JP2020064780A - 荷電粒子ビーム装置、試料加工観察方法 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明の荷電粒子ビーム装置は、集束イオンビームを照射する集束イオンビーム鏡筒と、電子ビームを照射する電子ビーム鏡筒と、試料を載置するステージと、前記試料から切り出された観察対象部を含む試料片を保持する試料片支持体と、前記集束イオンビーム鏡筒、前記電子ビーム鏡筒、前記ステージおよび前記試料片支持体の動作を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記試料の観察対象部を含む断面のSEM画像を取得する際に、前記集束イオンビームのビーム光軸と前記電子ビームのビーム光軸との交点よりも前記電子ビーム鏡筒に近接する位置まで前記試料片を移動させる制御を行うことを特徴とする。
図1は、本発明の一実施形態の荷電粒子ビーム装置を示す構成図である。
本発明の一実施形態の荷電粒子ビーム装置(複合荷電粒子ビーム装置)10は、図1に示すように、内部を真空状態に維持可能な試料室11と、試料室11の内部において、バルクの試料Vを保持するための試料ホルダPを固定可能なステージ12と、ステージ12を駆動するステージ駆動機構13と、を備えている。
荷電粒子ビーム装置10は、集束イオンビーム(FIB)または電子ビーム(EB)の照射によって照射対象から発生する二次荷電粒子(二次電子、二次イオン)Rを検出する検出器16を備えている。
また、ニードル19aに流入する荷電粒子ビームの流入電流(吸収電流とも言う)を検出し、流入電流信号はコンピュータに送り画像化する吸収電流検出器20と、を備えている。
ステージ12は、試料Vを保持する。ステージ12は、試料Vを固定する試料ホルダPを保持するホルダ固定台12aを備えている。このホルダ固定台12aは複数の試料ホルダPを搭載できる構造であってもよい。
上述した構成の荷電粒子ビーム装置10を用いた本発明の第1実施形態の試料加工観察方法を、図1〜4を用いて説明する。
図2は、本発明の試料加工観察方法を段階的に示したフローチャートである。
本発明の試料加工観察方法によって観察対象部を含む試料片Sの観察断面を形成する際には、まず、観察対象部が含まれるバルクの試料Vを試料ホルダPにセットして、ステージ12上に載置する。観察対象部が含まれる試料Vとしては、例えば、微細な集積回路を形成した半導体チップなどが挙げられる。
SEM画像の高分解能化のために、電子ビーム鏡筒15と試料片Sとの間に電子レンズを形成させるセミインレンズ方式の電子ビーム鏡筒15を用いる場合、電子レンズの磁場が電子ビーム鏡筒15の外側に生じるために、断面加工工程S2で試料片Sを集束イオンビーム(FIB)で加工する際に、特に低加速の集束イオンビーム(FIB)は、電子ビーム鏡筒15の電子レンズの磁場によってビーム軌道が曲がったり、ビーム形状が歪んだりする虞がある。
第3実施形態では、断面加工工程S2において、試料片Sに対して額縁加工を行う。即ち、図6(a)に示すように、試料片Sの一方に向けて第1の照射角度から集束イオンビーム(FIB)を照射し、試料片Sの矩形の加工面(断面)の3辺を所定幅で額縁状に周縁部分を残し(額縁部Sa)、その内側を薄膜化(薄膜部Sb)する。
第4実施形態は、試料片支持体19を2つ備えた荷電粒子ビーム装置10を用いた例であり、互いに離間して配置された2つのニードル19a1,19a2を有する(図7参照)。まず、第1のニードル19a1で試料片Sを保持する。
Claims (10)
- 集束イオンビームを照射する集束イオンビーム鏡筒と、電子ビームを照射する電子ビーム鏡筒と、試料を載置するステージと、前記試料から切り出された観察対象部を含む試料片を保持する試料片支持体と、前記集束イオンビーム鏡筒、前記電子ビーム鏡筒、前記ステージおよび前記試料片支持体の動作を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記試料の観察対象部を含む断面のSEM画像を取得する際に、前記集束イオンビームのビーム光軸と前記電子ビームのビーム光軸との交点よりも前記電子ビーム鏡筒に近接する位置まで前記試料片を移動させる制御を行うことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 前記制御部は、前記集束イオンビームによって前記断面を形成する際に、前記交点に前記試料片を移動させる制御を行うことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記制御部は、前記断面に前記集束イオンビームを照射して前記断面の加工を行う際、前記試料の観察対象部を含む断面のSEM画像を取得する際、の少なくともいずれか一方において、前記ステージを前記試料片に向けて接近動作させる制御を行うことを特徴とする請求項1または2記載の荷電粒子ビーム装置。
- 集束イオンビームを照射する集束イオンビーム鏡筒と、電子ビームを照射する電子ビーム鏡筒と、試料から切り出された観察対象部を含む試料片を保持する試料片支持体と、を備えた荷電粒子ビーム装置を用いて、前記試料の観察対象部を含む断面の加工およびSEM画像を得る試料加工観察方法であって、
前記集束イオンビームを前記試料に照射して、前記試料から前記試料片を切り出す試料片形成工程と、
前記試料片を前記試料片支持体で支持し、前記試料片の前記断面に前記集束イオンビームを照射して、前記断面の加工を行う断面加工工程と、
前記試料片を前記試料片支持体で支持し、前記集束イオンビームのビーム光軸と前記電子ビームのビーム光軸との交点よりも前記電子ビーム鏡筒に近接する位置まで前記試料片を移動させる試料片近接移動工程と、
前記試料片の前記断面に向けて前記電子ビームを照射して、前記断面のSEM画像を取得するSEM画像取得工程と、
を備えたことを特徴とする試料加工観察方法。 - 前記試料片を前記試料片支持体で支持し、前記試料片の前記断面が前記電子ビームのビーム光軸に対して直角になるように傾斜させる試料片角度調節工程を更に備えたことを特徴とする請求項4記載の試料加工観察方法。
- 前記試料片にドリフト補正マークを形成する補正マーク形成工程を更に備えたことを特徴とする請求項4または5記載の試料加工観察方法。
- 前記試料片角度調節工程は、複数の前記試料片支持体どうしの間で前記試料片を受け渡して行うことを特徴とする請求項5記載の試料加工観察方法。
- 前記断面加工工程またはSEM画像取得工程の少なくともいずれか一方では、前記試料を載置するステージを前記試料片に向けて接近動作させることを特徴とする請求項4ないし7いずれか一項記載の試料加工観察方法。
- 前記断面加工工程では、前記試料片の周縁部分の少なくとも一部よりも内側だけを薄膜化させることを特徴とする請求項4ないし8いずれか一項記載の試料加工観察方法。
- 前記断面加工工程から前記試料片近接移動工程を経て前記画像取得工程までを、予め設定した回数繰り返すことを特徴とする請求項4ないし9いずれか一項記載の試料加工観察方法。
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