジスタが配されている。また、これらのトランジスタは、それぞれゲート電極303を有し、その両側面には、Si3N4膜308、及びSiO2膜309により形成されるサイドスペーサが配されている。また、これらを覆うように、例えば、Si3N4膜、又はSiO2膜を含む絶縁膜310が配されている。これらを備えた半導体基板100の全体を覆うように、半導体基板100の上に第1絶縁層117(層間絶縁層)が形成されうる(第1絶縁層形成工程)。
図1、4及び5を参照しながら、第4実施形態の半導体装置の製造方法を説明する。本実施形態は、セルフアラインコンタクト(SAC)エッチング技術を用いる点で、第1実施形態と異なる。例えば、半導体基板100には、第1接続領域(例えば、ゲート電極107)、第2接続領域(例えば、ゲート電極108)、並びに、第1接続領域及び第2接続領域を覆うように配された第3絶縁層113、114、及び115が設けられている。第1接続領域は、第1コンタクトプラグ119と接続される。第2接続領域は、第2コンタクトプラグ122と接続される。このような構成のとき、第1実施形態において為された第1及び第2開口形成工程のそれぞれに、SACエッチング技術を用いる場合がある。SACエッチング技術では、図4及び5に例示されるように、第1絶縁層117自体をマスクとして用いて第3絶縁層113、114、及び115をエッチングすることもできる。このとき、第1絶縁層117も同時にエッチングされ、第1絶縁層117の厚さが薄くなる。この場合においても、本発明の効果が得られる。
Claims (10)
- 半導体基板の上に第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層に第1開口を形成する工程と、
前記第1絶縁層の上及び前記第1開口の中に導電性部材を堆積した後に、前記第1絶縁層が露出するように当該導電性部材の一部を除去して第1コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第1コンタクトプラグを形成した後に、前記第1絶縁層の上に前記第1コンタクトプラグを覆う第2絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層に第2開口を形成する工程と、
前記第2絶縁層の上及び前記第2開口の中に導電性部材を堆積した後に、前記第2絶縁層が露出するように当該導電性部材の一部を研磨によって除去して第2コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第2コンタクトプラグを形成した後に、前記第1コンタクトプラグ及び前記第1絶縁層が露出するように前記第2絶縁層を除去する工程と、を含み、
前記第2コンタクトプラグを形成する工程において、前記第2絶縁層の厚さが薄くなるように前記研磨が行われる
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第1コンタクトプラグを形成する工程及び前記第2絶縁層を除去する工程は、前記第1絶縁層の厚さが薄くなるように行われ、
前記第2絶縁層を除去する工程において前記第1絶縁層の厚さが薄くなる量は、前記第1コンタクトプラグを形成する工程において前記第1絶縁層の厚さが薄くなる量よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の上に第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層に第1開口を形成する工程と、
前記第1絶縁層の上及び前記第1開口の中に導電性部材を堆積した後に、前記第1絶縁層が露出するように当該導電性部材の一部を除去して第1コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第1コンタクトプラグを形成した後に、前記第1絶縁層の上に前記第1コンタクトプラグを覆う第2絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層に第2開口を形成する工程と、
前記第2絶縁層の上及び前記第2開口の中に導電性部材を堆積した後に、前記第2絶縁層が露出するように当該導電性部材の一部を除去して第2コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第2コンタクトプラグを形成した後に、前記第1コンタクトプラグが露出するように前記第2絶縁層を完全に除去する工程と、を含む、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板には前記第1コンタクトプラグと接続されるべき第1接続領域と、前記第2コンタクトプラグと接続されるべき第2接続領域と、が設けられていて、前記第1接続領域と前記第1絶縁層との間には第3絶縁層が設けられていて、前記第2接続領域と前記第1絶縁層との間には前記第3絶縁層とは別の絶縁膜からなる第4絶縁層が設けられていて、
前記第1開口を形成する前記工程は、前記第1絶縁層の上に第1フォトレジストパターンを配する工程と、前記第1フォトレジストパターンを使って前記第3絶縁層が露出するように前記第1絶縁層に前記第1開口を形成する工程と、前記第3絶縁層が露出した後に前記第1フォトレジストパターンを除去する工程と、前記第1開口を通して前記第1接続領域が露出するように前記第3絶縁層をエッチングする工程と、を含み、
前記第2開口を形成する前記工程は、前記第2絶縁層の上に第2フォトレジストパターンを配する工程と、前記第2フォトレジストパターンを使って前記第4絶縁層が露出するように前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層に前記第2開口を形成する工程と、前記第2フォトレジストパターンを除去した後、かつ、前記第2開口に前記導電性部材を堆積する前に、前記第2開口を通して前記第2接続領域が露出するように前記第4絶縁層をエッチングする工程と、を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1絶縁層は酸化シリコンを主成分とする絶縁層であり、
前記第3絶縁層及び前記第4絶縁層は窒化シリコンを主成分とする絶縁層である
ことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層は酸化シリコンを主成分とする絶縁層であり、前記第1開口の中に堆積される前記導電性部材及び前記第2開口の中に堆積される前記導電性部材は金属膜である
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1開口及び前記第2開口の一方は、金属と半導体との化合物を含む半導体化合物領域を露出し、前記第1開口及び前記第2開口の他方は、半導体領域を露出する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1コンタクトプラグ及び前記第2コンタクトプラグの一方は、NMOSトランジスタと接続され、前記第1コンタクトプラグ及び前記第2コンタクトプラグの他方は、PMOSトランジスタと接続される、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1コンタクトプラグ及び前記第2コンタクトプラグの一方は、MOSトランジスタのゲート端子と接続され、前記第1コンタクトプラグ及び前記第2コンタクトプラグの他方は、MOSトランジスタのドレイン端子又はソース端子と接続される、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体装置は、光電変換部を有する固体撮像装置である
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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