JP5867750B2 - ネガ型感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
一方、マレイミドをアルカリ可溶性樹脂として用いた、ある種のネガ型感光性樹脂組成物も知られている(例えば、特許文献5)。
すなわち、第1観点として、下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分を含有する感光性樹脂組成物。
(A)成分:少なくとも(i)マレイミドと(ii)エポキシ基を有するモノマーとを含むモノマー混合物を共重合したアクリル共重合体、
(B)成分:光酸発生剤、
(C)成分:2個以上のエポキシ基を有する化合物、
(D)成分:溶剤、
第2観点として、(E)成分として、増感剤を更に感光性樹脂組成物100質量部に対し0.1乃至10質量部含有する、第1観点に記載の感光性樹脂組成物、
第3観点として、(F)成分として、アミン化合物を更に感光性樹脂組成物の総質量に基いて1質量%以下含有する、第1観点又は第2観点に記載の感光性樹脂組成物、
第4観点として、第1観点乃至第3観点のうちいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜、
第5観点として、第4観点に記載の硬化膜からなる液晶ディスプレイ用層間絶縁膜、
第6観点として、第4観点に記載の硬化膜からなる光学フィルタ、
に関するものである。
(A)成分:少なくとも(i)マレイミドと(ii)エポキシ基を有するモノマー、好ましくは不飽和二重結合とエポキシ基を有するモノマーとを含むモノマー混合物を共重合したアクリル共重合体、
(B)成分:光酸発生剤、
(C)成分:2個以上のエポキシ基を有する化合物、
(D)成分:溶剤
以下、各成分の詳細を説明する。
(A)成分は、少なくとも(i)マレイミドと(ii)エポキシ基を有するモノマーとを含むモノマー混合物を共重合したアクリル共重合体である。
(A)成分の共重合体は、斯かる構造を有する共重合体であればよく、共重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類などについて特に限定されない。
このモノマーはエポキシ基を有するモノマーであればよいが、好ましくは不飽和二重結合とエポキシ基を有するモノマーである。
不飽和二重結合とエポキシ基を有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,7−オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。
非反応性官能基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、N−置換マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
(B)成分は光酸発生剤である。本発明の熱硬化性樹脂組成物に用いられる酸の種類は特に限定されない。このような光酸発生剤の具体例としては、
本発明の(C)成分であるエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物としては、例えば、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,2−エポキシ−4−(エポキシエチル)シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、2,6−ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、1,1,3−トリス[p−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]プロパン、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、4,4’−メチレンビス(N,N−ジグリシジルアニリン)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル及びビスフェノール−A−ジグリシジルエーテル、及びペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。
本発明に用いる(A)成分乃至(C)成分を溶解し、且つ所望により添加される後述の(E)成分、(F)成分などを溶解するものであり、斯様な溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
(E)成分は、増感剤である。本発明のネガ型感光性樹脂組成物からなる塗膜を露光する波長に対し(B)成分である光酸発生剤の反応率が小さい場合、増感剤を添加することで反応率を向上させることができる。このような増感剤の具体例としては、9,10−ジブトキシアントラセン、9−ヒドロキシメチルアントラセン、チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、アントラキノン、1,2−ジヒドロキシアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1,4−ジエトキシナフタレン等が挙げられる。
また、これらの増感剤の添加量は感光性樹脂組成物100質量部に対し0.1乃至10質量部含有することが好ましい。
(F)成分は、アミン化合物である。本発明のネガ型感光性樹脂組成物にあっては、その(B)成分より発生した酸の拡散を抑制する目的でアミン化合物を添加し、パターン形状をコントロールすることができる。
更に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、または多価フェノール、多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含有することができる。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、(A)成分のアクリル重合体、(B)成分の光酸発生剤、(C)成分の2個以上のエポキシ基を有する化合物が(D)溶剤に溶解したものであり、且つ、それぞれ所望により(E)成分の増感剤、(F)成分のアミン化合物、及びその他添加剤のうち一種以上を更に含有することができる組成物である。
[1]:(A)成分100質量部に基づいて、0.5乃至20質量部の(B)成分、5乃至100質量部の(C)成分を含有し、これら成分が(D)溶剤に溶解されたネガ型感光性樹脂組成物。
[2]:上記[1]の組成物において、更に(E)成分を(A)成分100質量部に基づいて、0.1乃至10質量部含有するネガ型感光性樹脂組成物。
[3]:上記[1]又は[2]の組成物において、更に(F)成分を(A)成分100質量部に基づいて1質量部以下含有するネガ型感光性樹脂組成物。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物を半導体基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属例えばアルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布などによって塗布し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で予備乾燥することにより、塗膜を形成することができる。その後、この塗膜を加熱処理することにより、ネガ型感光性樹脂膜が形成される。
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
MAA:メタクリル酸
MI:マレイミド
MMA:メタクリル酸メチル
ECM:3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート
GMA:グリシジルメタクリレート
ST:スチレン
AIBN:アゾビスイソブチロニトリル
PAG1: GSID-26-1(BASF製)
PAG2:CPI-110P(サンアプロ(株)製)
PAG3:HS-1PG(サンアプロ(株)製)
PAG4:イルガキュア369(BASF製)
CEL:ダイセル化学製セロキサイドP−2021(製品名)(化合物名:3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート)
GT:ダイセル化学製エポリードGT−401(製品名)(化合物名:エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス-(3-シクロヘキセニルメチル)修飾ε-カプロラクトン)
ITX:2−イソプロピルチオキサントン
TEA:トリエタノールアミン
DPHA:ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート
BTEAC:ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
JE:ジャパンエポキシレジン(株)製 JER157S70
CHMI:N−シクロヘキシルマレイミド
以下の合成例に従い得られた特定共重合体及び特定架橋体の数平均分子量及び重量平均分子量を、日本分光(株)製GPC装置(Shodex(登録商標)カラムKF803LおよびKF804L)を用い、溶出溶媒テトラヒドロフランを流量1ml/分でカラム中に(カラム温度40℃)流して溶離させるという条件で測定した。なお、下記の数平均分子量(以下、Mnと称す。)及び重量平均分子量(以下、Mwと称す。)は、ポリスチレン換算値にて表される。
共重合体を構成するモノマー成分として、MI(28.0g)、ECM(50.0g)、ST(22.0g)を使用し、ラジカル重合開始剤としてAIBN(2g)を使用し、これらを溶剤PGME(238g)中において重合反応させることにより、Mn4,500、Mw10,000である共重合体溶液(共重合体濃度:30質量%)を得た(P1)。なお、重合温度は、温度60℃乃至90℃に調整した。
共重合体を構成するモノマー成分として、MI(30.0g)、GMA(50.0g)、ST(20.0g)を使用し、ラジカル重合開始剤としてAIBN(2g)を使用し、これらを溶剤PGME(238g)中において重合反応させることにより、Mn10,000、Mw30,000である共重合体溶液(共重合体濃度:30質量%)を得た(P2)。なお、重合温度は、温度60℃乃至90℃に調整した。
共重合体を構成するモノマー成分として、MAA(50.0g)、MMA(50.0g)を使用し、ラジカル重合開始剤としてAIBN(2g)を使用し、これらを溶剤PGMEA(120g)中において重合反応させることにより共重合体溶液(共重合体濃度:40質量%)を得た。なお、重合温度は、温度60℃乃至90℃に調整した。この共重合体200gにGMA(33.0g)、BTEAC(1.1g)、PGMEA(49.5g)を加えて反応させることによりMn8,700、Mw22,000の(A)成分(特定共重合体)の溶液(特定共重合体濃度:40.5質量%)を得た(P3)。なお、反応温度を90乃至120℃に調整した。
共重合体を構成するモノマー成分として、MAA(30.0g)、GMA(50.0g)、ST(20.0g)を使用し、ラジカル重合開始剤としてAIBN(2g)を使用し、これらを溶剤PGME(238g)中において温度60℃乃至90℃にて重合反応させたが、重合反応中にゲル化してしまいその後の評価に使用することが出来なかった。
共重合体を構成するモノマー成分として、CHMI(28.0g)、ECM(50.0g)、ST(22.0g)を使用し、ラジカル重合開始剤としてAIBN(2g)を使用し、これらを溶剤PGME(238g)中において重合反応させることにより、Mn4,800、Mw12,000である共重合体溶液(共重合体濃度:30質量%)を得た(P4)。なお、重合温度は、温度60℃乃至90℃に調整した。
次の表1に示す組成に従い、(A)成分の溶液に、(B)成分、(C)成分、及び(D)溶剤、更に(E)成分及び(F)成分を所定の割合で混合し、室温で3時間撹拌して均一な溶液とすることにより、各実施例及び各比較例のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
ネガ型感光性樹脂組成物をE型回転粘度計(回転子No. 1 (1゜34´))を用いて回転数10rpm、温度25℃にて粘度を測定した。
ネガ型感光性樹脂組成物をシリコンウェハ上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度100℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、塗膜を形成した。この塗膜の膜厚をFILMETRICS製 F20を用いて測定した。
ネガ型感光性樹脂組成物を石英基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度100℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い塗膜を形成した。この塗膜にキャノン製紫外線照射装置PLA−600FAにより365nmにおける光強度が5.5mW/cm2の紫外線を36秒間照射した。この膜を温度95℃にて120秒間ホットプレート上にて露光後加熱を行った後、温度230℃で30分間オーブン中においてポストベークを行い硬化膜を形成した。この硬化膜を紫外線可視分光光度計((株)島津製作所製SIMADSU UV−2550型番)を用いて400nmの波長の透過率を測定した。
ネガ型感光性樹脂組成物を無アルカリガラス上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度100℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い塗膜を形成した。この塗膜にキヤノン(株)製紫外線照射装置PLA−600FAにより365nmにおける光強度が5.5mW/cm2の紫外線をライン&スペースパターンのマスクを介して190mJ/cm2照射した。その後温度95℃で120秒間ホットプレート上において露光後加熱を行った。その後1.0質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム(以下、TMAHと称す)水溶液に60秒間浸漬することで現像を行った後、超純水で20秒間流水洗浄を行うことでパターンを形成した。作製したパターンを230℃のオーブンにて30分焼成したものについてSEM観察し、パターンの線幅がマスクの線幅と一致する最小パターンサイズを解像度とした。
ネガ型感光性樹脂組成物をシリコンウェハ上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度100℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い塗膜を形成した。この塗膜にキャノン製紫外線照射装置PLA−600FAにより365nmにおける光強度が5.5mW/cm2の紫外線を36秒間照射した。この膜を温度95℃にて120秒間ホットプレート上にて露光後加熱を行った後、温度230℃で30分間オーブン中においてポストベークを行い硬化膜を形成した。ポストベーク後の膜厚をFILMETRICS製 F20を用いて測定した。残膜率は(ポストベーク後膜厚/プリベーク後膜厚)X100として計算した。
以上の評価を行った結果を、次の表2に示す。
比較例1については、同程度の粘度でも厚膜化できず、ポストベーク後の残膜率も90%以下と低かった。比較例2についてはプリベーク後にタックが入り、アルカリ現像液で現像することも出来なかった。またマレイミドとしてN−置換マレイミド(シクロヘキシルマレイミド)を使用した比較例3のネガ型感光性樹脂組成物もアルカリ現像液での現像を行うことができなかった。また、(B)成分の光酸発生剤に代えて光ラジカル開始剤イルガキュア369を使用し、(C)成分の2個以上のエポキシ基を有する化合物に代えてDPHA(ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート)を使用した比較例4のネガ型感光性樹脂組成物は、現像時の膜減りが非常に大きく、良好な解像度を得ることができなかった。
Claims (6)
- 下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、及び(D)成分を含有する感光性樹脂組成物。
(A)成分:少なくとも(i)マレイミドと(ii)エポキシ基を有するモノマーとを含むモノマー混合物を共重合したアクリル共重合体、
(B)成分:光酸発生剤、
(C)成分:2個以上のエポキシ基を有する化合物
(D)成分:溶剤 - (E)成分として、増感剤を更に前記感光性樹脂組成物100質量部に対し0.1乃至10質量部含有する、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- (F)成分として、アミン化合物を更に含有する、請求項1又は請求項2に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1乃至請求項3のうちいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
- 請求項4に記載の硬化膜からなる液晶ディスプレイ用層間絶縁膜。
- 請求項4に記載の硬化膜からなる光学フィルタ。
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6945289B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2021-10-06 | 株式会社カネカ | アルカリ現像性を有する光硬化性組成物、およびパターン硬化膜の製造方法 |
WO2023276517A1 (ja) * | 2021-07-02 | 2023-01-05 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、硬化物、硬化物の製造方法、電子部品、表示装置および半導体装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03192260A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-08-22 | Hoechst Celanese Corp | マレイミド含有陰画処理型深uvフォトレジスト |
JPH06250390A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2004051876A (ja) * | 2002-07-23 | 2004-02-19 | Jsr Corp | 樹脂組成物および保護膜 |
JP2007171973A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Samyang Ems Co Ltd | ネガティブフォトレジスト組成物 |
JP2008026660A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000039512A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-08 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルター用感光性樹脂組成物及びカラーフィルターの製造方法 |
KR100557606B1 (ko) * | 1999-08-31 | 2006-03-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 유기 난반사 방지용 중합체 |
US7282324B2 (en) * | 2004-01-05 | 2007-10-16 | Microchem Corp. | Photoresist compositions, hardened forms thereof, hardened patterns thereof and metal patterns formed using them |
KR101099691B1 (ko) * | 2008-04-07 | 2011-12-28 | 주식회사 삼양이엠에스 | 음성 레지스트 조성물 |
JP5290129B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2013-09-18 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
JP4955732B2 (ja) * | 2009-05-29 | 2012-06-20 | 信越化学工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
KR20120082169A (ko) * | 2011-01-13 | 2012-07-23 | 삼성전자주식회사 | 알칼리 가용성의 에폭시 수지를 포함하는 감광성 접착제 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성용 접착 필름 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03192260A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-08-22 | Hoechst Celanese Corp | マレイミド含有陰画処理型深uvフォトレジスト |
JPH06250390A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JP2004051876A (ja) * | 2002-07-23 | 2004-02-19 | Jsr Corp | 樹脂組成物および保護膜 |
JP2007171973A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Samyang Ems Co Ltd | ネガティブフォトレジスト組成物 |
JP2008026660A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
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