JP5849750B2 - 微細構造の形成方法およびインプリント装置 - Google Patents
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Description
上述の荷重速度の発生を抑制するためには、剥離力を低減することが好ましく、例えば、モールドの凹凸構造面にフッ素成分等を含む離型層を形成しておく方法(特許文献1)が提案されている。また、ダミーパターンを設けることによって剥離力の急激な増大を抑制する方法(特許文献2)も提案されている。さらに、剥離力を計測し、目標の剥離力となるように制御する装置(特許文献3)が提案されている。
さらに、荷重速度の変化はmsec単位の非常に短い時間内でも起こりうるため、上記のような剥離力を計測し、目標の剥離力となるように制御する装置では、荷重速度の変化を検知しても、これをフィードバックして瞬時に応答することは難しく、また、瞬時の応答を可能とした場合、装置コストが大幅に増大すると考えられる。
本発明は、上述のような実情に鑑みてなされたものであり、モールドと転写材料との剥離が安定しており、欠陥、破損の発生が抑制された微細構造の形成方法と、これに使用するインプリント装置を提供することを目的とする。
本発明の他の態様として、複数の前記単位領域から、モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしに必要な剥離力が最大である剥離力最大領域を設定し、引き剥がし開始から前記剥離力最大領域に到達するまでを前記経路Aとし、前記剥離力最大領域に到達後、引き剥がしが終了するまでを前記経路Bとするような構成とした。
本発明の他の態様として、複数の前記単位領域から、引き剥がしを開始して前記剥離力最大領域に到達するまで隣接しながら剥離力が増大傾向で変化する複数の単位領域を選択して前記経路Aのための剥離順路Aとし、前記剥離力最大領域から引き剥がし終了まで隣接しながら剥離力が減少傾向で変化する複数の単位領域を選択して前記経路Bのための剥離順路Bとし、前記境界線が前記剥離順路Aにそって移動するように前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して引き剥がしを行い、その後、前記境界線が前記剥離順路Bにそって移動するように前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して引き剥がしを行うような構成とした。
本発明の他の態様として、前記剥離順路Aと前記剥離順路Bは、異なる剥離順路に重複して属する単位領域が存在しないように設定するような構成とした。
本発明の他の態様として、複数の前記単位領域から、引き剥がしを開始して前記終了点単位領域に到達するまで隣接しながら剥離力が変化する複数の単位領域を選択して2種以上の剥離順路を設定し、前記境界線が前記剥離順路にそって移動するように前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して引き剥がしを行うような構成とした。
本発明の他の態様として、2種以上の前記剥離順路は、引き剥がしを開始する単位領域を除いて、異なる剥離順路に重複して属する単位領域が存在しないように設定するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記離接作動部材は、前記モールド保持部および前記基板保持部の少なくとも一方に配設されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記剥離駆動部は、モールドとインプリント用の基板との対向面と平行な面内で前記モールド保持部と前記基板保持部とを共に回転させるための回転作動部材を備え、前記離接作動部材は、回転する前記モールド保持部および前記基板保持部を除く部位に配設されているような構成とした。
また、本発明のインプリント装置は、本発明の微細構造の形成方法を安定して実施することができるとともに、装置コストの増大を抑制することができる。
[微細構造の形成方法]
本発明の微細構造の形成方法は、モールドの凹凸構造を有する主面と基板との間に転写材料を介在させる押し当て工程と、転写材料を硬化させる硬化工程と、硬化後の転写材料とモールドとを引き剥がす剥離工程と、を有している。図1は、このような本発明の微細構造の形成方法の一実施形態を説明するための工程図である。
本発明では、モールド11とインプリント用の基板15との間に転写材料17を供給し(図1(A))、モールド11と基板15とを近接させて、モールド11の凹凸構造14を有する主面13と基板15との間に転写材料17を介在させる(図1(B))。
モールド11は、基材12の主面13に凹凸構造領域13Aと非凹凸構造領域13Bが設定されており、主面13の凹凸構造領域13Aに所望の凹凸構造14を有している。尚、図示例では、主面13の凹凸構造領域13Aに便宜的に均一な微細凹凸を記載している。
尚、モールド11は、凹凸構造14を有する主面13が、その周囲の領域に対して1段、あるいは、2段以上の凸構造となっている、いわゆるメサ構造であってもよい。また、非凹凸構造領域13Bが存在せず、主面13の全域が凹凸構造領域13Aであってもよい。
また、使用する基板15は、例えば、石英やソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス等のガラス、シリコン、窒化ガリウム、ガリウム砒素等の半導体、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン等の樹脂基板、金属基板、サファイア、あるいは、これらの材料の任意の組み合わせからなる複合材料基板であってよい。また、基板15は必ずしも平坦である必要はなく、予め構造を有していてもよい。例えば、半導体やディスプレイ等に用いられる微細配線や、フォトニック結晶構造、光導波路、ホログラフィのような光学的構造等の所望のパターン構造物が形成されたものであってもよい。
次いで、モールド11の主面13と基板15との間に転写材料17が介在する状態で、転写材料17を硬化する。転写材料17の硬化は、転写材料17が光硬化性であり、モールド11がこれらを硬化させるための照射光を透過可能である場合には、モールド11側から光照射することができる。この転写材料17を硬化させるための光照射では、上述のように、基板15が光透過性を有する場合には、基板15側から照射してもよいし、モールド11側および基板15側の両方から照射してもよい。また、転写材料17が熱硬化性、あるいは、熱可塑性である場合には、それぞれ転写材料17に対して加熱処理、あるいは、冷却(放冷)処理を施すことができる。これにより、モールド11の主面13と基板15との間に硬化後の転写材料18が介在する状態となる(図1(C))。
次に、モールド11と硬化後の転写材料18とを引き剥がし、基板15上に微細構造を備えた転写材料を形成する。
本発明では、モールドが有する凹凸構造の形状、例えば、長さ、幅、深さ、密度、方向等、装置の剥離速度、転写材料の強度等により、モールド11と硬化後の転写材料18との引き剥がしに必要な剥離力の大きさが変化することに着目した。また、モールドの材質の相違により引き剥がしに必要な剥離力の大きさが変化すること、および、モールドの一部に光透過性の相違があり、硬化後の転写材料とモールドとの界面における密着力に相違が生じ、引き剥がしに必要な剥離力の大きさが変化することにも着目した。
そして、本発明では、剥離工程において、モールド11の主面13と硬化後の転写材料18との接触領域21を、モールド11と硬化後の転写材料18との引き剥がしに必要な剥離力の大きさに応じた複数の単位領域に区画し、モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしの境界線が、徐々に剥離力が変化するように単位領域上を移動する経路を予め設定し、モールド11および/または基板15に加える力を制御して境界線が上記の経路を移動するように引き剥がしを行うようにした。
まず、複数の単位領域の区画について説明する。図2は、上述のモールド11の主面13と硬化後の転写材料18との接触領域21を示す図面であり、図示例では略方形状の接触領域21が9個の単位領域21a〜21iに区画されている。
接触領域21からの複数の単位領域の区画は、例えば、次のような手順で行うことができる。
(1): 任意の単位面積を定める。
単位面積は、例えば、以下の(1−1)〜(1−4)の手順で定めることができる。
(1−1): 凹凸構造のない平坦な主面13と硬化後の転写材料18との引き剥がしに必要な応力、すなわち、最も低い剥離力を求める。
(1−2): モールド11および/または基板15に加える力の制御可能な大きさ、すなわち、装置側の剥離動作の制御が可能な大きさを求める。
(1−3): 上記の制御可能な最小の大きさの力によってモールド11および/または基板15が単位時間当りに変形する量を求める。
(1−4): 以上から、単位時間当りにどの程度の面積が剥離するかを求め、これを単位面積とする。
また、例えば、装置側における制御可能な最小の面積以上の任意の単位形状を単位面積としてしてもよい。
(引き剥がしの第1の実施形態)
図4および図5は、剥離工程の引き剥がしの第1の実施形態を説明するための図である。この実施形態では、徐々に剥離力が変化するように単位領域上を境界線(モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしの境界線)が移動するように予め設定する経路として、引き剥がし開始から剥離力が増大傾向で変化するような経路Aと、剥離力が減少傾向で変化して引き剥がしが終了するような経路Bを設定する。尚、本発明において、増大傾向、あるいは、減少傾向とは、境界線が移動する単位領域の境界で剥離力が変化しない場合、すなわち、隣接する単位領域の剥離しやすい順番が同じである場合も含んでいる。
上記のような経路Aおよび経路Bとしては、図3に示される6段階で剥離しやすい順番が付与された複数の単位領域21a〜21iから、モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしに必要な剥離力が最大である順番6の単位領域21fを剥離力最大領域に設定し、引き剥がし開始から剥離力最大領域(21f)に到達するまでを経路Aとし、剥離力最大領域(21f)に到達後、引き剥がしが終了するまでを経路Bとすることができる。
尚、引き剥がしに必要な剥離力が同じで、かつ、最大である単位領域が接触領域に複数散在する場合にも、上記の引き剥がしを応用することができる。すなわち、剥離力が最大である単位領域と、これを囲む周辺の単位領域とを一つの接触領域(小面積の接触領域)と考え、このような小面積の接触領域が複数隣接して接触領域(モールドの主面と硬化後の転写材料との接触領域)が構成されているものとする。そして、一つの小面積の接触領域で上記の引き剥がしを行い、その後、隣接する次の小面積の接触領域での引き剥がしに移行して、最終的にモールドと転写材料との引き剥がしを行うことができる。このようにすることにより、経路計算も容易となるうえ、本発明の目的である剥離工程でのモールドと転写材料との引き剥がしが安定し、結果として、形成された微細構造での欠陥の発生が低減され、また、モールドへの負担も軽減される。
図6〜図8は、剥離工程の引き剥がしの第2の実施形態を説明するための図である。この実施形態では、特定の単位領域を終了点単位領域として設定し、境界線(モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしの境界線)が移動する経路として、引き剥がし開始後は剥離力が増大傾向で徐々に変化し、その後、終了点単位領域に向けて徐々に剥離力が変化するような経路を設定する。
図6に示される例では、6段階で剥離しやすい順番が付与された複数の単位領域21a〜21iから、単位領域21i(斜線を付している)を終了点単位領域に設定している。このような終了点単位領域の設定では、当該単位領域内での硬化後の転写材料18の欠陥が許されること、引き剥がしの開始点から剥離力が徐々に変化するような経路で境界線が移動可能であることが基準となる。したがって、本実施形態は、引き剥がしの開始では、剥離力が増大傾向で徐々に変化するような経路をとるが、その後の終了点単位領域までの経路は、剥離力が増大傾向で徐々に変化するような経路でもよく、剥離力が減少傾向で徐々に変化するような経路でもよく、また、剥離力が増大傾向と減少傾向を繰り返して徐々に変化するような経路でもよい。
上述の微細構造の形成方法の実施形態は例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
次に、上述のような微細構造の形成方法を実施するための本発明のインプリント装置について説明する。
図9は、本発明のインプリント装置の一実施形態を示す概略構成図であり、上述のモールド11とインプリント用の基板15を使用する例とした。
図9において、本発明のインプリント装置51は、モールド11を保持するためのモールド保持部52と、インプリント用の基板15を保持するための基板保持部54と、モールド11とインプリント用の基板15とを離間させて引き剥がし動作を行うための剥離駆動部56と、を備えている。
モールド保持部52は、凹凸構造14を有する主面13を基板保持部54方向に向けてモールド11を保持するものである。このモールド保持部52は、例えば、吸引による保持機構、機械挟持による保持機構等によりモールド11を保持するものであり、保持機構には特に制限はない。
基板保持部54は、インプリント用の基板15を保持するものであり、例えば、吸引による保持機構、機械挟持による保持機構等により基板15保持可能とされている。図示例では、基板保持部54はモールド保持部52の下方に位置している。
また、インプリント装置51は、剥離駆動部56に応力制御ユニットと応力計測器とが接続され、これらがデータ処理ユニットに接続された構成とすることができる。この応力制御ユニットは、剥離の際に加える力、例えば、離接作動部材57による基板15とモールド11の離接の作用力を制御するためのものである。また、応力計測器は、剥離時に離接作動部材57を作動させたことによりモールド保持部52に加わる力を計測するためのものである。
図10は、モールド保持部材52上に配設された3個の離接作動部材57と、接触領域21、9個の単位領域21a〜21iの位置関係の一例を示す図面である。図示例では、3個の離接作動部材57は、接触領域21を囲む正三角形の頂点に該当する3点P1,P2,P3に配設されている。
上述の引き剥がしの第1の実施形態では、単位領域21a→21b→21c→21e→(21f)からなる剥離順路Aにそった経路Aで剥離が行われ、その後、単位領域(21f)→21i→21e→21d→21gからなる剥離順路Bにそった経路Bで剥離が行われ、このような引き剥がしを行うように剥離駆動部56の動作が制御される。
図11は、剥離駆動部56の動作の一例を示す図である。この例では、インプリント装置51は、まず、点P1に配設された離接作動部材57を作動させて、モールド11と基板15とを所定の作用力で離間させる。これにより、単位領域21aにおいて、硬化後の転写材料18とモールド11とに所定の応力が作用して、引き剥がしが開始される(図11(A))。このとき、点P2および点P3に配設された離接作動部材57は作動しない状態とすることができるが、モールド11と基板15とを所定の作用力で接近させるように作動させてもよい。尚、図示例では、モールド11と基板15とを離間させる作動状態にある離接作動部材57は、その配設位置を示す点Pに斜線を付して示している。
尚、上記の例では、3個の離接作動部材57を配設した場合の動作を説明したが、本発明のインプリント装置は、接触領域21を囲むようにモールド保持部材52上に更に多くの離接作動部材57を配設してもよい。これにより離接作動部材57間の間隔が狭くなり、上記のような剥離順路Aと剥離順路Bにそった境界線Lの移動制御がより容易なものとなる。
上述の引き剥がしの第2の実施形態では、単位領域21a→21b→21c→21e→21f→(21i)からなる剥離順路Iにそった経路と、単位領域21a→21d→21g→21h→(21i)からなる剥離順路IIにそった経路と、を境界線が移動し、終了点単位領域(21i)に到達するように剥離が行われ、このような引き剥がしを行うように剥離駆動部56の動作が制御される。
図13は、このような剥離駆動部56の動作の一例を示す図である。この例では、インプリント装置51は、まず、点P1に配設された離接作動部材57を作動させて、モールド11と基板15とを所定の作用力で離間させる。これにより、単位領域21aにおいて、硬化後の転写材料とモールド11とに所定の応力が作用して、引き剥がしが開始される(図13(A))。このとき、点P2および点P3に配設された離接作動部材57は作動しない状態とすることができるが、モールド11と基板15とを所定の作用力で接近させるように作動させてもよい。尚、図示例では、モールド11と基板15とを離間させる作動状態にある離接作動部材57は、その配設位置を示す点Pに斜線を付して示している。
尚、上記の例では、3個の離接作動部材57を配設した場合の動作を説明したが、本発明のインプリント装置は、接触領域21を囲むようにモールド保持部材52上に更に多くの離接作動部材57を配設してもよい。これにより離接作動部材57間の間隔が狭くなり、上記のような剥離順路Iと剥離順路IIにそった境界線Lの移動制御がより容易なものとなる。
上述のインプリント装置の実施形態は例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
13…主面
14…凹凸構造
15…インプリント用の基板
17…転写材料
18…硬化後の転写材料
21…接触領域
21a,21b,21c,21d,21e,21f,21g,21h,21i…単位領域
51…インプリント装置
52…モールド保持部
54…基板保持部
56…剥離駆動部
57…離接作動部材
Claims (11)
- モールドの凹凸構造を有する主面と基板との間に、転写材料を介在させる押し当て工程と、
該転写材料を硬化させる硬化工程と、
硬化後の前記転写材料と前記モールドとを引き剥がして、硬化後の前記転写材料を前記基板上に位置させる剥離工程と、を有し、
該剥離工程では、モールドの前記主面と硬化後の前記転写材料との接触領域を、モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしに必要な剥離力の大きさに応じた複数の単位領域に区画し、モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしの境界線が、剥離力が変化するように前記単位領域上を移動する経路を予め設定し、前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して前記境界線が前記経路を移動するように引き剥がしを行うことを特徴とする微細構造の形成方法。 - 前記剥離工程では、前記境界線が移動する前記経路として、引き剥がし開始から剥離力が増大傾向で変化するような経路Aと、剥離力が減少傾向で変化して引き剥がしが終了するような経路Bを設定することを特徴とする請求項1に記載の微細構造の形成方法。
- 複数の前記単位領域から、モールドと硬化後の転写材料との引き剥がしに必要な剥離力が最大である剥離力最大領域を設定し、引き剥がし開始から前記剥離力最大領域に到達するまでを前記経路Aとし、前記剥離力最大領域に到達後、引き剥がしが終了するまでを前記経路Bとすることを特徴とする請求項2に記載の微細構造の形成方法。
- 複数の前記単位領域から、引き剥がしを開始して前記剥離力最大領域に到達するまで隣接しながら剥離力が増大傾向で変化する複数の単位領域を選択して前記経路Aのための剥離順路Aとし、前記剥離力最大領域から引き剥がし終了まで隣接しながら剥離力が減少傾向で変化する複数の単位領域を選択して前記経路Bのための剥離順路Bとし、前記境界線が前記剥離順路Aにそって移動するように前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して引き剥がしを行い、その後、前記境界線が前記剥離順路Bにそって移動するように前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して引き剥がしを行うことを特徴とする請求項3に記載の微細構造の形成方法。
- 前記剥離順路Aと前記剥離順路Bは、異なる剥離順路に重複して属する単位領域が存在しないように設定することを特徴とする請求項4に記載の微細構造の形成方法。
- 前記剥離工程では、特定の単位領域を終了点単位領域として設定し、前記境界線が移動する前記経路として、引き剥がし開始後は剥離力が増大傾向で変化し、その後、前記終了点単位領域に向けて剥離力が変化するような経路を設定することを特徴とする請求項1に記載の微細構造の形成方法。
- 複数の前記単位領域から、引き剥がしを開始して前記終了点単位領域に到達するまで隣接しながら剥離力が変化する複数の単位領域を選択して2種以上の剥離順路を設定し、前記境界線が前記剥離順路にそって移動するように前記モールドおよび/または前記基板に加える力を制御して引き剥がしを行うことを特徴とする請求項6に記載の微細構造の形成方法。
- 2種以上の前記剥離順路は、引き剥がしを開始する単位領域を除いて、異なる剥離順路に重複して属する単位領域が存在しないように設定することを特徴とする請求項7に記載の微細構造の形成方法。
- モールドを保持するためのモールド保持部と、
インプリント用の基板を保持するための基板保持部と、
モールドとインプリント用の基板とを離間させて引き剥がし動作を行うための剥離駆動部と、を備え、
前記剥離駆動部は、モールドとインプリント用の基板との対向面の少なくとも1箇所を任意に離接させるための離接作動部材を備えるとともに、該離接作動部材によるモールドとインプリント用の基板との離接の作用力を制御する応力制御ユニットと、モールドとインプリント用の基板との離間時に前記離接作動部材を作動させることによりモールド保持部に加わる力を計測する応力計測器と接続しており、
前記応力制御ユニットと前記応力計測器はデータ処理ユニットに接続しており、
前記データ処理ユニットは、前記応力計測器からのデータ、または、予め設定された剥離の経路、あるいは、該経路のための剥離順路を構成する単位領域に関するデータに基づいて、前記応力制御ユニットを介して前記剥離駆動部に対して信号を出力することを特徴とするインプリント装置。 - 前記離接作動部材は、前記モールド保持部および前記基板保持部の少なくとも一方に配設されていることを特徴とする請求項9に記載のインプリント用装置。
- 前記剥離駆動部は、モールドとインプリント用の基板との対向面と平行な面内で前記モールド保持部と前記基板保持部とを共に回転させるための回転作動部材を備え、前記離接作動部材は、回転する前記モールド保持部および前記基板保持部を除く部位に配設されていることを特徴とする請求項9に記載のインプリント用装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012025948A JP5849750B2 (ja) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | 微細構造の形成方法およびインプリント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012025948A JP5849750B2 (ja) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | 微細構造の形成方法およびインプリント装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013163265A JP2013163265A (ja) | 2013-08-22 |
JP5849750B2 true JP5849750B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=49174968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012025948A Active JP5849750B2 (ja) | 2012-02-09 | 2012-02-09 | 微細構造の形成方法およびインプリント装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5849750B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6279433B2 (ja) | 2014-08-28 | 2018-02-14 | 東芝メモリ株式会社 | パターンデータ作成方法、テンプレートおよび半導体装置の製造方法 |
WO2018230606A1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-12-20 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびそれを用いた凹部付き多層体の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007044905A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 型及び成形方法 |
JP5168815B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2013-03-27 | 大日本印刷株式会社 | パターンの形成方法 |
WO2008129962A1 (ja) * | 2007-04-19 | 2008-10-30 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 成形装置及びその制御方法 |
JP2009170773A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Toppan Printing Co Ltd | インプリントモールドおよびインプリント装置 |
-
2012
- 2012-02-09 JP JP2012025948A patent/JP5849750B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013163265A (ja) | 2013-08-22 |
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Date | Code | Title | Description |
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