JP5851318B2 - 試料保持装置および試料解析装置 - Google Patents
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Description
イオンビーム照射手段21からのイオンビーム22が試料解析面13aに照射され、解析面13aは繰り返しスライス加工される。この時、上述したように、試料解析面13aの大きさは1度のイオンビームスキャンでその全域が加工される大きさとなっているので、従来のような段差がイオンビーム加工によって解析面13aに生じることはない。
2…先端面
3…試料支持部
4…突出部
5…被保持部
6…試料ホルダ
6a…試料ホルダ上面
6b…試料ホルダ側面
6c…試料ホルダ側面
6d…取付台
7…第1の穴
8…第2の穴
9…試料保持装置
11…光学顕微鏡
12…ガラスプローブ
13…試料
13a…解析面
13b…固定面
14…水平面
15…ネジ
16…EBSD装置
17…試料室チャンバ
18…試料室
19…電子線照射手段
20…電子線
21…イオンビーム照射手段
22…イオンビーム
23…EBSD検出器
24…後方散乱電子
25…制御装置
26…モニタ
27…試料ステージ
Claims (7)
- 後方散乱電子回折を利用して結晶性試料の方位解析を行うときに用いられる試料台であって、試料取り付け面を有する試料台と、
前記試料台を保持するための第1および第2の保持部を有する試料ホルダと
を備えた試料保持装置であり、
前記試料台が前記第1保持部に保持されたときには前記試料取り付け面が水平状態となり、前記試料台が前記第2保持部に保持されたときには前記試料取り付け面が水平状態から所定角度傾いた状態となるように構成されている
ことを特徴とする試料保持装置。 - 前記試料台は、先端面で試料を支持する棒状の試料台であり、試料取り付け面である前記先端面は、試料台の長手方向に垂直な端面であることを特徴とする請求項1記載の試料保持装置。
- 前記第1保持部は、前記棒状の試料台が差し込まれる第1の穴であって、鉛直方向に延びる第1の穴であり、
前記第2保持部は、前記棒状の試料台が差し込まれる第2の穴であって、前記第1の穴に対して所定角度傾いた第2の穴であり、
前記棒状の試料台が前記第1の穴に差し込まれたときには前記棒状の試料台が垂直に立って前記先端面が水平状態となり、前記棒状の試料台が前記第2の穴に差し込まれたときには前記先端面が水平状態から前記所定角度傾いた状態となる
ことを特徴とする請求項2記載の試料保持装置。 - 前記第1の穴と前記第2の穴はつながっており、
前記第1の穴に嵌め込まれる固定部材を更に有しており、
前記第2の穴に差し込まれた試料台は、前記固定部材によって試料ホルダに固定される
ことを特徴とする請求項3記載の試料保持装置。 - 前記所定角度は70°であることを特徴とする請求項1または3記載の試料保持装置。
- 試料室に配置され、前記試料台が前記第2保持部に保持された請求項5記載の試料保持装置と、
鉛直方向の光軸を有し、前記試料台に取り付けられた試料に電子線を照射する電子線照射手段と、
前記試料に電子線を照射することによって得られる後方散乱電子回折パターンを検出する検出手段と
を備えたことを特徴とする試料解析装置。 - 前記試料にイオンビームを照射して試料を加工するイオンビーム照射手段を更に備えたことを特徴とする請求項6記載の試料解析装置。
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Family Applications (1)
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